JPH0293070A - プラズマ成膜加工装置 - Google Patents
プラズマ成膜加工装置Info
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- JPH0293070A JPH0293070A JP24101588A JP24101588A JPH0293070A JP H0293070 A JPH0293070 A JP H0293070A JP 24101588 A JP24101588 A JP 24101588A JP 24101588 A JP24101588 A JP 24101588A JP H0293070 A JPH0293070 A JP H0293070A
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- film forming
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- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 17
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 15
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 abstract description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract 1
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Separating Particles In Gases By Inertia (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はエレクトロニクス分野におけるプラズマ成膜加
工プロセスに係わり、プラズマ成膜加工装置における未
反応ガスや反応生成物を効率的に捕集するトラップ装置
に関する。
工プロセスに係わり、プラズマ成膜加工装置における未
反応ガスや反応生成物を効率的に捕集するトラップ装置
に関する。
従来の装置は半導体ズラズマプロセス技術 菅野卓雄
編著、産業図書、 （１９８０） 、 １２２〜１５１
頁、１５４〜１６４頁、２０１〜２０４頁に記載の様に
、２重の円柱状の箱の内側の円柱状箱の内側に液体窒素
等の冷却剤全入れ、単純に捕集するもので、効率的に未
反応ガスや反応生成物を捕集しようと積極的に意図され
たトラップ装置ではない。
編著、産業図書、 （１９８０） 、 １２２〜１５１
頁、１５４〜１６４頁、２０１〜２０４頁に記載の様に
、２重の円柱状の箱の内側の円柱状箱の内側に液体窒素
等の冷却剤全入れ、単純に捕集するもので、効率的に未
反応ガスや反応生成物を捕集しようと積極的に意図され
たトラップ装置ではない。
上記従来技術はプラズマ成膜加工装置の高効率稼動の点
について配慮が十分でなく、トラソゲ装置の捕集効率＆
ｊ悪く、真空排気糸や除害設備に著しく過大な負荷をか
け、保守コストを上昇させていた。
について配慮が十分でなく、トラソゲ装置の捕集効率＆
ｊ悪く、真空排気糸や除害設備に著しく過大な負荷をか
け、保守コストを上昇させていた。
即ち、従来のトラップ装置の構造は２重の円柱状の箱状
を呈しており、内側の円柱状箱の内側に液体窒素等の冷
却剤を入れ、外側と内側の円柱状箱の間に排気用配管を
通していた。この構造は非常に簡単であるが、未反応の
ガスや反応生成物を捕集する効率は悪い。この為、トラ
ップ装置で捕集されなかった未反応のガスや反応生成物
が真空排気装置や除害設備に多く入り、これらの装置や
設備の稼動率を低下せしめ、保守に多大の時間を要して
いた。
を呈しており、内側の円柱状箱の内側に液体窒素等の冷
却剤を入れ、外側と内側の円柱状箱の間に排気用配管を
通していた。この構造は非常に簡単であるが、未反応の
ガスや反応生成物を捕集する効率は悪い。この為、トラ
ップ装置で捕集されなかった未反応のガスや反応生成物
が真空排気装置や除害設備に多く入り、これらの装置や
設備の稼動率を低下せしめ、保守に多大の時間を要して
いた。
本発明の目的は上記の捕集効率の悪いトラップ装置の捕
集効率の向上を行い、真空排気装置や除害設備の負荷を
軽減し、保守効率の向上を行うことにある。
集効率の向上を行い、真空排気装置や除害設備の負荷を
軽減し、保守効率の向上を行うことにある。
上記の目的は、トラップ装置の構造を水車状の衝突板を
設けることによって達成される。
設けることによって達成される。
即ち、未反応のガスや反応生成物を水車状になっている
回転する衝突板にあて、付着させて、捕集効率を向上さ
せようとするもので、その構造は比較的簡単である。
回転する衝突板にあて、付着させて、捕集効率を向上さ
せようとするもので、その構造は比較的簡単である。
水車状回転衝突板型トラップ装置は、未反応ガスや反応
生成物を水車状回転衝突板の羽根にあてて、この羽根に
付着させて、捕集するものである。
生成物を水車状回転衝突板の羽根にあてて、この羽根に
付着させて、捕集するものである。
この回転衝突板は真空配管外部よりモータにより回転さ
せられ、常に同じ所のみに未反応ガスや反兄：生成物が
付着しないようにする。又トラップ装置の周囲は液体窒
素等の冷媒で冷却し、未捕集の未反応ガスや反応生成物
をさらに捕集する。
せられ、常に同じ所のみに未反応ガスや反兄：生成物が
付着しないようにする。又トラップ装置の周囲は液体窒
素等の冷媒で冷却し、未捕集の未反応ガスや反応生成物
をさらに捕集する。
この様にして、多くの未反応ガスや反応生成物が捕集さ
れ、そのわずかな残りがトラップ装置より出て、真空排
気装置や除害設備に入ることになり、真空排気装置や除
害設備の負荷を軽減することができる。
れ、そのわずかな残りがトラップ装置より出て、真空排
気装置や除害設備に入ることになり、真空排気装置や除
害設備の負荷を軽減することができる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。
プラズマ成膜加工に用いられる反応ガスは導入配管１と
導入配管用開閉バルブ１αを通って、プラズマ成膜加工
室２に導入される。プラズマ成膜加工室２で、反応ガス
は成膜もしくは加工のために消費される。この際に生じ
た反応分解生成物や成膜もしくは加工により消費されな
かった未反応の反応ガスは排気配管５と排気配管開閉バ
ルブ３ａを通って、トラップ導入６ピ管４に入ってトラ
ップ装置５に導入される。トラップ装置５の外側は２重
増の構造になっておシ、この内側に未反応ガスや反応生
成物の捕集をよくするため、液体窒素等の冷媒６で冷却
される。冷媒６は冷媒注ぎロアより入れられる。
導入配管用開閉バルブ１αを通って、プラズマ成膜加工
室２に導入される。プラズマ成膜加工室２で、反応ガス
は成膜もしくは加工のために消費される。この際に生じ
た反応分解生成物や成膜もしくは加工により消費されな
かった未反応の反応ガスは排気配管５と排気配管開閉バ
ルブ３ａを通って、トラップ導入６ピ管４に入ってトラ
ップ装置５に導入される。トラップ装置５の外側は２重
増の構造になっておシ、この内側に未反応ガスや反応生
成物の捕集をよくするため、液体窒素等の冷媒６で冷却
される。冷媒６は冷媒注ぎロアより入れられる。
プラズマ成膜ノＪＯ工室２、トラップ装置５は真空排気
装置８によ、！７１０ ’〜＋ｏ ’ Ｔｏ、ｒＷ度に
減圧されており、未反応ガスや反応分解生成物はかなり
の速度で吸引されて、トラップ装置５に入って、水車状
回転衝突板８にあたる。衝突により、一部の反応生成物
等は水車状回転衝突板８の羽ｖＡ９に衝突し、一部は重
力沈降し、さらに外壁に冷媒６により付着させられる。
装置８によ、！７１０ ’〜＋ｏ ’ Ｔｏ、ｒＷ度に
減圧されており、未反応ガスや反応分解生成物はかなり
の速度で吸引されて、トラップ装置５に入って、水車状
回転衝突板８にあたる。衝突により、一部の反応生成物
等は水車状回転衝突板８の羽ｖＡ９に衝突し、一部は重
力沈降し、さらに外壁に冷媒６により付着させられる。
水車状回転衝突板８は外部よりモータ１０により、成膜
加工時中は常時回転させられ、同一の場所のみに反応生
成物等が付着しないようになって℃・る。さらにモータ
１０と水車状回転衝突板８とは真空シールされた軸１１
により、隔絶され、装置が真空リークしないようになっ
ている。
加工時中は常時回転させられ、同一の場所のみに反応生
成物等が付着しないようになって℃・る。さらにモータ
１０と水車状回転衝突板８とは真空シールされた軸１１
により、隔絶され、装置が真空リークしないようになっ
ている。
水車状回転衝突板の一部拡大図を第２図に示した。この
図から判るように、トラップ導入配管４は水車状回転衝
突板８０羽根９の垂直方向にくるように配置することが
必要である。
図から判るように、トラップ導入配管４は水車状回転衝
突板８０羽根９の垂直方向にくるように配置することが
必要である。
その後、一部残、た未捕集物は真空排気装置導入配管１
５と真空排気装置導入配管用バルブ１３αを通って、真
空排気装置１２に入る。
５と真空排気装置導入配管用バルブ１３αを通って、真
空排気装置１２に入る。
１４はトラップ装置により捕集された未反応ガスや反応
生成物である。
生成物である。
本発明によれば、より小さい異物まで捕集できるので
１）従来法と比べ、大幅な捕集効率の同上が期待できる
。
。
２）従来法と比べ、真空排気装置や除害装置への負荷を
小さくできるので、保守期間の長期間化、保守コストの
低減が可能となる。
小さくできるので、保守期間の長期間化、保守コストの
低減が可能となる。
等の効果がある。
第１図は本発明の一実施例の禍゛成図、第２図はトラッ
プ装置の一部拡大図、第５図は従来法によるトラップ装
置のみの断面図である。 ４ニドラツプ導入配管、５ニドラツプ装賑、６：冷媒、
８：水車状回転衝突板、９：羽根、１３：真空排気装置
導入配管。
プ装置の一部拡大図、第５図は従来法によるトラップ装
置のみの断面図である。 ４ニドラツプ導入配管、５ニドラツプ装賑、６：冷媒、
８：水車状回転衝突板、９：羽根、１３：真空排気装置
導入配管。
Claims (1)
- １、プラズマ成膜加工装置において、回転可能な水車状
の回転衝突板型のトラップ装置を有したことを特徴とす
るプラズマ成膜加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24101588A JPH0293070A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | プラズマ成膜加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24101588A JPH0293070A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | プラズマ成膜加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0293070A true JPH0293070A (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=17068065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24101588A Pending JPH0293070A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | プラズマ成膜加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0293070A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08290050A (ja) * | 1995-04-20 | 1996-11-05 | Tokyo Electron Ltd | 混入物の除去装置、これを用いた処理装置の真空排気系及びそのメンテナンス方法 |
| WO2010064470A1 (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置、及び、成膜方法 |
| JP2016097361A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | 片柳 良和 | 空気清浄機 |
-
1988
- 1988-09-28 JP JP24101588A patent/JPH0293070A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08290050A (ja) * | 1995-04-20 | 1996-11-05 | Tokyo Electron Ltd | 混入物の除去装置、これを用いた処理装置の真空排気系及びそのメンテナンス方法 |
| WO2010064470A1 (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-10 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置、及び、成膜方法 |
| JP2010135390A (ja) * | 2008-12-02 | 2010-06-17 | Toyota Motor Corp | 成膜装置 |
| US8497217B2 (en) | 2008-12-02 | 2013-07-30 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming apparatus and film-forming method |
| JP2016097361A (ja) * | 2014-11-21 | 2016-05-30 | 片柳 良和 | 空気清浄機 |
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