JPH0314334B2 - - Google Patents
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Description
印刷回路、グラフイツクアーツおよび関連産業
においては、原画（ポジまたはネガ）ホトマスク
から光感受性シートの一面または両面に写真的に
画像を転写させることに対する継続的要求が存在
している。多くの重要なケースにおいてはこれら
画像はエレメント上に前以つて定められている位
置に正確に軸合せまたは整合されていなくてはな
らない。画像がエレメントの両面に転写される場
合には、前面および背面画像がこれまた相互に正
確に整合されていることが往々にして更に要求さ
る。すべての場合、転写操作は画像特性の定義お
よび相対的位置の両方を可及的最高度に正確に保
持させ、そして一方望ましくないそしてにせの特
性の転写を最小とするような方法で実施される。 印刷回路は往々にして乾燥フイルムホトレジス
トを使用して反復画像転写法により製造される。
このホトレジスト法の実施に使用される装置は一
般に独立した部分、例えば銅被覆基材板の清浄化
用のクリーナーまたはスクラバー、板の予熱のた
めのオーブン、フイルムおよび板にこれらを一緒
に積層させる際に熱を適用するロールラミネータ
ー、活性線放射露光ステーシヨンおよび銅基材上
のレジスト像の現像のための溶媒洗去装置より構
成されている。そのような方法および装置は
「Printed Circuits Handbook」（McGraw−Hill
社第２版1975年発行）および「Photoresist
Materials and Processes」（McGrawHill社
1975年発行）に完全に記載されている。 典型的には装置の各部分の間で基材板の手動転
写および位置ぎめが行われるがこれは費用を増加
させそして再現性を低下させて方法の収率損失を
導く。 ホトレジスト過程の自動化に対して種々の試み
がなされているがしかし自動化は限定された程度
にしか採用されていない。しかしながら近年板ト
リミングは成功裸に高生産性クリーニングおよび
積層系に包含されている（例えば米国特許第
4293635号、ヨーロツパ特許出願第811040138号、
米国特許出願第153636号および同第153637号各明
細書参照）。この自動化は使用者に対して実質的
コストの節約を与える。それにもかかわらず多く
のそれに続く段階は高度に労力を要するものに留
まりそして人為的誤操作を受けがちである。この
ことは整合および露光段階に関して特に真であ
る。 密着印刷はある種の既知の欠点にもかかわらず
印刷回路およびグラフイツクアーツ産業で今日一
般的に使用されている露光法である。装置コスト
は低く、使用は簡単でありそして優れたライン定
義を与えうるけれども、密着印刷は労力がかかり
そして遅いものである（長い真空ドローダウン時
間の故に）。またそれはくりかえしの使用から生
ずる損傷または汚染されたホトマスクに由来する
損失を受けやすい。次いで歩留りの悪影響を避け
るためにはこれは頻繁なそして費用のかかるホト
マスクのタツチ・アツプおよび取り換えを要す
る。露光の間に、ホトマスクの欠陥の検査のため
の一定のそして厄介な工程において多量の時間も
また失われる。更に、フレーム温度および環境の
湿度の変動は高価な脆いガラスホトマスクが使用
されない場合には特に大形エレメントに対してコ
ーナー／コーナー整合に悪影響を与える。 それに代る露出法例えばギヤツプ印刷、投影印
刷およびレーザー走査のそれぞれは密着印刷に比
べて若干の有意の利点を与える。しかしながら現
在の技術水準においては、すべては高い生産性適
用に対しては重大な限界を有しておりそしてこれ
らは固有的に装置コストにおいてはるかにより大
となる。 本発明は、基材にホトマスクを整合させてシー
ト基材に適用された光感受性層を活性線放射に像
様露光させるための方法であり、而してこの方法
は次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 基材およびホトマスクを前以つて定めた関
係で相互に整列させること、および (b) 基材とホトマスクとの間に光感受性液体を
適用すること を実施させるような装置中の位置に基材を前進
させること、 (2) 基材とホトマスクとを光感受性液体を介して
接触させそれによつて液体層中の光感受性液体
の除去に由来するより密接な接触以外の実質的
な基材に相対的なホトマスクの移動が前記接触
の間生じないようにそしてそれによつて少くと
も界面または粘稠力の一方が基材とホトマスク
とを相互に相対的に一定の位置に保持されるの
を助けること、 (3) ホトマスクを通してこの光感受性液体を活性
線放射に露光させること、 (4) 基材からホトマスクを除去しそれによつて光
感受性液体から生じた硬化物質がホトマスク上
に実質的に残留しないようにすること、 (5) 光感受性液体から生じた結合硬化物質の独立
した部分を含有する基材を生成させること、 を包含するものである。 本発明の技術によりコーテイングおよび画像形
成されるシート基材（基質）は種々でありそして
これは最終製品の用途に依存する。基材は剛性ま
たは可撓性、粗荒性または平滑性、均質または非
均質、電気伝導性または非伝導性でありうる。基
材はその一面または両面を光感受性液体でコーテ
イングしそして画像形成させることができ、そし
て基材表面はそれ自体光感受性液体の適用前に光
感受性でありうる。 本発明の方法においては１個または多数個のシ
ート基材を整合および露光装置に導入させる。装
置の整合部分は一般には長方形の基材を正確な配
置でホトマスクに整合することを可能ならしめ
る。このホトマスクは光感受性層の活性線放射へ
の像様露光を可能ならしめる。 このホトマスクは活性線放射を透過させる可撓
性シートである。１枚たは２枚のホトマスクを使
用することができる。その理由はシート基材の両
面を順次にかまたは同時に画像形成させることが
できるからである。２枚のホトマスクの使用の場
合、各々の先行端をその厚さが基材の厚さに近似
している薄いキヤリアの各面上で平行な蝶つがい
関係で結合させることができる。ホトマスクは共
通のキヤリアに対するそれらの蝶つがい関係の故
に相互に正確に整合状態で保持させることができ
る。 ２枚のホトマスク使用の場合、基材をホトマス
クの間に位置させあるいは軸合せされる。その結
果、基材は少くとも１枚のホトマスクと整合され
る。整合接触は基材とキヤリアとの簡単なエツジ
−エツジ接触でありうる。この場合の唯一の付加
基準は所望のホトマスクの画像パターンが画像形
成されるべきシート部分内に完全に含有されてい
るということである。しかしながら整合はより一
般的には基材上に含有される細部をホトマスク画
像の細部と正確に一致させることを要求する。こ
の場合シート上またはシート中の少くとも２個の
接触点をキヤリアに固定された２個の相当する接
触点と固定的関係にする。そのような点はシート
およびキヤリアの端部の適当に間隔をあけたノツ
チまたはタブでありうる。あるいはまたこれらの
点は、整合ピンにより所望に配列されて位置され
ている正確なドリル穿孔した整合孔をシートが含
有しているような整合ピンと孔との組合せより構
成されたものでありうる。多数の基材を使用する
場合には、整合は基材ごとに同一であつて、以後
の処理に対して基材上に多数の実質的に同一の露
光光感受性層を生成させる。 基材がキヤリアに対して整合関係になつたなら
ば蝶つがい（ヒンジ）端またはその近くでホトマ
スクの外側表面上にキヤリアに大体平行な線で通
常の圧を適用しそしてこの圧ラインを蝶つがいラ
インに垂直の方向にそして基材表面に平行に前進
（相対的に）させ、そしてこの前進と同方向に例
えばコーテイングによつて基材および／またはホ
トマスクの内側表面に光感受性液体を適用するこ
とによつて可撓性フイルムホトマスクを光感受性
液体中間層の存在下に基材の少くとも一つの面に
適用する。実際には、前進直線圧力により形成さ
れる基材とホトマスクとの間のニツプは光感受性
中間層をカレンダー処理するかまたはこれを形成
させるように働き、そしてホトマスクは一時的に
光感受性中間層に接着して光感受性層が基材表面
とホトマスクを分離しているような整合サンドイ
ツチ構造を生成させる。基材の２個の表面の各々
に光感受性液体を適用する場合にはこの積層また
はカレンダーがけ段階は好ましくは１組の加圧ロ
ーラーを通して蝶つがいホトマスク整合シート集
成体を通過させることによつて実施される。ニツ
プ圧は液体の粘度、ニツプを通る基材の通過速度
および所望される層の厚さによつて調節される。
この操作様式においては、圧を第一に基材と可撓
性ホトマスクとの先行端またはその近くに適用す
る。そして各ホトマスクの後続部分が各加圧ロー
ルのカーブした表面のまわりに一部まきつく。 好ましくは光硬化性の光感受性液体を次いでホ
トマスクまたは基材またはその両者の表面にコー
テイングする。ある場合には光感受性液体をホト
マスクに適用し、一方低粘度液体を基材に適用す
る。好ましくは一般的方向が上方となるように、
すなわち加圧ロールおよび液体適用に相対的な基
材移動が上方向むきとなるように整合装置を配向
させる。基材、加圧ロールまたはその両者が動か
しうるし、あるいは前記のものの一つを静止位置
とすることができることが理解される。そのよう
に配向させた場合、基材上の液体の調整またはク
リーニング作用が達成されうる。その理由は過剰
の液体を使用しうるしそしてこれは簡単にそれと
共にすべての外来性物質を運んで受け器中に流下
するからである。更に好ましくは活性線露光が行
われる加圧ロールの上の部分はより容易に不要の
液体のない状態に保持させるこができる。コーテ
イングした基材とホトマスクとの整合を得るため
のこの方法は減圧の助けなしに得られる。基材の
片面のみをコーテイングすればよいこと、そして
ホトマスクと加圧手段は基材の片面にのみ存在さ
せればよいということが理解される。 本明細書においては「実質的に移動がない」と
いうことは基材表面およびホトマスクが相対的に
相互にそれらの表面に平行な方向に動かないとい
うこと、すなわち表面が相互に滑つてホトマスク
の基材に対する整合を変化させないことを意味し
ている。しかし「実質的に移動がない」というこ
とはそれらの表面に対して垂直の方向にホトマス
クと基材とが相対的に移動してより緊密な接着を
生成させること例えば過剰の液体を基材とホトマ
スクとの間の界面からしぼり出して光感受性層を
形成させることは許容できることが理解される。
しかし前進加圧ラインにより形成される光感受性
層に接触する基材層およびホトマスクはそれらの
表面に平行かつ垂直の方向に固定された関係に留
まつている。 また本明細書においては、光感受性液体層を介
して基材とホトマスクとを「接触させる」という
ことは中間層を除外するものではないことも理解
されたい。例えば基材を光感受性液体の適用の前
に非光感受性液体でぬらすことができる。「接触」
はしかし気体または蒸気中間層例えば空気の使用
は除外する。これらはギヤツプまたは非接触状態
と考えられる。 基材表面が例えばアルミニウムプレートに関し
て平滑である場合には、光感受性液体およびその
後でのこの光感受性液体からの結合された硬化物
質の均一な厚さを得ることができる。基材表面が
平滑でない場合、例えば盛り上つたレリーフパタ
ーンを有する例えば印刷回路板の場合には、光感
受性液体層は盛り上つたレリーフ部分の故に均一
ではない。盛り上つたレリーフ部分を含有する基
材部分以外では光感受性液体層は均一厚さであ
る。また光感受性液体から生じた結合部分もまた
同様に同一の様式で均一でありうる。 ホトマスクを光感受性液体中間層をコーテイン
グした基材上に整合固定したら、この光感受性液
体に対して活性な任意の放射源を使用して処方さ
れた時間露光を実施する。好ましい操作様式にお
いては、積層エレメントは加圧ローラーから出て
来、停止しそして固定された直立の位置で懸垂さ
れ、そして次いでホトマスクを通して3000〜4000
Åまたはそれ以上の領域の均一な活性線放射に露
光される。基材の両面が光感受性液体層を有して
いる場合には好ましくは両面を同時に露光せしめ
る。それに代る操作様式においては、光感受性液
体中間層をそれが加圧ロールから出て来た際活性
線放射で照射させそして照射領域を通過させる。
この様式においては、照射はバンドに焦点合わせ
させることができるし、あるいは強い活性線放射
の横方向に走査させた点を使用することができ
る。その強度は光感受性層の露光特性および移送
速度にマツチするように調整させる。また整合装
置から基材を完全に除去させそしてそれをいずれ
かの適当な露光ユニツト上で露光させることがで
きる。ホトマスクおよびキヤリアは界面液体によ
り導かれた界面または粘稠力の作用によつて基材
およびその光感受性層に関して整合固定されてい
る。界面および粘稠力の両者が存在しうることが
理解される。 活性線露光はホトマスクを製造した材料によつ
てホトマスクへの液体の光接着を誘導せしめう
る。露光および硬化液体の容易な離脱を確実なら
しめるためには、このマスク表面を活性線放射に
本質的に透明な薄い離型層で保護または修正させ
ることができる。この離型層はマスク像表面への
強い接着を有しているべきであるがしかしこれは
硬化された光感受性液体に対してはより弱い接着
を有しているべきである。離型層の厚さは最小の
もの、例えば好ましくはマスク画像の厚さを例え
ば約0.001インチまたはそれ以下として露光画像
の高い解像性を確実ならしめるべきである。一つ
の有用な離型層は接着剤でマスク画像に接着され
た0.0005インチ厚さのポリエチレンテレフタレー
トフイルムである。その他としては種々のワツク
スおよび通常のモールド離型剤があげられる。ホ
トマスクの望ましい特徴としては、コーテイン
グ／積層法を行わせるに充分な可撓性、液体組成
物との長期接触における寸法安定性、液体組成物
に対する化学的安定性、容易な離型性、露光され
た光重合体からの離型コーテイングとの光重合体
相容性および応力に対する機械的耐久性があげら
れる。 像形成性露光の完了した際例えばピーリングによ
つて露光光感受性層の表面からのホトマスクの除
去を行つてかくして整合から画像エレメントを離
型させる。画像形成されたエレメントを次いでコ
ーテイング／整合／露光装置から移しそして一連
の基材が画像形成されるべき場合には次の基材を
受容すべくホトマスク−キヤリア集成体をその最
初の位置に戻すことができる。好ましい操作様式
においては一連の基材に対しては大部分前露光段
階を露光段階の後で逆転せしめる。すなわち露光
積層エレメントを例えばローラーのような加圧手
段によつて後に送り、そして各ホトマスクをその
それぞれの圧力ローラーの上をキヤリア上の蝶つ
がい（ヒンジ）部分に達するまで保存部分に引き
戻す。この点またはその付近でホトマスク−キヤ
リア集成体を停止させ、そして画像形成された基
材をコーテイング／整合／露光装置から基材を運
ぶ装置に放出させる。ローラー以外の手段例えば
スクイージーを使用して圧力を適用させることが
できる。同様に加圧手段は移動可能なものであり
うるしそしてホトマスクに整合された基材を保持
する装置は定常的なものでありうる。そのような
操作様式においては、装置は露光されるべき一連
の次のシートを受入れるべく実質的に準備されて
いる。好ましい操作においては、露光後画像形成
された基材の移動は下方向でありそして加圧ロー
ラーは画像形成基材を運搬手段に落下させるべく
分離されている。ホトマスクは画像形成シートか
ら剥離された際には多数の方法のいずれかで保存
させることができる。好ましい保存様式は巻き上
げドラム上である。この上にホトマスク表面は外
来的接触なしに留まる。あるいはまたホトマスク
は懸垂させて保存することができるし、またはこ
れは加圧ローラー自体の上に巻上げることができ
る。 整合および像様露光法の間、シート基材は水平
または垂直を含むいずれかの配向でありうる。好
ましくは基材は垂直または実質的に垂直な面にあ
る。本発明の方法においてはいずれかの手段を使
用して基材を装置の整合部分にかまたはそこから
運ぶことができる。上方向−下方向の好ましい操
作様式においては、基材をベルトによつてその縁
で水平にキヤリアの下の位置まで水平に運び、そ
してこの点でそれを持ち上げ装置によつて整合接
触で持ち上げるようにすることができる。露光
後、画像形成シートはコンベアベルトに落され、
コンベアベルトはそれを端縁において水平に装置
の外に運ぶ。 ホトマスクまたは基材エレメントまたはその両
方に適用される光感受性液体はネガとして働くも
のでありうるしまたはポジとして働くものでもあ
りうる。ネガとして働く液体は、活性線放射の効
果が露光画像部分を直接的あるいは間接的に硬化
あるいはそれ以外の様式でレオロジーを変化させ
るような光硬化性組成物である。好ましくは、不
溶化もまた生ずる。典型的な光硬化反応としては
重合体（プレポリマー）の遊離ラジカル連鎖付加
重合交叉結合反応および二量化反応その他があげ
られる。そのような光硬化性組成物は一般に
Kosar氏著「Light Sensitive Systeme」（1965）
に開示されている。ポジとして働く液体は典型的
には活性線放射の効果が露光画像部分で減感また
は硬化阻止を生ぜしめまたはその他のレオロジー
変化を生ぜしめる組成物である。一般に光減感は
次に未露光部分を硬化させる硬化工程を実施す
る。そのようなポジとして働く系は米国特許第
4162162号および同第4269933号各明細書に記載さ
れている。 光感受性液体は未露光状態で、積層圧力およ
び／または重力の作用を加えられた場合基材とホ
トマスクとの間に均一な厚さの連続層を形成させ
そしてこれを保持させるに適当な粘度を有してい
るべきである。最適液体粘度は液体層の厚さ、基
材とホトマスクとの間に液体中間層を形成させる
ために適用される圧、液体中間層の形成速度、温
度および基材の配位例えば垂直かあるいは水平か
によつて影響される。低い方の粘度限界は選ばれ
た積層圧、積層ロールジユロメータ（または接触
面積）および積層速度の条件下にホトマスクと基
材との間に許容しうる厚さのそして安定な光感受
性液体中間層を与えそして適用要求を与える粘度
により限定される。高い方の限界は装置が同一積
層条件下にホトマスクに適当な厚さの平滑で均一
な適当なコーテイングを配分させる能力、ならび
に空気または多量の低粘度液体を過剰に捕集する
ことなしに回路または存在させる場合の扛起レリ
ーフを形成しうる液体の能力により限定される。 好ましいネガとして働く光感受性液体は１個ま
たはそれ以上の末端エチレン基を含有する付加重
合性エチレン性不飽和化合物である少くとも１種
の単量体および活性線放射により活性化可能な遊
離ラジカル生成性付加重合開始剤系を含有する光
重合性液体である。一般にこの液体はまた重合体
状結合剤、充填剤物質、および光感受性液体の粘
度およびその他の性質を調整するための単独また
は組合せにおけるその他の単量体をも含有する。
この液体はまたその他の成分例えば染料、顔料、
可塑剤、接着助剤、熱阻害剤その他のようなコー
テイング製品の特定の用途に対して要求されるも
のをも含有しうる。有用な単量体、開始剤、結合
剤およびその他の成分の例は以下に列記されてい
る。 単独単量体としては次のものが挙げられる。第
３級ブチルアクリレート、１，５−ペンタンジオ
ールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエ
チルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘキ
サメチレングリコールジアクリレート、１，３−
プロパンジオールジアクリレート、デカメチレン
グリコールジアクリレート、デカメチレングリコ
ールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサン
ジオールジアクリレート、２，２−ジメチロール
プロパンジアクリレート、グリセロールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒド
ロキシフエニル）プロパンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、２，２−
ジ−（ｐ−ヒドロキシフエニル）プロパンジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリオキシエチル−２，２−ジ−（ｐ−ヒ
ドロキシフエニル）プロパンジメタクリレート、
ビスフエノールＡのジ（３−メタクリルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフエノ
ールＡのジ（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、ビスフエノールＡのジ（３−アクリルオキ
シ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフ
エノールＡのジ（２−アクリルオキシエチル）エ
ーテル、テトラクロロビスフエノールＡのジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
エーテル、テトラクロロ−ビスフエノールＡのジ
（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、テト
ラブロモビスフエノールＡのジ（３−メタクリル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、テ
トラブロモビスフエノールＡのジ（２−メタクリ
ルオキシエチル）エーテル、１，４−ブタンジオ
ールのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル、ジフエノール酸のジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、ポリオキシプロピレントリメチロールプロ
パントリアクリレート（462）、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ブチレングリコールジメタ
クリレート、１，３−プロパンジオールジメタク
リレート、１，２，４−ブタントリオールトリメ
タクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、１−フエニル
エチレン−１，２−ジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、１，５−ペン
タンジオールジメタクリレート、ジアリルフマレ
ート、スチレン、１，４−ベンゼンジオールジメ
タクリレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼ
ンおよび１，３，５−トリイソプロペニルベンゼ
ン。 前記エチレン性不飽和単量体の他にこの光硬化
性層はまた少くとも300の分子量を有する遊離ラ
ジカル開始連鎖延長付加重合性エチレン性不飽和
化合物の少くとも１種を含有することができる。
これらの単量体としては好ましくは２〜15個の炭
素原子のアルキレングリコールまたは１〜10個の
エーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコー
ルから製造されたアルキレンまたはポリアルキレ
ングリコールジアクリレートおよびここに参照と
して包含されている米国特許第2927022号明細書
に開示のもの例えば特に末端結合として存在する
場合の複数個の付加重合性エチレン結合を有する
もの、そしてそのような結合の少くとも１個そし
て好ましくはそのほとんどが炭素およびヘテロ原
子（例えば窒素、酸素および硫黄）との炭素二重
結合を含む二重結合炭素と共役しているものがあ
げられる。顕著なものはエチレン性不飽和基特に
ビニリデン基がエステルまたはアミド構造に共役
しているものである。 開始剤としては共役炭素環系中に２個の環内カ
ルボニル基を有する化合物である置換または非置
換の多核キノンである。適当なそのような開始剤
としては９，10−アントラキノン、１−クロロア
ントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−
メチル−アントラキノン、２−エチルアントラキ
ノン、２−第３級ブチルアントラキノン、オクタ
メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、
９，10−フエナントレンキノン、１，２−ベンズ
アントラキノン、２，３−ベンズアントラキノ
ン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３
−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアン
トラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、
２−フエニルアントラキノン、２，３−ジフエニ
ルアントラキノン、アントラキノンα−スルホン
酸のナトリウム塩、３−クロロ−２−メチルアン
トラキノン、レチンキノン、３，８，９，10−テ
トラヒドロナフタセンキノンおよび１，２，３，
４−テトラヒドロベンズ（ａ）アントラセン−
７，12−ジオンがあげられる。それらのあるもの
は85℃の低い温度でも熱的に活性であるにしても
これまた有用なその他の光開始剤は米国特許第
2760863号明細書に記載されており、これらとし
てはビシナルケトアルドニル化合物例えばジアセ
チル、ベンジルその他、α−ケトアルドニルアル
コール例えばベンゾイル、ピベロインその他、ア
シロインエーテル例えばベンゾインメチルおよび
エチルエーテルその他、α−メチルベンゾイン、
α−アリルベンゾインおよびα−フエニルベンゾ
インを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインが
あげられる。更に米国特許第2850445号、同第
2875047号、同第3097096号、同第3074974号、同
第3097097号および同第3145104号各明細書に開示
の光還元性染料および還元剤らびにフエナジン、
オキサジンおよびキノン群を使用することができ
る。その他の適当な重合開示剤はミヒラーのケト
ン、ベンゾフエノン、２，４，５−トリフエニル
イミダゾール二量体と水素ドナーおよびそれらの
混合物で米国特許第3427161号、同第3479185号お
よび同第3549367号各明細書記載のものである。
同様に米国特許第271241号明細書のシクロヘキサ
ジエノン化合物も開始剤として有用である。前記
すべての米国特許および出願はここに参照として
包含されている。 結合剤は光感受性液体の粘度の調整のために
個々または組合せでかまたは充填剤物質と組合せ
て使用することができる。典型的な結合剤として
はポリアクリレートおよびα−アルキルポリアク
リレートエステル例えばポリメチルメタクリレー
トおよびポリエチルメタクリレート、ポリビニル
エステル例えばポリビニルアセテート、ポリビニ
ルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセテ
ート／メタクリレートおよび水解ポリビニルアセ
テート、エチレン／ビニルアセテート共重合体、
ポリスチレン、ビニリデンクロリド共重合体例え
ばビニリデンクロリド／アクリロニトリル、ビニ
リデンクロリド／メタクリレートおよびビニリデ
ンクロリド／ビニルアセテート共重合体、ポリ塩
化ビニルおよび共重合体例えばポリ塩化ビニル／
アセテート、4000〜1000000の平均分子量を有す
るポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキサ
イド、エポキシサイド、コポリエステル例えば式
HO（CH2）o−OH（中ｎは２〜10の整数である）
のポリメチレングリコールと(1)ヘキサヒドロテレ
フタル酸、セバシン酸、およびテレフタル酸、(2)
テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、
(3)テレフタル酸およびセバシン酸、(4)テレフタル
酸およびイソフタル酸、との反応生成物から製造
されたもの、および(5)前記グリコールと）テレ
フタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸おび
）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸お
よびアジピン酸から製造されたコポリエステル混
合物、合成ゴム例えばブタジエン／アクリロニト
リル、アクリロニトリル／ブタジエン（カルボキ
シ変性例えば３％）、アクリロニトリル／ブタジ
エン／スチレン、C1〜4−アルキルメタクリレー
ト／アクリロニトリル／ブタジエン、C1〜4−アル
キルメタクリレート／スチレン／アクリロニトリ
ル／ブタジエン共重合体、２−クロロブタジエン
−１，３−重合体、塩素化ゴム、スチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチ
レンブロツク共重合体およびその他のここに参照
として包含されている米国特許第3265765号明細
書記載のブロツク共重合体、ｎ−ブチルメタクリ
レート、ポリエーテルポリウレタン樹脂その他、
ナイロンまたはポリアミド例えばＮ−メトキシメ
チルポリヘキサメチレンアジパミド、セルロース
エステル例えばセルロースアセテート、セルロー
スアセテートサクシネートおよびセルロースアセ
テートブチレート、セルロースエーテル例えばメ
チルセルロース、エチルセルロースおよびベンジ
ルセルロース、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール例えばポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリホルムアルデヒドがあげられ
る。 所望により光重合性層はまた光重合体物質の露
光に使用される波長では本質的に透明な非混和性
重合体状または非重合体状の有機または無機充填
剤または補強剤例えば親有機性シリカ、ベントナ
イト、シリカ粉末ガラス、コロイドカーボンなら
びに種々のタイプの染料および顔料を光重合性層
の所望の性質に関して種々の量で含有することが
できる。米国特許日3754920号および同第3785877
号各明細書に開示された粒状物厚さはこの目的に
対して有用である。 その他の任意の添加剤としては阻害剤、染料、
顔料、可塑剤その他があげられる。 適当な熱重合阻害剤としてはｐ−メトキシフエ
ノール、ヒドロキノンおよびアルキルおよびアリ
ール置換ヒドロキノン、およびキノン、第３級ブ
チルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、
ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化第一銅、
２，６−ジ第３級ブチル−Ｐ−クレゾール、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロソ二量体例えば
１，４，４−トリメチル−２，３−ジアゾビシク
ロ〔３，２，２〕−ノン−２−エン−２，３−ジ
オキサイド、ジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン
およびクロラニルがあげられる。 種々の染料を加えて形成画像の可視性を上昇さ
せることができる。この能力において顔料もまた
使用しうる。使用されるすべての着色剤はしかし
好ましくは使用される活性線放射に対して透明で
あるべきである。 有用な可塑剤は使用されているすべての重合体
状結合剤と相容性の一般的可塑剤例えばジアルキ
ルフタレート、ポリエチレングリコールおよびア
ルキルホスフエートでありうる。 光感受性液体はホトマスクあるいは基材に適用
することができるけれども、その液体はホトマス
クと基材との両方に適用することができる。ある
いはまた同時に異つた光感受性液体を各表面に適
用して特性の勾配を有する層を生成させることが
できる。更にこの異つた液体の両方が光感受性で
ある必要はない。同時に適用された２種の光感受
性液体または１種の光感受性液体と１種の非光感
受性液体とを組合せて基材とホトマスクとの間に
単一光感受性層を生成させることができる。更に
基材の前面および後面に異つた系を適用すること
ができる。 光感受性液体をホトマスクに適用させる本発明
の更にその他の具体例においては、基材を調整液
で処理することができる。そのような調整液は汚
れまたは不要な表面酸化物その他を除去させるク
リーニングまたはエツチング溶液でありうる。そ
のようなクリーニング液は例えば米国特許出願第
153636号および同第341618号各明細書に開示の機
械的清浄化と組合せて使用することができる。調
整液は下塗り溶液または接着促進剤の溶液例えば
米国特許第3645772号明細書に開示のものであり
うる。光感受性層をレリーフ表面を有する基材に
適用すべき場合には、例えば回路板へのはんだマ
スクの場合には調整液例えば単量体、可塑剤また
は米国特許第4069076号明細書に開示の液体を基
材に適用して積層の間のレリーフ表面における泡
または空気捕集を除外させることができる。ある
いはまた光感受性液体が基材表面に適用される場
合には非光感受性液体をホトマスク表面に適用し
て表面を条件調整しまたは清浄化させること、例
えば離型剤を適用して像様露光の間のホトマスク
への光接着を阻止させることができる。 液体の基材表面への適用のためには任意の手段
を使用することができる。適用手段に対する第一
義的要求はそれらが表面を損傷させないというこ
と、そしてそれらが適用される液体の交叉汚染を
誘発させないということである。 図面においては垂直配向で基材の両面において
実施される本発明の方法が示されている。基材例
えば回路板は水平を含むいずれかの配向に保持さ
せることができ、そして表面の一面のみを処理す
ることができる。 第１図は上方向に運ばれるジオール基材１が示
されている。スプレーノズル２は流体７例えば低
粘度液体を基材に適用する。過剰の液体は重力に
より流下される。コーテイングダイ３はこの流体
よりも高粘度の光感受性液体を直接ホトマスク４
に適用する。ホトマスクはロール５のまわりを巻
き戻されて、基材が上方向に移動して入つてくる
際に光感受性液体８を介して基材と接触する。活
性線放射源６はホトマスク５を通して光感受性液
体の一部を露光させる。露光後この過程を逆転さ
せ、基材１を下方向に送りそしてホトマスクをロ
ール５のまわりに再び巻き上げる。 第２図は基材に光感受性液体を適用するための
それに代る方法を示す（ホトマスクと基材との整
合は示されていない）。基材１１は上方向に移動
し、そしてノズル１２からの流体でコーテイング
される。より高粘度の光感受性液体を重力フイー
ダー１３からロール１５に適用する。ドクターナ
イフ１７がロール上の光感受性液体の厚さを制御
する。ホトマスク１４を１８のまわりに巻き付け
てロール１５からの光感受性液体を移す。基材の
上向きの方向およびホトマスクの移動方向は基材
とホトマスクとの間に均一な厚さの光感受性液体
をトラツプさせる。活性線放射源１６からの露光
の後、この過程を逆転させるがただしコーテイン
グロール１５はそれ以上の液体供給またはノズル
１２からの流体適用なしに引込める。 例えば第２図の具体例のそれに代る様式におい
ては、ノズル１２または異つた１組のノズルを使
用して露光後に光感受性層から生じた結合硬化物
質に画像液を適用する。そのような場合現像液は
基材を下方向に動かしつつ適用することができ
る。 第３図は基材の一面への光感受性液体の水平適
用様式を示す。連続ウエブの形のホトマスク２２
はロール２４のまわりに巻き付けられている。基
材２１をホトマスクウエブ２２に固定させたキヤ
リアバー２５によつてホトマスクに整合させる。
光感受性液体２３の層として存在する光感受性液
体３０はアプリケーターロール２６からホトマス
クに移されそしてそれが水平に加圧ロール２７と
ロール２４でホトマスクの間を通過する際基材２
１の表面に転写される。適用される層の厚さはア
プリケーターロール２６上のドクターナイフ２８
により制御される。活性線放射源２９はホトマス
ク２２を通して光感受性液体の一部を露光させ
る。露光後この過程を逆転させ、基材２１を逆水
平方向に送りそしてホトマスク２２をロール２４
上に再び巻き付ける。 本発明の方法は一連の同様のシート基材の増感
および画像形成において特に有用である。そのよ
うな反復法としては銅被覆基材からの印刷回路板
の製造（一次画像形成として知られている）なら
びに永久マスク層（はんだマスクとして知られて
いる）のはんだ処理の前の印刷回路板への適用が
あげられる。ある特定の場合には本発明の反復法
を標準乾燥フイルムレジスト法例えば米国特許第
3469982号明細書に開示のものと組合せて改善さ
れたレジスト画像例えばテントレジストを生成さ
せることができる。すなわち優れた接着性を有す
る乾燥フイルムホトレジストを積層させた一連の
銅被覆基材は本発明の方法によつて画像形成併合
レジスト層に優れた処理特性を付与する光感受性
液体で処理することができる。 本発明の方法はまた改善された表面特性を有す
る石版印刷プレートおよび凸版印刷プレートの製
造のためのグラフイツクアーツ産業においても有
用である。アルミニウムプレートを本発明の方法
を使用してそのままの光重合性液体でコーテイン
グしそして画像形成させることによつてより少い
労力および時間をもつて液体を使用して通常製造
される石版プレートよりもより均一なそしてより
大なる磨耗抵抗性を有する石版印刷プレートを製
造することができる。本発明の方法によつてその
ままの光重合性液体を光重合性の深いレリーフ印
刷プレート、特に米国特許第4323636号明細書記
載のタイプのフレクソ印刷プレートに適用して印
刷表面特性を修正させそして／または製造、保存
または取扱いの間に生じた表面欠陥を補正させる
ことができる。 例えば次の組成を有する粘稠な光重合性液体は
容器中で成分を合しそして均質溶液が得られるま
で（温度および撹拌速度によつて４〜24時間）空
気作動プロペラタイプ撹拌機で撹拌することによ
つて製造される。特に記載されない限りは成分量
は重量部で与えられておりそして粘度はNo.５スピ
ンドルで6rpmで25℃で測定されたブルツクフイ
ールド粘度計を使用して測定されたポアスで与え
られている。
においては、原画（ポジまたはネガ）ホトマスク
から光感受性シートの一面または両面に写真的に
画像を転写させることに対する継続的要求が存在
している。多くの重要なケースにおいてはこれら
画像はエレメント上に前以つて定められている位
置に正確に軸合せまたは整合されていなくてはな
らない。画像がエレメントの両面に転写される場
合には、前面および背面画像がこれまた相互に正
確に整合されていることが往々にして更に要求さ
る。すべての場合、転写操作は画像特性の定義お
よび相対的位置の両方を可及的最高度に正確に保
持させ、そして一方望ましくないそしてにせの特
性の転写を最小とするような方法で実施される。 印刷回路は往々にして乾燥フイルムホトレジス
トを使用して反復画像転写法により製造される。
このホトレジスト法の実施に使用される装置は一
般に独立した部分、例えば銅被覆基材板の清浄化
用のクリーナーまたはスクラバー、板の予熱のた
めのオーブン、フイルムおよび板にこれらを一緒
に積層させる際に熱を適用するロールラミネータ
ー、活性線放射露光ステーシヨンおよび銅基材上
のレジスト像の現像のための溶媒洗去装置より構
成されている。そのような方法および装置は
「Printed Circuits Handbook」（McGraw−Hill
社第２版1975年発行）および「Photoresist
Materials and Processes」（McGrawHill社
1975年発行）に完全に記載されている。 典型的には装置の各部分の間で基材板の手動転
写および位置ぎめが行われるがこれは費用を増加
させそして再現性を低下させて方法の収率損失を
導く。 ホトレジスト過程の自動化に対して種々の試み
がなされているがしかし自動化は限定された程度
にしか採用されていない。しかしながら近年板ト
リミングは成功裸に高生産性クリーニングおよび
積層系に包含されている（例えば米国特許第
4293635号、ヨーロツパ特許出願第811040138号、
米国特許出願第153636号および同第153637号各明
細書参照）。この自動化は使用者に対して実質的
コストの節約を与える。それにもかかわらず多く
のそれに続く段階は高度に労力を要するものに留
まりそして人為的誤操作を受けがちである。この
ことは整合および露光段階に関して特に真であ
る。 密着印刷はある種の既知の欠点にもかかわらず
印刷回路およびグラフイツクアーツ産業で今日一
般的に使用されている露光法である。装置コスト
は低く、使用は簡単でありそして優れたライン定
義を与えうるけれども、密着印刷は労力がかかり
そして遅いものである（長い真空ドローダウン時
間の故に）。またそれはくりかえしの使用から生
ずる損傷または汚染されたホトマスクに由来する
損失を受けやすい。次いで歩留りの悪影響を避け
るためにはこれは頻繁なそして費用のかかるホト
マスクのタツチ・アツプおよび取り換えを要す
る。露光の間に、ホトマスクの欠陥の検査のため
の一定のそして厄介な工程において多量の時間も
また失われる。更に、フレーム温度および環境の
湿度の変動は高価な脆いガラスホトマスクが使用
されない場合には特に大形エレメントに対してコ
ーナー／コーナー整合に悪影響を与える。 それに代る露出法例えばギヤツプ印刷、投影印
刷およびレーザー走査のそれぞれは密着印刷に比
べて若干の有意の利点を与える。しかしながら現
在の技術水準においては、すべては高い生産性適
用に対しては重大な限界を有しておりそしてこれ
らは固有的に装置コストにおいてはるかにより大
となる。 本発明は、基材にホトマスクを整合させてシー
ト基材に適用された光感受性層を活性線放射に像
様露光させるための方法であり、而してこの方法
は次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 基材およびホトマスクを前以つて定めた関
係で相互に整列させること、および (b) 基材とホトマスクとの間に光感受性液体を
適用すること を実施させるような装置中の位置に基材を前進
させること、 (2) 基材とホトマスクとを光感受性液体を介して
接触させそれによつて液体層中の光感受性液体
の除去に由来するより密接な接触以外の実質的
な基材に相対的なホトマスクの移動が前記接触
の間生じないようにそしてそれによつて少くと
も界面または粘稠力の一方が基材とホトマスク
とを相互に相対的に一定の位置に保持されるの
を助けること、 (3) ホトマスクを通してこの光感受性液体を活性
線放射に露光させること、 (4) 基材からホトマスクを除去しそれによつて光
感受性液体から生じた硬化物質がホトマスク上
に実質的に残留しないようにすること、 (5) 光感受性液体から生じた結合硬化物質の独立
した部分を含有する基材を生成させること、 を包含するものである。 本発明の技術によりコーテイングおよび画像形
成されるシート基材（基質）は種々でありそして
これは最終製品の用途に依存する。基材は剛性ま
たは可撓性、粗荒性または平滑性、均質または非
均質、電気伝導性または非伝導性でありうる。基
材はその一面または両面を光感受性液体でコーテ
イングしそして画像形成させることができ、そし
て基材表面はそれ自体光感受性液体の適用前に光
感受性でありうる。 本発明の方法においては１個または多数個のシ
ート基材を整合および露光装置に導入させる。装
置の整合部分は一般には長方形の基材を正確な配
置でホトマスクに整合することを可能ならしめ
る。このホトマスクは光感受性層の活性線放射へ
の像様露光を可能ならしめる。 このホトマスクは活性線放射を透過させる可撓
性シートである。１枚たは２枚のホトマスクを使
用することができる。その理由はシート基材の両
面を順次にかまたは同時に画像形成させることが
できるからである。２枚のホトマスクの使用の場
合、各々の先行端をその厚さが基材の厚さに近似
している薄いキヤリアの各面上で平行な蝶つがい
関係で結合させることができる。ホトマスクは共
通のキヤリアに対するそれらの蝶つがい関係の故
に相互に正確に整合状態で保持させることができ
る。 ２枚のホトマスク使用の場合、基材をホトマス
クの間に位置させあるいは軸合せされる。その結
果、基材は少くとも１枚のホトマスクと整合され
る。整合接触は基材とキヤリアとの簡単なエツジ
−エツジ接触でありうる。この場合の唯一の付加
基準は所望のホトマスクの画像パターンが画像形
成されるべきシート部分内に完全に含有されてい
るということである。しかしながら整合はより一
般的には基材上に含有される細部をホトマスク画
像の細部と正確に一致させることを要求する。こ
の場合シート上またはシート中の少くとも２個の
接触点をキヤリアに固定された２個の相当する接
触点と固定的関係にする。そのような点はシート
およびキヤリアの端部の適当に間隔をあけたノツ
チまたはタブでありうる。あるいはまたこれらの
点は、整合ピンにより所望に配列されて位置され
ている正確なドリル穿孔した整合孔をシートが含
有しているような整合ピンと孔との組合せより構
成されたものでありうる。多数の基材を使用する
場合には、整合は基材ごとに同一であつて、以後
の処理に対して基材上に多数の実質的に同一の露
光光感受性層を生成させる。 基材がキヤリアに対して整合関係になつたなら
ば蝶つがい（ヒンジ）端またはその近くでホトマ
スクの外側表面上にキヤリアに大体平行な線で通
常の圧を適用しそしてこの圧ラインを蝶つがいラ
インに垂直の方向にそして基材表面に平行に前進
（相対的に）させ、そしてこの前進と同方向に例
えばコーテイングによつて基材および／またはホ
トマスクの内側表面に光感受性液体を適用するこ
とによつて可撓性フイルムホトマスクを光感受性
液体中間層の存在下に基材の少くとも一つの面に
適用する。実際には、前進直線圧力により形成さ
れる基材とホトマスクとの間のニツプは光感受性
中間層をカレンダー処理するかまたはこれを形成
させるように働き、そしてホトマスクは一時的に
光感受性中間層に接着して光感受性層が基材表面
とホトマスクを分離しているような整合サンドイ
ツチ構造を生成させる。基材の２個の表面の各々
に光感受性液体を適用する場合にはこの積層また
はカレンダーがけ段階は好ましくは１組の加圧ロ
ーラーを通して蝶つがいホトマスク整合シート集
成体を通過させることによつて実施される。ニツ
プ圧は液体の粘度、ニツプを通る基材の通過速度
および所望される層の厚さによつて調節される。
この操作様式においては、圧を第一に基材と可撓
性ホトマスクとの先行端またはその近くに適用す
る。そして各ホトマスクの後続部分が各加圧ロー
ルのカーブした表面のまわりに一部まきつく。 好ましくは光硬化性の光感受性液体を次いでホ
トマスクまたは基材またはその両者の表面にコー
テイングする。ある場合には光感受性液体をホト
マスクに適用し、一方低粘度液体を基材に適用す
る。好ましくは一般的方向が上方となるように、
すなわち加圧ロールおよび液体適用に相対的な基
材移動が上方向むきとなるように整合装置を配向
させる。基材、加圧ロールまたはその両者が動か
しうるし、あるいは前記のものの一つを静止位置
とすることができることが理解される。そのよう
に配向させた場合、基材上の液体の調整またはク
リーニング作用が達成されうる。その理由は過剰
の液体を使用しうるしそしてこれは簡単にそれと
共にすべての外来性物質を運んで受け器中に流下
するからである。更に好ましくは活性線露光が行
われる加圧ロールの上の部分はより容易に不要の
液体のない状態に保持させるこができる。コーテ
イングした基材とホトマスクとの整合を得るため
のこの方法は減圧の助けなしに得られる。基材の
片面のみをコーテイングすればよいこと、そして
ホトマスクと加圧手段は基材の片面にのみ存在さ
せればよいということが理解される。 本明細書においては「実質的に移動がない」と
いうことは基材表面およびホトマスクが相対的に
相互にそれらの表面に平行な方向に動かないとい
うこと、すなわち表面が相互に滑つてホトマスク
の基材に対する整合を変化させないことを意味し
ている。しかし「実質的に移動がない」というこ
とはそれらの表面に対して垂直の方向にホトマス
クと基材とが相対的に移動してより緊密な接着を
生成させること例えば過剰の液体を基材とホトマ
スクとの間の界面からしぼり出して光感受性層を
形成させることは許容できることが理解される。
しかし前進加圧ラインにより形成される光感受性
層に接触する基材層およびホトマスクはそれらの
表面に平行かつ垂直の方向に固定された関係に留
まつている。 また本明細書においては、光感受性液体層を介
して基材とホトマスクとを「接触させる」という
ことは中間層を除外するものではないことも理解
されたい。例えば基材を光感受性液体の適用の前
に非光感受性液体でぬらすことができる。「接触」
はしかし気体または蒸気中間層例えば空気の使用
は除外する。これらはギヤツプまたは非接触状態
と考えられる。 基材表面が例えばアルミニウムプレートに関し
て平滑である場合には、光感受性液体およびその
後でのこの光感受性液体からの結合された硬化物
質の均一な厚さを得ることができる。基材表面が
平滑でない場合、例えば盛り上つたレリーフパタ
ーンを有する例えば印刷回路板の場合には、光感
受性液体層は盛り上つたレリーフ部分の故に均一
ではない。盛り上つたレリーフ部分を含有する基
材部分以外では光感受性液体層は均一厚さであ
る。また光感受性液体から生じた結合部分もまた
同様に同一の様式で均一でありうる。 ホトマスクを光感受性液体中間層をコーテイン
グした基材上に整合固定したら、この光感受性液
体に対して活性な任意の放射源を使用して処方さ
れた時間露光を実施する。好ましい操作様式にお
いては、積層エレメントは加圧ローラーから出て
来、停止しそして固定された直立の位置で懸垂さ
れ、そして次いでホトマスクを通して3000〜4000
Åまたはそれ以上の領域の均一な活性線放射に露
光される。基材の両面が光感受性液体層を有して
いる場合には好ましくは両面を同時に露光せしめ
る。それに代る操作様式においては、光感受性液
体中間層をそれが加圧ロールから出て来た際活性
線放射で照射させそして照射領域を通過させる。
この様式においては、照射はバンドに焦点合わせ
させることができるし、あるいは強い活性線放射
の横方向に走査させた点を使用することができ
る。その強度は光感受性層の露光特性および移送
速度にマツチするように調整させる。また整合装
置から基材を完全に除去させそしてそれをいずれ
かの適当な露光ユニツト上で露光させることがで
きる。ホトマスクおよびキヤリアは界面液体によ
り導かれた界面または粘稠力の作用によつて基材
およびその光感受性層に関して整合固定されてい
る。界面および粘稠力の両者が存在しうることが
理解される。 活性線露光はホトマスクを製造した材料によつ
てホトマスクへの液体の光接着を誘導せしめう
る。露光および硬化液体の容易な離脱を確実なら
しめるためには、このマスク表面を活性線放射に
本質的に透明な薄い離型層で保護または修正させ
ることができる。この離型層はマスク像表面への
強い接着を有しているべきであるがしかしこれは
硬化された光感受性液体に対してはより弱い接着
を有しているべきである。離型層の厚さは最小の
もの、例えば好ましくはマスク画像の厚さを例え
ば約0.001インチまたはそれ以下として露光画像
の高い解像性を確実ならしめるべきである。一つ
の有用な離型層は接着剤でマスク画像に接着され
た0.0005インチ厚さのポリエチレンテレフタレー
トフイルムである。その他としては種々のワツク
スおよび通常のモールド離型剤があげられる。ホ
トマスクの望ましい特徴としては、コーテイン
グ／積層法を行わせるに充分な可撓性、液体組成
物との長期接触における寸法安定性、液体組成物
に対する化学的安定性、容易な離型性、露光され
た光重合体からの離型コーテイングとの光重合体
相容性および応力に対する機械的耐久性があげら
れる。 像形成性露光の完了した際例えばピーリングによ
つて露光光感受性層の表面からのホトマスクの除
去を行つてかくして整合から画像エレメントを離
型させる。画像形成されたエレメントを次いでコ
ーテイング／整合／露光装置から移しそして一連
の基材が画像形成されるべき場合には次の基材を
受容すべくホトマスク−キヤリア集成体をその最
初の位置に戻すことができる。好ましい操作様式
においては一連の基材に対しては大部分前露光段
階を露光段階の後で逆転せしめる。すなわち露光
積層エレメントを例えばローラーのような加圧手
段によつて後に送り、そして各ホトマスクをその
それぞれの圧力ローラーの上をキヤリア上の蝶つ
がい（ヒンジ）部分に達するまで保存部分に引き
戻す。この点またはその付近でホトマスク−キヤ
リア集成体を停止させ、そして画像形成された基
材をコーテイング／整合／露光装置から基材を運
ぶ装置に放出させる。ローラー以外の手段例えば
スクイージーを使用して圧力を適用させることが
できる。同様に加圧手段は移動可能なものであり
うるしそしてホトマスクに整合された基材を保持
する装置は定常的なものでありうる。そのような
操作様式においては、装置は露光されるべき一連
の次のシートを受入れるべく実質的に準備されて
いる。好ましい操作においては、露光後画像形成
された基材の移動は下方向でありそして加圧ロー
ラーは画像形成基材を運搬手段に落下させるべく
分離されている。ホトマスクは画像形成シートか
ら剥離された際には多数の方法のいずれかで保存
させることができる。好ましい保存様式は巻き上
げドラム上である。この上にホトマスク表面は外
来的接触なしに留まる。あるいはまたホトマスク
は懸垂させて保存することができるし、またはこ
れは加圧ローラー自体の上に巻上げることができ
る。 整合および像様露光法の間、シート基材は水平
または垂直を含むいずれかの配向でありうる。好
ましくは基材は垂直または実質的に垂直な面にあ
る。本発明の方法においてはいずれかの手段を使
用して基材を装置の整合部分にかまたはそこから
運ぶことができる。上方向−下方向の好ましい操
作様式においては、基材をベルトによつてその縁
で水平にキヤリアの下の位置まで水平に運び、そ
してこの点でそれを持ち上げ装置によつて整合接
触で持ち上げるようにすることができる。露光
後、画像形成シートはコンベアベルトに落され、
コンベアベルトはそれを端縁において水平に装置
の外に運ぶ。 ホトマスクまたは基材エレメントまたはその両
方に適用される光感受性液体はネガとして働くも
のでありうるしまたはポジとして働くものでもあ
りうる。ネガとして働く液体は、活性線放射の効
果が露光画像部分を直接的あるいは間接的に硬化
あるいはそれ以外の様式でレオロジーを変化させ
るような光硬化性組成物である。好ましくは、不
溶化もまた生ずる。典型的な光硬化反応としては
重合体（プレポリマー）の遊離ラジカル連鎖付加
重合交叉結合反応および二量化反応その他があげ
られる。そのような光硬化性組成物は一般に
Kosar氏著「Light Sensitive Systeme」（1965）
に開示されている。ポジとして働く液体は典型的
には活性線放射の効果が露光画像部分で減感また
は硬化阻止を生ぜしめまたはその他のレオロジー
変化を生ぜしめる組成物である。一般に光減感は
次に未露光部分を硬化させる硬化工程を実施す
る。そのようなポジとして働く系は米国特許第
4162162号および同第4269933号各明細書に記載さ
れている。 光感受性液体は未露光状態で、積層圧力およ
び／または重力の作用を加えられた場合基材とホ
トマスクとの間に均一な厚さの連続層を形成させ
そしてこれを保持させるに適当な粘度を有してい
るべきである。最適液体粘度は液体層の厚さ、基
材とホトマスクとの間に液体中間層を形成させる
ために適用される圧、液体中間層の形成速度、温
度および基材の配位例えば垂直かあるいは水平か
によつて影響される。低い方の粘度限界は選ばれ
た積層圧、積層ロールジユロメータ（または接触
面積）および積層速度の条件下にホトマスクと基
材との間に許容しうる厚さのそして安定な光感受
性液体中間層を与えそして適用要求を与える粘度
により限定される。高い方の限界は装置が同一積
層条件下にホトマスクに適当な厚さの平滑で均一
な適当なコーテイングを配分させる能力、ならび
に空気または多量の低粘度液体を過剰に捕集する
ことなしに回路または存在させる場合の扛起レリ
ーフを形成しうる液体の能力により限定される。 好ましいネガとして働く光感受性液体は１個ま
たはそれ以上の末端エチレン基を含有する付加重
合性エチレン性不飽和化合物である少くとも１種
の単量体および活性線放射により活性化可能な遊
離ラジカル生成性付加重合開始剤系を含有する光
重合性液体である。一般にこの液体はまた重合体
状結合剤、充填剤物質、および光感受性液体の粘
度およびその他の性質を調整するための単独また
は組合せにおけるその他の単量体をも含有する。
この液体はまたその他の成分例えば染料、顔料、
可塑剤、接着助剤、熱阻害剤その他のようなコー
テイング製品の特定の用途に対して要求されるも
のをも含有しうる。有用な単量体、開始剤、結合
剤およびその他の成分の例は以下に列記されてい
る。 単独単量体としては次のものが挙げられる。第
３級ブチルアクリレート、１，５−ペンタンジオ
ールジアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエ
チルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、ヘキ
サメチレングリコールジアクリレート、１，３−
プロパンジオールジアクリレート、デカメチレン
グリコールジアクリレート、デカメチレングリコ
ールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサン
ジオールジアクリレート、２，２−ジメチロール
プロパンジアクリレート、グリセロールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−ヒド
ロキシフエニル）プロパンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、２，２−
ジ−（ｐ−ヒドロキシフエニル）プロパンジメタ
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリオキシエチル−２，２−ジ−（ｐ−ヒ
ドロキシフエニル）プロパンジメタクリレート、
ビスフエノールＡのジ（３−メタクリルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフエノ
ールＡのジ（２−メタクリルオキシエチル）エー
テル、ビスフエノールＡのジ（３−アクリルオキ
シ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフ
エノールＡのジ（２−アクリルオキシエチル）エ
ーテル、テトラクロロビスフエノールＡのジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
エーテル、テトラクロロ−ビスフエノールＡのジ
（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、テト
ラブロモビスフエノールＡのジ（３−メタクリル
オキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、テ
トラブロモビスフエノールＡのジ（２−メタクリ
ルオキシエチル）エーテル、１，４−ブタンジオ
ールのジ（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキ
シプロピル）エーテル、ジフエノール酸のジ（３
−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）
エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、ポリオキシプロピレントリメチロールプロ
パントリアクリレート（462）、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ブチレングリコールジメタ
クリレート、１，３−プロパンジオールジメタク
リレート、１，２，４−ブタントリオールトリメ
タクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３
−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、１−フエニル
エチレン−１，２−ジメタクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、１，５−ペン
タンジオールジメタクリレート、ジアリルフマレ
ート、スチレン、１，４−ベンゼンジオールジメ
タクリレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼ
ンおよび１，３，５−トリイソプロペニルベンゼ
ン。 前記エチレン性不飽和単量体の他にこの光硬化
性層はまた少くとも300の分子量を有する遊離ラ
ジカル開始連鎖延長付加重合性エチレン性不飽和
化合物の少くとも１種を含有することができる。
これらの単量体としては好ましくは２〜15個の炭
素原子のアルキレングリコールまたは１〜10個の
エーテル結合のポリアルキレンエーテルグリコー
ルから製造されたアルキレンまたはポリアルキレ
ングリコールジアクリレートおよびここに参照と
して包含されている米国特許第2927022号明細書
に開示のもの例えば特に末端結合として存在する
場合の複数個の付加重合性エチレン結合を有する
もの、そしてそのような結合の少くとも１個そし
て好ましくはそのほとんどが炭素およびヘテロ原
子（例えば窒素、酸素および硫黄）との炭素二重
結合を含む二重結合炭素と共役しているものがあ
げられる。顕著なものはエチレン性不飽和基特に
ビニリデン基がエステルまたはアミド構造に共役
しているものである。 開始剤としては共役炭素環系中に２個の環内カ
ルボニル基を有する化合物である置換または非置
換の多核キノンである。適当なそのような開始剤
としては９，10−アントラキノン、１−クロロア
ントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−
メチル−アントラキノン、２−エチルアントラキ
ノン、２−第３級ブチルアントラキノン、オクタ
メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、
９，10−フエナントレンキノン、１，２−ベンズ
アントラキノン、２，３−ベンズアントラキノ
ン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３
−ジクロロナフトキノン、１，４−ジメチルアン
トラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、
２−フエニルアントラキノン、２，３−ジフエニ
ルアントラキノン、アントラキノンα−スルホン
酸のナトリウム塩、３−クロロ−２−メチルアン
トラキノン、レチンキノン、３，８，９，10−テ
トラヒドロナフタセンキノンおよび１，２，３，
４−テトラヒドロベンズ（ａ）アントラセン−
７，12−ジオンがあげられる。それらのあるもの
は85℃の低い温度でも熱的に活性であるにしても
これまた有用なその他の光開始剤は米国特許第
2760863号明細書に記載されており、これらとし
てはビシナルケトアルドニル化合物例えばジアセ
チル、ベンジルその他、α−ケトアルドニルアル
コール例えばベンゾイル、ピベロインその他、ア
シロインエーテル例えばベンゾインメチルおよび
エチルエーテルその他、α−メチルベンゾイン、
α−アリルベンゾインおよびα−フエニルベンゾ
インを含むα−炭化水素置換芳香族アシロインが
あげられる。更に米国特許第2850445号、同第
2875047号、同第3097096号、同第3074974号、同
第3097097号および同第3145104号各明細書に開示
の光還元性染料および還元剤らびにフエナジン、
オキサジンおよびキノン群を使用することができ
る。その他の適当な重合開示剤はミヒラーのケト
ン、ベンゾフエノン、２，４，５−トリフエニル
イミダゾール二量体と水素ドナーおよびそれらの
混合物で米国特許第3427161号、同第3479185号お
よび同第3549367号各明細書記載のものである。
同様に米国特許第271241号明細書のシクロヘキサ
ジエノン化合物も開始剤として有用である。前記
すべての米国特許および出願はここに参照として
包含されている。 結合剤は光感受性液体の粘度の調整のために
個々または組合せでかまたは充填剤物質と組合せ
て使用することができる。典型的な結合剤として
はポリアクリレートおよびα−アルキルポリアク
リレートエステル例えばポリメチルメタクリレー
トおよびポリエチルメタクリレート、ポリビニル
エステル例えばポリビニルアセテート、ポリビニ
ルアセテート／アクリレート、ポリビニルアセテ
ート／メタクリレートおよび水解ポリビニルアセ
テート、エチレン／ビニルアセテート共重合体、
ポリスチレン、ビニリデンクロリド共重合体例え
ばビニリデンクロリド／アクリロニトリル、ビニ
リデンクロリド／メタクリレートおよびビニリデ
ンクロリド／ビニルアセテート共重合体、ポリ塩
化ビニルおよび共重合体例えばポリ塩化ビニル／
アセテート、4000〜1000000の平均分子量を有す
るポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキサ
イド、エポキシサイド、コポリエステル例えば式
HO（CH2）o−OH（中ｎは２〜10の整数である）
のポリメチレングリコールと(1)ヘキサヒドロテレ
フタル酸、セバシン酸、およびテレフタル酸、(2)
テレフタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸、
(3)テレフタル酸およびセバシン酸、(4)テレフタル
酸およびイソフタル酸、との反応生成物から製造
されたもの、および(5)前記グリコールと）テレ
フタル酸、イソフタル酸およびセバシン酸おび
）テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸お
よびアジピン酸から製造されたコポリエステル混
合物、合成ゴム例えばブタジエン／アクリロニト
リル、アクリロニトリル／ブタジエン（カルボキ
シ変性例えば３％）、アクリロニトリル／ブタジ
エン／スチレン、C1〜4−アルキルメタクリレー
ト／アクリロニトリル／ブタジエン、C1〜4−アル
キルメタクリレート／スチレン／アクリロニトリ
ル／ブタジエン共重合体、２−クロロブタジエン
−１，３−重合体、塩素化ゴム、スチレン／ブタ
ジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチ
レンブロツク共重合体およびその他のここに参照
として包含されている米国特許第3265765号明細
書記載のブロツク共重合体、ｎ−ブチルメタクリ
レート、ポリエーテルポリウレタン樹脂その他、
ナイロンまたはポリアミド例えばＮ−メトキシメ
チルポリヘキサメチレンアジパミド、セルロース
エステル例えばセルロースアセテート、セルロー
スアセテートサクシネートおよびセルロースアセ
テートブチレート、セルロースエーテル例えばメ
チルセルロース、エチルセルロースおよびベンジ
ルセルロース、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール例えばポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリホルムアルデヒドがあげられ
る。 所望により光重合性層はまた光重合体物質の露
光に使用される波長では本質的に透明な非混和性
重合体状または非重合体状の有機または無機充填
剤または補強剤例えば親有機性シリカ、ベントナ
イト、シリカ粉末ガラス、コロイドカーボンなら
びに種々のタイプの染料および顔料を光重合性層
の所望の性質に関して種々の量で含有することが
できる。米国特許日3754920号および同第3785877
号各明細書に開示された粒状物厚さはこの目的に
対して有用である。 その他の任意の添加剤としては阻害剤、染料、
顔料、可塑剤その他があげられる。 適当な熱重合阻害剤としてはｐ−メトキシフエ
ノール、ヒドロキノンおよびアルキルおよびアリ
ール置換ヒドロキノン、およびキノン、第３級ブ
チルカテコール、ピロガロール、銅レジネート、
ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化第一銅、
２，６−ジ第３級ブチル−Ｐ−クレゾール、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロソ二量体例えば
１，４，４−トリメチル−２，３−ジアゾビシク
ロ〔３，２，２〕−ノン−２−エン−２，３−ジ
オキサイド、ジニトロベンゼン、ｐ−トルキノン
およびクロラニルがあげられる。 種々の染料を加えて形成画像の可視性を上昇さ
せることができる。この能力において顔料もまた
使用しうる。使用されるすべての着色剤はしかし
好ましくは使用される活性線放射に対して透明で
あるべきである。 有用な可塑剤は使用されているすべての重合体
状結合剤と相容性の一般的可塑剤例えばジアルキ
ルフタレート、ポリエチレングリコールおよびア
ルキルホスフエートでありうる。 光感受性液体はホトマスクあるいは基材に適用
することができるけれども、その液体はホトマス
クと基材との両方に適用することができる。ある
いはまた同時に異つた光感受性液体を各表面に適
用して特性の勾配を有する層を生成させることが
できる。更にこの異つた液体の両方が光感受性で
ある必要はない。同時に適用された２種の光感受
性液体または１種の光感受性液体と１種の非光感
受性液体とを組合せて基材とホトマスクとの間に
単一光感受性層を生成させることができる。更に
基材の前面および後面に異つた系を適用すること
ができる。 光感受性液体をホトマスクに適用させる本発明
の更にその他の具体例においては、基材を調整液
で処理することができる。そのような調整液は汚
れまたは不要な表面酸化物その他を除去させるク
リーニングまたはエツチング溶液でありうる。そ
のようなクリーニング液は例えば米国特許出願第
153636号および同第341618号各明細書に開示の機
械的清浄化と組合せて使用することができる。調
整液は下塗り溶液または接着促進剤の溶液例えば
米国特許第3645772号明細書に開示のものであり
うる。光感受性層をレリーフ表面を有する基材に
適用すべき場合には、例えば回路板へのはんだマ
スクの場合には調整液例えば単量体、可塑剤また
は米国特許第4069076号明細書に開示の液体を基
材に適用して積層の間のレリーフ表面における泡
または空気捕集を除外させることができる。ある
いはまた光感受性液体が基材表面に適用される場
合には非光感受性液体をホトマスク表面に適用し
て表面を条件調整しまたは清浄化させること、例
えば離型剤を適用して像様露光の間のホトマスク
への光接着を阻止させることができる。 液体の基材表面への適用のためには任意の手段
を使用することができる。適用手段に対する第一
義的要求はそれらが表面を損傷させないというこ
と、そしてそれらが適用される液体の交叉汚染を
誘発させないということである。 図面においては垂直配向で基材の両面において
実施される本発明の方法が示されている。基材例
えば回路板は水平を含むいずれかの配向に保持さ
せることができ、そして表面の一面のみを処理す
ることができる。 第１図は上方向に運ばれるジオール基材１が示
されている。スプレーノズル２は流体７例えば低
粘度液体を基材に適用する。過剰の液体は重力に
より流下される。コーテイングダイ３はこの流体
よりも高粘度の光感受性液体を直接ホトマスク４
に適用する。ホトマスクはロール５のまわりを巻
き戻されて、基材が上方向に移動して入つてくる
際に光感受性液体８を介して基材と接触する。活
性線放射源６はホトマスク５を通して光感受性液
体の一部を露光させる。露光後この過程を逆転さ
せ、基材１を下方向に送りそしてホトマスクをロ
ール５のまわりに再び巻き上げる。 第２図は基材に光感受性液体を適用するための
それに代る方法を示す（ホトマスクと基材との整
合は示されていない）。基材１１は上方向に移動
し、そしてノズル１２からの流体でコーテイング
される。より高粘度の光感受性液体を重力フイー
ダー１３からロール１５に適用する。ドクターナ
イフ１７がロール上の光感受性液体の厚さを制御
する。ホトマスク１４を１８のまわりに巻き付け
てロール１５からの光感受性液体を移す。基材の
上向きの方向およびホトマスクの移動方向は基材
とホトマスクとの間に均一な厚さの光感受性液体
をトラツプさせる。活性線放射源１６からの露光
の後、この過程を逆転させるがただしコーテイン
グロール１５はそれ以上の液体供給またはノズル
１２からの流体適用なしに引込める。 例えば第２図の具体例のそれに代る様式におい
ては、ノズル１２または異つた１組のノズルを使
用して露光後に光感受性層から生じた結合硬化物
質に画像液を適用する。そのような場合現像液は
基材を下方向に動かしつつ適用することができ
る。 第３図は基材の一面への光感受性液体の水平適
用様式を示す。連続ウエブの形のホトマスク２２
はロール２４のまわりに巻き付けられている。基
材２１をホトマスクウエブ２２に固定させたキヤ
リアバー２５によつてホトマスクに整合させる。
光感受性液体２３の層として存在する光感受性液
体３０はアプリケーターロール２６からホトマス
クに移されそしてそれが水平に加圧ロール２７と
ロール２４でホトマスクの間を通過する際基材２
１の表面に転写される。適用される層の厚さはア
プリケーターロール２６上のドクターナイフ２８
により制御される。活性線放射源２９はホトマス
ク２２を通して光感受性液体の一部を露光させ
る。露光後この過程を逆転させ、基材２１を逆水
平方向に送りそしてホトマスク２２をロール２４
上に再び巻き付ける。 本発明の方法は一連の同様のシート基材の増感
および画像形成において特に有用である。そのよ
うな反復法としては銅被覆基材からの印刷回路板
の製造（一次画像形成として知られている）なら
びに永久マスク層（はんだマスクとして知られて
いる）のはんだ処理の前の印刷回路板への適用が
あげられる。ある特定の場合には本発明の反復法
を標準乾燥フイルムレジスト法例えば米国特許第
3469982号明細書に開示のものと組合せて改善さ
れたレジスト画像例えばテントレジストを生成さ
せることができる。すなわち優れた接着性を有す
る乾燥フイルムホトレジストを積層させた一連の
銅被覆基材は本発明の方法によつて画像形成併合
レジスト層に優れた処理特性を付与する光感受性
液体で処理することができる。 本発明の方法はまた改善された表面特性を有す
る石版印刷プレートおよび凸版印刷プレートの製
造のためのグラフイツクアーツ産業においても有
用である。アルミニウムプレートを本発明の方法
を使用してそのままの光重合性液体でコーテイン
グしそして画像形成させることによつてより少い
労力および時間をもつて液体を使用して通常製造
される石版プレートよりもより均一なそしてより
大なる磨耗抵抗性を有する石版印刷プレートを製
造することができる。本発明の方法によつてその
ままの光重合性液体を光重合性の深いレリーフ印
刷プレート、特に米国特許第4323636号明細書記
載のタイプのフレクソ印刷プレートに適用して印
刷表面特性を修正させそして／または製造、保存
または取扱いの間に生じた表面欠陥を補正させる
ことができる。 例えば次の組成を有する粘稠な光重合性液体は
容器中で成分を合しそして均質溶液が得られるま
で（温度および撹拌速度によつて４〜24時間）空
気作動プロペラタイプ撹拌機で撹拌することによ
つて製造される。特に記載されない限りは成分量
は重量部で与えられておりそして粘度はNo.５スピ
ンドルで6rpmで25℃で測定されたブルツクフイ
ールド粘度計を使用して測定されたポアスで与え
られている。
【表】
次の表に記載の成分を組合せることによつて低
粘度液体を生成させる。
粘度液体を生成させる。
【表】
グリコールジア
クリレート
クリレート
【表】
レート
例 １ 印刷回路板の一面を整合させ、室温で粘稠な光
重合性液体でコーテイングさせそして第３図に記
載の装置中で粘稠液体Ａのリバースロールコーテ
イングを使用して像様露光させる。 通常のジアゾ物質からホトマスクを製造する。
ホトマスクの画像表面を0.0005インチ接着剤層を
有する0.0005インチの透明なポリエステルフイル
ムであるタプコル（Tapcor）エマルジヨンプロ
テクシヨンフイルム（タプコル社製品）のシート
を接着させることにより保護させる。ホトマスク
ウエブには、その上に整合タブを含有しそして画
像形成させるべき印刷回路板と近似した厚さを有
する回路板ガイド２５が整合結合されている。 0.062インチ厚さのフアイバーグラスエポキシ
板の一面上に約0.003インチ高さの回路パターン
を有する印刷回路板２１はその先行端に整合ノツ
チ（切欠け）を有しており、これは回路板ガイド
２５の整合タブに合致する。この印刷回路板を低
粘度液体「AA」中に浸漬させそしてこの液体を
ブラシで印刷回路パターン上に拡げる。 ホトマスクの保護された表面を次の方法によつ
て粘稠な液体Ａの層でコーテイングする。時計方
向に回転するアプリケーターロールは供給パン３
０から液体２３を取り上げる。アプリケーターロ
ール表面の上方に位置させた計測ナイフ２８がコ
ーテイング厚さおよびコーテイング幅を制御しそ
して両端の２個のスクレイパーがホトマスク上に
過剰の液体バンクが沈着するのを阻止する。ホト
マスク２２が時計方向にロール２４に巻き付くと
ホトマスクの保護された表面は回転するアプリケ
ーターロール２４のコーテイングされた表面をス
キムしてコーテイングされた液体を保護表面に送
る。 回路板ガイド２５が、加圧ロール２７とロール
２４のまわりに巻いたホトマスクにより形成され
たニツプを通過する際コーテイングされた印刷回
路板２１のノツチはガイド２５の整合タブ上に嵌
合し、その結果印刷回路板はホトマスクの画像と
整合されてニツプを通して引張られる。回路板が
ニツプを通る際、コーテイングされた回路表面は
粘稠な液体層に接触し、そしてニツプからすべて
の過剰の液体をしぼり出すことによつて均一にコ
ーテイングされた印刷回路板を生成させる。得ら
れるコーテイングの所望の0.004インチの厚さは
計測ナイフ、コーテイングが実施される速度、お
よび／またはロール２７により適用される圧の調
整によつて得られる。印刷回路板の後続端がニツ
プを通つた際その移動を停止させそして複合エレ
メントをその位置に保持させつつコーテイングし
た層を接着ホトマスクを通して、ホトマスクの面
から４インチのUV螢光灯のバンクからの活性線
放射に像様露光させる。 活性線放射への露光の完了後、加圧ロール２７
を持ち上げ、そしてホトマスクウエブの移動を逆
転させて画像形成回路板を放出させる。光硬化画
像はホトマスクの保護表面から完全に分離しそし
て回路板表面に固く接着残留する。ホトマスク表
面に関して残留するすべての未硬化粘稠液体は画
像形成せしめるべき以後の板の処理の間に新しい
液体と組合させる。 得られた画像形成回路板を検査すると、0.0003
インチ以下の泡を検出しうる顕微鏡検査（30倍）
によつてさえも回路の線に沿つての空気捕集の泡
は検出できない。泡のない保護コーテイングはは
んだの間に使用される保護マスクすなわち例えば
はんだマスクに対する重要な基準である。同様の
印刷回路板を粘稠な液体「Ａ」のみでコーテイン
グし、そして低粘度液体「AA」による保護を与
えず、そして画像形成させた場合には泡の形の空
気捕集がコーテイング通路に垂直な回路線に沿つ
て観察される。 画像形成回路板上に残る未硬化液体は１％
Na2CO3水性溶液を使用した95〓において３〜４
フイート／分のプロセサー速度で操作される市場
的に入手可能なADS−24プロセサー中で除去さ
れて電気成分をはんだ接着させるべき貫通孔に相
当するパツド部分以外の全回路パターン上に硬化
保護コーテイングを有する印刷回路板を生成させ
る。 現像後300〓のオーブン中で板を１時間焼成さ
せ次いで10フイート／分で市場的に入手可能な
UV硬化装置を２回通過させることによつて保護
コーテイングを硬化させる。この回路板はここに
通常のフイニツシユ、フラツクスがけ、電気成分
の挿入およびはんだづけに対して準備される。 例 ２ 実質的に例１に記載のようにするがしかしそれ
と異なる低い粘度の液体および粘稠な光重合性液
体を使用してはんだマスクコーテイングを製造す
る。 光吸収性顔料を含有する粘稠な液体Ｃを低粘度
液体AAと共に使用した場合、現像画像の解像性
は改善される。 粘稠光重合性溶液Ａ、ＢおよびＣの各々をプレ
コーテイング用低粘度液体AA、BB、CC、DD
およびEEの各々と共に使用して一連の画像形成
および硬化回路板を製造しそして硬化板の各々を
次の最終使用試験にかける。 各回路板を水性またはロジンフラツクスで処理
しそして次いで５フイート／分の速度で260℃の
典型的なはんだウエーブ上を通過させる。回路線
上の硬化部分の破壊すなわちパツカリング、フレ
ーク・オフまたはブリスター形成について検査す
る。液体CC、DDまたはEEでプレコーテイング
したすべての回路板は破損なしに生き残つた。 各回路板を熱風レベル化試験にかける。これは
最初に274℃のはんだポツトに５秒間浸漬させ次
いでこの回路板を２秒間水性またはロジンフラツ
クス中に浸漬させそして次いで回路板を更に５秒
間はんだポツトに戻すことによりシミユレートさ
せる。前記破損はフラツクスから出した後のすべ
ての試料中に生じている。コーテイング厚さを
0.006インチに調整することにより新しい試料を
製造しそして試験した場合には破損は生じない。 水性またはロジンフラツクスで処理しそして次
いで前記ウエーブはんだ上を通過させた各回路板
のフラツクス除去を試試験する。水性フラツクス
が使用された場合回路板を140〓で水性５％燐酸
トリナトリウム溶液中に５分間置く。すべての回
路板の上の画像はこの処理により攻撃されない。
ロジンフラツクスが使用された場合には回路板を
沸騰CH3CCl3中に３分間次いで室温のCH3CCl3中
に３分間そして次いで沸騰CH2CCl3の蒸気中に３
分間浸漬させる。液体Ｂから製造された回路板は
不変であり、そして液体ＡおよびＣから製造され
た回路板は画像端においてわずかに攻撃されてい
る。 例 ３ 実質的に例１の記載のようにするがただし改善
された低粘度液体FFを使用してはんだマスクコ
ーテイングを製造する。低粘度液体FFは次の成
分から製造される。
例 １ 印刷回路板の一面を整合させ、室温で粘稠な光
重合性液体でコーテイングさせそして第３図に記
載の装置中で粘稠液体Ａのリバースロールコーテ
イングを使用して像様露光させる。 通常のジアゾ物質からホトマスクを製造する。
ホトマスクの画像表面を0.0005インチ接着剤層を
有する0.0005インチの透明なポリエステルフイル
ムであるタプコル（Tapcor）エマルジヨンプロ
テクシヨンフイルム（タプコル社製品）のシート
を接着させることにより保護させる。ホトマスク
ウエブには、その上に整合タブを含有しそして画
像形成させるべき印刷回路板と近似した厚さを有
する回路板ガイド２５が整合結合されている。 0.062インチ厚さのフアイバーグラスエポキシ
板の一面上に約0.003インチ高さの回路パターン
を有する印刷回路板２１はその先行端に整合ノツ
チ（切欠け）を有しており、これは回路板ガイド
２５の整合タブに合致する。この印刷回路板を低
粘度液体「AA」中に浸漬させそしてこの液体を
ブラシで印刷回路パターン上に拡げる。 ホトマスクの保護された表面を次の方法によつ
て粘稠な液体Ａの層でコーテイングする。時計方
向に回転するアプリケーターロールは供給パン３
０から液体２３を取り上げる。アプリケーターロ
ール表面の上方に位置させた計測ナイフ２８がコ
ーテイング厚さおよびコーテイング幅を制御しそ
して両端の２個のスクレイパーがホトマスク上に
過剰の液体バンクが沈着するのを阻止する。ホト
マスク２２が時計方向にロール２４に巻き付くと
ホトマスクの保護された表面は回転するアプリケ
ーターロール２４のコーテイングされた表面をス
キムしてコーテイングされた液体を保護表面に送
る。 回路板ガイド２５が、加圧ロール２７とロール
２４のまわりに巻いたホトマスクにより形成され
たニツプを通過する際コーテイングされた印刷回
路板２１のノツチはガイド２５の整合タブ上に嵌
合し、その結果印刷回路板はホトマスクの画像と
整合されてニツプを通して引張られる。回路板が
ニツプを通る際、コーテイングされた回路表面は
粘稠な液体層に接触し、そしてニツプからすべて
の過剰の液体をしぼり出すことによつて均一にコ
ーテイングされた印刷回路板を生成させる。得ら
れるコーテイングの所望の0.004インチの厚さは
計測ナイフ、コーテイングが実施される速度、お
よび／またはロール２７により適用される圧の調
整によつて得られる。印刷回路板の後続端がニツ
プを通つた際その移動を停止させそして複合エレ
メントをその位置に保持させつつコーテイングし
た層を接着ホトマスクを通して、ホトマスクの面
から４インチのUV螢光灯のバンクからの活性線
放射に像様露光させる。 活性線放射への露光の完了後、加圧ロール２７
を持ち上げ、そしてホトマスクウエブの移動を逆
転させて画像形成回路板を放出させる。光硬化画
像はホトマスクの保護表面から完全に分離しそし
て回路板表面に固く接着残留する。ホトマスク表
面に関して残留するすべての未硬化粘稠液体は画
像形成せしめるべき以後の板の処理の間に新しい
液体と組合させる。 得られた画像形成回路板を検査すると、0.0003
インチ以下の泡を検出しうる顕微鏡検査（30倍）
によつてさえも回路の線に沿つての空気捕集の泡
は検出できない。泡のない保護コーテイングはは
んだの間に使用される保護マスクすなわち例えば
はんだマスクに対する重要な基準である。同様の
印刷回路板を粘稠な液体「Ａ」のみでコーテイン
グし、そして低粘度液体「AA」による保護を与
えず、そして画像形成させた場合には泡の形の空
気捕集がコーテイング通路に垂直な回路線に沿つ
て観察される。 画像形成回路板上に残る未硬化液体は１％
Na2CO3水性溶液を使用した95〓において３〜４
フイート／分のプロセサー速度で操作される市場
的に入手可能なADS−24プロセサー中で除去さ
れて電気成分をはんだ接着させるべき貫通孔に相
当するパツド部分以外の全回路パターン上に硬化
保護コーテイングを有する印刷回路板を生成させ
る。 現像後300〓のオーブン中で板を１時間焼成さ
せ次いで10フイート／分で市場的に入手可能な
UV硬化装置を２回通過させることによつて保護
コーテイングを硬化させる。この回路板はここに
通常のフイニツシユ、フラツクスがけ、電気成分
の挿入およびはんだづけに対して準備される。 例 ２ 実質的に例１に記載のようにするがしかしそれ
と異なる低い粘度の液体および粘稠な光重合性液
体を使用してはんだマスクコーテイングを製造す
る。 光吸収性顔料を含有する粘稠な液体Ｃを低粘度
液体AAと共に使用した場合、現像画像の解像性
は改善される。 粘稠光重合性溶液Ａ、ＢおよびＣの各々をプレ
コーテイング用低粘度液体AA、BB、CC、DD
およびEEの各々と共に使用して一連の画像形成
および硬化回路板を製造しそして硬化板の各々を
次の最終使用試験にかける。 各回路板を水性またはロジンフラツクスで処理
しそして次いで５フイート／分の速度で260℃の
典型的なはんだウエーブ上を通過させる。回路線
上の硬化部分の破壊すなわちパツカリング、フレ
ーク・オフまたはブリスター形成について検査す
る。液体CC、DDまたはEEでプレコーテイング
したすべての回路板は破損なしに生き残つた。 各回路板を熱風レベル化試験にかける。これは
最初に274℃のはんだポツトに５秒間浸漬させ次
いでこの回路板を２秒間水性またはロジンフラツ
クス中に浸漬させそして次いで回路板を更に５秒
間はんだポツトに戻すことによりシミユレートさ
せる。前記破損はフラツクスから出した後のすべ
ての試料中に生じている。コーテイング厚さを
0.006インチに調整することにより新しい試料を
製造しそして試験した場合には破損は生じない。 水性またはロジンフラツクスで処理しそして次
いで前記ウエーブはんだ上を通過させた各回路板
のフラツクス除去を試試験する。水性フラツクス
が使用された場合回路板を140〓で水性５％燐酸
トリナトリウム溶液中に５分間置く。すべての回
路板の上の画像はこの処理により攻撃されない。
ロジンフラツクスが使用された場合には回路板を
沸騰CH3CCl3中に３分間次いで室温のCH3CCl3中
に３分間そして次いで沸騰CH2CCl3の蒸気中に３
分間浸漬させる。液体Ｂから製造された回路板は
不変であり、そして液体ＡおよびＣから製造され
た回路板は画像端においてわずかに攻撃されてい
る。 例 ３ 実質的に例１の記載のようにするがただし改善
された低粘度液体FFを使用してはんだマスクコ
ーテイングを製造する。低粘度液体FFは次の成
分から製造される。
(1) 150℃で１時間焼付ける。
(2) 150℃で１時間焼付けし、次いで例１記載の
UV硬化装置に１回通過させる。 (3) 150℃で30分、次いで165℃で30分焼付ける。 (4) 150℃で15分、次いで165℃で15分焼付ける。 (5) 150℃で15分、次いで165℃で５分焼付ける。 (6) 高強度赤外放射で20秒照射する。 方法２、３、４および６により硬化させた回路
板はウエーブはんだ試験、シミユレート熱風レベ
ル化試験および水性および溶媒フラツクス除去試
験に例２記載の破壊なしで生き残る。方法１およ
び５により硬化された回路板は溶媒フラツクス除
去試験以外のすべての試験に生き残る。 方法２、３および６により硬化された回路板を
更に−65℃と150℃との間で回路板を100回サイク
ルさせることによる熱シヨツク試験にかける。方
法２および３により硬化させた回路板に対しては
熱シヨツク試験に由来する可視的欠陥はない。方
法６により硬化させた回路板に対してはマスクひ
び割れが20サイクル後に出現する。 例 ４ 各銅被覆基材を整合させそして第２図に記載の
装置中で粘稠液体「Ｃ」の逆ロールコーテイング
を使用して基材両面に同時にコーテイングおよび
画像形成させることによつて一連の同様の印刷回
路板を製造する。 各基材の両面の画像形成のために使用されるべ
きホトマスクは例１記載のようにして保護表面を
使用して製造されそして整合ピンバー整合機構に
整合結合される。 各銅被覆基材は両面に銅被覆されそして基材の
一端に２個の整合孔に整合せしめた銅めつき穿孔
パターンを有する長方形フアイバーグラス板より
なつている。コーテイングの前に各基材の両銅表
面を化学的に清浄化させる。そして場合により基
材がコーテイングに対し盛り上つているのである
から表面処理液１０をスプレーさせることができ
る。 両ホトマスクの保護された表面は同時に実質的
に例１記載のようにするがただし粘性液体Ｃをホ
ツパー１３からアプリケーターロールに重力的に
供給する逆ロールコーテイング法によつて粘稠液
体「Ｃ」の0.001インチ層でコーテイングされる。
画像形成させるべき部分の光重合体による完全な
被覆を与えるためには、基材の整合孔とホトマス
クとの整合結合を実質的に画像部分から離して、
ホトマスクの完全な画像部分をコーテイングさ
せ、その後で加圧ロール１８の間を通過するよう
にする。 各コーテイングおよび画像形成サイクルに対し
ては次の方法が行われる。最初加圧ロール１８を
外側方向にずらしてホトマスクの保護表面の間の
ニツプが開くようにしそしてアプリケーターロー
ル１５から各保護ホトマスク表面を持ち上げるよ
うにし、そしてピン−バー整合機構を開いたニツ
プの上の位置にずらせる。きれいにした銅被覆基
材を基材持ち上げ装置（図示されていない）上に
整合孔を有する最上縁を整合バーに合致して端を
そろえて位置させる。基材をそれがピン−バー機
構に結合するまで持ち上げるがこの機構はピン整
合させそして基材を固定する。整合基材およびバ
ーを開放ニツプまで下降移動させそして加圧ロー
ル１８を内方向に動かしてアプリケーターロール
とバー基材機構とを結合させることによつてニツ
プを閉鎖させる。整合基材およびコーテイングし
たホトマスクを次いでニツプを介して持ち上げそ
してコーテイングした複合エレメントを露光源の
２列バンクの間の定位置に懸垂させる。 0.001インチの均一なコーテイング厚さを生成
させるに充分な圧がロール１８により供給され
る。複合エレメントの両面を10秒間紫外線ランプ
に照射させる。次いで加圧ロール１８をそれらの
最初の位置にずらし、そしてピンバー機構および
ホトマスクをそれらの最初の位置に戻す。この点
でピン−バー機構は画像形成基材を離型させそし
て基材は持ち上げ装置により下方にさげられる。
更に処理するためにこの画像形成基材を除去しそ
して次の画像形成させるべき基材を置換させそし
てこのサイクルをくりかえす。像様露光の後の下
方向移動の間に両ホトマスクは画像形成光硬化表
面から剥離される。若干の未硬化光重合体はホト
マスクの保護表面に付着しているがすべての硬化
画像部分は銅基材表面に強く結合残留する。 画像形成基材をコーテイングおよび露光ユニツ
トから除去したら、それを１％Na2CO3水性溶液
を使用して95〓で３フイート／分のプロセツサー
速度でADS−24プロセツサー中で現像して画像
形成銅被覆基材上に残存するすべての未硬化光重
合性液体を除去する。現像後ホトレジスト保護基
材を通常のめつきおよびエツチング法を使用して
処理しそして同一の両面印刷回路板を生成させ
る。 ある場合には例えば米国特許第3645772号明細
書に開示の接着促進剤含有液体をそれが持ちあげ
られてノズル１２を通過する際に基材のきれいに
した銅被覆表面にスプレーさせて処理の間の最終
レジスト接着を改善させる。同様に低粘度溶液
「CC」のスプレーによつて銅表面への接着を改善
させることができる。 その他の場合には光重合性液体でホトマスクを
コーテイングすることなしに、基材がピン−バー
機構へとコーテイングまたはスプレーステーシヨ
ンを通過して扛起される間に、清浄化された銅被
覆表面はコーテイングされる。そのような変形の
使用によつて延長されたホトマスクまたは基材は
要求されずそして非常に薄いコーテイングが可能
となる。 更にその他の場合には基材表面クリーニングス
テーシヨンをコーテイングおよび画像形成ユニツ
トとインラインに組み込む。この場合銅被覆基材
をステーシヨンを経てコーテイングおよび画像形
成ユニツトのニツプ中に供給し、それによつてコ
ーテイングされるべき銅表面の均一性を確実なら
しめそして得られる印刷回路板により一定の品質
を生成させる。 例 ５ 弾性体状複合レリーフ構造が次のようにして製
造される。米国特許出願第237861号明細書の例８
記載のようにして光感受性エレメントを製造す
る。このエレメントは0.005インチポリエステル
支持体、接着剤層、0.080インチ厚さの光重合性
弾性体層、ポリアミド層およびカバーシートより
なつている。カバーシートおよびポリアミド層を
除去した後、このエレメントをポリエステル支持
体を通して２分間螢光ランプのバンクからの活性
線放射に露光させる。ランプはシートから２1/2
インチ離して２インチ中心上に置く。この露光は
光重合体層中に均一の不溶性「フロア」を形成さ
せる。次いで基材２１を第３図に示されておりそ
して例１記載の装置中のガイド２５に結合させ
る。シートの光重合体側をホトマスク２２に面す
るように配置させる。 「メリグラフレジン（Merigraph Resin）
FA140−３」と呼ばれるハーキユレス社製品であ
る光重合性シロツプ２３をコーターパン３０に入
れる。 ホトマスク２２は高コントラストラインおよ
び／またはハーフトーン画像を有する通常のハロ
ゲン化銀リスフイルムである。このホトマスク２
２を適用ロール２６および計測ナイフ２８により
0.0045インチ厚さのシロツプ層をコーテイングし
そして基材を例１記載のようにしてノツチ２１お
よびガイドタブ２５によつてホトマスクに整合さ
せる。基材の後続端がコツプを通過した後、移動
を停止させ、そしてシロツプおよび下にある光重
合性エラストマーをホトマスクを通してランプバ
ンク２９からの活性線放射に10分間像様露光させ
る。露光後、基材を例１のようにして放出させ
る。レリーフ画像は硬化シロツプ中に直ちに明白
である。未硬化シロツプは光重合性弾性体の未露
光部分と共にシレル 水性プロセツサー中で除去
される。このプロセツサー中でエレメントは140
℃の水中0.5％NaOHおよび15.5％ブチルカルビ
トールの溶液を使用して10分間ブラシでこすられ
る。現像されたエレメントを次いで60℃のオーブ
ン中で15分間乾燥させる。 生成されたエレメントは光重合された弾性体状
フロアおよびポリエステル支持体上の約0.025イ
ンチのレリーフの画像である。全厚さは本来の構
造体の0.0895インチ〜0.0850インチプラス弾性体
状レリーフの表面に固く結合された像様重合シロ
ツプの0.0045インチである。 例 ６ 以下に記載のようにする以外は例５に記載のよ
うにして石版印刷プレートを製造する。基材は
0.012インチ厚さのアノード処理アルミニウムで
ある。基材を通しての露光は明らかに必要ではな
く、また可能ではない。シロツプを0.0005〜
0.0010インチ厚さの層に拡げる。これは組成物Ａ
を包含している。このホトマスクは高コントラス
トラインおよびハーフトーン画像を有する通常の
ハロゲン化銀リスフイルムである。それは例１記
載のようにタプコアエマルジヨンプロテクシヨン
フイルムで保護されている。像様露光は12秒であ
る。 放出後、未重合シロツプを５フイート／分で動
くADS−24プロセツサー中で洗去する。洗去溶
液は85〓の水性0.5％Na2CO3である。その結果は
アノード処理アルミニウム基材上の硬化ラインお
よびハーフトーン光重合画像を有するプレートで
ある。 次いでプレートをアスフアルトガム例えばウエ
スターン・リソ社の「AGE」で処理する。その
過剰分は綿塊で除去され、そしてこのプレートは
乾燥せしめられる。印刷するためにはプレートを
水またはその他の「フアウンテン」溶液でぬら
し、そして次いで周知のように石版印刷インクで
インクつけする。このインクは光重合画像部分上
に保持されるがしかし濡れたアノード処理アルミ
ニウムをコーテイングしない。このインクつき画
像は石版印刷業者には周知のようにして次いで直
接かまたは中間オフセツトブランケツトを介して
紙に転写させることができる。
UV硬化装置に１回通過させる。 (3) 150℃で30分、次いで165℃で30分焼付ける。 (4) 150℃で15分、次いで165℃で15分焼付ける。 (5) 150℃で15分、次いで165℃で５分焼付ける。 (6) 高強度赤外放射で20秒照射する。 方法２、３、４および６により硬化させた回路
板はウエーブはんだ試験、シミユレート熱風レベ
ル化試験および水性および溶媒フラツクス除去試
験に例２記載の破壊なしで生き残る。方法１およ
び５により硬化された回路板は溶媒フラツクス除
去試験以外のすべての試験に生き残る。 方法２、３および６により硬化された回路板を
更に−65℃と150℃との間で回路板を100回サイク
ルさせることによる熱シヨツク試験にかける。方
法２および３により硬化させた回路板に対しては
熱シヨツク試験に由来する可視的欠陥はない。方
法６により硬化させた回路板に対してはマスクひ
び割れが20サイクル後に出現する。 例 ４ 各銅被覆基材を整合させそして第２図に記載の
装置中で粘稠液体「Ｃ」の逆ロールコーテイング
を使用して基材両面に同時にコーテイングおよび
画像形成させることによつて一連の同様の印刷回
路板を製造する。 各基材の両面の画像形成のために使用されるべ
きホトマスクは例１記載のようにして保護表面を
使用して製造されそして整合ピンバー整合機構に
整合結合される。 各銅被覆基材は両面に銅被覆されそして基材の
一端に２個の整合孔に整合せしめた銅めつき穿孔
パターンを有する長方形フアイバーグラス板より
なつている。コーテイングの前に各基材の両銅表
面を化学的に清浄化させる。そして場合により基
材がコーテイングに対し盛り上つているのである
から表面処理液１０をスプレーさせることができ
る。 両ホトマスクの保護された表面は同時に実質的
に例１記載のようにするがただし粘性液体Ｃをホ
ツパー１３からアプリケーターロールに重力的に
供給する逆ロールコーテイング法によつて粘稠液
体「Ｃ」の0.001インチ層でコーテイングされる。
画像形成させるべき部分の光重合体による完全な
被覆を与えるためには、基材の整合孔とホトマス
クとの整合結合を実質的に画像部分から離して、
ホトマスクの完全な画像部分をコーテイングさ
せ、その後で加圧ロール１８の間を通過するよう
にする。 各コーテイングおよび画像形成サイクルに対し
ては次の方法が行われる。最初加圧ロール１８を
外側方向にずらしてホトマスクの保護表面の間の
ニツプが開くようにしそしてアプリケーターロー
ル１５から各保護ホトマスク表面を持ち上げるよ
うにし、そしてピン−バー整合機構を開いたニツ
プの上の位置にずらせる。きれいにした銅被覆基
材を基材持ち上げ装置（図示されていない）上に
整合孔を有する最上縁を整合バーに合致して端を
そろえて位置させる。基材をそれがピン−バー機
構に結合するまで持ち上げるがこの機構はピン整
合させそして基材を固定する。整合基材およびバ
ーを開放ニツプまで下降移動させそして加圧ロー
ル１８を内方向に動かしてアプリケーターロール
とバー基材機構とを結合させることによつてニツ
プを閉鎖させる。整合基材およびコーテイングし
たホトマスクを次いでニツプを介して持ち上げそ
してコーテイングした複合エレメントを露光源の
２列バンクの間の定位置に懸垂させる。 0.001インチの均一なコーテイング厚さを生成
させるに充分な圧がロール１８により供給され
る。複合エレメントの両面を10秒間紫外線ランプ
に照射させる。次いで加圧ロール１８をそれらの
最初の位置にずらし、そしてピンバー機構および
ホトマスクをそれらの最初の位置に戻す。この点
でピン−バー機構は画像形成基材を離型させそし
て基材は持ち上げ装置により下方にさげられる。
更に処理するためにこの画像形成基材を除去しそ
して次の画像形成させるべき基材を置換させそし
てこのサイクルをくりかえす。像様露光の後の下
方向移動の間に両ホトマスクは画像形成光硬化表
面から剥離される。若干の未硬化光重合体はホト
マスクの保護表面に付着しているがすべての硬化
画像部分は銅基材表面に強く結合残留する。 画像形成基材をコーテイングおよび露光ユニツ
トから除去したら、それを１％Na2CO3水性溶液
を使用して95〓で３フイート／分のプロセツサー
速度でADS−24プロセツサー中で現像して画像
形成銅被覆基材上に残存するすべての未硬化光重
合性液体を除去する。現像後ホトレジスト保護基
材を通常のめつきおよびエツチング法を使用して
処理しそして同一の両面印刷回路板を生成させ
る。 ある場合には例えば米国特許第3645772号明細
書に開示の接着促進剤含有液体をそれが持ちあげ
られてノズル１２を通過する際に基材のきれいに
した銅被覆表面にスプレーさせて処理の間の最終
レジスト接着を改善させる。同様に低粘度溶液
「CC」のスプレーによつて銅表面への接着を改善
させることができる。 その他の場合には光重合性液体でホトマスクを
コーテイングすることなしに、基材がピン−バー
機構へとコーテイングまたはスプレーステーシヨ
ンを通過して扛起される間に、清浄化された銅被
覆表面はコーテイングされる。そのような変形の
使用によつて延長されたホトマスクまたは基材は
要求されずそして非常に薄いコーテイングが可能
となる。 更にその他の場合には基材表面クリーニングス
テーシヨンをコーテイングおよび画像形成ユニツ
トとインラインに組み込む。この場合銅被覆基材
をステーシヨンを経てコーテイングおよび画像形
成ユニツトのニツプ中に供給し、それによつてコ
ーテイングされるべき銅表面の均一性を確実なら
しめそして得られる印刷回路板により一定の品質
を生成させる。 例 ５ 弾性体状複合レリーフ構造が次のようにして製
造される。米国特許出願第237861号明細書の例８
記載のようにして光感受性エレメントを製造す
る。このエレメントは0.005インチポリエステル
支持体、接着剤層、0.080インチ厚さの光重合性
弾性体層、ポリアミド層およびカバーシートより
なつている。カバーシートおよびポリアミド層を
除去した後、このエレメントをポリエステル支持
体を通して２分間螢光ランプのバンクからの活性
線放射に露光させる。ランプはシートから２1/2
インチ離して２インチ中心上に置く。この露光は
光重合体層中に均一の不溶性「フロア」を形成さ
せる。次いで基材２１を第３図に示されておりそ
して例１記載の装置中のガイド２５に結合させ
る。シートの光重合体側をホトマスク２２に面す
るように配置させる。 「メリグラフレジン（Merigraph Resin）
FA140−３」と呼ばれるハーキユレス社製品であ
る光重合性シロツプ２３をコーターパン３０に入
れる。 ホトマスク２２は高コントラストラインおよ
び／またはハーフトーン画像を有する通常のハロ
ゲン化銀リスフイルムである。このホトマスク２
２を適用ロール２６および計測ナイフ２８により
0.0045インチ厚さのシロツプ層をコーテイングし
そして基材を例１記載のようにしてノツチ２１お
よびガイドタブ２５によつてホトマスクに整合さ
せる。基材の後続端がコツプを通過した後、移動
を停止させ、そしてシロツプおよび下にある光重
合性エラストマーをホトマスクを通してランプバ
ンク２９からの活性線放射に10分間像様露光させ
る。露光後、基材を例１のようにして放出させ
る。レリーフ画像は硬化シロツプ中に直ちに明白
である。未硬化シロツプは光重合性弾性体の未露
光部分と共にシレル 水性プロセツサー中で除去
される。このプロセツサー中でエレメントは140
℃の水中0.5％NaOHおよび15.5％ブチルカルビ
トールの溶液を使用して10分間ブラシでこすられ
る。現像されたエレメントを次いで60℃のオーブ
ン中で15分間乾燥させる。 生成されたエレメントは光重合された弾性体状
フロアおよびポリエステル支持体上の約0.025イ
ンチのレリーフの画像である。全厚さは本来の構
造体の0.0895インチ〜0.0850インチプラス弾性体
状レリーフの表面に固く結合された像様重合シロ
ツプの0.0045インチである。 例 ６ 以下に記載のようにする以外は例５に記載のよ
うにして石版印刷プレートを製造する。基材は
0.012インチ厚さのアノード処理アルミニウムで
ある。基材を通しての露光は明らかに必要ではな
く、また可能ではない。シロツプを0.0005〜
0.0010インチ厚さの層に拡げる。これは組成物Ａ
を包含している。このホトマスクは高コントラス
トラインおよびハーフトーン画像を有する通常の
ハロゲン化銀リスフイルムである。それは例１記
載のようにタプコアエマルジヨンプロテクシヨン
フイルムで保護されている。像様露光は12秒であ
る。 放出後、未重合シロツプを５フイート／分で動
くADS−24プロセツサー中で洗去する。洗去溶
液は85〓の水性0.5％Na2CO3である。その結果は
アノード処理アルミニウム基材上の硬化ラインお
よびハーフトーン光重合画像を有するプレートで
ある。 次いでプレートをアスフアルトガム例えばウエ
スターン・リソ社の「AGE」で処理する。その
過剰分は綿塊で除去され、そしてこのプレートは
乾燥せしめられる。印刷するためにはプレートを
水またはその他の「フアウンテン」溶液でぬら
し、そして次いで周知のように石版印刷インクで
インクつけする。このインクは光重合画像部分上
に保持されるがしかし濡れたアノード処理アルミ
ニウムをコーテイングしない。このインクつき画
像は石版印刷業者には周知のようにして次いで直
接かまたは中間オフセツトブランケツトを介して
紙に転写させることができる。
第１図は本発明の好ましい方法の模式的代表図
であり、第２図は別のコーテイング技術を示すも
う一つの模式図であり、そして第３図は更に別の
コーテイング技術のその他の模式図である。
であり、第２図は別のコーテイング技術を示すも
う一つの模式図であり、そして第３図は更に別の
コーテイング技術のその他の模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ シート基材にホトマスクを整合させて該基材
に適用された光感受性層を活性線放射に像様露光
させるにあたり、次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) 基材およびホトマスクを前以つて定めた関
係で相互に整列させること、および (b) 基材とホトマスクとの間に光感受性液体を
適用すること を実施させるような装置中の位置に基材を前進
させること、 (2) 基材とホトマスクとを光感受性液体を介して
接触させてこの接触の間液体層中の光感受性液
体の押し出しによるより密接な接触以外に基材
に対するホトマスクの実質的な移動が起こらな
いように、そしてそれによつて界面力または粘
稠力の少なくとも一方が基材とホトマスクとを
相互に一定の位置に保持されるのを助けるこ
と、 (3) ホトマスクを通してこの光感受性液体を活性
線放射に露光させること、 (4) 基材からホトマスクを除去しそれによつて光
感受性液体から生じる硬化物質がホトマスク上
に実質的に残留しないようにすること、 そして (5) 光感受性液体から生じる結合硬化物質の独立
した部分を含有する基材を生成させることを包
含する方法。 ２ 基材表面が実質的に平滑である前記特許請求
の範囲第１項記載の方法。 ３ 基材表面が盛り上つた部分を含有しており、
そしてホトマスクに面している光感受性液体層の
表面が光感受性液体の活性線放射への露光の前に
は実質的に平滑である前記特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ４ 基材とホトマスクとの間の光感受性液体を押
し出させそして基材とホトマスクとを前進ニツプ
によりより密着させる前記特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ５ 光感受性液体の適用が実質的に垂直な面に保
持されている基材表面に対するものである前記特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ６ 光感受性液体の適用が実質的に水平に保持さ
れている基材表面に対するものである前記特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ７ 光感受性液体を基材に面しているホトマスク
表面に適用する前記特許請求の範囲第１項記載の
方法。 ８ 光感受性液体をホトマスクに面している基材
表面に適用する前記特許請求の範囲第１項記載の
方法。 ９ 基材とホトマスクとの間の光感受性液体が基
材およびホトマスクを前進ライン圧により一層密
着させる際に押し出される前記特許請求の範囲第
１項記載の方法。 １０ 前記前進ライン圧がニツプを使用している
前記特許請求の範囲第９項記載の方法。 １１ 光感受性液体を活性線放射に露光させるシ
ート基材の両面に適用する前記特許請求の範囲第
１項記載の方法。 １２ 光感受性液体層がネガとして働いている前
記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １３ 光感受性液体層がポジとして働いている前
記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １４ 光感受性液体が光硬化性成分を含有してい
る前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 １５ 光感受性液体が光硬化性付加重合性成分を
含有している前記特許請求の範囲第１項記載の方
法。 １６ 基材が光感受性液体の適用の前にそしてこ
れと同一面上に光感受性層を含有している前記特
許請求の範囲第１項記載の方法。 １７ ２個の光感受性層を同時に活性線放射に露
光させる前記特許請求の範囲第１３項記載の方
法。 １８ 多数の基材を使用して実質的に同一の画像
形成基材を生成させる前記特許請求の範囲第１項
記載の方法。 １９ 光感受性液体の適用の前に低粘度流体を第
一に基材に適用する前記特許請求の範囲第１項記
載の方法。 ２０ 第５の段階の直後に現像液を結合硬化物質
に適用する前記特許請求の範囲第１項記載の方
法。 ２１ 基材が実質的に垂直の面にある間にそして
基材からホトマスクを除去する間またはその除去
直後に現像液が適用される前記特許請求の範囲第
２０項記載の方法。 ２２ シート基材の両側に光感受性層を適用しそ
してこれを活性線放射に像様露光させるにあた
り、次の段階すなわち (1) いずれかの順序でかまたは同時に (a) ２個の可撓性シート部分の各シート部分が
基材の一方の面に面している部分を有するホ
トマスクに基材を整合させること、および (b) 各基材表面とホトマスクの各可撓性シート
部分との間に光感受性液体を適用すること を実施させるような直立位置に基材を前進させ
ること、 (2) 基材とホトマスクとを光感受性液体を介して
接触させそれによつて２個の液体層中の光感受
性液体の押し出しによるより密接な接触以外に
基材に対するホトマスクの実質的な移動が起こ
らないように、そしてそれによつて界面力また
は粘稠力の少なくとも一方が基材とホトマスク
とを相互に一定の位置に保持されるのを助ける
こと、 (3) 一連にかまたは同時に２個の光感受性液体層
の各々をホトマスクのシート部分を通して活性
線放射に露光させること、 (4) 一連にかまたは同時に２個の液体界面の活性
線放射への露光後にホトマスクの各シート部分
を除去すること、 (5) 光感受性液体から得られた結合硬化物質の独
立した部分を含有する基材を除去し、それによ
つて光感受性液体から生じた硬化物質が実質的
に全くホトマスク中に残留しないようにし、そ
れによつて段階(1)〜(5)を反復することができる
ようにすること の各段階を包含する方法。 ２３ 段階(1)〜(5)を同様のシート基材に対してく
りかえして実質的に同一の画像形成基材を生成さ
せる前記特許請求の範囲第２２項記載の方法。 ２４ ホトマスクを基材に整合させてシート基材
上の光感受性層を活性線放射に像様露光させるに
あたり、次の段階すなわち (1) 基材とホトマスクとの間に光感受性液体層を
形成させること、 (2) ホトマスクを基材に整合させそれによつてホ
トマスクと基材との間の液体の押し出しによる
より密接な接触以外に基材に対するホトマスク
の実質的な移動が光感受性液体層上で生じない
ようにすること、 (3) この光感受性液体をホトマスクを通して活性
線放射に露光させること、 (4) 基材からホトマスクを除去すること、 (5) 光感受性液体から得られる結合硬化物質の独
立した部分を含有する基材を得ること を包含する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US38753582A | 1982-06-11 | 1982-06-11 | |
| US387535 | 1982-06-11 |
Publications (2)
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|---|---|
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| JPH0314334B2 true JPH0314334B2 (ja) | 1991-02-26 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (6)
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|---|---|
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| JP (1) | JPS592049A (ja) |
| AU (1) | AU560011B2 (ja) |
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- 1983-06-10 DE DE8383105706T patent/DE3379240D1/de not_active Expired
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- 1983-06-10 EP EP83105706A patent/EP0096863B1/en not_active Expired
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