JPH03100046A - 柴外線吸収剤を含有するポリカーボネート類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ドイツ国特許出１［Ｒ３８，３２３９６，６は、式（） Ｅ式中、 Ｒ１およびＲ１は、互いに独立して水素、ハロゲン、好
適には塩素または臭素、Ｃ，−Ｃ８アルキル、Ｃ，−Ｃ
，シクロアルキル、Ｃ，−Ｃ１゜アリール、好適にはフ
ェニル、およびＣＴ−ＣＩ！アラルキル、好適にはフェ
ニル−Ｃ，−Ｃ，−アルキル、より特別にはベンジル表
わし、 ｍは、４〜７の整数、好適には４または５、であり、 Ｒ３およびＲ４は、独立して各々のＸに関して選択可能
であり、互いに独立して、水素またはＣＩ−Ｃａアルキ
ルを表わし、 そして Ｘは、少なくとも１つの原子Ｘで　Ｒ３およびＲ′の両
方共アルキルであることを条件として、炭素を表わす］ に相当するジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類に
関する。

好適には１つまたは２つの原子Ｘそして、より特別には
、ただ一つの原子Ｘで、Ｒ３および鴫の両方共アルキル
である。好適なアルキル基はメチルである。ジフェニル
で置換されたＣ原子（Ｃ−１）からα−位のＸ原子は、
ジアルキルで置換されていことが好ましいが、Ｃ−１か
らβ−位のＸｉ子は、ジアルキルで置換されていること
が好ましい。

特別には、Ｃ−１からβ−位の１つのＸ原子はジアルキ
ルで置換され、Ｃ−１からβ′−位の１つのＸ原子はモ
ノアルキル置換されている。より特別には、ドイツ国特
許出１！ＩＰ３８３２３９６．６の発明は、脂環式基中
に５および６環ＣｙＫ子を有するジヒドロキシジフェニ
ルシクロヘキサン類（式（１）中ｍ−４または５）、例
えば次式（Ｉ［Ｉ）および に相当するジフェノール類に関し、ｌ、ｌ−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−）リメチルシク
ロヘキサン（式■）が特に好適である式（Ｉ）に相当す
るジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類は、式（Ｖ
） Ｒ１ に相当するフェノール類と、式（Ｖｌ）Ｒ３Ｒ４ ［式中、 Ｘ、Ｒ’、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびｍは、式（１）に関
して定義したのと同様である］ に相当するケトン類とを、 縮合させることによる常法で得られる。

式（Ｖ）に相当するフェノール類は、文献から公知であ
るかまたは文献から公知の方法で得られる（クレゾール
類およびキシレノール類に関しては、例えばＵ　ｌｌｍ
ａｎｎｓ　　Ｅ　ｎｃｙｋｌｏｐ！［ｄｉｅ　　ｄｅｒ
　　ｔｅａｈｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｔｓ、第４改
訂増補版、１５巻、６１〜７７頁、Ｖ　ｅｒｌａｇ　　
Ｃｈｅｍｉｅ、　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ／Ｎｅｗ　　Ｙｏｒ
ｋ、　　１９７８　；りｏｏラフエノール類関しては、
Ｕｌｌｍａｎｎｓ　　Ｅｎｃｙｋｌｏｐａｄｉｅ　　ｄ
ｅｒ　　ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ、第
４版、Ｖ　ｅｒｌａｇ　　Ｃｈｅｍｉｅ。

１９７５．９巻、５７３〜５８２頁；およびアルキルフ
ェノール類に関しては、Ｕ　ｌ　１ｍａｎｎｓ　　Ｅ　
ｎｃｙｋｌｏｐｌｉｄｉｅ　　ｄｅｒ　　ｔｅｃｈｎｉ
ｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ、第４版、Ｖｅｒｌａｇ　
　Ｃｈｅｍｉｅ、　　１９７９．１８巻、１９９〜２１
４頁参照）。

式（Ｖ）に相当する適切なフェノール類の例は、フェノ
ール、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、２．６−１；
メチルフェノール、２−クロロフェノール、３−クロロ
フェノール、２．６−ジクロロフェノール、２−シクロ
ヘキシルフェノール、２゜６−ジフェニルフェノール及
び０−ベンジルフェノールである。

式（Ｖｌ）に相当するケトン類は、文献から公知である
（例えばＢ　ｅｉｌｓｔｅｉｎｓ　　Ｈａｎｄｂｕｃｈ
　　ｄｅｒＯｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　　Ｃｈｅｍｉｅ、
　７巻、第４版、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ、　
Ｂｅｒｌｉｎ、　　１９２５および相当する増刊ｌ〜４
およびＪ　、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　７９巻（１９５
７）、１４８８〜１４９２頁、ＵＳ−ＰＳ２，６９２，
２８９、Ａ１１ｅｎ他、Ｊ、Ｃｈｅｍ。

Ｓｏｃ、、（１９５９）、２１８６−２１９２およびＪ
　、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　３８巻、（１９７３）、
４４３１〜４４３５頁、Ｊ　、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　
Ｓｏｃ。

８７、（１９６５）１３５３〜１３６４頁参照）式（Ｖ
ｌ）に相当するケトン類の一般的製造方法は、例えば、
“Ｏｒｇａｎｉｋｕｍ　　　１５巻、１９７７、Ｖ　Ｅ
　Ｂ　−Ｄ　ｅｕｔｓｃｈｅｒ　　Ｖ　ｅｒｌａｇ　　
ｄｅｒ　　Ｗ　１ｓｓｅｎｓｃｈＢ［６１，Ｂ　ｅｒｌ
ｉｎ、の例えば６９８頁に記載されている。

以下は式（Ｖｌ）に相当する公知のケトン類の例である
：３，３−ジメチルシクロペンクン、３．３−ジメチル
シクロヘキサノン、４，４−ジメチルシクロヘキサノ、
３−エチル−３−メチルシクロペンタノン、２，３．３
−１−ジメチルシクロヘプタノン、２，４．４−１−ジ
メチルシクロペンタノン、３．３．４−トリメチルシク
ロペンタノン、３．３−ジメチルシクロヘプタノン、４
．４−ジメチルシクロヘプタノン、３−エチル−３−メ
チルシクロヘキサノン、４−エチル−４−メチルシクロ
ヘキサノン、２．３．３−トリメチルシクロヘキサノン
、２．４．４−トリメチルシクロヘキサノン、３．４゜
４−トリメチルシクロヘキサノン、３．３．５−トリメ
チルシクロヘキサノン、３．４．４−トリメチルシクロ
ヘキサノン、２，３．３．４−テトラメチルシクロペン
タノン、２．６．６−）ジメチルシクロヘプタノン、３
．５．５−トリメチルシクロヘプタノン、３．５．５−
トリメチルシクロヘプタノン、５−エチル−２，５−ジ
メチルシクロヘプタノン、２．３，３．５−テトラシク
ロヘプタノン、２，３゜５．５−テトラメチルシクロヘ
プタノン、３．３゜５．５−テトラメチルシクロヘプタ
ノン、４−エチル−２，３，４−トリメチルシクロペン
タノン、３−エチル−４−イソプロピル−３−メチルシ
クロペンタノン、４−第二ブチル−３，３−ジメチルシ
クロペンタノン、２−インプロヒル−３，３゜４−トリ
メチルシクロペンタノン、３−工１チルー４−イソプロ
ピルー３−メチルシクロヘキサノン、４−エチル−３−
イソプロピル−４−メチルシクロヘキサノン、３−第二
プチル−４，４−ジメチルシクロヘキサノン、３．５．
５−トリメチル−５−プロピルシクロヘキサン、２−ブ
チル−３，３゜４−トリメチルシクロペンタノン、２−
ブチル−３，３，４−トリメチルシクロヘキサノン、４
−ブチル−３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、
３−イソへキシル−３−メチルシクロヘキサノンおよび
３．３．８−トリメチルシクロオクタノン。

以下は好適なケトン類の例である： ビスフェノール類を製造するため、フェノール（Ｖ）は
一般にケトン（Ｖｌ）　１モル当り２〜１０モルの量、
そして好適には２．５〜６モルの量、が用いられる。好
適な反応時間はｌ−１００時間である。反応は一般に、
−３０°Ｃから３００°Ｃの範囲の温度、好適には一１
５℃から１５０°Ｃの範囲の温度、でｌ〜２０ｂａｒの
圧力、好適には１〜１ｏｂａｒの圧力下で行なわれる。

縮合は一般に、酸性触媒、例えば塩化水素、臭化水素、
弗化水素、三弗化硼素、三塩化アルミニウム、二塩化亜
鉛、四塩化チタン、四塩化錫、ハロゲン化燐類、五酸化
燐、燐酸、濃塩酸または硫酸およびまた酢酸と無水酢酸
の混合物などの存在下で行なわれる。酸性イオン交換体
も用いられる。

更に、この反応は、助触媒類、例えば０１〜Ｃ１，アル
キルメルカプタン類、硫化水素、チオフェノール類、チ
オ酸類及びジアルキルスルフィド類を、ケトン１ｍｏｌ
当り、０．０１〜０．４ｍｏｌ、特別にはケトン１ｍｏ
１当り０．０５〜０．２ｍｏｌ添加することで促進され
る。

縮合は無溶媒または不活性溶媒（例えば脂肪族もしくは
芳香族炭化水素、塩素化炭化水素）の存在下で行なわれ
る。

触媒が脱水剤としても作用する場合には、別の脱水剤を
用いる必要はないが、良好な転化率を得るために、用い
る触媒が反応水と結合しないときには脱水剤を用いる方
が常に有利である。

適切な脱水剤は、例えば無水酢酸、弗石、ポリ燐酸、お
よび五酸化燐である。

従って、ドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６゜６の発明
はまた、式（Ｖ） １ ６ 「式中、 Ｒ１およびＲ２は、式（Ｉ）に関して定義したのと同様
である］ に相当するフェノール類と、式（Ｖｌ）［式中、 Ｘ１ｍ５　Ｒ’およびＲ４は、式（Ｉ）に関して定義し
たのと同様である１ に相当するケトン類とを、 （ｖ）：（■）のモル比が２：１−１０：１、好適には
２．５　：　ｌ　〜６　：　１．　（７）モル比で一３
Ｑ℃〜３００℃の範囲の温度、好適には一１５〜１５０
℃の範囲の温度で、１〜１０ｂａｒの圧力下、酸性触媒
の存在下そして任意に助触媒および／または溶媒および
／または脱水剤の存在下で、反応させることを特徴とす
る、式（Ｉ） ［式中、 Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して水素、ハロゲン、好
適には塩素または臭素、Ｃ，−Ｃ。

アルキル、Ｃｓ−Ｃａシクロアルキル、Ｃ＠−Ｃ１゜ア
リール、好適にはフェニルおよびＣ７−Ｃ１□アラルキ
ル、好適にはフェニル−〇、−０４−アルキル、より特
別にはベンジル表わし、 ｍは、４〜７の整数、好適には４または５、であり、 Ｒ３およびＲ１は、独立して各々のＸに関して選択可能
であり、互いに独立して水素またはＣｒ　−Ｃａアルキ
ルを表わし、 そして Ｘは、少なくとも１つの原子Ｘで　Ｒ３およびＲ４の両
方共アルキルであることを条件として、炭素を表わす］ に相当するジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類の
製造方法にも関する。

式（１）において、好適には１つまたは２つの原子Ｘ１
しかしより特別にはただ１つの原子ＸでＲｓおよびＲ１
は共にアルキルである。好適なアルキル基はメチルであ
るが、エチル、或いは、直鎖もしくは分岐鎖状のＣ，−
Ｃ，アルキル基も使用できる。ジフェニルで置換された
ＣＷ子（Ｃ−１）からα−位のＸｗ、子は、ジアルキル
で置換されていないことが好ましいが、Ｃ−１からβ−
位のＸ原子は、ジアルキルで置換されていることが好ま
しい。

ある場合には、反応は完全に均一ではない、即ち数種の
異なる生成物が生成し得る。そのため所望の化合物をま
ず混合物から単離しなければならない。縮合の詳細は、
５ｃｈｎｅｌｌ著Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙａｎｄ　　Ｐ　ｈ
ｕｓｉｃｓ　　ｏｆ　　Ｐ　ｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ
ｓ、　　Ｉ　ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　　Ｐｕｂｌｉｓ
ｈｅｒｓ、　Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ　ｌ　９６４が参考と
なる。ある場合には、適切な触媒を選択し、そして単離
しやすくするように所望の化合物が沈殿するかまたは晶
析するような反応条件を選択することによって、反応を
調整することも可能である。

実施例　Ａ ジフェノール（ＩＩ）の製造 ７．５ｍｏ　ｌ　（７０５ｇ）のフェノールおよび０．
１５ｍｏ　＋　（３０，３ｇ）のドデシルチオールを、
撹拌機、滴下漏斗、温度計、還流冷却器およびガス導入
管の備わった１ａの丸底フラスコ中に入れ、２８〜３０
℃で乾燥ＭＣＩガスを飽和させる。得られた溶液に、１
．５ｍｏ　ｌ　　（２１０ｇ）のジヒドロイソホロン（
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン−１−オン）お
よび１．５ｍｏ　＋（１５１ｇ）のフェノールの溶液を
３時間かけて滴下する。そしてこの間ＭＣＩガスを反応
溶液中に通し続ける。滴下後１．ＨＣｌガスを更に５時
間導入する。その後、混合物を室温で８時間反応するに
まかせる。そして過剰のフェノールを水蒸気蒸留によっ
て除去する。残留物を石油エーテル（６０−９０）で２
回そして塩化メチレンで１回熱間抽出し、そして炉別す
る。

収量：　３７０ｇ、Ｍｐ、：　２０５〜２０７℃。

式（Ｉ）のジフェノール類は、高耐熱性並びに他の好ま
しい性質によって特徴づけられる高分子量の熱可塑性ポ
リカーボネート類の製造に特に適切である。

従って、ドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６゜６の発明
は、高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類の製
造のための式（Ｉ）のジフェノール類の使用にも関する
。

式（Ｉ）に相当する単一のジフェノール（この場合、ホ
モポリカーボネート類が生成する）と式（Ｉ）に相当す
る数種のジフェノール類（この場合、コポリカーボネー
ト類が生成する）の両方を使用することができる。

更に、式（Ｉ）に相当するジフェノール類は、高分子量
の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類の製造のため、他
のジフェノール類例えば式ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（■）に相当
するジフェノール類との混合でも使用できる。

式ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（■）に相当する適切な他のフェノー
ル類は、Ｚが、１以上の芳香族核を含有してもよく、置
換されていてもよくそして脂肪族基または式ＣＩ）に相
当する基とは別の脂環式基、或いは連結員としてのへテ
ロ原子を含有してもよい６〜３０個のＣｗ、子を有する
、芳香族基であるジフェノール類である。

式（■）に相当するジフェノール類の例は、ヒドロキノ
ン、レゾルシノール、ジヒドロキシジェニル類、ビス−
（ヒドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキ
シフェニル）−シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−スルフィト類、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−エーテル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケ
トン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホン類、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド類、α、
α　−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピル
ベンゼン類、並びに、それらの核アルキル化および核ハ
ロゲン化化合物類である。

これらのおよび他の適切なジフェノール類は、例えばＵ
Ｓ−ＰＳＳ３．０２８，３６５．２，９９９．８３５．
３，１４８，１７２．３，２７５，６０１．２，９９１
，２７３．３，２７１，３６４．３゜０６２．７８１，
２，９７０，１３１及び２，９９９゜８４６　、ＤＥ−
ＯＳＳｌ、５７０，７０３．２，０６３．０５０．２，
０６３．０５２．２，２１１．０９５６、ＦＲ−Ｐｓｉ
、５６１，５１８、並びに、Ｈ、Ｓ　ｃｈｎｅｌｌ著の
本“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　ａｎｄ　　Ｐ　ｈｙｓｉｃ
ｓ　　ｏｆ　　Ｐ　ｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”　　
Ｉ　ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、　
Ｎｅｗ　　Ｙｏｒｋ、　　ｌ　９６４中に記載されてい
る。

好適な他のジフェノール類は、例えば、４．４’−ジヒ
ドロキシジフェニル、２．２−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−プロパン、２．４−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−２−メチルブタン、１．ｘ−ｔ’スス−
４−ヒドロキシフェニルニル）−シクロヘキサン、α、
ａ　−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソ
プロピルベンゼン、２．２−ビス−（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−プロパン、２．２−ビス−（３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−フロパン、ビス
−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プ
ロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−スルホン、２．４−ビス−（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１
．１−ビス−（３，５−ジメチル−４−イドロキシフェ
ニル）−シクロヘキサン、α、ａ　−ビス−（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン、２．２−ビス−（３，５−ジクロロ−４
−ヒドロキシフェニル）−プロパンおよび２．２−ビス
−（３，５−シフ’ロモー４−ヒドロキシフェニル）−
プロパンである。

式（■）に相当する特に好適なジフェノール類は、例え
ば、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−プロパン、２．２−ビス−（３，５−
ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２．
２−ビス−（３，５−シフコモ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパンおよび１．１−ビス−（４−ヒドロキシ
フェニル）−シクロヘキサンである。

２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
が特に好適である。

他のジフェノール類は単独、並びに、他のジフェノール
類の混合物としても使用してもよい。

式（Ｉ）に相当するジフェノール類の、任意に使用され
る他のフェノール類、例えば式（■）に相当するジフェ
ノール類、に対するモル比は、１００ｍｏｌ−％の（Ｉ
）とＯｍｏ　＋−％の他のジフェノールおよび２ｍｏ　
ｌ−％の（Ｉ）と９８ｍｏｌ−％の他のジフェノールと
の間、好適には１００ｍｏｌ−％の（Ｉ）とＯｍｏ　ｌ
−％の他のジフェノールおよび５ｍ０１−％の（Ｉ）と
９５ｍｏ＋−％の他のジフェノールとの間、そしてより
好適には１００ｍｏ＋−％の（Ｉ）とＯｍｏ　＋−％の
他のジフェノールおよびｌｏｍｏ＋−％の（Ｉ）と９９
ｍｏｌ−％の他のジフェノールとの間、そして最も好適
には１００ｍｏｌ−％の（Ｉ）とＯｍｏ　＋−％の他の
ジフェノールおよび２０ｍｏｌ−％の（Ｉ）と８０ｍｏ
ｌ−％の他のジフェノールとの間である。

式ＣＩ）に相当するジフェノール類の高分子量ポリカー
ボネート類は、任意に他のジフェノール類との組み合わ
せで、ポリカーボネート類を製造するために用いられる
任意の公知の方法で製造されうる。種々のジフェノール
類が、不規則におよびまｔ；ブロック状の両方で、互い
に結合されうる。

従って、ドイツ国特許出願？３８３２３９６゜６の発明
はまた、式（Ｉ）のジフェノール類を、用いたジフェノ
ールの全モル数を基準にして１００ｍｏ　１−％〜２ｍ
ｏｌ−％、好適には１００ｍ６１−％〜５ｍｏｌ−％、
より好適には１００ｍｏｌ−％〜ｌｏｍｏｌ−％、およ
び最も好適には１５Ｑｍｏｌ−％〜２０ｍｏ＋−％の量
で用いることを特徴とする、常法による、好適には界面
方法による、ジフェノール類および任意に連鎖停止剤お
よび任意に分枝剤とから、高分子量熱可塑性芳香族ポリ
カーボネート類を製造する方法にも関する。

使用する分枝剤は使用するとしても公知の方法では少量
であり、好適には０．０５〜２．Ｑｍｏｌ−％（使用す
るジフェノール類を基準にして）の三官能または三官能
以上の官能性を有する化合物類、特に３個もしくは３個
以上のフェノール系ヒドロキシル基を有する化合物類で
ある。３個もしくは３個以上のフェノール系ヒドロキシ
ル基を含有する分枝剤には、７０口グルシン、４．６−
シメチルー２．５４６−トリー（４−ヒドロキシフェニ
ル）−へブタン、ｌ　、３．５−トリー（４−ヒドロキ
シフェニル）−ベンゼン、１．１．１−トリ（４−ヒド
ロキシフェニル）−エタン、トリー（４−ヒドロキシフ
ェニル）−フェニルメタン、２．２−ビス−（４，４−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル）
−プロパン、２゜４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル
イソプロピル）−７エノール、２，６−ビス−（２−ヒ
ドロキシ−５′−メチルベンジル）−４−メチルフェノ
ール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）−プロパン、ヘキサ−（４−
（４−ヒドロキシフェニルイソプロ、ピル）−フェニル
）−オルソテレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒド
ロキシフェニル）−メタン、テトラ−（４−（４−ヒド
ロキシフェニルイソプロビル）−７エノキシ）−メタン
およびｌ。

４−ビス−（（４’、４“−ジヒドロキシトリフェニル
）−メチル）−ベンゼンが含まれる。

他の三官能化合物類のいくつかは、２．４−ジヒドロキ
シ安息香酸、トリメシン酸、塩化シアヌールおよび３．
３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−
２−オキソ−２，３−ジヒドロキシインドールである。

公知の方法で分子量を調節するため、単官能化合物類を
連鎖停止剤として通常の濃度で用いてもよい。適切な化
合物類は、例えばフェノール、第三ブチルフェノール類
、または他のアルキル−Ｃ＋　−Ｃを置換フェノール類
である。式（■）「式中、 Ｒは、分枝Ｃ８および／またはＣ，アルキル基である］ に相当するフェノール類を少量用いるのが、分子量を調
節するのに特に適切である。アルキル基Ｒ中、ＣＨ３の
プロトンのパーセントは４７〜８９％であり、ＣＨとＣ
Ｈ，のプロトンのパーセントは５３〜１１％である。Ｒ
は好適には、ＯＨ基にｔ；いして０−およびｐ−位にあ
り、オルソ成分に対する上限は特に好適には２０％であ
る。連鎖停止剤は一般に、使用するジフェノール類を基
準にして０．５〜ｌＯｍｏｌ−％の量、好適には１．５
〜８ｍｏ＋−％の量、が用いられる。

ポリカーボネート類は公知の方法、好適には界面方法（
Ｈ、Ｓ　ｃｈｎｅｌｌ著“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　　ａｎ
ｄＰ　ｈｙｓｉｃｓ　　ｏｆ　　Ｐ　ｏｌｙｃａｒｂｏ
ｎａｔｅｓ”　、　Ｐ　ｏｌｙｍｓｒＲｅｖｉｅｗｓ、
　Ｖｏｌ、　ＩＩｓ　３３頁以降、１　ｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ　　Ｐｕｂｌ、、　１９６４参照）で製造され
る。この方法において、式（Ｉ）に相当するジフェノー
ル類は、アルカリ水相中に溶解する。他のジフェノール
類とのコポリカーボネート類を製造するため、式（Ｉ）
に相当するジフェノール類とその他のジフェノール類、
例えば式（■）に相当するジフェノール類との混合物類
が用いられる。例えば式（■）に相当する連鎖停止剤類
が、分子量を調整するために加えられる。その後、この
反応は、不活性の好適にはポリカーボネートを溶解する
有機相の存在下での界面縮合方法によって、ホスゲンを
用いて行なわれる。反応温度は０〜４０℃の範囲である
。

任意に用いてもよい分校剤（好適には０．０５〜２ｍｏ
　＋−％）を最初にジフェノール類と一緒にアルカリ水
相に導入するか、或いは、ホスゲン化する前に有機溶媒
の溶液中に加えてもよい。

式（Ｉ）のジフェノール類および任意の他のジフェノー
ル類（■）と共に、それらの七ノーおよび／またはビス
−クロロ炭酸エステル類も用いられ、有機溶媒の溶液中
に加えられる。使用する連鎖停止剤および分枝剤の量は
、式ＣＩ）および任意の式（■）に相当するジフェノラ
ート残基のモル量によって決定される。クロロ炭酸エス
テル類を用いる場合、公知の方法に従って、ホスゲンの
量を減少させうる。

連鎖停止剤用および任意の分校剤およびクロロ炭酸エス
テル類用の適切な有機溶媒は、例えば塩化メチレン、ク
ロロベンゼン、アセトン、アセトニトリルおよびこのよ
うな溶媒の混合物であり、特に塩化メチレンとクロロベ
ンゼンの混合物である。連鎖停止剤と分校剤は任意に同
一の溶媒中に溶解させてもよい。

界面重縮合のための有機相は、例えば塩化メチレン、ク
ロロベンゼンおよび塩化メチレンとクロロベンゼンの混
合物によって作られる。

例えばＮａＯＨ水溶液がアルカリ水相として用いられる
。

界面方法によるポリカーボネート類の製造は、三級アミ
ン類のような触媒、特に三級脂肪族アミン、例えばトリ
ブチルアミンまたはトリエチルアミン、による通常の方
法で触媒反応を生じさせてもよい。触媒は、使用するジ
フェノール類のモル数を基準にして０．０５〜ｒ　Ｏｍ
ｏ　＋−％の量で用いられる。触媒類は、ホスゲン化が
開始する前またはその間および後で加えられる。

ポリカーボネート類は公知の方法で単離される。

高分子量熱可塑性芳香族ポリカーボネート類はまた公知
の均一相、いわゆる、“ピリジン法”およびまたホスゲ
ンの代わりに例えば炭酸ジフェニルを用いる公知の溶融
エステル交換方法によっても製造され得る。この場合も
また、ポリカーボネート類は公知の方法で単離される。

ドイツ国特許出願ｐ３８３２３９６．６の方法によって
得られるポリカーボネート類は、好適には少くとも１０
，０００、より好適にはｉｏ、ｏ。

Ｏ〜３００，０００、そして最も好適には２０，０００
〜８０．０００の分子量ＭＷ（重量平均、予備検定後の
ゲルクロマトグラフィーによる測定）を有する。それら
は直鎖もしくは分枝していてもよく、モして式（１）に
相当するジフェノール類を基とするホモポリカーボネー
ト類又はコポリカーボネート類である。

従って、ドイツ国特許出［１Ｐ３８３２３９６゜６の発
明はまた、直鎖もしくは分枝してもよい、式（１）のジ
フェノール類から該発明に従う方法によって得られる少
なくともｔｏ、ｏｏｏ、好適にはｔｏ、ｏｏｏ〜３００
，０００、より好適には２０．０００〜８０，０００の
Ｍｗ値（重量平均分子量）を有する高分子量熱可塑性芳
香族ポリカーボネート類にも関する。

従って、ドイツ国特許出願ｐ３８３２３９６゜６の発明
はまた、式（Ｉａ） （Ｉａ） ［式中、 Ｘ、ＲＩＳＲ”、Ｒ３、Ｒ４およびｍは、式（Ｉ）に関
して定義したのと同様］ の二官能カーボネート構造単位を、各場合共ポリカーボ
ネート中の二宮能カーボネート構造単位の全量１００ｍ
ｏ＋−％を基準にして、１００ｍ。

１−％〜２ｍ０１−％の量、好適にはｌ　ＯＯｍ。

１−％〜５ｍｏ　ｌ−％の量、より好適には１００ｍｏ
ｌ−％〜ＬＯｍｏｔ−％の量、最も好適には１００ｍｏ
＋−％〜２０ｍｏｌ−％の量、を有する少なくともｔｏ
、ｏｏｏ、好適にはｉｏ、ｏｏ。

〜３００．０００、最も好適には２０．０００〜８ｏ、
ｏｏｏのＭＷ値（重量平均分子量）を有する高分子量熱
可塑性芳香族ポリカーボネート類にも関する。

従って、ドイツ国特許出１１１Ｆ’３８３２６９６゜６
のポリカーボネート類は、他の二宮能カーボネート構造
単位、例えば式（■ａ） に相当する単位を各場合共１００ｍｏｌ−％になるよう
に補充する量、即ち、各場合共、ポリカーボネート中の
二宮能カーボネート構造単位の全量１００ｍｏｌ−％を
基準にして、Ｏｍｏ　＋−％〜９８ｍｏｌ−％、好適に
はＯｍｏ　＋−％〜９５ｍｏｌ−％、より好適にはＯｍ
ｏ　１−％〜９０ｍｏｌ−％、最も好適にはＯｍｏ　＋
−％〜８０ｍｏｌ−％の量を有する。

脂環式ビスフェノール類を基準とするポリカーボネート
類は、基本的に公知であり、例えばＥＰ−０１６４４７
６、ＤＥ−ＯＳ３３４５９４５、ＤＨ−Ｏ５２０６３０
５２、ＦＲ１４２７９９８、ＷＰ８０００３４８．ＢＥ
７８５１８９中に記載されている。これらはしばしば比
較的高いガラス転移温度を有するが、他の重要な物性、
例えばＵＶ安定性および耐熱老化性、を有する。

驚くべきことにはドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６．
６に従って式（１）のジフェノール類を組み入れること
によって、高い耐熱性を他の好ましい性質と一緒に有す
るポリカーボネート類が得ることが可能であることを見
出した。これは特にジフェノール類（１）（式中ｍは４
または５である）を基とするポリカーボネート類、最も
特別には式（Ｉｂ） 従って、ドイツ国特許出１１Ｐ３８３２３９６゜６の発
明は、好適には式（Ｉ　ａ）に相当する構造単位がｍ＝
４または５に限定され、そして、より特別には式（１ｃ
） １式中、 Ｒ１及びＲ２は、互いに独立して式（Ｉ）に関して定義
した意味を有し、より好適には水素を表わす］ に相当するジフェノール類を基とするポリカーボネート
類に当てはまる。

（Ｉｃ） １式中、 Ｒ１およびＲ″は式（Ｉ　ａ）に関して定義したのと同
様であるが、好適には水素である］に相当するポリカー
ボネート類に関する。

式（Ｉｂ）に相当するジフェノール類（式中、Ｒ１およ
びＲ１は好適には水素である）を基とするこれらのポリ
カーボネート類はまた、それらの高耐熱性に加えて、高
いＵＶ安定性および溶融状態での良好な流動挙動を示す
。

更に、このポリカーボネート類の性質は、他のジフェノ
ール類、特に式（■）Ｉこ相当するジフェノール類との
組み合わせにより有利に変えることができる。

ドイツ国特許出＠Ｐ３Ｂ、２３９６．６の方法によって
得られるポリカーボネート類は、界面方法で得られる有
機相を分離し、それを中性および電解質がなくなるまで
洗浄した後、例えばベント式押出し機で、粒状として単
離することによる公知の方法で単離される。

安定剤、離型剤、顔料、防炎剤、帯電防止剤、充填剤お
よび補強剤のような、熱可塑性ポリカーボネート類用と
して通常に用いられる添加剤類が、加工前および後で、
ドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６３６のポリカーボネ
ート類に通常量加えてもよい。

より特別には、例えばカーボンブラック、グラファイト
、ケイソウ土、カオリン、粘土、ＣａＦ３、ＣａＣＯ３
、酸化アルミ、ガラス繊維、Ｂａ５Ｏいおよび無機顔料
、が、充填剤および核形成剤の両方として用いられ、そ
して例えばステアリン醜グリセロール、テトラステアリ
ン酸ペンタエリスリトール、及びトリステアリン酸トリ
メチロールプロパンを離型剤として用いることができる
。

ドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６．６のポリカーボネ
ート類は、例えば公知の方法で単離されたポリカーボネ
ート類を粒状に押出し、任意に上述した添加剤を配合し
、得られた粒状物を、射出成形による公知の方法で加工
することで、種々の成形品にすることができる。

ドイツ国特許出願Ｐ３８３２３９６．６のポリカーボネ
ート類は、今まで公知のポリカーボネート類が使用され
ているいかなる用途、即ち、特に良好な加工性と共に高
耐熱性が要求されるとき、即ち高耐熱の複雑な構成要素
が必要とされるときの覆いおよびガラス窓の目的のため
の電気分野および建材分野の両方で、成形品として用い
られる。

以下の実施例Ｂ、ｌ−Ｂ、５において、相対粘度は、Ｃ
Ｈ、Ｃｔｔ中０．５重量％のポリカーボネート溶液で測
定した。

ガラス温度は、示差走査熱量計（Ｄ　Ｓ　Ｃ）によって
測定した。

実施例　８．１ 式（ＩＩ）のジフェノール３１ｇ　（０，１ｍｏり、Ｋ
ＯＨ３３，６ｇ　（０，６ｍｏ　ｌ）および水５６０ｇ
を不活性ガス雰囲気中で撹拌しながら溶解する。

その後、塩化メチレン５６０ｍ（ｌ中０．１８８ｇのフ
ェノールを溶解させた溶液を加える。この溶液をよく撹
拌しながら、ｐＨ１３〜１４そして２１〜２５°Ｃの温
度で、１９．８　ｇ　（０，２ｍｏ　ｌ）のホスゲンを
カロえる。そしてＯ，１ｍ（２のエチルピリジンを加え
た後、４５分間撹拌する。ビスフェノールのない水相を
分離し、有機相を燐酸で酸性にした後中性になるまで水
で洗浄し、溶媒を除去する。このポリカーボネートは１
．２５９の相対溶液粘度を有していた。

このポリマーのガラス温度は、２３３℃（ＤＳＣ）であ
った。

実施例　Ｂ、２ ビスフェノールＡ　２，２−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−プロパン６８．４　ｇ　（０，３ｍｏ　＋）
　、式（Ｉ［）に相当するジフェノール２１７、Ｏｇ　
（０，７ｍｏ　ｌ）　、ＫＯＨ３３６，６ｇ（６ｍｏｆ
）および水２７００ｇを不活性ガス雰囲気中で撹拌しな
がら溶解する。その後、塩化メチレン２５００ｍ１２中
１．８８ｇのフェノールを溶解させた溶液を加える。こ
の溶液をよく撹拌しながら、ｐＨ１３〜１４そして２１
〜２５℃の温度で１９８　ｇ　（２ｍｏ　ｌ）のホスゲ
ンを加える。

モして１＋ｎＱのエチルピリジンを加えた後、４５分間
撹拌する。ビスフェノラートのない水相を分離し１．有
機相を燐酸で酸性にした後中性になるまで水で洗浄し、
溶媒を除去する。このポリカーボネートは１．３３６の
相対溶液粘度を有していた。

このポリマーのガラス温度は、２１２°０（ＤＳＣ）で
あった。

実施例　８．３ ビスフェノールＡ　　ｌ　ｌ　４　ｇ　（０，５ｍｏ　
ｌ）とジフェノール（ＩＩ）１５５ｇ　（０，５ｍｏ　
Ｉ）の混合物を、実施例Ｂ、２七同様にして反応させポ
リカーボネートを生成させた。

このポリカーボネートは、１．３８６の相対溶液粘度を
有していた。

このポリマーのガラス温度は、１９５°０（ＤＳＣ）で
あった。

実施例　Ｂ、４ ビスフェノールＡ　　Ｉ　５９．６　ｇ　（０，７ｍｏ
　１）とジフェノール（ＩＩ）　９３　ｇ　（０，３ｍ
ｏ　１）の混合物を実施例Ｂ、２と同様にして反応させ
、ポリカーボネートを生成させた。

このポリカーボネートは、１．４３７の相対溶液粘度を
有していた。

このポリマーのガラス温度は、１８０℃（ＤＳＣ）であ
った。

実施例　Ｂ、５ 式（ｎ）のジフェノール３１．０　ｇ　（０，１ｍ。

１）　、ＮａＯＨ２４，Ｏｇ　（０，６ｍｏ　ｌ）およ
び水２７０ｇを不活性ガス雰囲気中撹拌しながら溶解す
る。その後、塩化メチレン２５０ｇ中０．３０９ｇの４
−（１，１，３，３テトラメチルブチル）フェノールを
溶解させた溶液を加えた。この溶液をよく撹拌しながら
、ｐＨ１３〜１４そして２１〜２５°Ｃの温度で１９．
８　ｇ　（０，２ｍｏ　１）のホスゲンを加える。モし
てＱ、１ｍｏｌのエチルピリジンを加えた後、４５分間
撹拌する。ビスフェノラートのない水相を分離し、有機
相を燐酸で酸性にした後中性になるまで水で洗浄し、溶
媒を除去する。このポリカーボネートは、１．３１４の
相対溶液粘度を有していた。

このポリマーのガラス温度は、２３４°０（ＤＳＣ）で
あった。

新規なポリカーボネート類のＵＶ安定性を検査するため
、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ンを基とするポリカーボネートとの比較で、水銀ランプ
（末端フィルター３０５０ｍ）を用いたＵｖ照射下で一
次ラジカルの生成を測定した。実施例８．１のポリカー
ボネートは低い一次ラジカルの生成率を示し、それ故に
高いＵＶ安定性を示すことが見い出された。

式（Ｉ）に相当するビスフェノール類を基とするポリカ
ーボネート類は、厳しい気候条件下、即ちそれらの物性
の悪化を明示する、空気、湿度およびＵＶ光の影響下で
劣化することが見い出された。それらの可視的性質、例
えば透過性および黄色度など、もまた不利な影響を受け
る。

驚くべきことに式（Ｉ）に相当するジフェノール類を基
とするポリカーボネート類は、４００℃に至る高加工温
度にもかかわらず、ヒドロキシベンゾトリアゾール類を
基とする安定剤を用いることで、ＵＣ光に対して安定化
できることを見い出した。安定化された組成は、また、
粘り強さが改良されることによっても特徴づけられる。

従って、本発明は、式（Ａ）および／またはＣＢ） （Ｂ） ［式中、 Ｒ％およびＲ１は、互いに独立して水素、ハロゲン、Ｃ
，、。アルキル、ＣＢ−１゜シクロアルキル、Ｃｌ−１
４アリール、Ｃ、−，３アラルキル、０−Ｒ’まタハ−
ＣＯＯＲ’ヲ表ワシ、Ｒ９は、ＨまたはＣ１−、アルキ
ルを表わし、Ｒ７およびＲ８は、互いに独立して水素、
Ｃ３−、アルキル、ｃＩ−１シクロアルキル、Ｃ、、、
アリール、Ｃ２−、アラルキルを表わし、ｑは、１．２
．３であり、そして ｎは、１，２．３まｔ；は４である］ に相当するＵＶ吸収剤を、ポリカーボネートの重量を基
準にして０．０５重量％〜１５重量％、好適には０．１
重量％〜１２重量％、より好適には０．２重量％〜１０
重量％、含有することを特徴とするドイツ国特許出願Ｐ
　３８３２３９６．６（ＬｅＡ２６３４４）に従う、Ｕ
Ｖ吸収剤を含有するポリカーボネート類に関する。

本発明に従う好適なポリカーボネート類はまた、ドイツ
国特許出［Ｐ３８３２３９６．６　（ＬｅＡ２６３４４
）に従う好適なポリカーボネート類であり；同様なこと
がまた、式（Ｉｃ）に相当する特に好適なポリカーボネ
ート類にも適用される。

式（Ａ）または（Ｂ）に相当する好適なＵＶ吸収剤類は
、Ｒ，およびＲ，がＨ１塩素またはメチルを表わし、Ｒ
７およびＲ１がＨｌＣｌ−４アルキル、シクロヘキシル
、フェニル、ナフチルまたはベンジルを表わし、そして
Ｒ１がＨまたはＣＨ，を表わすところの吸収剤である。

式（Ａ）および（Ｂ）に相当するヒドロキシベンゾトリ
アゾール類は公知であり、それらの製法はＤＯＳ１６７
０９５１およびチェコスロバキア国特許１４６３６０に
記載されている。式（Ａ）および（Ｂ）の特に適切なヒ
ドロキシベンゾトリアゾール類は、４００ｇ／ｍｏ１以
上の分子量を有し１２０°Ｃ以上の融点を有する。

下記のものが好適なヒドロキシベンゾトリアゾール類の
例である。

芳香族ポリカーボネート類は、ヒドロキシベンゾトリア
ゾール系のＵＶ吸収剤、例えば式（Ａ）およびＣＢ）に
相当する化合物類、を用いて安定化できることも公知で
ある。（Ｔ　ａｓｃｈｅｎｂｕｃｈｄｅｒ　　Ｋｕｎｓ
ｔｓｔｏｆｆａｄｄｉｔｉｖｅ、　Ｅｄ、　Ｖ、　Ｒ，
Ｃａｃｈｔｅｒ、　Ｈ、Ｍｕｌｌｅｒ、　Ｃ、−Ｈａｎ
ｓｅｒ　−Ｖｅｒｌａｇ。

Ｍｔｉｎｃｈｅｎ／Ｗｉｅｎ、　　１９８３　、　１８
３頁以降）：ビスヒドロキシフェニルシクロアルカン類
を基とするポリカーボネート類は、電子写真上の光受容
体として用いることができることが見い出された（ＪＡ
−ＯＳ６２０３９／１９８６．ＪＡ−Ｏｓ６２０４０／
１９８６およびＪＡ−Ｏ３１０５５３０／１９８６参照
）。

しかしながら、本発明の主題、即ち高い気候安定性を有
する高耐熱で高い粘り強度を有するポリカーボネート類
は、従来の技術では予想されずまた当然であるとは言え
なかった。

式（Ａ）または（Ｂ）に相当するＵＶ吸収剤は、例えば
ポリカーボネート類の溶融状態で又はポリカーボネート
類の溶液状態、例えばＣＨＩＣＩ２中、での公知の方法
によってポリカーボネート中に組み込まれてもよい。

本発明に従う、ＵＶ吸収剤を含有するポリカーボネート
類は、ドイツ国特許出願０３８３２３９６．６　（Ｌｅ
Ａ２６３４４）またはドイツ国特許出願ｐ３８３７０９
０．５　（ＬｅＡ２６４０２）そしてドイツ国特許出願
Ｐ３９０９６０１．７（ＬｅＡ２６６９９）中に記載さ
れるように、繊維、フィルム、シート、射出成形および
押出し製品に加工されてもよい。問題となる加工技術は
一般に公知である。

成形品の例は、シート類または多層シート類、ヘッドラ
ンプ類及びヘッドランプ反射鏡類である。

実施例 式（ＩＩ）のビスフェノールは、ドイツ国特許出願Ｐ３
８３３９５３．６に記載されるように製造された。

ドイツ国特許出願Ｐ３８３３９５３．６に従って、式（
Ｉｆ）のビスフェノール３５ｍｏ１％と２゜２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プリパン６５ｍｏｌ−％
とを基とするコポリカーボネートを、連鎖停止剤として
４−　（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェ
ノールを用いた界面重縮合によって製造した。ＣＨ，Ｃ
Ｉ！中２５°Ｃ（０−５ｇ　／　１００　ｍ　Ｑ　ＣＨ
＊　ＣＩ　ｔ）で測定して、相対溶液粘度は１．３０で
あった。

次の化合物類をＵＶ吸収剤として用いた：ＵＶ吸収剤Ａ
１： ＵＶ吸収剤Ｂｌ： での二軸押出し機中でポリカーボネート類に混合した後
、押出し物を粒状にした。標準射出成形機で、６０Ｘ４
０Ｘ４ｍｍの大きさの平板および８０Ｘ１０Ｘ４ｍｍの
大きさの試験片を作成した。

この板と試験片を、６．５ワツトのキセノンランプの備
わったアトラスウェザーオメーター（サイクル：１０２
分間の光暴露そして光暴露下１８分間の脱イオン水噴霧
）を用いた耐候試験にかけた。細孔ブラックボード温度
は６０±５℃であった。下に示す時間後、この板の評価
を行なった。

黄色度（Ｄ　Ｉ　Ｎ６１６７）　、ＣＨ，Ｃ１！中２５
°Ｃ（０，５ｇ／ｌ　００ｍｌ２ｃＨａｃｔ、）で測定
した相対溶液粘度および衝撃強度（ＩＳＯ１−Ｃ）を測
定した。

０．３重量％のＵＶ吸収剤を、３４０℃の温度前 試験基準 相対溶液粘度 ０時間 ５００時間 ７５０時間 １０００時間 黄色度 ０時間 ５００時間 １０００時間 衝撃強度 ０時間 ７５０時間 １０００時間 使用ポリカーボネート 未安定化　　　　　安定剤で安定化 （Ａｔ）　　　　　（Ｂｌ） １．２９２ １．２８４ １．２８４ １．２７９ ８．４ １１．４４ １５．７０ ［ＫＪ／ｍ’］ ｕｂ。

８ ２ １．２９０ １．２９０ １．２９０ １．２８９ ８．６ ６．２ ８．１ ｕｂ。

４０ ２ １．２９３ １．２８７ １．２８８ １．２８８ ｕｂ。

５０ ３５ 実施例は、耐候試験を行なった後、安定化した組成物は
顕著に低い黄色度を示し改良された粘り強さ値を示すこ
とを示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（Ａ）および／または（Ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ） ［式中、 Ｒ＾５およびＲ＾６は、互いに独立して水素、ハロゲン
   、Ｃ＿１＿−＿１＿０アルキル、Ｃ＿５＿−＿１＿０シ
   クロアルキル、Ｃ＿６＿−＿１＿４アリール、Ｃ＿７＿
   −＿１＿３アラルキル、Ｏ−Ｒ＾９または−ＣＯＯＲ＾
   ９を表わし、Ｒ＾■は、ＨまたはＣ＿１＿−＿４アルキ
   ルを表わし、Ｒ＾７およびＲ＾■は、互いに独立して水
   素、Ｃ＿１＿−＿４アルキル、Ｃ＿５＿−＿■シクロア
   ルキル、Ｃ＿■＿−＿１＿４アリール、Ｃ＿７＿−＿９
   アラルキルを表わし、ｑは、１、２、３であり、そして ｎは、１、２、３または４である］ に相当するＵＶ吸収剤を、ポリカーボネートの重量を基
   準にして、０．０５重量％〜１５重量％含有することを
   特徴とする、ポリカーボネート中全量１００ｍｏｌ−％
   の二官能カーボネート構造単位を基準にして、１００ｍ
   ｏｌ−％〜２ｍｏｌ−％の量の下記の式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） ［式中、 Ｒ＾５およびＲ＾６は、互いに独立して水素、ハロゲン
   、Ｃ＿１−Ｃ＿■アルキル、Ｃ＿５−Ｃ＿■シクロアル
   キル、Ｃ＿■−Ｃ＿１＿０アリール、およびＣ＿７−Ｃ
   ＿１＿２アラルキル、を表わし、 ｍは、４〜７の整数であり、 Ｒ＾３およびＲ＾４は、独立して各々のＸに関して選択
   されてもよく、そして互いに独立して水素またはＣ＿１
   −Ｃ＿■アルキルを表わし、そして Ｘは、少なくとも１つの原子Ｘで、Ｒ＾３およびＲ＾４
   の両方共アルキルであることを条件として、炭素を表わ
   す］ に相当する二官能カーボネート構造単位を含有する少な
   くとも１０，０００のＭｗ値（重量平均分子量）を有す
   る、ＵＶ吸収剤含有ポリカーボネート類。