JPH0290551A - Manufacture of ceramic package - Google Patents

Manufacture of ceramic package

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Publication number
JPH0290551A
JPH0290551A JP24330688A JP24330688A JPH0290551A JP H0290551 A JPH0290551 A JP H0290551A JP 24330688 A JP24330688 A JP 24330688A JP 24330688 A JP24330688 A JP 24330688A JP H0290551 A JPH0290551 A JP H0290551A
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JP
Japan
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paste
conductor
low
temperature
parts
Prior art date
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Pending
Application number
JP24330688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Ishihara
政行 石原
Masahiro Nawa
正弘 名和
Keizou Makio
槙尾 圭造
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To eliminate a plating process, to contrive the formation of a fine pattern due to a reduction in the resistance of an internal layer conductor and to decrease the number of laminated layers and the number of manufacturing processes by a method wherein, after a conductor is printed with a metal paste on a ceramic green sheet for low-temperature firing use, a low-temperature simultaneous firing is performed. CONSTITUTION:A conductor printing is performed on a green sheet 1 and conductor layers 21 and 22 consisting of a gold paste, a conductor layer 3 consisting of a copper or silver paste and a conductor layer 4 consisting of a nickel paste are respectively formed on a die bonding part and wire bonding parts, plane and vertical circuit parts and pin soldering parts. After these are laminated to perform a cutting of the external shape of the laminated material, a low- temperature removal of the binder and baking are performed at low temperature, pins 5 are soldered and a package is completed via an inspection. Thus, in the case of an alumina PGA package, the package is formed into a 6-layer constitution with the amount of a pattern formation layer for plating use added thereto, but according to this manufacturing method, a two-stage wire bonding package of a 4-layer constitution can be formed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、IC,LSI等のチップを搭載するだめの
セラミックパッケージ(セラミック容器兼配線板)の製
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic package (ceramic container and wiring board) on which chips such as ICs and LSIs are mounted.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、セラミックパッケージのセラミックスとしては、
主としてアルミナが用いられている。代表的なPGA 
(ピングリッドアレー)パッケージを例にとると、この
アルミナグリーンシートを使用したセラミックパッケー
ジの製造工程は、基本的に以下のようになる。
Traditionally, ceramics for ceramic packages include:
Alumina is mainly used. Typical PGA
Taking a (pin grid array) package as an example, the manufacturing process of a ceramic package using this alumina green sheet is basically as follows.

すなわち、原料アルミナ粉末に所定の有機結合剤(バイ
ンダ)および可塑剤等を加えてグリーンシート化し、こ
れを所定の大きさに打ち抜き、スルーホール加工を施す
。次に、第2図にその断面を模式的に示したように、上
記加工後のグリーンシー41にWペースト等による導体
印刷を行って金属導体層7を形成し、これを所定数(3
〜8m)積層して同時焼成(約1500℃、142還元
雰囲気下)する。その後、外部電極との接続のためのピ
ンろう接部やワイヤボンディング部、グイボンディング
部にNi、Auメツキを行い、最後にメツキ用端子部(
第2図中点線部分)を切断するという方法である。
That is, a predetermined organic binder, plasticizer, etc. are added to raw material alumina powder to form a green sheet, which is punched into a predetermined size and through-hole processed. Next, as the cross section is schematically shown in FIG.
~8m) are laminated and co-fired (approximately 1500°C, 142°C in a reducing atmosphere). After that, Ni and Au plating are performed on the pin soldering parts, wire bonding parts, and wire bonding parts for connection with external electrodes, and finally the terminal parts for plating (
This method involves cutting the dotted line in Figure 2).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、従来の上記セラミックパッケージには、以下
の述べるような問題点が残されている。
However, the conventional ceramic package described above still has the following problems.

まず、アルミナセラミックの焼成温度が1500〜16
00℃と高いため、グリーンシート上に印刷形成する導
体回路用の導体ペーストには、WもしくはMo等の高融
点金属を使用する必要がある。しかし、これらの金属は
シート抵抗が高いため、導体線幅が太くなってしまい、
平面回路のパターンをファインにすることができない。
First, the firing temperature of alumina ceramic is 1500 to 16
Because the temperature is as high as 00°C, it is necessary to use a high melting point metal such as W or Mo in the conductor paste for the conductor circuit printed on the green sheet. However, these metals have high sheet resistance, so the conductor line width becomes thick.
Planar circuit patterns cannot be made fine.

また、金線によるワイヤボンディングやグイボンディン
グのため、上記のように、焼成後にNiおよびAuメツ
キをして配線導体(Mo、W等)の表面処理をする必要
があるが、このメツキは通常電気メツキで行われるため
メツキ用電極が必要となり、このメツキ用端子を外部に
出すための回路が必須となる。さらに焼成後の工程とし
て、ピンを取り付ける場合には、そのろう接部にNiメ
ツキを、リードレスパッケージの場合には外部電極との
接続部分にAuメツキを、それぞれ施す必要もあった。
In addition, for wire bonding and gui bonding using gold wire, as mentioned above, it is necessary to perform surface treatment of the wiring conductor (Mo, W, etc.) by plating Ni and Au after firing, but this plating is usually Since this is done by plating, a plating electrode is required, and a circuit to take this plating terminal out to the outside is essential. Furthermore, as a post-baking process, when attaching pins, it was necessary to apply Ni plating to the soldered parts, and in the case of leadless packages, it was necessary to apply Au plating to the connection parts with external electrodes.

以上のように、細線化が困難な上にメツキ用の回路も必
要なことから、どうしても積層数が増えてしまい、たと
えば、第2図にみるように、2段ワイヤボンディングア
ルミナPGAパッケージの場合、メツキ用パターン形成
層2層分を加えた6層構成になっていた。また、同時焼
成後のメツキ工程数が多いため、製造工程が複雑である
As described above, since it is difficult to thin the wires and a plating circuit is also required, the number of laminated layers inevitably increases.For example, as shown in Figure 2, in the case of a two-stage wire bonded alumina PGA package, It had a six-layer structure including two pattern forming layers for plating. In addition, the manufacturing process is complicated because there are many plating steps after simultaneous firing.

こうした事情に鑑み、この発明は、メツキ工程をなくし
、内層導体の低抵抗化によるファインパターン化を図る
ことにより、積層数および製造工程数を減らして、−1
易にセラミックパッケージを製造する方法を提供するこ
とを課題とする。
In view of these circumstances, this invention reduces the number of laminated layers and manufacturing steps by eliminating the plating process and creating a fine pattern by lowering the resistance of the inner layer conductor.
An object of the present invention is to provide a method for easily manufacturing a ceramic package.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

ファインパターン化のためには、導体回路用にAu、A
g、Cu等の低抵抗金属を用いる必要があるが、これら
の低抵抗金属の融点はいずれも1000℃付近であるこ
とから、焼成温度の高い上記アルミナセラミックスと組
み合わ・Uで用いることはできない、という問題がある
。そこで、この低抵抗金属の融点以下の温度で焼成可能
な、いわゆる低温規成用セラミック基板材料の開発が進
んでおり、上記低抵抗金属を導体金属として組み合わせ
ることが試みられている。
For fine patterning, Au and A are used for conductor circuits.
It is necessary to use low-resistance metals such as G, Cu, etc., but since the melting points of these low-resistance metals are around 1000°C, they cannot be used in combination with the above alumina ceramics, which have a high firing temperature. There is a problem. Therefore, the development of so-called ceramic substrate materials for low-temperature regulation, which can be fired at a temperature below the melting point of this low-resistance metal, is progressing, and attempts are being made to combine the above-mentioned low-resistance metal as a conductor metal.

発明者らは、セラミックパッケージの製造において、こ
うした低温焼成用セラミックスを用いて内層導体の低抵
抗化を図り、かつ、焼成前に回路部と共にボンディング
部等にも導体印刷を施すことにより焼成後のメツキ工程
を省略できることを見出し、この発明を完成させるに至
った。
In the production of ceramic packages, the inventors used such low-temperature firing ceramics to lower the resistance of the inner layer conductor, and by printing conductors on the bonding parts as well as the circuit parts before firing, the inventors succeeded in reducing the resistance after firing. It was discovered that the plating process could be omitted, and this invention was completed.

したがって、この発明にかかるセラミックパッケージの
製法は、低温焼成用セラミックグリーンシート上の少な
くともグイボンディング部、ワイヤボンディング部およ
び回路部に金属ペーストを用いて導体印刷を施した後、
低温同時焼成するようにする。
Therefore, the method for manufacturing a ceramic package according to the present invention includes printing a conductor using a metal paste on at least the Gui bonding part, the wire bonding part, and the circuit part on a ceramic green sheet for low-temperature firing.
Make sure to simultaneously fire at a low temperature.

上記グイボンディング部およびワイヤボンディング部に
は金ペースト、回路部には銅、酸化銅および銀のうちの
少なくとも1種を含む金属ペースト、ピンをろう接する
場合のピン接続部にはニッケルおよび酸化ニッケルのう
ちの少なくとも1種を含む金属ペーストを、それぞれ用
いることが好ましい。
Gold paste is applied to the wire bonding parts and wire bonding parts, metal paste containing at least one of copper, copper oxide and silver is applied to the circuit parts, and nickel and nickel oxide are used to the pin connection parts when soldering pins. It is preferable to use a metal paste containing at least one of these metal pastes.

また、上記低温焼成用セラミックグリーンシートの原料
となるガラス組成物としては、SiO2を48〜63重
量%、 A1201を10〜25重量%、 MgOを10〜25重量%、 BtOsを4〜10重量%、 それぞれ含むとともに、前記MgOのうちの20市量%
以下がBad、SrOおよびCaOのうちの少なくとも
1種により置換されており、かつ、核発生剤としてT 
i 02 、  Z r Ox 、 M o OxPg
 0% 、ASt’Osおよび5nOzのうちの少なく
とも1種が5重量%以下添加されてなるものを用いるこ
とができる。
In addition, the glass composition that serves as a raw material for the ceramic green sheet for low-temperature firing includes 48 to 63% by weight of SiO2, 10 to 25% by weight of A1201, 10 to 25% by weight of MgO, and 4 to 10% by weight of BtOs. , respectively, and 20% of the market weight of the MgO
The following are substituted with at least one of Bad, SrO, and CaO, and T is used as a nucleating agent.
i 02 , Z r Ox , M o OxPg
0%, ASt'Os, and 5nOz may be added in an amount of 5% by weight or less.

〔作 用〕[For production]

低温焼成用セラミックグリーンシートを用いているため
に、ALL Ag、Cu等の融点の低い低抵抗金属を用
いて導体印刷を行い、その後、低温で同時焼成すること
ができる。すなわち、回路パターンのファイン化が実現
する。さらに、焼成前に、回路部と共にボンディング部
等にも必要な導体印刷を施すようにするため、焼成後の
メツキ工程を省略でき、メツキ用の回路パターンも不要
となる。以上のことから、パッケージにおける積層数を
減らすことが可能となる。同時に、製造工程としては、
たとえば低温焼成セラミックPGAパッケージの場合、
説バインダ・焼成工程の後、ピンをろう付けするだけで
よく、従来に比べて非常に簡略化される。
Since a ceramic green sheet for low-temperature firing is used, conductor printing can be performed using a low-resistance metal with a low melting point such as ALL Ag or Cu, and then simultaneous firing can be performed at a low temperature. In other words, the circuit pattern can be refined. Furthermore, since necessary conductor printing is performed on the bonding portions and the like as well as the circuit portions before firing, the plating step after firing can be omitted, and a circuit pattern for plating is also unnecessary. From the above, it is possible to reduce the number of laminated layers in the package. At the same time, the manufacturing process
For example, in the case of a low-temperature fired ceramic PGA package,
After the binder and firing process, it is only necessary to braze the pins, which is much simpler than conventional methods.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下に、この発明を、その一実施例を表す図面を参照し
つつ詳しく説明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings showing one embodiment thereof.

まず、低温焼成用セラミックグリーンシートとじては、
導体印刷用の金属の融点よりも低い温度で焼成できるも
のであればよく、特に限定はされない。通常は、低抵抗
金属、たとえばAu(融点1063°C)、Cu(融点
1083℃)、 Ni  (融点1455°C)などの
融点以下で焼成できるものが選択される。このグリーン
シートは、任意の低温焼成用セラミックスに焼結助剤を
加えて充分に混合し、さらに有機結合剤や添加剤、溶媒
等を加えて得られた混合スリップを、常法に従ってキャ
スティングして得られる。
First of all, regarding the ceramic green sheet for low temperature firing,
There is no particular limitation as long as it can be fired at a temperature lower than the melting point of the metal for conductor printing. Usually, a low resistance metal such as Au (melting point 1063°C), Cu (melting point 1083°C), Ni (melting point 1455°C), which can be fired below its melting point, is selected. This green sheet is made by adding a sintering aid to any low-temperature firing ceramic, thoroughly mixing it, and then adding an organic binder, additives, solvent, etc., and casting the resulting mixed slip using a conventional method. can get.

上記焼結助剤、有機結合剤、可勿剤等については、通常
用いられるものを必要に応じて任意に選択できる。また
、上記低温焼成用の原料セラミックスの代表例としては
、アルミナとガラス(ホウケイ酸ガラス等)を混合した
もの、結晶化ガラス(ガラスセラミックス)等が挙げら
れる。さらに具体的には、請求項3記載のガラス組成物
の粉末を原料とするものであれば、焼成後に比誘電率の
低いコーディエライト結晶構造をとるため好ましい。
Regarding the above-mentioned sintering aid, organic binder, binder, etc., commonly used ones can be arbitrarily selected as required. Further, typical examples of the raw material ceramics for low-temperature firing include a mixture of alumina and glass (borosilicate glass, etc.), crystallized glass (glass ceramics), and the like. More specifically, it is preferable to use the powder of the glass composition according to claim 3 as a raw material because it takes on a cordierite crystal structure with a low dielectric constant after firing.

このガラス組成物において、5iftの組成割合は48
〜63重量%(以下、単に「%」と記す)に設定される
。これが63%を越えると緻密な焼結体が得られず、反
対に48%を下回ると、結晶化速度が上昇して950℃
以下の焼成温度では充分に結晶化することができなくな
ったり、緻密化が困難になったりする。
In this glass composition, the composition ratio of 5ift is 48
~63% by weight (hereinafter simply referred to as "%"). If this exceeds 63%, a dense sintered body cannot be obtained, and on the other hand, if it falls below 48%, the crystallization rate increases and the temperature reaches 950°C.
If the firing temperature is lower than that, sufficient crystallization may not be achieved or densification may become difficult.

AItosの組成割合は10〜25%に設定され、この
上限を越えると、焼結できる温度が上昇して950℃以
下の焼成温度では充分な焼結が行えず、この下限を下回
ると、コープイエライ1−結晶が少なくなってSiO□
−MgO系の結晶が多く析出するため、比誘電率が上昇
してしまう。
The composition ratio of AItos is set at 10 to 25%, and when this upper limit is exceeded, the temperature at which sintering can be performed increases, and sufficient sintering cannot be performed at a firing temperature of 950°C or less. -SiO□ due to fewer crystals
- Since many MgO-based crystals precipitate, the relative permittivity increases.

MgOの組成割合は、やはり10〜25%に設定され、
25%を越えると、おそらくはケイ酸マグネシウムが析
出するためと思われるが、変形が大きくなって実用性に
乏しく、10%を下回ると緻密な焼結体となり難い。
The composition ratio of MgO is also set at 10 to 25%,
If it exceeds 25%, deformation becomes large, probably due to the precipitation of magnesium silicate, which is impractical, and if it falls below 10%, it is difficult to form a dense sintered body.

B20.の組成割合については、4〜10%が選ばれる
。これが10%を越えると、ガラス相が多く発泡しやす
くなり、焼成可能な温度範囲も狭くなる。また、機械的
強度が弱くなり、実用性に乏しいものとなる。反対に4
%を下回ると、ガラス粉末の表面層の結晶化が急激に進
みすぎることから、緻密な焼結体が得られ難い。
B20. The composition ratio of 4 to 10% is selected. If this exceeds 10%, the glass phase will be large and foaming will occur easily, and the firing temperature range will also be narrowed. In addition, the mechanical strength becomes weak, making it impractical. On the contrary 4
%, the surface layer of the glass powder crystallizes too rapidly, making it difficult to obtain a dense sintered body.

また、上記MgOと置換するBad、SrOおよびCa
Oの置換率は20%以下に設定され、これを越えるとM
gO成分が少なくなることから、α−コーディエライト
結晶の析出が悪くなる。なお、誘電率を低くするために
、同置換率は3%以上であることが好ましい。
In addition, Bad, SrO and Ca to replace the above MgO
The substitution rate of O is set to 20% or less, and if it exceeds this, M
Since the gO component decreases, precipitation of α-cordierite crystals becomes worse. Note that, in order to lower the dielectric constant, the substitution rate is preferably 3% or more.

さらに、焼結体の結晶をより確実にα−コーディエライ
トとするために、5%以下の組成割合で核発生剤が用い
られる。核発生剤が5%を越えると、結晶化速度が極め
て大きくなるため、充分に緻密化しない焼結体となって
しまう。
Furthermore, in order to more reliably form the crystals of the sintered body into α-cordierite, a nucleating agent is used at a composition ratio of 5% or less. If the content of the nucleating agent exceeds 5%, the crystallization rate becomes extremely high, resulting in a sintered body that is not sufficiently densified.

以上のガラス組成物は、各原料成分を溶融後、急冷して
得られ、これを粉砕して粉末状にして、グリーンシート
原料として用いられる。なお、以上はガラス組成物段階
での組成であるため、出発原料としては、列記した各酸
化物以外のもの、ずなわち、最終的に上記各酸化物とな
りうるようなものを使用することも可能である。
The above-mentioned glass composition is obtained by melting each raw material component and then rapidly cooling it, which is then ground into powder and used as a green sheet raw material. In addition, since the above is the composition at the glass composition stage, it is also possible to use materials other than the listed oxides as starting materials, that is, materials that can eventually become each of the above oxides. It is possible.

得られたグリーンシートには、必要に応じて、外形切断
、スルーホール(ヴイアホール)用の穴あけ加工を施し
ておく。次に、下記0〜0部;■ チップを搭載するダ
イボンディング部、およびワイヤボンディング部、 ■ 平面回路(引き廻し回路)部および垂直回路(スル
ーホール)部、 ■ PGA、DIP (サーデイツプ)形等のピンをろ
う接するパッケージにおいてはピン接続部、LCC(リ
ードレスチップキャリア)形のようなピンのろう接が不
要のパッケージにおいては外部接続端子部、 のそれぞれに任意の金属ペーストを用いて、常法に従っ
て導体印刷を行う。
The obtained green sheet is subjected to external cutting and drilling for through holes (via holes) as necessary. Next, the following parts 0 to 0: ■ Die bonding section where the chip is mounted, and wire bonding section, ■ Planar circuit (routing circuit) section and vertical circuit (through hole) section, ■ PGA, DIP (circuit dip) type, etc. For packages that require soldering of pins, use any metal paste for the pin connection part, and for packages that do not require pin soldering, such as LCC (leadless chip carrier), use the external connection terminal part. Perform conductor printing in accordance with the law.

用いられる金属ペーストは、任意の金属(特に回路部に
は低抵抗金属)を導体材料とし、これに必要な有機結合
剤、溶剤等を加えてペースト状にしたものであればよく
、特に限定はされない。それらは、必要に応じては1種
以上を組み合わせて、上記0〜0部の印刷に用いられる
The metal paste used may be any metal (especially low-resistance metal for circuit parts) as a conductive material, and may be made into a paste by adding the necessary organic binder, solvent, etc., and there are no particular limitations. Not done. If necessary, one or more of these may be used in combination for printing 0 to 0 copies.

たとえば、上記■のボンディング部には、金ペーストを
用いることが好ましい。ただし、ダイボンディング部は
洞(酸化t14)ペース)・に代えることも同様に好ま
しいが、ワイヤボンディング部についていえば、ワイヤ
ボンディングが通常は金線を用いて行われることから、
金ペーストによる導体層を形成することが最も好ましい
。このワイヤボンディングでは、セラミック基板との密
着性を確保しつつ、ワイヤボンディング性をも確保する
ことが要求される。その際、ワイヤボンディング性には
、金の純度が重要であり、基板との密着性の点では、ペ
ーストに添加されるガラスフリットの種類と量が大きな
役割を果たす。したがって、この両者を満足するために
は、基板用セラミックスに用いられるガラスの軟化温度
と同等もしくはそれよりも低い軟化温度のガラスフリン
トを、金100重量部(以下、単に「部」と記す)に対
して0.5〜5部程度添加することが推奨される。
For example, it is preferable to use gold paste for the bonding part (2) above. However, it is equally preferable to replace the die bonding part with a hole (oxidized T14 paste), but as for the wire bonding part, since wire bonding is usually performed using a gold wire,
Most preferably, the conductor layer is formed of gold paste. In this wire bonding, it is required to ensure adhesion to the ceramic substrate as well as wire bondability. In this case, the purity of gold is important for wire bonding properties, and the type and amount of glass frit added to the paste plays a major role in terms of adhesion to the substrate. Therefore, in order to satisfy both of these requirements, 100 parts by weight (hereinafter simply referred to as "parts") of glass flint with a softening temperature equal to or lower than that of the glass used in ceramics for substrates must be added. It is recommended to add about 0.5 to 5 parts.

上記■の回路部には、銅、酸化銅、銀のうちの少なくと
も1種を含む金属ペーストを用いることが好ましい。こ
の銅、酸化銅ペースト等では、シート抵抗、基板との密
着性、という関係上、やはり上記のように、基板用セラ
ミックスに用いられるガラスと同等以下の軟化温度のガ
ラスフリットを、銅100部に対してO〜10部程度添
加することが適切である。なお、回路用の場合は、この
銅、酸化銅ペースト等はフリットレスでも構わないが、
別の部分(たとえばダイボンディング部等)に用いられ
る場合には、フリットを含有しているほうが好ましい。
It is preferable to use a metal paste containing at least one of copper, copper oxide, and silver for the circuit section (2) above. In this copper, copper oxide paste, etc., in terms of sheet resistance and adhesion to the substrate, as mentioned above, glass frit with a softening temperature equal to or lower than the glass used for ceramics for substrates is added to 100 parts of copper. It is appropriate to add about 0 to 10 parts. For circuit use, this copper, copper oxide paste, etc. may be fritless, but
When used in another part (for example, a die bonding part, etc.), it is preferable to contain a frit.

さらに、上記■のうちPGAパッケージ等のピン接続部
には、ニッケルペーストを用いることが好ましい。この
ピンのろう接には、通常、銀ろうが用いられるため、銀
ろうとのなじみ性および基板との密着性が求められる。
Furthermore, it is preferable to use nickel paste for the pin connection portions of the PGA package, etc. in the above item (2). Since silver solder is usually used for soldering these pins, compatibility with the silver solder and adhesion with the substrate are required.

したがって、ニッケル100部に対し、上記同様のガラ
スフリットを065〜10部添加したニッケルペース1
−が好適である。他方、上記■のうちLCCパッケージ
等の外部接続端子部には、銅または金ペーストを用いる
ことが好ましい。
Therefore, nickel paste 1 is prepared by adding 0.65 to 10 parts of glass frit similar to the above to 100 parts of nickel.
- is preferred. On the other hand, it is preferable to use copper or gold paste for the external connection terminal portion of the LCC package, etc. in the item (2) above.

こうして導体印刷を施したグリーンシートを、必要に応
しては複数枚積層してプレスし、互いに接着一体化する
。そして、通常の製法と同様に、適宜加熱炉等を用いて
低温で焼成して、グリーンシートと導体ペーストとを同
時に焼結させる。
If necessary, a plurality of green sheets with conductor printing applied thereto are laminated and pressed to be bonded and integrated with each other. Then, as in the usual manufacturing method, the green sheet and the conductor paste are sintered at the same time by firing at a low temperature using an appropriate heating furnace or the like.

焼成工程における雰囲気、温度1時間等の焼成スケジュ
ールは、特に限定はされないが、たとえば以下のように
、焼成工程を3段階に分けて順次行うようにすると、焼
成工程の管理が容易で好ましい。
The firing schedule, such as the atmosphere and temperature for 1 hour in the firing process, is not particularly limited, but it is preferable to divide the firing process into three stages and perform them sequentially, as shown below, for easy management of the firing process.

まず、酸化雰囲気(たとえば大気等)中で昇温加熱して
、グリーンシート内の有機バインダや溶剤等を完全に燃
焼除去する。このときの加熱温度は比較的低くてもよい
。この段階で、導体ペーストの金属導体は、その種類に
よっては一部もしくは大部分が酸化して、酸化銅等の金
属酸化物になる。
First, the organic binder, solvent, etc. in the green sheet are completely burned off by heating in an oxidizing atmosphere (for example, air). The heating temperature at this time may be relatively low. At this stage, depending on the type of metal conductor in the conductor paste, part or most of it is oxidized to become a metal oxide such as copper oxide.

次に、5元雰囲気(たとえばII2ガス、N2+14z
混合ガス等)中で加熱するが、それに先立ち、前段階の
大気や燃焼ガスをN2ガス等で追い出した後、[1、ガ
スを導入することが好ましい。この還元段階で、前段階
で酸化状態になった導体金属を還元して金属状態に戻す
。このときの温度、すなわち還元温度は、還元反応が良
好に行われる温度であるとともに、金属導体およびグリ
ーンシートのセラミック材料の焼結が始まる温度に設定
する。具体的には、通常、300〜600°C程度が好
ましい。
Next, a five-component atmosphere (e.g. II2 gas, N2+14z
(mixed gas, etc.), but prior to this, it is preferable to expel the atmosphere and combustion gas from the previous stage with N2 gas, etc., and then introduce the gas. In this reduction stage, the conductive metal that has become oxidized in the previous stage is reduced back to its metallic state. The temperature at this time, that is, the reduction temperature, is set at a temperature at which the reduction reaction is carried out well and at a temperature at which sintering of the metal conductor and the ceramic material of the green sheet begins. Specifically, the temperature is usually preferably about 300 to 600°C.

最後に、非酸化雰囲気(たとえばN2ガス等)中で、グ
リーンシートおよび導体ペーストを同時に焼結一体化さ
せる。この際の焼結温度は、使用した低温焼成用セラミ
ック材料等に応じて異なるが、通常は800〜1000
℃程度で行われる。
Finally, the green sheet and the conductor paste are simultaneously sintered and integrated in a non-oxidizing atmosphere (for example, N2 gas, etc.). The sintering temperature at this time varies depending on the ceramic material for low-temperature firing used, but is usually 800 to 1000.
It is carried out at around ℃.

なお、前段階で還元された金属導体は、この段階の非酸
化雰囲気中の加熱では再び酸化されることがなく、焼結
後には還元状態のままの金属導体層が得られる。
Note that the metal conductor reduced in the previous step is not oxidized again by heating in a non-oxidizing atmosphere in this step, and a metal conductor layer that remains in a reduced state is obtained after sintering.

ここで、上述のように、ピンを用いない接続方法をとる
パッケージ(LCC等)では、外部接続端子部に銅(酸
化銅)もしくは金ペーストを用いた導体印刷を行うこと
が好ましい。したがって、回路部分に銅/酸化銅ペース
トを用いる場合は、導体層全体は金ペーストと銅/酸化
銅ペーストの絹み合わせとなるため、上記同様の3段階
の焼成工程を選択することが好ましいが、回路部分に銀
ペーストを用いる場合には、上記端子部に金ペーストを
選択することにより、金ペーストとtaベース1だけの
組み合わせの導体層を形成することができる。ごの金と
↑Vの組み合ね・Uの場合には、酸化雰囲気だけで焼成
することができ、焼成工程を格段に簡略化でき、製造が
容易になる。
Here, as described above, in a package (such as an LCC) that uses a connection method that does not use pins, it is preferable to perform conductor printing using copper (copper oxide) or gold paste on the external connection terminal portion. Therefore, when copper/copper oxide paste is used in the circuit part, it is preferable to select the same three-step firing process as above, since the entire conductor layer will be a combination of gold paste and copper/copper oxide paste. When silver paste is used for the circuit portion, by selecting gold paste for the terminal portion, a conductor layer consisting of only the gold paste and the TA base 1 can be formed. In the case of the combination U of gold and ↑V, firing can be performed only in an oxidizing atmosphere, which greatly simplifies the firing process and facilitates manufacturing.

なお、銅導体層およびニッケル導体層を形成する場合、
ペースlには、金属の銅粉、ニッケル粉を用いるよりも
、酸化銅粉、酸化ニッケル粉を用い、上記のように3段
階の焼成工程をとることが好ましい。というのも、還元
状態の金属よりも酸化物のほうが材料コストが安くつく
ため経済性に優れるとともに、還元状態の金属では上記
焼成工程の脱バインダ過程でいったん酸化されるが、そ
の際に膨張してグリーンシートが膨れてしまう等の問題
があるが、金属酸化物であればこのような問題が生じな
いからである。この酸化銅、酸化ニッケルを用いる場合
の配合は、金属銅、金属ニッケル換算で行うようにする
In addition, when forming a copper conductor layer and a nickel conductor layer,
It is preferable to use copper oxide powder or nickel oxide powder for the paste I, rather than using metallic copper powder or nickel powder, and to perform the three-step firing process as described above. This is because the material cost of oxides is lower than that of metals in a reduced state, which makes them more economical, and metals in a reduced state are oxidized once during the binder removal process in the firing process, but at that time they expand. However, metal oxides do not cause such problems. When using copper oxide and nickel oxide, the formulation should be made in terms of metallic copper and metallic nickel.

以上をまとめて、以下に、低温焼成セラミックPGAパ
ッケージの製造工程および構成の一実施例を示す。まず
、低温焼成用セラミ’)クスを用いてグリーンシートを
作製し、打抜き加工などを行う。次に、第1図にその断
面を模式的に示したように、グリーンシート1に導体印
刷を行い、■ グイボンディング部およびワイヤポンデ
ィング部に金ペーストによる導体i21.22を、■ 
平面および垂直回路部に銅(I’m化銅)または銀ペー
ストによる導体層3を、 ■ ピンろう接部にニッケル(酸化ニッケル)ペースト
による導体層4を、 それぞれ形成する。そして、これらを積層して外形切断
を行った後、低温の脱バインダ・焼成を行い、最後に、
ピン5をろう接し、検査を経てセラミックパッケージが
完成する。このようにして、同じ2段ワイヤボンディン
グPGAパッケージでも、アルミナPGAパッケージの
場合は、メツキ用パターン形成層分を加えた6層構成に
なっていたが、この発明にかかる製法によれば、4眉構
成の2段ワイヤボンディング低温焼成セラミックPGA
パッケージを実現できる。なお、同第1図にみるように
、積層された最上層には、金属製カバー(キャップ)等
の封止部材用の銅/ニッケル導体層6を形成してもよい
Summarizing the above, an example of the manufacturing process and configuration of a low temperature firing ceramic PGA package will be shown below. First, a green sheet is produced using ceramics for low-temperature firing, and then punched. Next, as the cross section is schematically shown in Fig. 1, a conductor is printed on the green sheet 1, and conductors i21 and 22 made of gold paste are applied to the bonding part and the wire bonding part.
A conductor layer 3 made of copper (I'm copper oxide) or silver paste is formed on the plane and vertical circuit parts, and a conductor layer 4 made of nickel (nickel oxide) paste is formed on the pin soldering part. Then, after stacking these and cutting the outline, low-temperature binder removal and firing are performed, and finally,
Pin 5 is soldered and the ceramic package is completed after inspection. In this way, even in the same two-stage wire bonding PGA package, in the case of an alumina PGA package, it has a six-layer structure including a pattern forming layer for plating, but according to the manufacturing method of this invention, four layers can be formed. Two-stage wire-bonded low-temperature fired ceramic PGA
package can be realized. As shown in FIG. 1, a copper/nickel conductor layer 6 for a sealing member such as a metal cover (cap) may be formed on the top layer of the stack.

以下に、この発明のさらに詳しい実施例について、図面
を参照しつつ説明する。
Further detailed embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

一実施例1− ■ 低温焼成用セラミックグリーンシートの作製Si0
.57部、A1.0224部、M[014部およびB、
0.5部を1450℃で溶融した後、急冷することによ
り均一なガラスフリフトを得た。次に、アルミナボット
ミルでこれを粉砕して、平均粒径1.6 amのガラス
粉末を得た。
Example 1 - ■ Production of ceramic green sheet for low temperature firing Si0
.. 57 parts, A1.0224 parts, M[014 parts and B,
After melting 0.5 parts at 1450° C., a uniform glass lift was obtained by rapidly cooling. Next, this was ground in an alumina bot mill to obtain a glass powder with an average particle size of 1.6 am.

上記ガラス粉末に対し、常法に従って有機バインダ、可
塑剤1分散剤および溶媒をそれぞれ添加し、これらをア
ルミナポットミルで充分に混合した。得られた混合スリ
ップをドクターブレード法によりキャスティングし、乾
燥後の厚み約0.6 Illのグリーンシートを作製し
た。さらに、これを用いて、打抜きプレスにより、スル
ーホールの入った外形打抜きシートを作製した。
An organic binder, a plasticizer, a dispersant, and a solvent were respectively added to the above glass powder according to a conventional method, and these were thoroughly mixed in an alumina pot mill. The obtained mixed slip was cast by a doctor blade method to produce a green sheet having a thickness of about 0.6 Ill after drying. Furthermore, using this, a punched sheet with through holes was produced using a punching press.

■ 金ペーストの作製 平均粒径0.9μmの金粉末100部に対し、軟化温度
700℃、平均粒径1.5 pmのガラスフリット2部
を添加した。ここに、エチルセルロース(−バインダ)
をあらかじめプチルカルビ]・−ルアセテートで熔解し
たバインダ溶解物を加えてペースト化し、金ペーストを
得た。
(2) Preparation of Gold Paste To 100 parts of gold powder with an average particle size of 0.9 μm, 2 parts of glass frit with a softening temperature of 700° C. and an average particle size of 1.5 pm were added. Here, ethylcellulose (-binder)
A binder solution, which had been previously dissolved with butylcarbyl acetate, was added to form a paste to obtain a gold paste.

■ 酸化銅ペーストの作製 平均粒径1.2 amの酸化銅粉末100部(銅換算8
0部)に対し、上記■と同様のガラスフリット粉末3部
およびエチルセルロースバインダ?g H物を加え、3
本ロールを用いてペースト化した。
■ Preparation of copper oxide paste 100 parts of copper oxide powder with an average particle size of 1.2 am (copper equivalent: 8
0 parts), 3 parts of glass frit powder similar to the above (■) and ethyl cellulose binder. g Add H substance, 3
It was made into a paste using this roll.

■ 酸化ニッケルペーストの作製 平均粒径1.0μmの酸化ニッケル粉末100部にソケ
ル換算79部)に対し、上記■と同様のガラスフリソl
−4,5部およびエチルセルロースバインダ溶解物を加
えてペースト化した。
■ Preparation of nickel oxide paste For 100 parts of nickel oxide powder with an average particle size of 1.0 μm and 79 parts of sokel equivalent), add glass frisol similar to the above
-4.5 parts and ethyl cellulose binder melt were added to form a paste.

■ 導体印刷 上記■で作製したグリーンシートのグイボンディング部
およびワイヤボンディング部(インナーリードパッド)
に、上記■で作製した金ペーストを用いてスクリーン印
刷を施した。次いで、回路の引き廻し部(平面回路部)
とスルーホール部(垂直回路部)に、」−記■で作製し
た酸化214ペーストを印刷し、接続ピンろう接ランド
部には上記■で作製した酸化ニッケルペーストを印刷し
、以上の導体ペーストを充分に乾燥させた。
■ Conductor printing Gui bonding part and wire bonding part (inner lead pad) of the green sheet made in above ■
Then, screen printing was performed using the gold paste prepared in ① above. Next, the circuit routing section (planar circuit section)
Print the 214 oxide paste prepared in step ``-'' on the through-hole section (vertical circuit section), print the nickel oxide paste prepared in step ① above on the connecting pin soldering land, and apply the above conductor paste. Dry thoroughly.

■ 積層・焼成 」二記■で作製した導体ペースト付グリーンシートを4
枚重ね、70℃、  60 kg/cn(の条件で熱圧
着した。
■ The green sheet with conductor paste prepared in step 2 of ``Lamination and firing'' was
The sheets were stacked and thermocompression bonded under the conditions of 70°C and 60 kg/cn.

この積層品を、酸化雰囲気(大気)中、第5図に示した
プロファイルで脱バインダした後、続いて第6図に示し
たプロファイルに従って還元雰囲気(NZ+10%Hz
混合ガス)中および中性雰囲気(N2ガス)中で焼成し
て、セラミックパッケージを作製した。
After removing the binder from this laminate in an oxidizing atmosphere (atmosphere) according to the profile shown in Figure 5, it was then treated in a reducing atmosphere (NZ + 10% Hz) according to the profile shown in Figure 6.
A ceramic package was produced by firing in a mixed gas (mixed gas) and a neutral atmosphere (N2 gas).

■ ピンろう付け BAg−7ろう材を用いて、上記得られたセラミックパ
ッケージのニッケルランド部に42アロイピンをろう接
(700℃、3分)し、第3図に示した低温焼成セラミ
ックl) G Aパッケージ(180pin2段ワイヤ
ボンディング型)を作製した。なお、同図中、W3.W
2 、WxおよびW4は、この順に40.0,16.0
,14.0,12.0  (単位s* ) 、H= 2
.0 +uである。
■ Pin brazing Using BAg-7 brazing material, a 42 alloy pin was brazed (700°C, 3 minutes) to the nickel land of the ceramic package obtained above to produce the low-temperature fired ceramic l) shown in Figure 3. An A package (180 pin two-stage wire bonding type) was manufactured. In addition, in the same figure, W3. W
2, Wx and W4 are 40.0, 16.0 in this order
, 14.0, 12.0 (unit s*), H= 2
.. 0 + u.

一実施例2 上記実施例1と同様のグリーンシート、金、酸化銅、酸
化ニッケルペーストを用い、ダイボンディング部に酸化
銅ペーストを印刷するようにする他は、上記実施例1と
同様にして、第3図に示した低温焼成セラミックPGA
パッケージを作製した。
Example 2 The same green sheet, gold, copper oxide, and nickel oxide paste as in Example 1 were used, and the procedure was the same as in Example 1, except that the copper oxide paste was printed on the die bonding area. Low-temperature fired ceramic PGA shown in Figure 3
A package was created.

一実施例3 低温焼成用セラミックグリーンシートの原料ガラス粉末
として、以下のものを用いるようにする他は、上記実施
例1と同様にして、第3図に示した低温焼成セラミック
PGAパッケージを作製した。
Example 3 A low-temperature-fired ceramic PGA package shown in FIG. 3 was produced in the same manner as in Example 1 above, except that the following was used as the raw material glass powder for the low-temperature-fired ceramic green sheet. .

〔ガラス粉末の作製〕[Preparation of glass powder]

310!57.1部、Al20123.8部、Mg01
2、4部、Ca O1,9部、B、O,,1,8部およ
びP、O52,0部を、上記実施例1の■と同様に溶I
+?1! 、急冷、粉砕し、平均粒径2.2μmのガラ
ス粉末を111だ。
310!57.1 parts, Al20123.8 parts, Mg01
2.4 parts of CaO, 1.9 parts of CaO, 1.8 parts of B,O, and 52.0 parts of P,O were dissolved in the same manner as in Example 1 above.
+? 1! , quenched, and pulverized to obtain glass powder with an average particle size of 2.2 μm.

一実施例4− ★    LCCバ・・ −ジ    ni  の鎖」
− 上記実施例1と同様のグリーンシート金および酸化銅ペ
ーストを用い、グイボンディング部。
Example 4 - LCC chain...
- Gui bonding part using the same green sheet gold and copper oxide paste as in Example 1 above.

回路部および外部接続端子部(アウターリードパッド)
にいずれも酸化↑同ペースト、インナーリード部に金ペ
ーストを印刷した後、実施例1と同様に焼成して、第4
図に示した44端子LCCパツケージを製造した。なお
、同図中、W、=16.0鰭、W$=6.8鰭である。
Circuit section and external connection terminal section (outer lead pad)
After printing the same oxidized paste and the gold paste on the inner lead part, it was fired in the same manner as in Example 1, and the fourth
The 44-terminal LCC package shown in the figure was manufactured. In addition, in the same figure, W=16.0 fins and W$=6.8 fins.

一実施例5− ★4    LCCパ  −ジ  4  詔 の遺工 上記実施例3と同様のガラス粉末を用いてグリーンシー
トを作製し、さらに、グイボンディング部に金ペースト
を用いるようにする他は、上記実施例4と同様にして4
4端子LCCパツケージを製造した。
Example 5 - *4 Construction of LCC page 4 A green sheet was made using the same glass powder as in Example 3 above, except that gold paste was used in the bonding part. 4 in the same manner as in Example 4 above.
A 4-terminal LCC package was manufactured.

実施例6 ★4    LCCパ  −ジ I   昭 の′iL
旦 アウターリード部にも金ペーストを用い、ずなわら回路
部のみに酸化銅ペーストを用いるようにする他は、実施
例5と同様にして44端子り、 CCパッケージを製造
した。
Example 6 ★4 LCC page I Akira'iL
A CC package with 44 terminals was manufactured in the same manner as in Example 5, except that gold paste was also used for the outer lead portion and copper oxide paste was used only for the circuit portion.

実施例7− ★、LO剪工CCパッケージ(竹4  昭)の造異 ■ 低温焼成用セラミックグリーンシートの作製5iO
z54.5部、A+、ot18.2部、Mg014、5
部、B20,9.1部、PzOsl、8部および8.1
101.8部を、上記実施例1の■と同様に溶融、急冷
、粉砕し、平均粒径2.5μ蓬のガラス粉末を17た。
Example 7 - ★, Difference in the construction of LO shearing CC package (Take 4 Akira) ■ Preparation of ceramic green sheet for low temperature firing 5iO
z54.5 parts, A+, ot18.2 parts, Mg014, 5
part, B20, 9.1 parts, PzOsl, 8 parts and 8.1 parts
101.8 parts were melted, rapidly cooled, and pulverized in the same manner as in Example 1 above to obtain 17 glass powders with an average particle size of 2.5 μm.

上記ガラス粉末を用い、実施例1と同様にグリンシート
を作製し、これをスルーホールの入った打1友きシート
に加工した。
Using the above glass powder, a green sheet was produced in the same manner as in Example 1, and this was processed into a perforated sheet with through holes.

■ 金ペーストの作製 平均粒径0.9μ園の金粉末100部に対し、軟化1M
4度680°C9平均粒径1.4μ寵のガラスフリット
2部を添加した。ここに、上記実施例1と同様のエチル
セルロースバインダ溶解物を加えてペースト化し、金ペ
ーストを得た。
■ Preparation of gold paste For 100 parts of gold powder with an average particle size of 0.9μ, softened 1M
Two parts of glass frit having an average particle size of 1.4 μm were added at 4° C. at 680° C. The same ethyl cellulose binder melt as in Example 1 was added thereto to form a paste to obtain a gold paste.

■ 銀ペーストの作製 平均粒径1.5部重の銀粉末100部に対し、軟化温度
700°C2平均粒径1.5μ臘のガラスフリット2部
を添加した。ここに、上記実施例1と同様のエチルセル
ロースバインダ溶解物を加えてペースト化し、銀ペース
トを得た。
(2) Preparation of silver paste To 100 parts of silver powder with an average particle size of 1.5 parts, 2 parts of glass frit with a softening temperature of 700° C. and an average particle size of 1.5 μm was added. The same ethyl cellulose binder melt as in Example 1 was added thereto to form a paste to obtain a silver paste.

上記■のグリーンシート上のダイボンディング部、イン
ナーリード部およびアウターリート部に上記■で得られ
た金ペーストを、回路部に上記■で得られた銀ペースト
を、それぞれ印刷した後、上記実施例4と同様に積層し
た。その後、酸化雰囲気中、第7図に示したプロファイ
ルで焼成し、44端子LCCパフケージを製造した。
After printing the gold paste obtained in step (1) above on the die bonding part, inner lead part, and outer lead part of the green sheet in step (2) above, and the silver paste obtained in step (2) above on the circuit part, Lamination was carried out in the same manner as in 4. Thereafter, it was fired in an oxidizing atmosphere according to the profile shown in FIG. 7 to produce a 44-terminal LCC puff cage.

以上の各実施例を、第1表にまとめて示す。The above examples are summarized in Table 1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明にかかるセラミックパッケージ
の語法によれば、低温焼成用セラミックグリーンシート
を用いることにより、低抵抗金属による回路を形成して
回路パターンをファイン化することができる。さらに、
焼成前に、回路部と共にボンディング部等にも必要な導
体印刷を施すようにするため、焼成後のメツキ工程を省
略でき、メツキ用の回路パターンも不要となる。以−L
のことから、パッケージにおける積層数を減らすことが
可能となる。
As described above, according to the terminology of the ceramic package according to the present invention, by using a ceramic green sheet for low-temperature firing, it is possible to form a circuit using a low-resistance metal and refine the circuit pattern. moreover,
Since the necessary conductor printing is performed on the bonding portion and the like as well as the circuit portion before firing, the plating step after firing can be omitted, and a circuit pattern for plating is also unnecessary. I-L
Therefore, it is possible to reduce the number of layers in the package.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第3図はこの発明にかかるセラミックパッ
ケージの製法により得られる低温焼成セラミックPGA
パッケージの一実施例、第2図は従来法によるアルミナ
PGAパンケージの一実施例、第4図はこの発明のセラ
ミックパッケージの製法により得られる低温焼成セラミ
ックLCCパッケージの一実施例、第5図、第6図およ
び第7図はいずれも、この発明の一実施例における焼成
(脱バインダも含む)プロファイルを示すグラフである
。 l・・・低温焼成用セラミックグリーンシート 21・
・・グイボンディング部金属導体Jfj  22・・・
ワイヤボンディング部金属導体厄 3・・・回路部会1
.1導体層 代理人 弁理士  松 本 武 彦 ンン 図 「ニニ]]]T1「フW:T已2ア〒i:戸=スー1第
3図 第 4囚 IIう闇(h「)
FIGS. 1 and 3 show low-temperature fired ceramic PGA obtained by the method for manufacturing a ceramic package according to the present invention.
An example of a package; FIG. 2 is an example of an alumina PGA pancake manufactured by a conventional method; FIG. 4 is an example of a low-temperature fired ceramic LCC package obtained by the ceramic package manufacturing method of the present invention; Both FIG. 6 and FIG. 7 are graphs showing firing (including binder removal) profiles in one embodiment of the present invention. l... Ceramic green sheet for low temperature firing 21.
・Gui bonding part metal conductor Jfj 22...
Wire bonding department metal conductor problem 3...Circuit section 1
.. 1 Conductor layer agent Patent attorney Takehiko Matsumoto

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 低温焼成用セラミックグリーンシート上の少なくと
もダイボンディング部,ワイヤボンディング部および回
路部に金属ペーストを用いて導体印刷を施した後、低温
同時焼成してセラミックパッケージを得るセラミックパ
ッケージの製法。 2 ダイボンディング部およびワイヤボンディング部に
金ペースト、回路部に銅,酸化銅および銀のうちの少な
くとも1種を含む金属ペースト、ピンをろう接する場合
のピン接続部にニッケルおよび酸化ニッケルのうちの少
なくとも1種を含む金属ペーストをそれぞれ用いる請求
項1記載のセラミックパッケージの製法。 3 低温焼成用セラミックグリーンシートの原料となる
ガラス組成物が、 SiO_2を48〜63重量%、 Al_2O_3を10〜25重量%、 MgOを10〜25重量%、 B_2O_3を4〜10重量%、 それぞれ含むとともに、前記MgOのうちの20重量%
以下がBaO,SrOおよびCaOのうちの少なくとも
1種により置換されており、かつ、核発生剤としてTi
O_2,ZrO_2,MoO_3,P_2O_5,As
_2O_3およびSnO_2のうちの少なくとも1種が
5重量%以下添加されてなるものである請求項1または
2記載のセラミックパッケージの製法。
[Claims] 1. A ceramic package in which a ceramic package is obtained by printing a conductor using a metal paste on at least a die bonding part, a wire bonding part, and a circuit part on a ceramic green sheet for low-temperature firing, and then simultaneously firing it at a low temperature. manufacturing method. 2. Gold paste for the die bonding part and wire bonding part, metal paste containing at least one of copper, copper oxide, and silver for the circuit part, and at least nickel and nickel oxide for the pin connection part when soldering pins. 2. The method for manufacturing a ceramic package according to claim 1, wherein each metal paste contains one kind of metal paste. 3 A glass composition that is a raw material for a ceramic green sheet for low-temperature firing contains 48 to 63% by weight of SiO_2, 10 to 25% by weight of Al_2O_3, 10 to 25% by weight of MgO, and 4 to 10% by weight of B_2O_3. and 20% by weight of the MgO
The following are substituted with at least one of BaO, SrO and CaO, and Ti is used as a nucleating agent.
O_2, ZrO_2, MoO_3, P_2O_5, As
3. The method for manufacturing a ceramic package according to claim 1, wherein at least one of _2O_3 and SnO_2 is added in an amount of 5% by weight or less.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5206188A (en) * 1990-01-31 1993-04-27 Ibiden Co., Ltd. Method of manufacturing a high lead count circuit board
JP2005347648A (en) * 2004-06-04 2005-12-15 Ngk Spark Plug Co Ltd Multi-layered electronic component and its manufacturing method
JP2013511029A (en) * 2009-11-12 2013-03-28 サジェム デファンス セキュリテ Gyro sensor

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