JPH0310077A - Ｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＣＶＤ装置に関し、特に排気管の構造に関する
。

〔従来の技術〕

従来のＣＶＤ装置は第４図に示す様に、反応室１に接続
された排気管１０には希釈ガス導入口５が設けられてお
り、この希釈ガス導入口５より希釈用ガスを導入し、反
応室１より排気された排気ガスを希釈する構造となって
いた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のＣＶＤ装置は、排気管に設けられた１箇
所のガス導入口より希釈用ガスを導入する為、排気ガス
と希釈用ガスの混合が十分に行なわれないため、排気ガ
スが大気に出た場合、発火や人体に害を及ぼすといった
欠点がある。更にＣＶＤ反応によって生じた反応生成物
が排気管内壁に付着し、排気管が閉塞する為、必要な排
気量の確保が困難となり、排気系内圧が上昇し、安全性
を損なうという欠点があった。

本発明の目的は、前記問題を解消し、排気ガスの希釈が
効率よく行なわれ、かつ排気管内壁への反応生成物の付
着による排気管閉塞のないＣＶＤ装置を提供するもので
ある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のＣＶＤ装置は、反応室に接続する排気管を有す
るＣＶＤ装置において、前記排気管の一部は複数の穴が
設けられた内管と希釈ガスを導入するためのガス導入口
が設けられた外管とから構成されているものである。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の第１の実施例の縦断面図、第２図は第
１図におけるＡ−Ａ線断面図である。

ＣＶＤ装置の反応室１には排気管１０が接続されている
が、その一部は、複数の希釈ガス噴出口４が設けられた
内管３と希釈ガスの導入口５が設けられた外管２とから
構成されている。

このように構成された第１の実施例によれば、反応室１
より排出されたガスは、排気管１０を構成する内管３内
を通って排気される。この時希釈ガス導入口５より導入
された希釈ガスは、矢印６で示すように内管３に無数に
設けられた希釈ガス噴出口４より流入して排気ガスと効
率よく混合される。又、内管３の無数の噴出口より希釈
ガスが噴出されている為、ＣＶＤ反応によって生じた反
応生成物が排気管の内壁に付着することがなくなるため
、反応生成物による排気管の閉塞がおこらない。

第３図は本発明の第２の実施例の縦断面図である。

本第２の実施例は、外管２に希釈ガス導入口５を複数設
け、かつ内管３の希釈ガス噴出口４をガス導入口毎に分
割したもので、他は第１の実施例と同様である。

本第２の実施例においても第１の実施例と同様の効果が
得られるが、希釈ガス噴出口を分割し、それぞれ個々に
希釈ガスを導入している為、希釈ガスが排気管内に均一
に噴出され、より効率よく排気ガスの希釈が行なわれる
という利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明は、排気管の一部を複数の穴が
設けられた内管と希釈ガス導入口が設けられた外管とで
構成することにより、排気ガスの希釈を効率よく行なう
ことが出来、かつ排気管内壁への反応生成物付着による
配管の閉塞をなくすことができるという効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例の縦断面図、第り装置の
縦断面図である。 １・・・反応室、２・・・外管、３・・・内管、４・・
・希釈ガス噴出口、５・・・希釈ガス導入口、６・・・
希釈ガスの流れ、１０・・・排気管。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　反応室に接続する排気管を有するＣＶＤ装置において
   、前記排気管の一部は複数の穴が設けられた内管と希釈
   ガスを導入するためのガス導入口が設けられた外管とか
   ら構成されていることを特徴とするＣＶＤ装置。