JPH0297989A - 透過型ホログラムおよびその製造方法 - Google Patents
透過型ホログラムおよびその製造方法Info
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- JPH0297989A JPH0297989A JP24997988A JP24997988A JPH0297989A JP H0297989 A JPH0297989 A JP H0297989A JP 24997988 A JP24997988 A JP 24997988A JP 24997988 A JP24997988 A JP 24997988A JP H0297989 A JPH0297989 A JP H0297989A
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Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は、透過型ホログラムに関し、
優れた性能を確保しながら、歩留りを向上させるととも
に、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化させた、パ
ターン積層に適した透過型ホログラムを提供することを
目的とし、 有色の透明基板の両面に干渉パターンを形成するように
構成する。
に、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化させた、パ
ターン積層に適した透過型ホログラムを提供することを
目的とし、 有色の透明基板の両面に干渉パターンを形成するように
構成する。
本発明は、透過型ホログラムおよびその製造方法に関す
る。
る。
ホログラムは、レーザ等の可干渉性光の干渉波面をガラ
スやプラスチック等の透明基板の表面の感光膜に干渉パ
ターンとして記録したものであり、単に光学像の記録に
用いられるばかりでなく、その波長分離機能、光収束機
能、入射角選択機能などを利用した光学素子としても用
いられている。
スやプラスチック等の透明基板の表面の感光膜に干渉パ
ターンとして記録したものであり、単に光学像の記録に
用いられるばかりでなく、その波長分離機能、光収束機
能、入射角選択機能などを利用した光学素子としても用
いられている。
例えば、バーコード読み取り装置用やレーザプリンタ用
のビームスキャナ等に透過型ホログラムを適用しようと
いう試みがなされている。
のビームスキャナ等に透過型ホログラムを適用しようと
いう試みがなされている。
透過型ホログラムは、干渉パターンの再生を透過光（再
生用光束が基板を透過する）によって行うクイ１のホロ
グラムである。干渉パターンの形成は、記録面側から二
元束を照射する二光束干渉露光によって行う。このよう
に、透過型の場合には再生時に光束が基板を透過できる
ように、基板は透明である必要がある。
生用光束が基板を透過する）によって行うクイ１のホロ
グラムである。干渉パターンの形成は、記録面側から二
元束を照射する二光束干渉露光によって行う。このよう
に、透過型の場合には再生時に光束が基板を透過できる
ように、基板は透明である必要がある。
基板が透明なので、基板の両面に干渉パターンを形成す
ることは、これまで技術的に極めて困難であるとされ、
また仮に行ったとしても極めて繁雑な工程を要すると考
えられでいた。そのため、従来の透過型ホログラムは基
板の片面にのみ干渉パターンを形成したものである。
ることは、これまで技術的に極めて困難であるとされ、
また仮に行ったとしても極めて繁雑な工程を要すると考
えられでいた。そのため、従来の透過型ホログラムは基
板の片面にのみ干渉パターンを形成したものである。
ホログラムは、前記のような種々の用途において小型化
と高性能化が進められている。小型化の一つの方法とし
て干渉パターンの積層が行われている。
と高性能化が進められている。小型化の一つの方法とし
て干渉パターンの積層が行われている。
たとえばバーコード読み取り装置用のビームスキャナで
は、干渉パターンの異なる３枚のホログラムを重ねたも
の（ホロウィンドウ）を用いて超小型で性能の優れたも
のが最近開発されている。
は、干渉パターンの異なる３枚のホログラムを重ねたも
の（ホロウィンドウ）を用いて超小型で性能の優れたも
のが最近開発されている。
しかし、これら３枚のホログラムはそれぞれガラス基板
の片面にしか作られておらず、したがってガラス基板も
３枚が必要となっているため、材料歩留りが低く、製造
時間が長く、製造コストが高いという問題があった。
の片面にしか作られておらず、したがってガラス基板も
３枚が必要となっているため、材料歩留りが低く、製造
時間が長く、製造コストが高いという問題があった。
本発明は、優れた性能を確保しながら、歩留りを向上さ
せるとともに、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化
させた、パターン積層に適した透過型ホログラムおよび
その製造方法を提供することを目的とする。
せるとともに、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化
させた、パターン積層に適した透過型ホログラムおよび
その製造方法を提供することを目的とする。
上記の目的は、本発明によれば、有色の透明基板の両面
に干渉パターンを形成したことを特徴とする透過型ホロ
グラムによって達成される。
に干渉パターンを形成したことを特徴とする透過型ホロ
グラムによって達成される。
上記の目的は、本発明によれば、有色の透明基板の両面
に感光膜を形成する工程、 上記基板に吸収される波長の光を用いて、上記基板の両
面をそれぞれ二光束干渉露光する工程、および 感光した基板両面を現像する工程 を含むことを特徴とする透過型ホログラムの製造方法に
よっても達成される。
に感光膜を形成する工程、 上記基板に吸収される波長の光を用いて、上記基板の両
面をそれぞれ二光束干渉露光する工程、および 感光した基板両面を現像する工程 を含むことを特徴とする透過型ホログラムの製造方法に
よっても達成される。
透明基板の色は、干渉パターン形成（記録）に用いる露
光光を吸収する色とする。再生は、この色で吸収され難
い波長の光で行う。例えば、４８８ｎｍ （青色）のＡ
ｒ レーザ光で干渉パターンを記録し、６３３ｎｍ （
赤色）のＨｅ −Ｎｅ レーザ光で干渉パターンを再生
するためにガラス基板などを赤色のものにする。
光光を吸収する色とする。再生は、この色で吸収され難
い波長の光で行う。例えば、４８８ｎｍ （青色）のＡ
ｒ レーザ光で干渉パターンを記録し、６３３ｎｍ （
赤色）のＨｅ −Ｎｅ レーザ光で干渉パターンを再生
するためにガラス基板などを赤色のものにする。
感光膜を形成するホログラム記録用感光材料としては、
通常の写真材料に使用されている銀塩に漂白処理を施し
たものや、重クロム酸ゼラチンが使用されている。また
、最近では、有機ハロゲン化合物を架橋剤とし、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾールなどを基材樹脂とする高分子ホ
ログラム記録材料が提案されている（例えば特公昭５５
−３１４５３など）。従来は、基板となるガラス板やプ
ラスチック板の片面上にこのようなホログラム記録用感
光材料を均一に塗布するために、主にスピンコード法が
用いられていた。本発明では、ホログラム記録材料の塗
液をデイツプコータなどを用いてガラス基板などの両面
に塗布し、１枚の基板の両面に感光膜を形成する。
通常の写真材料に使用されている銀塩に漂白処理を施し
たものや、重クロム酸ゼラチンが使用されている。また
、最近では、有機ハロゲン化合物を架橋剤とし、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾールなどを基材樹脂とする高分子ホ
ログラム記録材料が提案されている（例えば特公昭５５
−３１４５３など）。従来は、基板となるガラス板やプ
ラスチック板の片面上にこのようなホログラム記録用感
光材料を均一に塗布するために、主にスピンコード法が
用いられていた。本発明では、ホログラム記録材料の塗
液をデイツプコータなどを用いてガラス基板などの両面
に塗布し、１枚の基板の両面に感光膜を形成する。
二光束干渉露光に用いる光は、所定の色の基板に吸収さ
れる波長であることが必要であり、レーザ光を用いるこ
とができる。両面それぞれの露光光が基板に吸収され裏
面側に透過しないので、両面に全く別個の干渉パターン
を独立に形成できる。
れる波長であることが必要であり、レーザ光を用いるこ
とができる。両面それぞれの露光光が基板に吸収され裏
面側に透過しないので、両面に全く別個の干渉パターン
を独立に形成できる。
更に、両面を同時に露光することができる。
露光後、従来と同様に現像することによって、両面に干
渉パターンが形成された透過型ホログラムが得られる。
渉パターンが形成された透過型ホログラムが得られる。
本発明の透過型ホログラムは両面に干渉パターンを有す
るので、優れた性能を確保しながら単一基板で２つの干
渉パターンを積層することができる。
るので、優れた性能を確保しながら単一基板で２つの干
渉パターンを積層することができる。
本発明の透過型ホログラムの製造方法は、有色の透明基
板によって露光光が吸収されるので、基板の両面に独立
に干渉パターンを形成できる。
板によって露光光が吸収されるので、基板の両面に独立
に干渉パターンを形成できる。
以下に、添付図面を参照し、実施例によって本発明を更
に詳しく説明する。
に詳しく説明する。
第１図に示すように、赤色のガラス基板１（７０Ｘ７（
ｂｍｘ厚さ１ｍｍ）の両面に、第１表に示す組成の感光
液２を、引き上げ速度毎秒１ ＋ｎのデイツプコート法
で塗布した後乾燥させ、両面の感光膜１７さ６．４μｍ
のホログラム用感光板を作成した。
ｂｍｘ厚さ１ｍｍ）の両面に、第１表に示す組成の感光
液２を、引き上げ速度毎秒１ ＋ｎのデイツプコート法
で塗布した後乾燥させ、両面の感光膜１７さ６．４μｍ
のホログラム用感光板を作成した。
第１表
この感光板の両面に第２図に示すように二光束干渉露光
光学系て波長４８８ｎｍ （青色）のＡｒ レーザ光を
用いて露光を行った。光束ＡおよびＡ′は感光膜ａを干
渉露光させてから基Ｆｉｌに吸収され、光束ＢおよびＢ
′は感光膜すを干渉露光させてから基板ｌに吸収される
。これによって、感光膜ａ、感光膜すはそれぞれ相互に
独立に露光される。したがって、両感光膜の露光を同時
に行うこともできる。
光学系て波長４８８ｎｍ （青色）のＡｒ レーザ光を
用いて露光を行った。光束ＡおよびＡ′は感光膜ａを干
渉露光させてから基Ｆｉｌに吸収され、光束ＢおよびＢ
′は感光膜すを干渉露光させてから基板ｌに吸収される
。これによって、感光膜ａ、感光膜すはそれぞれ相互に
独立に露光される。したがって、両感光膜の露光を同時
に行うこともできる。
次に、キシレン−イソプロパノ−ルーテトラヒドロフラ
ン混合液中に５分間浸漬して架橋剤や増悪剤を除去しく
脱色処理）、風乾した後、更にトルエン−キシレン混合
液中に１分間浸漬して膨潤させ、次いでｎ−ペンタン中
に浸漬して収縮させて第３図に示すように表面と裏面で
干渉パターン（Ｈｌ、Ｈ２）の異なる透過型ホログラム
Ｈを作製した。
ン混合液中に５分間浸漬して架橋剤や増悪剤を除去しく
脱色処理）、風乾した後、更にトルエン−キシレン混合
液中に１分間浸漬して膨潤させ、次いでｎ−ペンタン中
に浸漬して収縮させて第３図に示すように表面と裏面で
干渉パターン（Ｈｌ、Ｈ２）の異なる透過型ホログラム
Ｈを作製した。
本発明は、優れた性能を維持しながら、歩留りを向上さ
せるとともに、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化
させた、パターン積層による小型化の容易な透過型ホロ
グラムを提供する。
せるとともに、製造時間も短縮させ、さらに低コスト化
させた、パターン積層による小型化の容易な透過型ホロ
グラムを提供する。
第１図は、ディップコ−１・によって感光液を基板の両
面に塗布する例を示す斜視図、 第２図は、基板の両面にそれぞれ二光束干渉露光を行う
例を示す側面図、および 第３図は、基板の両面に干渉パターンを形成した透過型
ホログラムの例を示す平面図である。 １・・・有色透明基板、 ２・・・感光液、Ａ、Ａ’
、Ｂ、Ｂ’・・・光束（レーザ光）、ａ、ｂ・・・感
光膜、 Ｈｌ、Ｈ２・・・干渉パターン、 Ｈ・・・ホログラム。
面に塗布する例を示す斜視図、 第２図は、基板の両面にそれぞれ二光束干渉露光を行う
例を示す側面図、および 第３図は、基板の両面に干渉パターンを形成した透過型
ホログラムの例を示す平面図である。 １・・・有色透明基板、 ２・・・感光液、Ａ、Ａ’
、Ｂ、Ｂ’・・・光束（レーザ光）、ａ、ｂ・・・感
光膜、 Ｈｌ、Ｈ２・・・干渉パターン、 Ｈ・・・ホログラム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、有色の透明基板の両面に干渉パターンを形成したこ
とを特徴とする透過型ホログラム。 ２、有色の透明基板の両面に感光膜を形成する工程、 上記基板に吸収される波長の光を用いて、上記基板の両
面をそれぞれ二光束干渉露光する工程、および 感光した基板両面を現像する工程 を含むことを特徴とする透過型ホログラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24997988A JPH0297989A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | 透過型ホログラムおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24997988A JPH0297989A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | 透過型ホログラムおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0297989A true JPH0297989A (ja) | 1990-04-10 |
Family
ID=17201031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24997988A Pending JPH0297989A (ja) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | 透過型ホログラムおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0297989A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003270585A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Ricoh Co Ltd | レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置 |
-
1988
- 1988-10-05 JP JP24997988A patent/JPH0297989A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003270585A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Ricoh Co Ltd | レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置 |
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