JPH02720A - 洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 に記載のとおり）と（ｉｉ）フェノール、メチレンビス
−フェノールまたは硫化フェノールとを、（ｉｉｉ）１
つまたはそれ以上のアルコール性ヒドロキシ基をもつ有
機化合物を含む溶媒および（ｉｖ）ケトン、ジケトン、
アルデヒドまたはカルボン酸から選ばれるプロモーター
の存在下に、有意量の無機ハロゲン化物の添加なく反応
させることを含む方法。

（２）　　マグネシウム化合物の酸化マグネシウムであ
る、請求項（１）記載の方法。

（３）　　ｉＸ化フェノールが４−ノニルフェノールと
二塩化硫黄との反応により得られた反応生成物である、
請求項（１）または（２）記載の方法。

（４）溶媒がメタノールである、請求項（１）〜（３）
のいずれか−項に記載の方法。

（５）溶媒が式ＲＯ（ＣＩ＋□）、０１（（式中、Ｒは
Ｃ０〜ＣＩＯアルキルであり、ｎは１〜１０の整数であ
る）のアルコキシアルカノールである、請求項（１）〜
（３）のいずれか−項に記載の方法。

（６）　　アルコキシアルカノールが２−エトキシエタ
ノールである、請求項（５）記載の方法。

（７）プロモーターが式Ｒ’Ｃ０ＣＩＩ□ＣＯＣｌ＋３
　　（式中、Ｒ’　はアルキル基である）のアシルアセ
トンである、請求項（１１〜（６）のいずれか−項に記
載の方法。

（８）　　アシルアセトンがアセチルアセトンである、
請求項（７）記載の方法。

（９）反応が希釈油の存在下に行なわれる、請求項（１
）〜（８）のいずれか−項記載の方法。

ＧＯ）潤滑油および、請求項ｆｌ）〜（９）のいずれか
−項に記載の方法により製造されたマグネシウムフェネ
ートを含む潤滑油組成物。

０υ　請求項（１）〜（９）のいずれか−項に記載の方
法により製造されたマグネシウムフェネートの潤滑油中
の洗浄剤としての使用。

０２）溶媒および請求項＋１）〜（９）のいずれか−項
に記載の方法により製造されたマグネシウムフェネート
２０〜９０重量％を含むコンセントレート。

３、発明の詳細な説明 本発明は潤滑油組成物のための洗浄剤に関する。

種々の化合物例えばスルホナートｔｑおよびフェナート
類が幾年もの間潤滑油中の洗浄剤として使用され、しば
しばそれらは陽イオンとしてマグネシウムまたはカルシ
ウムを含有する。これらの洗浄剤の多くは、存在するス
ルホン酸またはフェノールとの反応に化学量論的に要求
される量を越える金属を含有する化合物の記載に使用さ
れる語であるいわゆる過塩基性化洗浄剤である。非過塩
基性化洗浄剤もまた単独で、または過塩基性化洗浄剤と
組合せて使用される。

ＵＳ　Ｒｅ　３２２３５号には、マグネシウム水酸化物
、酸化物またはアルコキシドとカルボン酸またはスルホ
ン酸、水および有機可溶化剤例えば一定のアルコールま
たはグリコールとの反応を含むマグネシウム含有複合体
の製法が記載されている。

ＧＢ　Ｌｉ２Ｑ、３３８号には、アルカリ土類金属酸化
物、油溶性有機酸、中性または塩基性スルホナートおよ
びフェノールの反応を含む塩基性化合物の製法が記載さ
れている。

ＧＢ　１□３９２．２５５号には、一定のアルキルフェ
ノールと一定の炭酸化マグネシウムアルコラードとを非
揮発性希釈油および連発性溶媒の存在下に反応させるこ
とを含むマグネシウム／フエナート含有組成物の製法が
記載されている。

最近低灰分油に対する要求があり、カルシウムよりはむ
しろマグネシウムを基にした洗浄剤が等価の全塩基価（
ＴＢＮ）で低い天分を有する。罪過塩基性化マグネシウ
ムフェネートは殊に有用な洗浄剤である。マグネシウム
金属からアルコキシドを経由する罪過塩基性化マグネシ
ウムフェナートの製造はよく知られ、容易に行なわれる
。これらのフルコキシド類はマグネシウム金属から作ら
れねばならず、これは高価なマグネシウム源である。従
って、余り高価でないマグネシウム源を用いる罪過塩基
性化マグネシウムフェナートのための経路を案出するこ
とが望ましい。しかし、安価なマグネシウム源からの罪
過塩基性化マグネシウムフェナートの製造は、アルキル
フェノールまたは硫化アルキルフェノールの弱酸性の性
質と結合したそれらの弱塩基度のために困難である。

ＥＰ−Ａ−９５３２２号にはアルカリ土類金属塩基を溶
媒中で、溶媒としての無機ハロゲン化物および適宜酸で
反応させることによるアルカリ土類金属アルキルフェネ
ートの製造が開示されている。無機ハロゲン化物を触媒
として用いることは、環境の考察が工程中のハロゲンの
使用または潤滑油用生成物中にハロゲン残基を有するこ
とを望ましくなくするのでこの経路を魅力のないものに
する。

我々は意外にも安価なマグネシウム源を使用する困難を
克服し、非常に低い沈降物、易濾過性マグネシウムフェ
ネート類またはマグネシウム硫化フエネー１１を、ハロ
ゲン含有触媒を使用しないで製造できる方法を見出した
。

本発明によれば、マグネシウムフェネートはＴＩＪ酸化
マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム
、炭酸水素マグネシウムまたはカルボン酸マグネシウム
（以下マグネシウム化合物として示す）と（２）フェノ
ール、メチレンビス−フェノールまたは硫化フェノール
とを、（３）１つまたはそれ以上のヒドロキシル基をも
つ有機化合物を含む？容媒および（４）ケトン、ジケト
ン、アルデヒドまたはカルボン酸から選ばれるプロモー
ター、並びに（５）場合により希釈油の存在下に反応さ
せることを含む方法により製造される。この方法は有意
量の無機ハロゲン化物を触媒として添加することなく行
なわれる。

この方法により製造されたマグネシウムフェネート類は
清浄剤として潤滑油中に使用できる。従って、本発明は
また（１１酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭
酸マグネシウム、炭酸水素マグネシウムまたはカルボン
酸マグネシウム（以下マグネシウム化合物として示す）
と（２）フェノール、メチレンビス−フェノールまたは
硫化フェノールとを、（３）１つままたそれ以上のアル
コール性ヒドロキシ基をもつ有機化合物を含む溶媒およ
び（４）ケトン、ジケトン、アルデヒドまたはカルボン
酸から選ばれるプロモーター並びに場合により（５）希
釈油の存在下に反応させることを含む方法により製造さ
れた無機ハロゲン化物を実質的に含まないマグネシウム
フェネートを洗浄剤として潤滑油中に使用することを提
供する。

マグネシウム化合物は上記化合物の水和物を包含するこ
とができる。カルボン酸マグネシウムが使用されるなら
ば、それが誘導されるカルボン酸は、好ましくはモノカ
ルボン酸例えば式ＲＣＯＯＨ（式中、Ｒはヒドロカルビ
ル、好ましくは１〜１０個の炭素原子のアルキル基であ
る）のものである。

酢酸マグネシウムおよびピロピオン酸マグネシウムが適
当な例である。しかし好ましいマグネシウム化合物は酸
化マグネシウムである。この方法の好ましい態様に使用
される型の酸化マグネシウムは軽質（低かさ密度）で活
性な形態である。殊にペニン・ダーリントン（Ｐｅｎｉ
ｎｅ　Ｄａｒｌｉｎｇｔｏｎｅ　）のマグネシアＰＤＭ
１０２／２００およびＰＤＭ１０２／２３０の銘柄が適
当である。これらの酸化物は、それらが低沈降物、迅速
濾過性のプロセスを与え、生ずる生成物が高ＴＢＮを有
するので望ましい。

フェノールそのものを反応物（２）として使用できけれ
ども、水素および炭素原子をもつ１つまたはそれ以上の
基を芳香族核に結合したフェノールを用いることが好ま
しい。そのような結合基はヒドロカルビル、水素および
炭素原子のみを含むもの、であることができ、これらは
好ましくはアルキル基であるが、しかしまたシクロアル
キル、アルケニル、アルキニル、芳香族あるいは置換さ
れた芳香族基例えばアルカリールまたはアラルキル基で
あることができる。結合した水素−および炭素含有基は
また窒素、ハロゲン、酸素または硫黄原子を含む置換基
または原子を含むことができる。

あるいは水素−および炭素含有基はケトまたはチオケト
基により芳香族環に結合されることができる。他の代替
として水素−および炭素−含有基は酸素、硫黄または窒
素原子により芳香族核に結合されることができる。従っ
て、水素−および炭素含有基はまたアルコキシ、シクロ
アルコキシ、フェノキシ、置換フェノキシ、メルカプチ
ド、チオフェノキシ、置換チオフェノキシ、モルアルキ
ルアミノ、ジアルキルアミノ、モノアリールアミノまた
はジアリールアミノであることができる。

フェノール核当りの炭素原子の全数は６〜２００の間で
変動できるが、しかし、フェノール核当りの好ましい炭
素原子の数は１０〜４ｏ毎分子である。

反応生成物を誘導できるフェノールの型には次のものが
含まれる： （ｉ）　　型： （式中、Ｒはヒドロカルビル置換基であり、フェノール
環中の任意の位置で置換することができる） の置換フェノール、例えば：０−クレゾール、ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、２−エチルフェノール、３−
エチルフェノール、４−エチルフェノール、４−　ｎ　
−フチルフェノール、４−５ｅｃ−ブチルフェノール、
２−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール
、４−ｎ−ブチルフェノール、２−オクチルフェノール
、４−オクチルフェノール、２−ノニルフェノール、４
−ノニルフェノール、２−ドデシルフェノール、４−ド
デシルフェノール、２−オクタデシルフェノール、４−
オクタデシルフェノール、２−シクロヘキシルフェノー
ル、４−アリルフェノール、２−フェニルフェノール、
４フエニルフエノール、０−メトキシフェノール、ｐ−
メトキシフェノールおよびｐ−フェノキシフェノール。

また、アルキル基が低分子量オレフィン例えばエチレン
、プロピレン、ｎ−ブチレンおよびイソブチレンの重合
により得られるアルキルフェノールが含まれる。

（ｉｉ　）　　型： （式中、ＲおよびＲ１はヒドロカルビル置換基であり、
ＲおよびＲ１は同一かまたは異なり、ＲおよびＲ１は芳
香族環中の任意の位置で置換できる） の二置換フェノール、例えば２．３−ジメチルフェノー
ル、２，４−ジメチルフェノール、２゜５−ジメチルフ
ェノール、２，６−シメチルフエノール；３，４−ジメ
チルフェノール、２゜６−ジーｎ−ブチルフェノール、
２６−ジ−５ｅｃ−ブチルフェノール；２，６−ジーｔ
ｅｒｔ　−ブチルフェノール；２，４−ジ−オクチルフ
ェノール；２，６−シオクチルフエノール、２゜４−ジ
−ノニルフェノール、２．　６−シーノニルフェノール
：２．４−ジ−ドデシルフェノール；２．６−ジ−ドデ
シルフェノール；２．４ジーｔｅｒ　ｔ−ブチルフェノ
ール；２．６−ジアリルフェノール；２，４−ジ−シク
ロヘキシルフェノール；２−メチル−５−イソプロピル
フェノールおよび２−メトキシ−４−ブチルフェノール
。

（ｉｉｉ　）　　型： （式中、Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ’はヒドロカルビル置換基で
あり、Ｒ１、ＲＺ　、Ｒ３は同一であることができまた
は同一でないことができ、基の置換パターンは２，３，
４；２．３，５；２．３．６；２，４，５；または３．
　４．　５である） の三置換フェノール、例えば２，３．４−１−ジメチル
フェノール。２．３．５−トリメチルフェノール；２，
６−ジーｔ−ブチル−３−メチルフェノール；２，６−
ジーむ一ブチルー３−メトキシフェノールなど。

（１ｖ）　　型； および Ｈ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はヒドロカルビル
置換基であり　Ｒ１，、Ｒ２、ＲｙおよびＲ４は同一で
あるがまたは異なることができる） の四置換フェノール、例えば２，３．４５−テトラメチ
ルフェノール；４−ｔ−ブチル−２゜３．５−１−ツメ
チルフェノール；２，６−ジーｔ−ブチル−３，５−ジ
メチルフェノール。

（ｖ）　　二価フェノール、例えばカテコール、または
レゾルシノール あるいはヒドロカルビル置換二価フェノール、例えばカ
テコールまたはレゾルシノール、殊にモノアルキル置換
カテコールまたはレゾルシノール、ヒドロカルビル例え
ばアルキル置換基の例は前記（ｉ）中に与えたとおりで
ある。

（ｖｉ）　　型： 〔式中、ＲおよびＲ１は異なっているがまたは異ならな
いことができるヒドロカルビル置換基であり、ｍ＝ｎ＝
１またはｎ＞１および（または）ｍ〉■であるが、しか
しフェノール芳香族環の少くとも１つの上のオルトまた
はバラ位の少くとも１つは非置換で保たれる〕のフェノ
ール類、例えば２．２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジ
メチルジフェニルメタン；５．５′−ジヒドロキシ−２
，２′−ジメチルジフェニルメタン；４，４’−ジヒド
ロキシ−２，２′−ジメチルジフェニルメタン；２＋２
’ジヒドロキシ−５，５′−ジノニルジフェニルメタン
；２，２’−ジヒドロキシ−５５′ジドデシルジフェニ
ルメタン；３，３’−ジ−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒ
ドロキシジフェニルメタン；２．　２’、　　４．　４
’−テトラ−ｔブチル−３，３′−ジヒドロキシジフェ
ニルメタン。

（ｖｉ）　　（ｉ）〜（ｉｖ）におけるようなフルキル
フェノールと、例えば硫黄ハロゲン化物または元素硫黄
との反応から製造された硫化フェノール類。

そのようなフェノール類の例には： ２．２′−チオ−ビス−（４−メチルフェノール）；４
，４’−ジ−チオ−ビス−（２−ｔ−ブチルフェノール
）；４．４’−チオ−ビス（２，６−ジーｔ−ブチルフ
ェノール）；２゜２′−ジ−チオ−ビス−（４〜ノニル
フエノール）；２，２’−チオ−ビス−（４−ノニルフ
ェノール）；２，２’−ジ−チオ−ビス−（４ドデシル
フエノール）；２，２’−チオ−ビス−（４−ドデシル
フェノール）；２，２’−トリーチオ−ビス−（４−ノ
ニルフェノール）；２．２′−テトラ−チオ−ビス−（
４−ノニルフェノール）；２．２’−１−リーチオービ
ス（４−ドデシルフェノール）；２，２’−テトラ−チ
オ−ビス−（４−ドデシルフェノール）が含まれる。

（ｖｉｉｉ）　　（ｉ）〜（ｖｉｉ　）に示した型のフ
ェノール類の混合物。

フェノール類の混合物は前記の任意の番号の種々の型か
らの任意の数のフェノール類からなることができる。あ
るいは、フェノール類は例えば硫黄または硫黄ハロゲン
化物と簡単なフェノールとの反応により得られる硫化フ
ェノール類の混合物のように類似構造のフェノール類の
混合物であることができる。

好ましいフェノールは４−ノニルフェノールと二塩化硫
黄との任意の割合の反応により得られる。

最も好ましい割合は４−ノニルフェノール２〜４重量部
対二塩化硫黄１重量部である。

溶媒は１つまたはそれ以上のアルコール性ヒドロキシル
基をもつ有機化合物を含む。この化合物は好ましくは脂
肪族化合物であり、例えばアルコール、グリコールまた
はアルコキシアルカノールであることができる。適当な
化合物は好ましくは１〜２０個の炭素原子例えば１〜１
０個の炭素原子を毎分子に含む。

アルコールの例にはメタノール、ｎ−プロパツール、ｎ
−ブタノール、４−メチル−ペンタノール−１、ｎ−デ
カノールなが含まれる。グリコールの例にはエチレング
リコール、ｎ−プロピレングリコール、ｎ−ブチレング
リコールなど、並びにオキシアルキレングリコール例え
ばジエチレングリコール、トリエチレングリコールなど
が含まれる。三価および他の多価アルコール例えばグリ
セリンを用いることができる。

好ましい溶媒はメタノールである。

適当なアルコキシアルカノールは脂肪族アルコキシアル
カノール、例えばアルコキシエタノール例えばメトキン
エタノール、エトキシジェタノールまたはプロポキシエ
タノールである。一般に適当なアルコキシアルカノール
には式、ＲＯ（Ｃ８ｚ）　ｎ０Ｈ（式中、Ｒは０１〜Ｃ
ＩＯアルキルであり、ｎは１〜１０の整数である）もの
が含まれる。

好ましいアルコキシアルカノールは２−エトキシエタノ
ールである。

プロモーターはケトン、ジケトン例えばα−またはβ−
ジケトン、アルデヒドまたはカルボン酸から選ばれる有
機化合物を含み、本発明の重要な特徴である。プロモー
ターがないと低ＴＢＮ、高沈降物および遅い濾過速度が
得られる。適当なプロモーターはアセトフェノン、ベン
ズアルデヒドおよびデカン酸である。

アシルアセトン、すなわち、式Ｒ’　Ｃ０ＣＨｚｃＯｃ
ｌｌ　３（式中Ｒ１はアルキル基である）の化合物は非
常に適する。Ｒ１は好ましくは１〜１０個の炭素原子、
殊に１〜５個の炭素原子をを有する。プロモーターとし
て殊に好ましいものはアセチルアセトンである。

希釈油は場合により、この方法に対する適当な希釈油は
一般に潤滑油である。それらは鉱油、合成油例えばポリ
エステル、ハロゲン化炭化水素またはポリアルキレング
リコール合成潤滑油であることができる。

マグネシウムフェネートを製造するために、マグネシウ
ム化合物を、前記溶媒およびプロモーターの存在下にフ
ェノール、メチレンビス−フェノールまたは硫化フェノ
ールと混合する。混合物を加熱することは必要でないか
もしれないが、しかしそれでも、加熱は室温と混合物の
還流温度との間が好ましい。

マグネシウム化合物とフェノール、メチレンビス−フェ
ノールまたは硫化フェノールとの相対量は変動できるが
、しかし一般に、重量比はフェノールのヒドロキシル価
およびマグネシウム化合物のマグネシウム含量により決
定される。好ましい比は１〜１２である。

溶媒の量は、好ましくはマグネシウム化合物とフェノー
ル、メチレンビス−フェノールまたは硫化フェノールと
の合計重量の０．１〜１０倍、殊に０、６〜０．７倍で
ある。

プロモーターの量は、好ましくはマグネシウムとフェノ
ール、メチレンビス−フェノールまたは硫化フェノール
の合計重量の０．００１〜０．１倍、殊に０．０１倍で
ある。

マグネシウムフェネート類を、無機ハロゲン化物触媒を
使用しないで製造できることは本発明の意外な特徴であ
る。これは工程を簡単にし、生成物中のハロゲン残留物
源を。回避する。好ましくは反応混合物は０．２重量％
未満の無機ハロゲン化物、より好ましくは０．１重量％
未満の無機ハロゲン化物を含み、生成物がハロゲンを実
質的に含まず、すなわち微量にすぎない量の（典型的に
は１１００ｐｐにすぎない）ハロゲンを含むことが殊に
好ましい。

本発明の方法により、８０〜１００、例えば５０％活性
成分で８０〜１００　ｍｇ、ＫＯｔｌ／　ｇのＴＢＮ（
ＡＳＴＭ　Ｄ　２９８６　）を有するマグネシウムフェ
ネート［を得ることができる。

マグネシウムフェネートは、好ましくは小重量割合で潤
滑油に加えて潤滑油組成物を形成することができ、殊に
好ましい割合は活性物質を基にして全油組成物の０．１
〜２０重量％、例えば１．０〜１０重量％である。

適当な潤滑油には動物、植物または鉱物油例えばスピン
ドル油から５ＡＥ３０．４０または５゜潤滑油銘柄、ひ
まし油、魚油、酸化鉱油またはブライト・ストックまで
の範囲の石油油留分が含まれる。合成エステル、例えば
ジエステルまたは複合エステルが適当である。

本発明のマグネシウムフェネートに加えて、潤滑油は潤
滑油組成物（例えば配合物）を形成する小重量量の他の
添加剤を含むことができる。

そのような配合物中に典型的に存在する代表的な添加剤
には粘度調整剤、腐食抑制剤、酸化防止剤、摩擦調節剤
、分散剤、泡止め剤、耐摩耗性添加剤、流動点降下剤、
清浄剤、さび止め剤などが含まれる。

粘度調整剤は潤滑油に高温および低温運転性を与え、高
温におけるせん断安定性を保持させ、また低温における
許容できる粘度または流動性を示させる。

粘度調整剤は一般にポリエステル類を含め高分子量炭化
水素ポリマーである。粘度調整剤はまた誘導体化して他
の性質または機能を包含、例えば分散特性の付加、させ
ることができる。

これらの油溶性粘度調整ポリマーは一般に、ゲル浸透ク
ロマトグラフィーまたはメンプラン浸透圧計測により測
定して１０３〜１０６、好ましくはＩＯ４〜１０６、例
えば２０，０００〜２５０，０００　（７）数平均分子
量を有する。

適当な粘度調整剤の代表的な例はポリイソブチレン、エ
チレンとプロピレンとの共重合体、ポリメタクリレート
、メタクリレートコポリマー、不飽和ジカルボン酸とビ
ニル化合物とのコポリマースチレンとアクリル酸エステ
ルとのインターポリマー、およびスチレン／イソプレン
コポリマーが含まれる公知の型の任意のものである。

また耐食剤として知られている腐食抑制剤は潤滑油組成
物により接触される金属部品の劣化を低下する。腐食抑
制剤の例はホスホスルフライズド（ｐｈｏｓｐｈｏｓｕ
ｌｐｈｕｒｉｚｅｄ）炭化水素、およびホスホスルフラ
イズド炭化水素とアルカリ土類金属酸化物または水酸化
物との、好ましくはアルキル化フェノールまたはアルキ
ルフェノールチオエステルの存在下の、また好ましくは
二酸化炭素の存在下の、反応より得られる生成物である
。ホスホスルフライズド炭化水素は適当な炭化水素例え
ばテルペン０２〜Ｃｂオフフインポリマー例えばポリイ
ソブチレンの重質石油留分と５〜３０重量％のリンの硫
化物とを１５０〜１６０６Ｆの範囲内の温度において２
〜１５時間反応させることにより製造される。ホスホス
ルフライズド炭化水素の中和は米国特許筒１，９６９，
３２４号に教示されたように行なうことができる。

酸化防止剤は使用中に劣化する鉱油の傾向を低下し、そ
の劣化は酸化の生成物例えば金属表面上のスラッジおよ
びワニス様析出物、並びに粘度上昇により証明できる。

そのような酸化防止剤にはＺＤＤＰの芳香族アミン例え
ばアルキル化ジフェニルアミンおよびフェニルα−ナフ
チルアミン、ヒンダードフェノール類、銅化合物、好ま
しくはＣ１〜Ｃ１□アルキル側ｔＪｆを有するアルキル
フェノールチオエステルのアルカリ土類金属塩例えばカ
ルシウムノニルフェノールスルフィド、バリウムｔ−オ
クチルフェニルスルフィド、ジオクチルフェニル−アミ
ン、フェニルα−ナフチルアミン、ホスホスルフライズ
ドまたは硫化炭化水素などが含まれる。

摩擦調節剤は適当な摩擦特性を潤滑油組成物例えば自動
変速機液に与えるのに役立つ。

適当な摩擦調節剤の代表的な例は、脂肪酸エステルおよ
びアミドを開示する米国特許筒３，９３３．６５９号；
ポリイソブテニルコハク酸無水Ｔｈ−７ミノアルカノー
ルのモリブデン複合体を記載する米国特許筒４，１７６
．０７４号；二量体化脂肪酸のグリセリンエステルを開
示する米国特許筒４，１０５，５７１号；アルカンホス
ホン酸塩を開示する米国特許筒３．７７９，９２８号；
ホスホナートとオレアミドとの反応生成物を開示する米
国特許筒３，７７８，３７５号；Ｓ−カルボキシアルキ
レンヒドロカルビルスクシンイミド、Ｓカルボキシアル
キレンヒドロカルビルスクシンアミド酸およびそれらの
混合物を開示する米国特許筒３，８５２，２０５号：Ｎ
−ヒドロキシルアルキル）アルケニル−スクシンアミド
酸またはスクシンイミドを開示する米国特許第３，８７
９，３０６号；ジ（低級アルキル）亜リン酸エステルと
エポキシドとの反応生成物を開示する米国特許第３，９
３２，２９０号；並びにホスホスルフライズドＮ−（ヒ
ドロキシアルキル）アルケニルスクシンイミドのアルキ
レンオキシド付加物を開示する米国特許第４，０２８，
２５８号中に見出される。最も好ましい摩擦調節剤は米
国特許第４，３４４，８５３号中に記載されたようなヒ
ドロカルビル置換コハク酸または無水物およびチオビス
アルカノールのコハク酸エステル、またはその金属塩で
ある。

分散剤は使用中の酸化に起因する油不溶物を流体中に懸
濁に維持し、従ってスラッジフロキュレーションおよび
金属部品上の沈降または析出を防ぐ。適当な分散剤には
高分子量アルケニルスクシンイミド、油溶性ポリイソブ
チレンコハク酸無水物とエチレンアミン類例えばテトラ
エチレンペンタミンとの反応生成物およびそのホウ酸塩
類が含まれる。

流動点降下剤は流体が流れるかまたは注がれることがで
きる温度を低下する。そのような降下剤はよく知られて
いる。流体の低温流動性を有用に最適化する典型的な添
加剤はフマル酸Ｃ８〜Ｃｌ１１ジアルキル酢酸ビニルコ
ポリマー、ポリメタクリレートおよびワックスナフタレ
ンである。泡制御はポリシロキサン型の泡止め剤例えば
シリコーン油およびポリジメチルシロキサンにより与え
ることができる。

洗浄剤および金属さび止め剤にはスルホン酸、アルキル
フェノール、硫化アルキルフェノール、サリチル酸アル
キル、ナフチナート、および他の油浴性モノ−およびジ
−カルボン酸が含まれる。

高度に塩基性の（すなわち、過塩基性化した）金属塩例
えば高塩基性アルカリ土類金属スルホン酸塩（殊にＣａ
およびＭｇ塩）がしばしば洗浄剤として使用される。

銅および鉛腐食抑制剤および耐摩耗性添加剤にはホウ酸
エステル、チアジアゾール類例えば２゜５−ジメルカプ
ト１，３．４−チアジアゾールの誘導体およびベンゾト
リアゾールが含まれる。

これらの多くの添加剤の若干は多様の効果例えば分散剤
−酸化防止剤を与えることができる。このアプローチは
よく知られ、さらに詳述する必要かない。

組成物はこれらの普通の添加剤を含むときに基油中へそ
れらの正常な付随機能を与えるのに有効である量で配合
される。そのような添加剤の代表的な有効量は次のよう
に例示される： 添加剤　　　　　　容積％　　　」Ｊ１メユ互−御粘度
調整剤　　　　　、０１−４　　　．０１７４腐食抑制
剤　　　　　０．０１−１　　　．０１−１．５酸化防
止剤　　　　　０．０１−１　　　．０１−１．５分酸
剤　　０．１−７　０．１−８ 流動点降下剤　　　　０．０１−１　　　．０１−１．
５泡止め剤　　　　　　０．００１−０．１　．００１
−０．１５耐摩耗性添加剤　　　０．００１−１　　．
００１−１．５７擦調節剤　　　　　０．０１−１　　
　．０１−１．５洗浄剤／さび止め剤　、０１−２．５
　　．０１−３鉱油ベース　　　　　　残部　　　　　
残部他の添加剤が使用されるとき、分散剤（コンセント
レート量で）並びに前記他の添加剤の１つまたはそれ以
上の濃縮溶液または分散体を含む添加剤コンセントレー
トを調製することを望むことができ（前記コンセントレ
ートは、添加剤混合物を構成するときに添加剤として示
される）、それにより若干の添加剤を基油に添加して潤
滑油組成物を形成することができるが、しかし必然的で
はない。添加剤コンセントレートの潤滑油中への溶解は
溶媒により、および温和な加熱を伴なう混合により促進
できるが、しかしこれは必須ではない。

コンセントレートまたは添加剤パッケージは典型的には
分散剤添加物および場合により他の添加剤を、添加剤パ
ッケージを基潤滑油の予定量と混合するときに最終配合
物中に所望濃度を与える適当な量で含むように配合され
る。従って、本発明の分散剤は少量の基油または他の相
溶性溶媒に他の望ましい添加剤とともに加え、添加剤成
分を適当な割合で、典型的には約２．５〜約９０重量％
、好ましくは約５〜約７５％、最も好ましくは約８〜５
０重量％の集合量で含み、残部が基油である添加剤パッ
ケージを形成することができる。

最終配合物は、典型的には添加剤パッケージ約１０重量
％を用い、残部が基油であることができる。

示した前記百分率はすべて添加剤の活性成分（ａ、ｉ、
）含量を基にし、および（あるいは）各添加剤のａ、ｉ
、重量と全油または希釈剤の重量との合計である任意の
添加剤パッケージまたは配合物の全重量を基にする。

マグネシウムフェネートは、適宜には適当な溶媒に溶解
して溶媒中にマグネシウムフェネートの２０〜９０、例
えば３０〜８０重量％のコンセントレートを形成するこ
とができる。適当な溶媒には灯油、芳香族ナフサ、鉱物
性潤滑油などが含まれる。

以下の実施例は本発明の例示である。

実施例１　（好ましい経路） か（はん機、冷却機およびガス導入管を備えた１１の丸
底反応フラスコ中ヘノニルフェノールスルフィドの７２
質量％ン容ン夜４００ｇ、メタノール２００ｇおよびア
セチルアセトン２．９ｇを加えた。

次いでこの混合物を徐々に５０°Ｃに加熱し、その間窒
素をガス導入管を経由して通した。温度が５０℃に達し
たときに酸化マグネシウム〔ペニン・ダーリントン（Ｐ
ｅｎｎｉｎ　Ｄａｒｌｉｎｇｔｏｎ）マグネシア銘柄０
２／２００３２２．６　ｇを加え、温度を４．５時間に
わたって１４０　”Ｃに上昇させた。次いで温度を１６
０℃に上昇させ、真空を適用した。真空ストリッピング
が終ると、スタツク（Ｓｔａｎｃｏ）　　１５０希釈油
１５５ｇを加えた。油の添加後、生成物の５ＱｃＪ試料
を等容積のトルエン中に溶解した。次いでこのトルエン
溶液を遠心分離し、生成物中の未反応固体の容積を測定
した。未反応固体の水準はトルエン溶液中の観察沈降物
を２倍にすることにより得た。次いでこれを濾過筒沈降
物として報告する。上記試験において０．１容積％の濾
過筒沈降物が認められた。次いで生成物を圧力濾過器中
でけいそう土の層を通して濾過し、そこで４９７Ｉｔ　
／　ｍ　７時の速度が得られた。仕上り生成物は８５ｍ
ｇＫ０＋１／ｇのＴＢＮ、１００℃で４８ｃＳＴの粘度
を有し、１．８６％Ｍｇおよび５．０％硫黄を含有した
。

実施例２ 実施例２はメタノールに代る置換溶媒として２エトキシ
エタノールを使用する例である。

条件および量は実施例１に対すると同様であったが、し
かし２−エトキシエタノール２００ｇをメタノールの代
りに用いた。生じた生成物は０．０６容積％の濾過筒沈
降物を有し、１６１６ｊ！／ｎ？／時の速度で濾過され
、９３　ｍｇ　ＫＯＩＩ／　ｇのＴＢＮを有し、２．０
６質四％マグネシウムを含有した。

実施例３（比較） 実施例３はプロモーターに対する必要を示す。

実施例１を繰返したがアセチルアセトンを省略した。生
成物は２．５容積％の濾過筒沈降物を有し、９１ｆｆｉ
／ｍ／時で濾過され、７６■ＫＯｔｌ／ｇのＴＯＮを有
し、１．７３％マグネシウムを含有した。

実施例４（比較） 実施例４もまたプロモーターに対する必要を示す。実施
例２を繰返したがアセチルアセトンを省略した。未濾過
生成物は０．０５容積％の沈降物を有した。２０７１　
／　ｒｄ　７時の遅い濾過後、仕上り生成物は７２　ｍ
ｇ　ＫＯＨ／　ｇのＴＢＮを有し、１．６６％Ｍｇを含
有した。

実施例５ これはプロモーターとしてアセトフェノンの使用を例示
する。実施例２を繰返したが、しがしアセチルアセトン
の代りにアセトフェノンを使用し、マグケム（Ｍａｇｃ
ｈｅｍ）　５０酸化マグネシウムを用いた。生成物は１
．８容積％の濾過筒沈降物を有し、３７４Ｉ！／ｍ′／
時で濾過され、７８　ｍｇ　ＫＯＩＩ／　ｇのＴＢＮを
有した。

実施例に れはプロモーターとしてデカン酸の使用を例示する。実
施例１を繰返したが、しかしアセチルアセトンの代りに
デカン酸を用いた。生成物は濾過が遅かったけれども、
８０■ＫＯＩＩ／ｇのＴＢＮを有した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）マグネシウムフェネートの製造方法であって、 （ｉ）マグネシウム化合物（発明の詳細な説明に記載の
   とおり）と （ｉｉ）フェノール、メチレンビス−フェノールまたは
   硫化フェノールとを、 （ｉｉｉ）１つまたはそれ以上のアルコール性ヒドロキ
   シ基をもつ有機化合物を含む溶媒および （ｉｖ）ケトン、ジケトン、アルデヒドまたはカルボン
   酸から選ばれるプロモーターの存在下に、 有意量の無機ハロゲン化物の添加なく反応させることを
   含む方法。 （２）マグネシウム化合物の酸化マグネシウムである、
   請求項（１）記載の方法。 （３）硫化フェノールが４−ノニルフェノールと二塩化
   硫黄との反応により得られた反応生成物である、請求項
   （１）または（２）記載の方法。 （４）溶媒がメタノールである、請求項（１）〜（３）
   のいずれか一項に記載の方法。 （５）溶媒が式ＲＯ（ＣＨ＿２）＿ｎＯＨ （式中、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキルであり、ｎは
   １〜１０の整数である） のアルコキシアルカノールである、請求項（１）〜（３
   ）のいずれか一項に記載の方法。（６）アルコキシアル
   カノールが２−エトキシエタノールである、請求項（５
   ）記載の方法。 （７）プロモーターが式Ｒ＾１ＣＯＣＨ＿２ＣＯＣＨ＿
   ３ （式中、 Ｒ＾１はアルキル基である）のアシルアセトンである、
   請求項（１）〜（６）のいずれか一項に記載の方法。 （８）アシルアセトンがアセチルアセトンである、請求
   項（７）記載の方法。 （９）反応が希釈油の存在下に行なわれる、請求項（１
   ）〜（８）のいずれか一項記載の方法。 （１０）潤滑油および、請求項（１）〜（９）のいずれ
   か一項に記載の方法により製造されたマグネシウムフェ
   ネートを含む潤滑油組成物。 （１１）請求項（１）〜（９）のいずれか一項に記載の
   方法により製造されたマグネシウムフェネートの潤滑油
   中の洗浄剤としての使用。 （１２）溶媒および請求項（１）〜（９）のいずれか一
   項に記載の方法により製造されたマグネシウムフエネー
   ト２０〜９０重量％を含むコンセントレート。