JPH03116494A - 半導体記憶回路装置 - Google Patents

半導体記憶回路装置

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JPH03116494A
JPH03116494A JP1253144A JP25314489A JPH03116494A JP H03116494 A JPH03116494 A JP H03116494A JP 1253144 A JP1253144 A JP 1253144A JP 25314489 A JP25314489 A JP 25314489A JP H03116494 A JPH03116494 A JP H03116494A
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JP
Japan
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voltage
terminal
voltage signal
data
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP1253144A
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English (en)
Inventor
Toshi Sano
佐野 東志
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/56Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using storage elements with more than two stable states represented by steps, e.g. of voltage, current, phase, frequency

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体記憶回路装置に関し、特に、1ビツトで
3通り以上の状態を表す多値論理型の半導体記憶回路装
置に関する。
[従来の技術] 従来、半導体記憶回路装置は、1ビツトで1“1″か0
”かを表すいわゆる2値論理型を基本とした回路で構成
しており、一つのメモリセルで1ビツト分のデータを記
憶していた。
[発明が解決しようとする課題] 上述した従来技術の半導体記憶回路装置は、一つのメモ
リセル当りで1ビツト分のデータを記憶する構成となっ
ているので、4Mビット、16Mビットとメモリの大容
量化が進展する中で、メモリセル数もそれぞれ4M個、
16M個を必要とする欠点がある。従って、チップサイ
ズの増大を招くと共に、素子寸法の微細化というデバイ
スプロセスへの要求となり、歩留まりの低下を招くとい
う欠点がある。
本発明は上記従来の事情に鑑みなされたもので、少ない
メモリセル数でも記憶容量を大幅に拡大することができ
る半導体記憶回路装置を提供することを目的とする。
[発明の従来技術に対する相違点コ 上述した従来の2値論理型の半導体記憶回路装置に対し
、本発明は多値論理型の構成となっているので、一つの
メモリセルで、従来1ビット分しか記憶しなかったのに
対し、2ビット分以上のデータを記憶するという相違点
を有する。
[課題を解決するための手段] 本発明の半導体記憶回路装置は、2値にコード化された
nビットのデータ入力に対応して2n通りの異なる電圧
値を有した電圧信号をディジット線へ出力する信号電圧
変換回路と、アドレス信号に応じてディジット線に接続
されてディジット線からの電圧信号を保持あるいはディ
ジット線へ電圧信号を出力する電圧保持型メモリセルと
、電圧保持型メモリセルからディジット線を介して電圧
信号が入力されて当該電圧信号の電圧値に対応する2値
にコード化したnビットのデータを出力する電圧信号変
換回路とを備えたことを特徴とする。
更に具体的には、本発明に係る半導体記憶回路装置は、
データ入力端子をn個(n:自然数)有し、入力数nビ
ットの状態数2nに一対一に対応した2n通りの電圧信
号を出力する出力端子を有し、かつ、前記出力端子に電
圧信号を出力するか、出力しないかを制御する制御端子
を有する少なくとも一つ以上の信号電圧変換回路と、ア
ドレス端子とデータ端子とを有し、アドレス端子で選択
した場合に、データ端子に印加された電圧信号を入力し
て保持したり、保持した電圧信号をデータ端子に出力し
たりする少なくとも一つ以上の電圧保持型メモリセルと
、電圧信号を入力する端子を有し、かつ、データ出力端
子をn個有し、前記入力端子に印加された電圧信号の2
n通りの電圧に応じて、前記nビットの出力端子の各ビ
ットの“1″または“0″の状態を一対一対応にコード
化する少なくとも一つ以上の電圧信号変換回路と、前記
信号電圧変換回路の出力端子と、前記電圧信号変換回路
の入力端子と、前記電圧保持型メモリセルのデータ端子
とを接続した少なくとも一つ以上のディジット線と、k
ビット(k:自然数)のアドレス入力端子を有し、3個
(j:2’)のアドレス出力端子を有する少なくとも一
つ以上のアドレスデコーダと、前記アドレス出力端子と
前記電圧保持型メモリセルのアドレス端子とを一対一対
応で接続するアドレスワード線とを有している。
[実施例] 第1図は本発明に係る半導体記憶回路装置の第1の実施
例の構成図である。
同図において、12は信号電圧変換回路で、IO〜In
はnビットのデータ入力端子、VOはnビットの“0”
または“1”の状態数2nに一対一に対応した2n通り
の電圧信号を出力する出力端子、WEは出力端子に電圧
信号を出力するか出力しないかを制御する制御端子であ
る。
13は電圧信号変換回路で、v■は電圧信号を入力する
入力端子、0l−Onはnビットのデータ出力端子で、
データ出力端子0f−Onの各ビットの“1′”または
“0′”の状態(2’通り)は入力端子VIに入力され
た電圧信号の2n通りの電圧に一対一に対応して決定さ
れて出力される。M1〜Mjは電圧保持型メモリセルで
あり、この場合、j(自然数)ワードを構成している。
Aはアドレス端子、Dはデータ端子である。
11はアドレスデコーダであり、ADO−ADkはk(
自然数)ビットのアドレス入力端子である。
ADRO〜ADRjはアドレス出力端子で、5個(jワ
ード)の電圧保持型メモリセルM1〜Mjのどれかひと
つを選択する。
14はアドレスワード線、DLはディジット線である。
第2図は第1図に示した信号電圧変換回路12のn=2
とした場合の具体的な一例を示す回路図である。
同図において、21はイネーブル信号WE付の2−4デ
コーダである。10.I2はデータ入力端子、DOI−
DO4はデコードされた出力端子てある。23はインバ
ータゲート、24は3入力のANDゲートであり、イネ
ーブル信号WEが1”の場合においてデータ入力端子I
Oが“0”でデータ入力端子11も“0″の場合には出
力端子DOIのみが“l”となり、出力端子DO2〜D
O4は“0″となる。一方、イネーブル信号WEが“0
”の場合は出力端子DOI−DO4全てが“0”となる
。このようなデコーダ21は当業者には既知であるので
、詳細説明は省略する。
また、第2図において、22は電圧信号発生回路・で、
25は抵抗素子Rである。VDDはVボルトの電圧電源
、GNDは接地電源である。26〜29はMOSタイプ
のトランジスタで、トランスファゲートを構成している
。Dll−DI4は入力端子、VOは電圧信号出力端子
である。抵抗素子25は第3図(a)に示すような純抵
抗素子33か、第3図(b)に示すようなトランジスタ
タイプの抵抗素子34で構成する。尚、抵抗素子33は
ポリシリコン抵抗や拡散抵抗等を使用する。35は端子
である。第2図に示すデコーダ回路21が正論理で構成
されている場合、出力端子Dot−DO4の出力が“1
”の場合はハイレベル(■ボルトとする)、“0”の場
合はロウレベル(0ボルトとする)となるから、この場
合トランスファゲート26〜29はnチャンネルタイプ
のMOS)ランジスタて構成する。
上記構成の信号電圧変換回路において、イネーブル信号
WE=“1″の時、データ入力ro=“0” 11=“
0”の場合には出力DO1=“1”となり、トランスフ
ァゲート26が開き、電圧信号出力端子■OにはV−V
Tボルトが出力される。尚、VTはトランジスタ26の
スレッショルド電圧である。また、このときデータ入力
IO=“0”  ■1=“1”の場合には出力DO2=
“1”となり、トランスファゲート27が開き、電圧信
号出力端子■0には2/3■ボルトの電圧が出力される
。同様に、データ入力IO=“1” 11=“0”の場
合には電圧信号出力端子vOは、1/3Vボルト、デー
タ入力IO=“1” Il=“1”の場合には電圧信号
出力端子■0はOボルトとなる。すなわち、2ビツトの
データ入力IO,1104つの状態(2’=4: n=
2)に一対一に対応して、4通りの電圧を発生する。こ
れを表にまとめたのが、第1表である。尚、イネーブル
信号WEが440If。
時は出力Dot−DO4は“0”となるのでトランスフ
ァゲート26〜29は閉じて、電圧信号出力端子VOは
インピーダンス状態(H2)になる。
電圧保持型メモリセルM1−Mjへ書き込むときはイネ
ーブル信号WE=“12′とし、メモリセルM1〜Mj
から読み出すときはイネーブル信号WE=“0″とすれ
ば、イネーブル信号WEは書き込み/読み出し制御端子
として機能する。
第4図には電圧保持型メモリセルの一例を示す。
42はトランスファゲート(説明のためNチャンネルタ
イプとする)、43はコンデンサである。
Aはアドレス端子、Dはデータ端子である。電圧信号出
力端子vOからディジット線DLに出力された電圧信号
がデータ端子りに到達し、また、アドレス端子Aがハイ
レベル(Vボルト)になると、トランスファゲート42
が問いて電圧信号の電圧がメモリセルに書き込まれる。
アドレス端子Aがロウレベル(0ボルト)になると、メ
モリセルに書き込まれた電圧は保持される。イネーブル
信号WEが“0” (読み出し動作)であれば、電圧信
号出力端子vOはインピーダンス状態であるから、アド
レス端子Aがハイレベルでトランスファゲート42が開
くと、メモリセルに記憶していた電圧がディジット線D
Lに表れ、電圧信号変換回路13の入力端子Vlへ到達
する。
第5図は、第1図に示した電圧信号変換回路13のn=
2とした場合の具体的な一例を示す回路図である。同図
において、Vlは入力端子、DO2D1はデータ出力端
子、55はインバータ回路、56.57はトランスファ
ゲート、52は第1のスレッショルド電圧(ここては1
72vボルト)を持つインバータ回路、53は第2のス
レッショルド電圧(ここでは5/6V−1/2VTボル
ト)を持つインバータ回路、54は第3のスレッショル
ド電圧(ここでは1/6vボルト)をもつインバータ回
路である。このように、インバータ回路52〜54のス
レッショルド電圧VT)Iを設定しておくことにより、
入力端子VIに4通りの電圧V−VT、2/3V、1/
3V、Oボルトが入力されたとき、出力端子oo、ot
の出力は第1表にまとめた通りになる。第6図はCMO
Sタイプのインバータ回路の一例である。同図において
、INは入力端子、OUTは出力端子、VDDは電源端
子、GNDは接地端子、61はPチャンネルトランジス
タ、62はNチャンネルトランジスタである。インバー
タ回路のスレッショルド電圧を決定するにはトランジス
タ61.62のチャンネル幅Wやチャンネル長しのサイ
ズを変えるか、それぞれのトランジスタ61.62のス
レッショルド電圧VTをイオン注入の制御等で変える方
法があり、当業者には既知である。また、アドレスデコ
ーダ11も当業者には既知のため説明を省略する。
以上、説明したように、本実施例のように半導体記憶回
路装置を構成すれば、多値論理型の半導体記憶回路装置
となり、ひとつのメモリセルに数ビット分のデータを記
憶することが可能になる。
尚、上述した説明では、n=2の場合についての信号電
圧変換回路、電圧信号変換回路について示したが、n=
3以上のものもn=2と同じ考えで構成できることは明
かである。
第7図は本発明の第2の実施例の構成図である。
同図において、71はアドレスデコーダ、72゜73は
信号電圧変換回路、74.75は電圧信号変化回路、7
6はアドレスワード線、Mll〜M1jは第1のグルー
プの電圧保持型メモリセル、M21−M2 jは第2の
グループの電圧保持型メモリセルである。IO〜In、
HO−Hmはデータ入力端子(ここてm:自然数)、V
OI、VO2は電圧信号出力端子、WEI、WF2は制
御信号端子(書き込み/読み出し制御端子)、Vllと
Vl2は電圧信号変換回路の入力端子、00〜On、 
 NO−Nmはデータ出力端子、Aはアドレス端子、D
はデータ端子、DLI、DL2はディジット線、ADO
−ADkはアドレス入力端子、ADRO〜ADRjはア
ドレス出力端子である。
本実施例は第1の実施例に更に、ビット方向に記憶保持
型メモリセルを増やして、記憶容量を増加させた構成を
とっている。本実施例においても第1の実施例と全く同
様の動作をするので詳細な説明は省略する。
[発明の効果] 以上説明したように本発明は、多値論理型の半導体記憶
回路装置を構成することにより、少ないメモリセル敢て
大容量の半導体記憶回路装置を提供することができ、更
にデバイスプロセスにおける歩留まり低下を防止するこ
とができる効果かある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の構成図、第2図は信号
電圧変換回路の一例を示す構成図、第3図(a)、(b
)はそれぞれ抵抗素子の例を示す構成図、第4図は電圧
保持型メモリセルの一例を示す構成図、第5図は電圧信
号変換回路の一例を示す構成図、第6図はインバータ回
路の一例を示す構成図、第7図は本発明の第2の実施例
の構成図である。 12.72,73・・・・ 13.74,75・Φ・φ 11.71・・◆・・・・ ・信号電圧変換回路、 ・電圧信号変換回路、 ・アドレスデコーダ、 M1〜M J + Mll〜Ml  j。 M21〜M2j・・・争Φ電圧保持型メモリセル、DL
、  DLl、  DL2・ 14.76 ・ ・ ・ ◆ ・ IO〜In、  HO〜Hm・ VO,VOI、  VO2・ Vl、  VII、  Vl2− ADOヘーADk拳 φ ・ ・ AD  RO〜ADRj 拳 ・ 00〜On、 NO〜Nm◆ A◆ ・ ・ ・ ・ Φ φ ・ φD争・・・・−
・・争 WE、WEI、WF2中 21 ・ ・ ・ φ −・ ・ ・ ・・・ディジット線、 ・・・アドレスワード線、 ・・・データ入力端子、 ・・・電圧信号出力端子、 ・・・電圧信号入力端子、 ・・・アドレス入力端子、 ・・・アドレス出力端子、 ・・・データ出力端子、 ・・・アドレス端子、 ・・・データ端子、 ・・・・制御信号端子、 ・2−4デコ一ダ回路 (イネーブル信号WE付)、 22 ・ ・ ・ ・ ・ 23.55φ ・ 24 ・ ・ 争 ・ φ DOI〜DO4・ DII〜DI4Φ 25・命拳ψ・ ・電圧信号発生回路、 ・インバータ回路、 ・3入力ANDゲート、 ・・デコードされた出力端子、 ・電圧信号発生回路入力端子、 ・抵抗素子、 26〜29゜ 56.57 ・ VDD・ ・ ・ ・ GND  争  ・ ・ 33 ・ ・ ・ 舎 34 ψ ψ # 普 35 φ ・ ・ φ 43 争 ・ 争 曇 52 ・ φ ・ ・ 53 ・ ・ φ ・ 54 ・ φ ・ ◆ 61 ・ ・ φ φ 62 ・ φ ・ ・ 42゜ ・・・・トランスファゲート、 ・・・・電源電圧端子、 ・・・・接地電圧端子、 ・・・・純抵抗素子、 ・・・・トランジスタ抵抗素子、 ・・・・端子、 ・・・・コンデンサ、 ・・・第1のスレッショルド電圧の インバータ回路、 ・・・第2のスレッショルド電圧の インバータ回路、 ・・・第3のスレッショルド電圧の インバータ回路、 ・・・Pチャンネルトランジスタ、 ・・・Nチャンネルトランジスタ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  2値にコード化されたnビットのデータ入力に対応し
    て2n通りの異なる電圧値を有した電圧信号をディジッ
    ト線へ出力する信号電圧変換回路と、アドレス信号に応
    じてディジット線に接続されてディジット線からの電圧
    信号を保持あるいはディジット線へ電圧信号を出力する
    電圧保持型メモリセルと、電圧保持型メモリセルからデ
    ィジット線を介して電圧信号が入力されて当該電圧信号
    の電圧値に対応する2値にコード化したnビットのデー
    タを出力する電圧信号変換回路とを備えたことを特徴と
    する半導体記憶回路装置。
JP1253144A 1989-09-28 1989-09-28 半導体記憶回路装置 Pending JPH03116494A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002133876A (ja) * 2000-10-23 2002-05-10 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JP2009228362A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Sekisui Jushi Co Ltd 自発光装置
JP2009266409A (ja) * 2008-04-22 2009-11-12 Hokumei Denki Kogyo Kk 導光板面発光方式表示装置の導光板支持構造
JP2012142066A (ja) * 2010-12-17 2012-07-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置
JP2012256401A (ja) * 2010-08-06 2012-12-27 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置

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