JPH029460B2 - - Google Patents

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JPH029460B2
JPH029460B2 JP58171234A JP17123483A JPH029460B2 JP H029460 B2 JPH029460 B2 JP H029460B2 JP 58171234 A JP58171234 A JP 58171234A JP 17123483 A JP17123483 A JP 17123483A JP H029460 B2 JPH029460 B2 JP H029460B2
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emitter region
thyristor
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Nobutake Konishi
Takeshi Yokota
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Hitachi Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/111Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors
    • H01L31/1113Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors the device being a photothyristor

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Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は光サイリスタに関するものであり、特
にdv/dt耐量を低下させることなしに、光点弧
感度を向上させることのできる光サイリスタに関
するものである。
[Detailed Description of the Invention] (Field of Application of the Invention) The present invention relates to an optical thyristor, and in particular to an optical thyristor that can improve the optical ignition sensitivity without reducing the dv/dt tolerance. be.

(発明の背景) 第1図は、従来の光サイリスタ一つであるエミ
ツタ短絡型の光点弧型半導体制御整流装置の断面
構造を示している。
(Background of the Invention) FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a short-circuited emitter type optical ignition type semiconductor controlled rectifier which is a conventional optical thyristor.

第1図において、半導体基体1には、例えばp
型導電性の第1エミツタ層pE11、n型導電性の
第1ベース層nB12、p型導電性の第2ベース層
pB13、およびn型導電性の第2エミツタ層nE
4が形成される。
In FIG. 1, a semiconductor substrate 1 includes, for example, p
A first emitter layer p E 11 of type conductivity, a first base layer n B 12 of n type conductivity, a second base layer p type conductivity
p B 13, and a second emitter layer of n-type conductivity n E 1
4 is formed.

前記各層は、一方の主表面から他方の主表面に
向つてpE、nB、pB、nEの順に積層され、各層間に
pn接合J1〜J3が形成されている。また、前記第2
エミツタ層nE14の一部は、光照射領域14Lと
されている。
The layers are laminated in the order p E , n B , p B , n E from one main surface to the other main surface, and there is a gap between each layer.
PN junctions J 1 to J 3 are formed. In addition, the second
A part of the emitter layer n E 14 is a light irradiation area 14L.

一方の主表面(図示例の下側面)では、pE層1
1がアノード電極21に低抵抗接触している。他
方の主表面(上側面)には、nE層14,14L
と、pB層13が共に露出してカソード電極22,
23および受光部カソード電極に低抵抗接触し、
これによつてPn接合J3は短絡されている。
On one main surface (lower side of the example shown), p E layer 1
1 is in low resistance contact with the anode electrode 21. On the other main surface (upper surface), n E layers 14, 14L
, the p B layer 13 is exposed, and the cathode electrode 22,
23 and the light-receiving part cathode electrode with low resistance,
This short-circuits Pn junction J3 .

このような光サイリスタは、例えば光フアイバ
30からの光31でまず点弧する受光部サイリス
タである第1領域、受光部サイリスタの電流で点
弧し、さらに電流を増幅する補助サイリスタであ
る第2領域、および補助サイリスタまでの電流で
点弧する主サイリスタである第3領域からなる。
Such an optical thyristor includes, for example, a first region which is a light receiving thyristor that is first ignited by light 31 from an optical fiber 30, and a second region which is an auxiliary thyristor which is ignited by the current of the light receiving thyristor and further amplifies the current. and a third region, which is the main thyristor which fires with the current up to the auxiliary thyristor.

前記の各領域のうち、第2領域は省略すること
もでき、また第2領域と同等の構造を有する領域
を、第1領域と第2領域の間または第2領域と第
3領域の間に増やすことも可能である。
Of the above regions, the second region may be omitted, or a region having the same structure as the second region may be provided between the first region and the second region or between the second region and the third region. It is also possible to increase it.

このような構造を採るのは、大電流を制御する
場合、初期点弧領域である光照射領域に大電流が
集中することを防ぎ、小電流のうちに、導通面積
を補助サイリスタから、さらに主サイリスタへと
広げ、これによつて、ジユール熱による素子破壊
を防ぐためである。
This structure prevents the large current from concentrating on the light irradiation area, which is the initial ignition area, when controlling a large current. This is to spread the heat to the thyristor, thereby preventing element destruction due to Joule heat.

これにより、点弧感度を、受光部サイリスタ、
補助サイリスタ、主サイリスタの順に高くでき、
受光部サイリスタの高感度化を図ることができ
る。
This allows the ignition sensitivity to be increased by the light receiving thyristor.
The auxiliary thyristor can be increased in order of the main thyristor.
It is possible to increase the sensitivity of the light receiving thyristor.

本発明者等によつてなされた光による点弧現象
に関する研究の結果によれば、第1図に示すよう
な、nE層14Lを通して光を照射するような受光
部サイリスタをもつ光サイリスタでは、光によつ
て発生され、pE層11、nB層12およびpB層13
を通して主サイリスタのカソード電極22へ流れ
る電流ibのほかに、pB層13とnE層14L間のJ3
接合による太陽電池効果によつて発生され、受光
部カソード電極24を通つて流れる電流ipがある
ことが分かつた。
According to the results of research on the ignition phenomenon caused by light conducted by the present inventors, in an optical thyristor having a light-receiving part thyristor that irradiates light through the nE layer 14L as shown in FIG. generated by light, p E layer 11, n B layer 12 and p B layer 13
In addition to the current i b flowing to the cathode electrode 22 of the main thyristor through J 3 between the p B layer 13 and the n E layer 14L
It has been found that there is a current i p that is generated by the solar cell effect due to the junction and flows through the light receiving section cathode electrode 24 .

これらの電流の和(ib+ip)とpB層13の横方
向の抵抗Rにより、光照射領域下のnE層・pB層間
のJ3接合に順方向の電圧{(ib+ip)×R}が加わ
る。この電圧がJ3接合のしきい値電圧より大きく
なると、nE層14Lより多量の電子が注入され、
アノード・カソード電極間に印加された電圧を阻
止していたJ2接合の空乏層が消滅し、光サイリス
タは点弧する。
Due to the sum of these currents (i b + i p ) and the lateral resistance R of the p B layer 13 , a forward voltage {(i b + i p )×R} is added. When this voltage becomes larger than the threshold voltage of the J3 junction, a large amount of electrons are injected from the nE layer 14L,
The depletion layer at the J2 junction, which was blocking the voltage applied between the anode and cathode electrodes, disappears, and the photothyristor fires.

以上のようにして、光サイリスタが点弧すると
きの最少の光照射量を、最少点弧光入力PGTと呼
ぶことにする。
As described above, the minimum amount of light irradiation when the optical thyristor fires will be referred to as the minimum firing light input P GT .

ところで、第1図のような増幅ゲート構造とし
ても、4kV程度の阻止電圧をもつ光サイリスタで
は、最少点弧光入力PGTが5mW程度である。そし
て、光サイリスタのターンオン時間を小さくする
には、さらに前記PGTの5倍以上の光量が必要で
ある。
By the way, even with the amplification gate structure as shown in FIG. 1, in an optical thyristor having a blocking voltage of about 4 kV, the minimum ignition light input P GT is about 5 mW. In order to reduce the turn-on time of the optical thyristor, a light amount of five times or more than the above-mentioned P GT is required.

しかし、そのような大きな光量を、発光素子に
よつて安定して供給するのは難しく、PGTを小さ
くすることが望まれている。PGTを小さくするに
は、抵抗Rを大きくし、小さな(ib+ip)の電流
でJ3接合がしきい値電圧に達するようにすること
が考えられる。
However, it is difficult to stably supply such a large amount of light using a light emitting element, and it is desired to reduce P GT . In order to reduce P GT , it is conceivable to increase the resistance R so that the J 3 junction reaches the threshold voltage with a small current ( ib + i p ).

しかしながら、抵抗Rを大きくすると、他の重
要な素子特性の1つであるdv/dt耐量が低下す
るので好ましくないという別の問題を生ずる。以
下に、dv/dt耐量について説明する。
However, increasing the resistance R causes another problem in that it is undesirable because the dv/dt tolerance, which is one of the other important device characteristics, decreases. The dv/dt tolerance will be explained below.

第1図に示すような光サイリスタのアノード電
極21に正、カソード電極22に負の、急峻な立
ち上がりの電圧を加えると、接合J2にibと同じよ
うな変位電流が流れる。
When a positive, steeply rising voltage is applied to the anode electrode 21 of the optical thyristor as shown in FIG. 1 and negative to the cathode electrode 22, a displacement current similar to i b flows through the junction J 2 .

この変位電流と抵抗Rによつて、pB層13とnE
層14が順バイアスされる。それ故に、前記順バ
イアスの値がしきい値を超えると、nE層14を通
して光照射をしなくても、光サイリスタが誤点弧
してしまう。誤点弧しない電圧上昇率の限界値を
dv/dt耐量という。
By this displacement current and resistance R, p B layer 13 and n E
Layer 14 is forward biased. Therefore, if the value of the forward bias exceeds the threshold value, the optical thyristor will be erroneously fired even if no light is irradiated through the nE layer 14. The limit value of the voltage rise rate that will not cause false ignition.
It is called dv/dt tolerance.

以上をまとめると、PGTを小さくするために抵
抗Rを大きくするとdv/dt耐量は低下するとい
う関係、つまり、PGTとdv/dt耐量は二律背反の
関係にある。そこで、dv/dt耐量を損なうこと
なく、PGTを小さくする手段の開発が望まれてい
る。
To summarize the above, when the resistance R is increased in order to reduce P GT , the dv/dt withstand capacity decreases, that is, the P GT and the dv/dt withstand capacity are in an antinomic relationship. Therefore, it is desired to develop a means to reduce P GT without impairing the dv/dt tolerance.

(発明の目的) 本発明の目的は、太陽電池効果により発生する
電流を制御することにより、dv/dt耐量を損う
ことなく、PGTを低減することのできる高感度の
光サイリスタを提供することにある。
(Object of the invention) The object of the invention is to provide a highly sensitive optical thyristor that can reduce P GT without impairing dv/dt tolerance by controlling the current generated by the solar cell effect. There is a particular thing.

(発明の概要) 本発明の特徴は、太陽電池効果によつて、光照
射領域のpB層およびnE層間に生じる電流ipの流通
路をせばめることによつて、電流ipの分散を防ぎ
(換言すれば、電流ipを集中させ)、電流密度を大
きくして最少点弧光入力PGTを小さくするための
手段を具備したことにある。
(Summary of the Invention) A feature of the present invention is that the current i p is dispersed by narrowing the flow path of the current i p generated between the p B layer and the n E layer in the light irradiation area due to the solar cell effect. The present invention is provided with means for preventing (in other words, concentrating the current i p ) and increasing the current density to reduce the minimum ignition light input P GT .

次に、本発明の基本原理について、光サイリス
タを例に採つて詳しく述べる。
Next, the basic principle of the present invention will be described in detail using an optical thyristor as an example.

第2図は、第1図に示した光サイリスタをカソ
ード電極22〜24の側から見た平面図である。
光照射によつてpE層11、nB層12、pB層13に
生じた電流ibは、図に示すように、第1領域(受
光部サイリスタ領域)からカソード電極22の短
絡部に向つて放射状に、pB層13を流れる。
FIG. 2 is a plan view of the optical thyristor shown in FIG. 1, viewed from the cathode electrodes 22-24 side.
As shown in the figure, the current i b generated in the pE layer 11, nB layer 12, and pB layer 13 due to light irradiation flows from the first region (light receiving thyristor region) to the short circuit part of the cathode electrode 22. It flows radially towards the p B layer 13.

一方、pB層13およびnE層14Lの太陽電池効
果によつて生じる電流ipは、光照射領域から受光
部カソード電極24の短絡部に向つて、同様に放
射状に分散して流れるが、電極24に到達した後
は、反対に、光照射領域に向つて集中するように
nE層14L内を流れる。
On the other hand, the current i p generated by the solar cell effect of the p B layer 13 and the n E layer 14L similarly flows in a radially dispersed manner from the light irradiation region toward the short circuit part of the light receiving section cathode electrode 24. After reaching the electrode 24, on the contrary, the light is concentrated toward the light irradiation area.
n Flows within the E layer 14L.

この電流ipを損うことなく、その電流密度Jp
大きくすることができれば、pB層13の電気伝導
率δが一定であつても、オームの法則(E=Jp
δ)により、光照射領域とカソード電極24の短
絡部との間における電流ipによる電界Eを大きく
できる。
If the current density J p can be increased without damaging this current i p , even if the electrical conductivity δ of the p B layer 13 is constant, Ohm's law (E = J p /
δ), it is possible to increase the electric field E due to the current i p between the light irradiation region and the short-circuited portion of the cathode electrode 24.

その結果として、この間での電圧降下を大きく
でき、光感度を向上できる。一方、前記電流ib
流通路を変化させなければ、ibに関係するdv/dt
耐量は変化しないはずである。
As a result, the voltage drop during this period can be increased, and photosensitivity can be improved. On the other hand, if the flow path of the current i b is not changed, dv/dt related to i b
The tolerance should not change.

上述のように、電流ibの流れを変えることな
く、電流ipの電流密度を大きくすることができれ
ば、dv/dt耐量を損なうことなく光感度を向上
することができる。
As described above, if the current density of the current i p can be increased without changing the flow of the current i b , the photosensitivity can be improved without impairing the dv/dt tolerance.

本発明は、以上の考察に基づいてなされたもの
である。
The present invention has been made based on the above considerations.

(発明の実施例) 第3図は、本発明の一実施例である光サイリス
タの受光部サイリスタ(すなわち、第1領域)の
拡大平面図を示している。
(Embodiment of the Invention) FIG. 3 shows an enlarged plan view of a light-receiving portion thyristor (ie, first region) of an optical thyristor that is an embodiment of the present invention.

受光部サイリスタのnE層14LとpB層13と
は、カソード電極24により、その一部のみが短
絡されている。
The nE layer 14L and the pB layer 13 of the light receiving thyristor are only partially short-circuited by the cathode electrode 24.

さらに詳細にいえば、第1、第2図の従来例で
は、受光部サイリスタのnE層14Lは、その輪郭
(または周縁)の全部において、カソード電極2
4によつて短絡されていたが、この実施例では、
その一部のみが短絡されている。
To be more specific, in the conventional example shown in FIGS .
4, but in this example,
Only part of it is shorted.

このような構造とすることで、受光部サイリス
タの電流ibは、光照射領域から、負の電圧の印加
された主サイリスタのカソード電極22に向つて
放射状に流れるが、太陽電池効果による電流ip
は、pB層13内を、カソード電極24に向つて集
中するように流れ、さらにnE層14Lを光照射領
域に向つて流れる。
With this structure, the current i b of the light receiving thyristor flows radially from the light irradiation region toward the cathode electrode 22 of the main thyristor to which a negative voltage is applied, but the current i b due to the solar cell effect p
flows concentratedly in the p B layer 13 toward the cathode electrode 24, and further flows through the n E layer 14L toward the light irradiation region.

その結果、ipの電流密度が大きくなり、その分
だけpB層13での電流ipによる電圧降下が大きく
なる。これにより、光照射領域下のnE層14Lと
pB層13を、より大きな電圧で順バイアスするの
で、光感度が向上する。
As a result, the current density of i p increases, and the voltage drop due to the current i p in the p B layer 13 increases accordingly. As a result, the nE layer 14L under the light irradiation area and
Since the p B layer 13 is forward biased with a larger voltage, photosensitivity is improved.

一方、dv/dt耐量に関係する電流ibは、その流
れが変化しないので、dv/dt耐量を低下させる
ことはない。
On the other hand, since the flow of the current i b related to the dv/dt withstand capacity does not change, the dv/dt withstand capacity does not decrease.

本発明者らの実験によれば、この実施例によつ
てdv/dt耐量を損うことなく、光感度を約20%
向上することができた。
According to experiments conducted by the present inventors, this embodiment can reduce light sensitivity by about 20% without impairing DV/DT tolerance.
I was able to improve.

第4図は、本発明の他の実施例の、第3図と同
様の拡大平面図であり、nE層14Lを流れる電流
ipの領域を制限するために、nE層14Lの一部を
除去した構造を示している。
FIG. 4 is an enlarged plan view similar to FIG. 3 of another embodiment of the present invention, in which a current flows through the nE layer 14L.
A structure is shown in which a part of the nE layer 14L is removed in order to limit the area of i p .

nE層は一般にキヤリア濃度が高く、抵抗が小さ
いので、nE層での電圧降下は小さい。従つて、nE
層14LとpB層13を順バイアスする効果も小さ
く、光感度の向上に対する寄与も少ない。
The nE layer generally has a high carrier concentration and low resistance, so the voltage drop across the nE layer is small. Therefore, n E
The effect of forward biasing the layer 14L and the p B layer 13 is small, and its contribution to improving photosensitivity is also small.

しかし、第4図のような構造を採り、電流ip
流通断面積を小さくすれば、nE層14Lでのip
電流密度はさらに向上するので、nE層14Lの抵
抗は小さくとも、前記nE層での電圧降下は大きく
なる。これにより、光感度をさらに向上すること
ができる。この場合、dv/dt耐量が低下しない
のは言うまでもない。
However, if the structure shown in Figure 4 is adopted and the cross-sectional area of the current i p is made smaller, the current density of i p in the n E layer 14L will further improve, so even if the resistance of the n E layer 14L is small, , the voltage drop in the n E layer becomes large. Thereby, photosensitivity can be further improved. Needless to say, in this case, the dv/dt tolerance does not decrease.

第5図は、本発明のさらに他の実施例を示す、
第3図と同様の拡大平面図である。
FIG. 5 shows yet another embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged plan view similar to FIG. 3;

この実施例が、第3図の実施例と異なるのは、
nE層14LとpB層13を部分的に短絡するカソー
ド電極24の数(形成個所数)をさらに増やし
て、これらを光照射領域の周囲に均等に分散させ
た点にある。
This embodiment differs from the embodiment shown in FIG.
The point is that the number of cathode electrodes 24 that partially short-circuit the nE layer 14L and the pB layer 13 (the number of formation locations) is further increased, and these are evenly distributed around the light irradiation area.

このような構成および配置により、受光部サイ
リスタが点弧したときに、光照射領域下のpB層1
3、nE層14L、カソード電極24を流れる点弧
電流の分散を良くし、第1図に示した第2領域の
補助サイリスタを、円環状のnE層下でほぼ同時に
点弧させることができる。その結果、点弧電流の
集中による素子破壊を防ぐことができる。
With this configuration and arrangement, when the light receiving thyristor fires, the pB layer 1 under the light irradiation area
3. It is possible to improve the dispersion of the ignition current flowing through the nE layer 14L and the cathode electrode 24, and to fire the auxiliary thyristors in the second region shown in FIG. 1 almost simultaneously under the annular nE layer. can. As a result, element destruction due to concentration of ignition current can be prevented.

なお、カソード電極24の数を増やしたことに
よつて、ipの電流密度の低下が懸念されるが、カ
ソード電極24の短絡幅を小さくすることで、電
流密度の低下を防ぐことができる。部分的に短絡
したカソード電極24は、その数を、図示の3個
以上に、さらに増やすことも可能であることは言
うまでもない。
Although there is a concern that the current density of i p may decrease due to increasing the number of cathode electrodes 24, the decrease in current density can be prevented by reducing the short circuit width of the cathode electrodes 24. It goes without saying that the number of partially short-circuited cathode electrodes 24 can be further increased beyond the three shown.

この実施例により、点弧時の点弧電流の集中に
よる素子破壊を防ぎながら、dv/dt耐量を損う
ことなく、光点弧の高感度化が可能である。
According to this embodiment, it is possible to increase the sensitivity of optical ignition without impairing the dv/dt tolerance while preventing element destruction due to concentration of ignition current during ignition.

なお、以上では、第1領域(受光部サイリス
タ)の周囲に、第2領域(補助サイリスタ)およ
び第3領域(主サイリスタ)を順次形成した光サ
イリスタについて述べたが、前記第2領域は省略
することもできるし、あるいは2個以上の第2領
域を形成することもできることは、容易に理解さ
れるであろう。
In addition, although the optical thyristor in which the second region (auxiliary thyristor) and the third region (main thyristor) are sequentially formed around the first region (light-receiving thyristor) has been described above, the second region is omitted. It will be readily understood that it is also possible to form two or more second regions.

(発明の効果) 以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、太陽電池効果による電流の、受光部サイリス
タのpB層およびnE層内での流通路(断面積)を制
限することによつて、光照領域下nE層とpB層とに
印加される順バイアスの値を大きくできるので、
光サイリスタなどの高感度化が可能である。
(Effects of the Invention) As is clear from the above description, according to the present invention, the flow path (cross-sectional area) of the current due to the solar cell effect in the p B layer and n E layer of the light receiving thyristor is restricted. By doing so, the value of the forward bias applied to the nE layer and the pB layer below the light irradiation area can be increased.
It is possible to increase the sensitivity of optical thyristors, etc.

しかも、受光部サイリスタの周囲に形成された
サイリスタの点弧電流の集中は防止できるので、
dv/dt耐量の低下を惹起することもない。した
がつて、本発明によれば、光点弧感度の向上およ
びdv/dt耐量の低下防止を両立させることがで
きる。
Moreover, concentration of the ignition current of the thyristor formed around the light receiving part thyristor can be prevented.
It does not cause a decrease in dv/dt tolerance. Therefore, according to the present invention, it is possible to simultaneously improve the light ignition sensitivity and prevent a decrease in dv/dt tolerance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の増幅ゲート型光サイリスタの断
面図、第2図は第1図をカソード面から見た光照
射領域の拡大平面図、第3図、第4図、第5図は
それぞれ本発明の実施例を示す、第2図と同様の
拡大平面図である。 1……半導体基体、11……pE層、12……nB
層、13……pB層、14……nE層、21……アノ
ード電極、22,23……カソード電極、24…
…受光部カソード電極、31……光。
Figure 1 is a cross-sectional view of a conventional amplification gate type optical thyristor, Figure 2 is an enlarged plan view of the light irradiation area as seen from the cathode surface of Figure 1, and Figures 3, 4, and 5 are respectively FIG. 3 is an enlarged plan view similar to FIG. 2, showing an embodiment of the invention. 1...Semiconductor substrate, 11...p E layer, 12...n B
Layer, 13...p B layer, 14...n E layer, 21... anode electrode, 22, 23... cathode electrode, 24...
...Light receiving section cathode electrode, 31...Light.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 導電型を互いに異にする第1エミツタ領域、
第1ベース領域、第2ベース領域および第2エミ
ツタ領域が、前記順序で積層され、かつ隣接領域
間にpn接合が形成されると共に、第2エミツタ
領域および第2ベース領域がその一方主表面に露
出し、さらに、前記第2エミツタ領域が少くとも
光点弧信号を照射されるための第1部分およびそ
れより大面積の第2部分に分割された半導体基体
と、 前記半導体基体の他方主表面に露出する第1エ
ミツタ領域に低抵抗接続されたアノード電極と、 前記第2エミツタ領域の第2部分に低抵抗接続
されたカソード電極と、 前記第2エミツタ領域の第1部分が第2部分に
対向する側において、前記第2エミツタ領域の第
1部分を第2ベース領域に短絡する補助電極とを
具備した光サイリスタにおいて、 前記補助電極を、前記第2エミツタ領域の第1
部分および第2部分の対向個所に沿つて複数個に
分割したことを特徴とする光サイリスタ。 2 前記第2エミツタ領域の第1部分が円形で、
第2部分が前記第1部分を包囲するように形成さ
れ、前記補助電極が、前記第2エミツタ領域の第
1部分の周りにほぼ均等に分散配置されたことを
特徴とする前記特許請求の範囲第1項記載の光サ
イリスタ。
[Claims] 1. first emitter regions having different conductivity types;
The first base region, the second base region, and the second emitter region are stacked in the above order, and a pn junction is formed between the adjacent regions, and the second emitter region and the second base region are formed on one of the main surfaces. a semiconductor body which is exposed and further divided into a first part and a second part having a larger area for the second emitter region to be irradiated with at least a light ignition signal; and the other main surface of the semiconductor body. an anode electrode connected with low resistance to a first emitter region exposed to the second emitter region; a cathode electrode connected with low resistance to a second portion of the second emitter region; and a first portion of the second emitter region connected to a second portion. an auxiliary electrode short-circuiting a first portion of the second emitter region to a second base region on an opposite side;
An optical thyristor characterized in that the optical thyristor is divided into a plurality of parts along opposing positions of the first part and the second part. 2 the first portion of the second emitter region is circular;
Claims characterized in that a second portion is formed to surround the first portion, and the auxiliary electrodes are substantially evenly distributed around the first portion of the second emitter region. The optical thyristor according to item 1.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5229189A (en) * 1975-08-29 1977-03-04 Siemens Ag Optical controlled thyristor
JPS53125783A (en) * 1977-04-06 1978-11-02 Siemens Ag Light controlled thyristor
JPS5823751A (en) * 1981-07-29 1983-02-12 ラルストン・ピユリナ・カンパニ− Soft wet pet food concentrate having elasticity and production thereof
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