JPH03119008A - クロトン酸sec―ブチルの高重合法 - Google Patents

クロトン酸sec―ブチルの高重合法

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JPH03119008A
JPH03119008A JP25665389A JP25665389A JPH03119008A JP H03119008 A JPH03119008 A JP H03119008A JP 25665389 A JP25665389 A JP 25665389A JP 25665389 A JP25665389 A JP 25665389A JP H03119008 A JPH03119008 A JP H03119008A
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JP
Japan
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sec
butyl
polymerization
monomer
butyl crotonate
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Pending
Application number
JP25665389A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Takeuchi
哲也 竹内
Yukio Sakuraba
桜場 幸雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Riko Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Riko Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F20/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、高分子量を有するクロトン酸5eC−ブチ
ルの高重合法に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、プラスチック光学素子が軽量であること、量産性
に優れていること等を理由に普及しつつある。ここで特
に耐熱性が要求されるプラスチック光学素子に用いられ
る光学用樹脂組成物としては、ポリクロトン酸tert
−ブチルを用いることが提案されている。上記ポリクロ
トン酸tert−ブチルとしては、通常のアニオン重合
により得られる高分子量を有するものが知られている。
しかし、上記ポリクロトン酸tert−ブチルは、耐熱
性、透明性に優れている反面、成形加工性に劣るという
問題を有している。そこで、本発明者らは、分子構造を
考慮した結果、クロトン酸sec−ブチルを高重合させ
れば透明性、耐熱性。
成形加工性2機械特性および低吸湿性を兼ね備えた光学
用樹脂組成物が得られるのではないかと考えた。上記ポ
リクロトン酸sec−ブチルの重合方法としては、クロ
トン酸sec−ブチルモノマーをトルエン、ジエチルエ
ーテル等の溶媒存在下、高真空あるいは不活性ガス雰囲
気下で−30〜−78℃の低温でアニオン重合させる方
法が知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記クロトン酸sec−ブチルモノマー
の重合方法では、重合反応の過程で副反応が並行して進
行する。すなわち、溶媒としてテトラヒドロフラン等の
極性溶媒を用いると、重合反応速度は高まるもののこの
重合を停止させる副反応速度もそれ以上に高くなるため
、高重合しない。また、トルエン等の非極性溶媒を用い
ると、副反応速度は小さくなるが、主反応である重合反
応も小さくなってしまい、実際には高重合は不可能であ
る。このため、従来のポリクロトン酸5eC−ブチルは
、低分子量のもの(例えば重量平均分子量50000以
下)とならざるを得す、その品質にも限界があった。特
に、機械特性に問題(脆い)があり、その用途が限定さ
れてしまう。
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので、高
分子量を有するクロトン酸sec−ブチルを容易に短い
反応時間で作製することのできる重合方法の提供をその
目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記の目的を達成するため、この発明のクロトン酸se
c−ブチルの高重合法は、真空中ないしは不活性気体雰
囲気下において、クロトン酸5eC−ブチルモノマーの
みを、アニオン重合触媒の1ノ 存在下で一30〜78゛Cの低温で塊状重合させるとい
う構成をとる。
〔作用〕
すなわち、本発明者らは、高分子量を有するクロトン酸
sec−ブチルの重合体を作製するために一連の研究を
行った。そして、その研究の過程で、クロトン酸sec
−ブチルの重合反応時に並行して起こる副反応が、クロ
トン酸sec−ブチルの高分子量化を妨げることに着目
し、重合停止反応速度の低下と重合反応速度の向上を目
的としてさらに研究を重ねた。その結果、上記クロトン
酸sec−ブチルモノマーの重合反応に際して、溶媒を
用いずにクロトン酸5ee−ブチルモノマーを塊状重合
させると、重合反応速度の向上および停止反応速度の低
下に効果的であり、短い反応時間で目的とする高分子量
を有するポリクロトン酸sec−ブチルが得られること
を見出しこの発明に到達した。
この発明のクロトン酸sec−ブチルの高重合法では、
重合させるモノマー原料としてクロトン酸sec−ブチ
ルモノマーが用いられる。
上記クロトン酸sec−ブチルモノマーは、特に限定さ
れるものではなく、従来公知の方法、例えばエーテル溶
媒中で酸触媒存在下、クロトン酸と2−ブタノールとを
反応させることにより得られる。
そして、この発明のクロトン酸5eC−ブチルの高重合
法は、例えばつぎのようにして行われる、すなわち、上
記クロトン酸sec−ブチルモノマーを溶媒を用いずに
、アニオン重合触媒存在下において、高真空あるいは窒
素雰囲気下、−30〜−78℃の低温で塊状重合させる
ことにより行われる。
上記重合反応における重合触媒としては、アニオン重合
開始剤が好適にあげられ、例えばn−ブチルリチウム、
2−メチルブチルリチウム、5eC−ブチルリチウム、
1.1−ジフェニルヘキシルリチウム、9−フルオレニ
ルリチウム、ナフタレンリチウム、ナフタレンリチウム
、ジブチルマグネシウム等が用いられる。その他、低分
子量のポリスチリルリチウム、ポリ−α−メチルスチリ
ルリチウム等の炭化水素リビングポリマーも使用可能で
ある。そして、上記重合触媒の使用量は、クロトン酸s
ec−ブチルモノマー1モルに対して0.02モル以下
に設定するのが好ましい。
このように、溶媒を用いずにクロトン酸sec−ブチル
を塊状重合させると、重合反応速度が停止反応速度より
相対的に速まり、さらに非極性溶媒を用いたときよりも
重合反応速度はより速いため、高分子量を有する重合体
、特に、重量平均分子150000以上のポリクロトン
酸sec〜ブチルが短い反応時間で容易に得られる。
〔発明の効果〕 以上のように、この発明のクロトン酸sec−ブチルの
高重合法では、溶媒を用いずにクロトン酸sec−ブチ
ルモノマーを塊状重合させるため、従来では得られなか
った高分子量のポリクロトン酸sec−ブチルを短い反
応時間で作製することができる。したがって、このよう
な高分子量を有するクロトン酸sec−ブチル重合体は
、透明性、成形加工性、耐熱性、耐吸湿性1機械特性等
に優れており、例えば光学素子等樹脂材料等に好適に用
いられる。
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
[実施例〕 まず、クロトン酸600gをベンゼン1500成に溶解
し、触媒として硫酸20Idを加え2−ブタノール55
0m1!を滴下しながら約24時間還流させた。この間
に生成した水を除去する。その後、炭酸水素ナトリウム
水溶液を用いて洗浄することにより未反応のクロトン酸
および硫酸を除去した。そして、このクロトン酸sec
−ブチルのベンゼン溶液から常圧下で蒸留することによ
りクロトン酸sec−ブチルモノマー920gを得た。
つぎに、充分に精製したクロトン酸sec−ブチルモノ
マー900gを水素化カルシウム5gを3!フラスコに
入れ、高真空中で24時間撹拌することにより充分に脱
水した。そして、これを予め充分に乾燥し内部を真空状
態にした51三つロセバラブルフラスコ(撹拌羽根、触
媒滴下用ロート付)中に減圧蒸留することにより仕込ん
だ、このフラスコをドライアイス−メチルアルコール浴
を用い内部が一65℃になるように冷却したのち、se
c−ブチルリチウムの1.0Mシクロヘキサン溶液80
dをフラスコの滴下用ロートから滴下し、撹拌を続けた
ところ30分経過したところで増粘し、撹拌不可能とな
ったため撹拌をストップした。そして、滴下から5時間
後に反応を止め、内容物をテトラヒドロフラン(THF
)に溶解して取り出したのち、多量のメタノール中に投
入してポリマーを沈澱させた。そして、この沈澱物を濾
別し、減圧乾燥して455gのポリクロトン酸sec−
ブチルを得た。得られたポリクロトン酸sec−ブチル
の重量平均分子量は1.5X10Sであった。
〔比較例] 実施例工と同様にして得られたクロトン酸sec−7’
チルモノマーを水素化カルシウムを用いて脱水した。こ
のクロトン酸sec−ブチルモノマー40(Lgと、同
じく水素化カルシウムで脱水したTHF2200−とを
減圧蒸留することにより51三つロセパラブルフラスコ
(撹拌羽根、触媒滴下用ロート付)中に仕込んだ。この
フラスコをドライアイスルメチルアルコール浴を用い内
部が−60’Cになるように冷却したのち、sec−ブ
チルリチウムの1.0Mシクロヘキサン溶液100m!
をフラスコの滴下用ロートから滴下し、5時間撹拌を続
けた。その後、メタノールを少量加えて重合反応をスト
ップさせた。そして、内容物をTI(Fに溶解して取り
出したのち、多量のメタノール中に投入してポリマーを
沈澱させた。そして、この沈澱物を濾別し、減圧乾燥し
て180gのポリクロトン酸sec−ブチルを得た。得
られたポリクロトン酸5eC−ブチルの重量平均分子量
は2.0X10’であった。
上記のようにして得られた実施別品および比較例品を用
いて圧縮成形、射出成形、キャスティングにより適宜の
大きさのテストピースを作製し、透明性、耐熱性、耐吸
湿性および機械時=性等の特性評価を行った。その結果
を測定方法とともに下記の表に示した。
(以下余白) 上記の結果から、高分子量の実施測高は、特に耐熱性お
よび゛機械特性の双方に優れていることがわかる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)真空中ないしは不活性気体雰囲気下において、ク
    ロトン酸sec−ブチルモノマーのみを、アニオン重合
    触媒の存在下で−30〜−78℃の低温で塊状重合させ
    ることを特徴とするクロトン酸sec−ブチルの高重合
    法。
JP25665389A 1989-09-30 1989-09-30 クロトン酸sec―ブチルの高重合法 Pending JPH03119008A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4983786A (ja) * 1972-12-16 1974-08-12

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4983786A (ja) * 1972-12-16 1974-08-12

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