JPH03126267A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JPH03126267A
JPH03126267A JP1265839A JP26583989A JPH03126267A JP H03126267 A JPH03126267 A JP H03126267A JP 1265839 A JP1265839 A JP 1265839A JP 26583989 A JP26583989 A JP 26583989A JP H03126267 A JPH03126267 A JP H03126267A
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JP
Japan
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layer
electrode
semiconductor layer
intrinsic
film
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JP1265839A
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Takashi Yoshida
隆 吉田
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体のp−nあるいはp−1−n接合を用
いて、太陽光などの光のエネルギーを電気エネルギーに
変換する充電変換装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の太陽電池などの光電変換装置は、基板上にp層と
n層あるいはp層と1層とn層の非晶質半導体層を積層
するか、もしくは単結晶シリコン板あるいは多結晶シリ
コン板に週期律表の■族および■族の元素を異なる面か
らドーピングしてp層とn層を形成することによって生
ずるp−n接合あるいはp−1−n接合を利用すること
が知られている。
〔発明が解決しようとするtill!I)従来の光電変
換装置において、積層した非晶質半導体層の一方から、
もしくは単結晶あるいは多結晶シリコン板の一方の面か
ら入射した光は、光電変換機能を有する接合に対するま
でに不純物がドーピングされたp層あるいはn層を通過
しなければならず、これらのドーピング層で吸収された
光が有効に利用できず、光電変換効率が向上しないとい
う問題点があった。これに対して、結晶シリコン板上に
p td域とn 9M域の微細なアレイを形成し、これ
らを配線し、これらの上から光を入射させる方法がある
。しかし、このためには、フォトプロセスとドーピング
過程を多重に繰り返して行う必要があり、きわめてコス
トが高くなるという問題があった。
本発明の目的は、上述の問題を解決し、光がドーピング
された層を通過しないで接合に達して光電変換効率が高
く、しかも安価な光電変換装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するために、本発明の光電変換装置は
、真性半導体層の中に表面の少なくとも一部が第一導電
形の半導体層で覆われた第一電極が分散して埋められて
おり、前記真性半導体層の一面上に第二導電形の半導体
層を介して第二電極が被着するものとする。
〔作用〕
第一導電形の層と真性半導体層と第二導電形層とによっ
てp−1−n接合が形成される。真性半導体層の第二電
極が設けられていない側から光を入射させれば、光はド
ーピング層を通らないで光電変換層である1層に到達し
、ドーピング層内に吸収されることがないので光電変換
効率が向上する。そして、光の入射により生ずる起電力
は、第−tiと第二電極から取り出すことができる。
〔実施例〕 第1図は本発明の一実施例の太陽電池を示す。
金属あるいは他の導電性物質からなり、メンシュ状ある
いはすだれ状に形成された断面直径が1μないし100
μmの繊維電極1は、プラズマCVD。
光CVDあるいは熱CVDで形成された、例えば120
人の厚さのp形の非晶質シリコンJ12で覆われている
。非晶質シリコンの代わりに非晶質シリコンカーバイト
を用いてもよい、この上にドーピングをしない真性ある
いはほぼ真性の非晶質シリコン層3が形成される。各繊
維電極lの周りの真性非晶質シリコン層3は膜厚が厚く
なるにつれて、隣接の層同志が接着し一体化した膜とな
る。この膜化した真性非晶質シリコン層3の片面には、
例えば150人の厚さのn形の非晶質シリコン層4とそ
の上の金属層状電極5が被着し、他面には窒化シリコン
からなるパッシベーション膜6が被着している。これに
より、繊維電極1を中電極、層状電極を一電極とする太
陽電池が完成する。この太陽電池の繊維型8il相互間
の間隔は必要に応じて可変であるが、p−1−n接合を
形成するのに必要な真性非晶質シリコン層3の厚さの2
倍以下とする。そのような真性非晶質層の厚さはライフ
タイムが長くなると厚くなる。
第2図はこのような太陽電池の繊維電極1の太さをパラ
メータとした特性とガラス基板上にp。
1、n非晶質シリコン層を積層した従来品の非晶質シリ
コン太陽電池の特性とを示す、繊維電極1はモリブデン
からなり、電極の間隔は繊維の太さの約2倍とした。ま
た、真性層3には熱CVDで作成したライフタイムの長
い光学バンドギャップE @ = 1.65aνの非晶
質シリコンを用い、その膜厚は繊維の太さの約2倍とし
た0図から分かるように、短絡電流の大幅な向上が観測
され、その結果繊維電極の太さが4Fmの場合で15%
の変換効率が得られている。
第3図は本発明の別の実施例の太陽電池を示し、第1図
の太陽電池と異なる点は、繊維電極1を用いず、金属多
孔平面電極11を用いる点とこの電極の一面上を窒化シ
リコン膜61でパッシベーションして2層2と11の界
面面積を減少させた点である。p/I界面面積が減少す
るため、暗電流が減少し、開放電圧が向上するという特
徴がある。
以上の実施例では真性層に非晶質シリコン層を用いてい
るが、熱CVDで形成した多結晶シリコン層を用いても
同様な効果を得ることができる。
またp層とn層を入れ換えることもできる。しかし、−
船釣に正孔の拡散長が電子の拡散長に比較して約1桁低
いため、真性層の厚さ方向の中央にp層が存在する方が
好ましい結果を得ている。
〔発明の効果〕
本発明によれば、第一電極を第一導電形の層を介して囲
む真性半導体層の光入射側には第二導電形のドーピング
層を設けず、反光入射側に設けた第二導電形の層とによ
って形成されるp−1−n接合の1層に直接光を入射さ
せることにより、短絡1!流の大幅な向上が可能となり
、高い変換効率を得ることができ、しかも、?jI雑な
フォトプロセスが必要でないため、安価な光電変換装置
を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の太陽電池の部分断面図、第
2図は第1図の太陽電池の特性と繊維電極の太さとの関
係を従来品の特性と比較して示す線図、第3図は本発明
の別の実施例の太陽電池の部分断面図である。 1:繊維電極、2:p形非晶質シリコン層、3:真性非
晶質シリコン層、4:n形非晶質シリ宇1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)真性半導体層の中に表面の少なくとも一部が第一導
    電形の半導体層で覆われた第一電極が分散して埋められ
    ており、前記真性半導体層の一面上に第二導電形の半導
    体層を介して第二電極が被着することを特徴とする光電
    変換装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002037577A2 (de) * 2000-10-31 2002-05-10 Universität Stuttgart Faser, elektronische schaltung und textiles produkt
KR101408376B1 (ko) * 2012-01-27 2014-06-19 최대규 태양전지

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002037577A2 (de) * 2000-10-31 2002-05-10 Universität Stuttgart Faser, elektronische schaltung und textiles produkt
WO2002037577A3 (de) * 2000-10-31 2002-09-12 Univ Stuttgart Faser, elektronische schaltung und textiles produkt
KR101408376B1 (ko) * 2012-01-27 2014-06-19 최대규 태양전지

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