JPH027023A - 薄膜トランジスタマトリクス - Google Patents
薄膜トランジスタマトリクスInfo
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- JPH027023A JPH027023A JP63159755A JP15975588A JPH027023A JP H027023 A JPH027023 A JP H027023A JP 63159755 A JP63159755 A JP 63159755A JP 15975588 A JP15975588 A JP 15975588A JP H027023 A JPH027023 A JP H027023A
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- gate
- gate bus
- bus line
- bus lines
- gbn
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- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims description 15
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
アクティブマトリクス型液晶表示装置等の表示パネルを
駆動するための、3膜トランジスタマトリクスに関し、 特定のゲートバスライン上でTFTの不良発生率が高く
なることを防止することを目的とし、マトリクス状に配
置された複数個の表示電極と、該表示電極に対応づけて
配置された複数個の薄膜l・ランジスタと、前記表示電
極が形成するマトリクスの各行に対応して配置され、そ
の行に属する薄膜トランジスタのゲート電極に接続する
ゲートバスライン(GB+〜G13N ) とを具備し
た表示パネルにおいて、全ての薄膜トランジスタのゲー
ト電極をバスライン間に介在すべく、最も外側のゲート
バスライン(GB1、 GBN )のそれぞれに接続す
るゲート電極が、互いに対向する方向に向けて配設され
た構成とする。
駆動するための、3膜トランジスタマトリクスに関し、 特定のゲートバスライン上でTFTの不良発生率が高く
なることを防止することを目的とし、マトリクス状に配
置された複数個の表示電極と、該表示電極に対応づけて
配置された複数個の薄膜l・ランジスタと、前記表示電
極が形成するマトリクスの各行に対応して配置され、そ
の行に属する薄膜トランジスタのゲート電極に接続する
ゲートバスライン(GB+〜G13N ) とを具備し
た表示パネルにおいて、全ての薄膜トランジスタのゲー
ト電極をバスライン間に介在すべく、最も外側のゲート
バスライン(GB1、 GBN )のそれぞれに接続す
るゲート電極が、互いに対向する方向に向けて配設され
た構成とする。
本発明は、アクティブマトリクス型液晶表示装H2等の
表示パネルを駆動するための、薄膜トランジスタマl−
リクスに関する。
表示パネルを駆動するための、薄膜トランジスタマl−
リクスに関する。
上記表示パネルは、相互に交差する2種類のバスライン
から、走査信号と表示データを供給して各)ユv膜トラ
ンジスタ(T P T)を駆動することにより、各画素
をオンまたはオフして表示を行っている。このような構
成では、上記2種類のバスラインと各TFT間に短絡が
生じると、TFTマドJクスパネル型表示W!では致命
的なライン欠陥を発生する。
から、走査信号と表示データを供給して各)ユv膜トラ
ンジスタ(T P T)を駆動することにより、各画素
をオンまたはオフして表示を行っている。このような構
成では、上記2種類のバスラインと各TFT間に短絡が
生じると、TFTマドJクスパネル型表示W!では致命
的なライン欠陥を発生する。
(従来の技術〕
一ヒ記表示パネルの例として、液晶表示装置の駆動に用
いられるスタガード型TFT部の構造を、第4図ゆ)の
平面図、及び同図(blの断面図に示す。
いられるスタガード型TFT部の構造を、第4図ゆ)の
平面図、及び同図(blの断面図に示す。
図示したように、ゲート電極G及びこれに接続する走査
信号線となるゲートバスラインGBは、プラズマ化学気
相成長(P−CVD)法によって形成されたゲートv7
!A縁膜2によって被覆され、そのヒにドレイン電極り
、ソース電極Sが形成されている。ソース電極Sは更に
ITOのような透明導電材料からなる表示電極Eと結合
され、ドレイン電極りはデータ線となるドレインバスラ
インDBと結合され、外部回路と接続するための端子に
思出される。
信号線となるゲートバスラインGBは、プラズマ化学気
相成長(P−CVD)法によって形成されたゲートv7
!A縁膜2によって被覆され、そのヒにドレイン電極り
、ソース電極Sが形成されている。ソース電極Sは更に
ITOのような透明導電材料からなる表示電極Eと結合
され、ドレイン電極りはデータ線となるドレインバスラ
インDBと結合され、外部回路と接続するための端子に
思出される。
表示パネルにはこのような構成の表示画素が、ゲートバ
スラインGBの数をN本、ドレインバスラインDBの数
をM木とした場合、NXM個配設される。そしてゲート
電極GはゲートバスラインGllに対しζ聡で同一方向
に向(ように形成され、各画素の配設ピッチを一様なら
しめている。
スラインGBの数をN本、ドレインバスラインDBの数
をM木とした場合、NXM個配設される。そしてゲート
電極GはゲートバスラインGllに対しζ聡で同一方向
に向(ように形成され、各画素の配設ピッチを一様なら
しめている。
従って、第4図(alの素子を多数配置したマトリクス
において、最左端のゲートバスライン上Jを1番目で最
右端をN番目とすると、N番目のゲートバスラインGB
に接続するゲート電極Gおよびこれが属する画素の右側
には、ゲートバスラインが存在しない。これに対して、
1番目〜N−1番目のゲートバスラインGRに接続する
ゲート電極Gおよびごれが属する画素は、すべて2本の
ゲートバスラインGBの間に位置する配置となる。
において、最左端のゲートバスライン上Jを1番目で最
右端をN番目とすると、N番目のゲートバスラインGB
に接続するゲート電極Gおよびこれが属する画素の右側
には、ゲートバスラインが存在しない。これに対して、
1番目〜N−1番目のゲートバスラインGRに接続する
ゲート電極Gおよびごれが属する画素は、すべて2本の
ゲートバスラインGBの間に位置する配置となる。
上記位置関係を有する従来のTPTマトリクスパネルで
は、最右端ラインのTFTの不良発生率が、他のライン
のTFTの不良発生率より高い傾向にある。
は、最右端ラインのTFTの不良発生率が、他のライン
のTFTの不良発生率より高い傾向にある。
即ち、同一製造条件の下で同じTFT7トリクスパネル
を複数個作成し、ゲートバスラインの番号に対するTP
Tの不良発生数の分布を調べると、L記構酸におけるN
番目(最終ライン)以外のゲートバスライン上では、不
良は0個か或いはたまに発生してもたかだか1個であっ
て、しかも2個以」二のパネルにわたって同一番号のゲ
ートバスライン上で不良が発生することは殆どない。
を複数個作成し、ゲートバスラインの番号に対するTP
Tの不良発生数の分布を調べると、L記構酸におけるN
番目(最終ライン)以外のゲートバスライン上では、不
良は0個か或いはたまに発生してもたかだか1個であっ
て、しかも2個以」二のパネルにわたって同一番号のゲ
ートバスライン上で不良が発生することは殆どない。
これに対しN番目のゲートハ゛スライン上では、複数個
のTFT不良が発生したり、複数個のパネルにわたって
TFTの不良が発生することがある。
のTFT不良が発生したり、複数個のパネルにわたって
TFTの不良が発生することがある。
この理由は定かではないが、ゲート絶縁膜2等のP−C
VD法で形成された薄膜上に積層されたドレイン電極り
、ソース電極S等を、ドライエツチングする際やレジス
ト剥離の最終工程でスピン乾燥する際などに、電荷がド
レイン・ソースに蓄積し、ゲート電極との間に電位差が
発生する。
VD法で形成された薄膜上に積層されたドレイン電極り
、ソース電極S等を、ドライエツチングする際やレジス
ト剥離の最終工程でスピン乾燥する際などに、電荷がド
レイン・ソースに蓄積し、ゲート電極との間に電位差が
発生する。
上述の如くゲート電極GはゲートバスラインGBに対し
てどのラインも同一方向に向いて形成されているので、
NXM例の画素のうち、N番目のゲートバスライン上の
ゲート電極Gのみは、全ゲートバスラインの外側に位置
していて、ゲート電極Gが向いた方向にはゲートハスラ
インが存在しない。因みに、他のゲートバスラインに属
するゲート電極Gは、すべて2本のゲートハスラインに
挟まれている。
てどのラインも同一方向に向いて形成されているので、
NXM例の画素のうち、N番目のゲートバスライン上の
ゲート電極Gのみは、全ゲートバスラインの外側に位置
していて、ゲート電極Gが向いた方向にはゲートハスラ
インが存在しない。因みに、他のゲートバスラインに属
するゲート電極Gは、すべて2本のゲートハスラインに
挟まれている。
これ力司二連のTPTの不良発生率の差を生じる原因の
ように考えられる。つまり、ゲート電極Gが2本のゲー
トバスラインG8間に挟まれているときは、ト記電位差
が局部的にP−CVD膜の絶縁耐圧より高くなるような
場合に、ゲートバスラインが何らかの保護の役割を果た
し、絶縁破壊を生じるのを防止するのに対し、一方にゲ
ートバスラインが存在しないN番目のゲートバスライン
上のゲート電極Gには、1記保護がないためp−cvD
膜の絶縁破壊を引き起こすものと解される。
ように考えられる。つまり、ゲート電極Gが2本のゲー
トバスラインG8間に挟まれているときは、ト記電位差
が局部的にP−CVD膜の絶縁耐圧より高くなるような
場合に、ゲートバスラインが何らかの保護の役割を果た
し、絶縁破壊を生じるのを防止するのに対し、一方にゲ
ートバスラインが存在しないN番目のゲートバスライン
上のゲート電極Gには、1記保護がないためp−cvD
膜の絶縁破壊を引き起こすものと解される。
このようにN番目すなわら最終ラインのデー1−ハスラ
モ ンと比較して特異的である。
モ ンと比較して特異的である。
本発明は、特定のゲートバスライン上でT I” Tの
不良発生率が異常に高くなることを防止することを目的
とする。
不良発生率が異常に高くなることを防止することを目的
とする。
本発明は第1図に示す如く、N本のゲートバスラインG
B、〜GINを有するTPTマトリクスにおいて、最も
外側、即ち1番目およびN番目のゲートバスラインGB
+ 、 GBNに接続するゲート電極Gを、いずれも表
示領域の中央側に向けて配設した構成とする。なお上記
表示領域とは、表示電極やゲートハスラインが配設され
た領域を言う。
B、〜GINを有するTPTマトリクスにおいて、最も
外側、即ち1番目およびN番目のゲートバスラインGB
+ 、 GBNに接続するゲート電極Gを、いずれも表
示領域の中央側に向けて配設した構成とする。なお上記
表示領域とは、表示電極やゲートハスラインが配設され
た領域を言う。
1番目およびN番目のゲートバスラインのゲート電極を
、いずれも表示領域の中央側に向けることにより、これ
らのゲート電極は自らのゲートバスラインと隣接するゲ
ートバスラインとの間に挟まれた配置となる。その他の
ゲート電極はもともと2木のゲートバスラインに挟まれ
ているので、4二記構成とすることにより、ゲート電極
はすハ;で2木のゲートバスライン間に位置する配置と
なり、P−CVD膜の絶縁破壊に対してゲートハスライ
ンにより保護されることとなる。
、いずれも表示領域の中央側に向けることにより、これ
らのゲート電極は自らのゲートバスラインと隣接するゲ
ートバスラインとの間に挟まれた配置となる。その他の
ゲート電極はもともと2木のゲートバスラインに挟まれ
ているので、4二記構成とすることにより、ゲート電極
はすハ;で2木のゲートバスライン間に位置する配置と
なり、P−CVD膜の絶縁破壊に対してゲートハスライ
ンにより保護されることとなる。
なお言うまでもないことではあるが、他のゲートバスラ
インGBz〜GBM−1に接続ずろゲート電極Gは、ど
ちらの方向を向いていてもよい。
インGBz〜GBM−1に接続ずろゲート電極Gは、ど
ちらの方向を向いていてもよい。
以下本発明の一実施例を第2図により説明する。
本実施例はN本のデー1−ハスラインGB、〜GB。
を、左側の群即ちゲートバスラインGB、〜G[h/z
と、右側の群111ちデー1−ハスラインGB(N/2
) + l〜GBNの2群に分け、左側の群はデート電
極Gを右側に向け、右側の群はゲート電極Gを左側に向
けた配置とした。
と、右側の群111ちデー1−ハスラインGB(N/2
) + l〜GBNの2群に分け、左側の群はデート電
極Gを右側に向け、右側の群はゲート電極Gを左側に向
けた配置とした。
この配置関係を、A部を拡大したBで示す円内の図に示
す。同図に見られる如く、本実施例では表示領域10の
中央部でゲート電極Gの配設方向を反転し、中心線に関
して対称配置とした。
す。同図に見られる如く、本実施例では表示領域10の
中央部でゲート電極Gの配設方向を反転し、中心線に関
して対称配置とした。
このような配置とするには、右側の群のゲートバスライ
ンGB t、4iz、−1””GBNの位置を、従来構
成において一つ右のゲートバスラインGB (N/2)
+g〜GBN、、が配設される位置とする。従って、
パネルの中央部でゲートバスラインGBが1本欠けるこ
ととなる。そのためこの部分では光がパネルを上下に透
過し、画質が低−ドすることとなる。本実施例で中央部
に遮光用ダミーハスラインDMBを設けたのは、この部
分に入ってくる光を遮るためである。
ンGB t、4iz、−1””GBNの位置を、従来構
成において一つ右のゲートバスラインGB (N/2)
+g〜GBN、、が配設される位置とする。従って、
パネルの中央部でゲートバスラインGBが1本欠けるこ
ととなる。そのためこの部分では光がパネルを上下に透
過し、画質が低−ドすることとなる。本実施例で中央部
に遮光用ダミーハスラインDMBを設けたのは、この部
分に入ってくる光を遮るためである。
またこのようにダミーバスラインDIIIBを配設する
ことにより、ゲートバスラインGBの配設ピッチを表示
領域10全域にわたって一様とすることができる。
ことにより、ゲートバスラインGBの配設ピッチを表示
領域10全域にわたって一様とすることができる。
次に本発明の他の実施例を第3図により説明する。
本変形例は、最右端のゲートバスラインGBNのみゲー
ト電極Gの配設方向を反転した例である。
ト電極Gの配設方向を反転した例である。
即ち、同図に示すように、1番目ないしN−1番目のゲ
ートバスラインGB+ −GBN−1は、ゲート電極G
を右側に向け、右端のゲートハスラインGB、を本来ゲ
ートバスラインGB、、、が配設される位置に設けて、
これのゲート電極Gを左側に向け、更にケートバスライ
ンGBn−+ とゲートバスラインGB。
ートバスラインGB+ −GBN−1は、ゲート電極G
を右側に向け、右端のゲートハスラインGB、を本来ゲ
ートバスラインGB、、、が配設される位置に設けて、
これのゲート電極Gを左側に向け、更にケートバスライ
ンGBn−+ とゲートバスラインGB。
との間、即ち本来ゲートハスラインGB、が配設される
位置に、遮光用ダミーバスラインDMBを設けて余分な
光が透過しないよう遮光する。
位置に、遮光用ダミーバスラインDMBを設けて余分な
光が透過しないよう遮光する。
同図のBで示す円内の図は、上記配置関係を示すための
A部拡大図である。
A部拡大図である。
以」二述べた一実施例および他の実施例では、すべての
ゲート電極Gが2本のゲートハスラインに挟まれた配置
関係となるよう構成されたごとにより、特定のゲートハ
スラインにTFT不良が発生する現象がなくなり、薄膜
トランジスダマ1−リクスの製造歩留が向上した。従っ
て、アクティブマトリクス型液晶表示パネル等への適用
において高表示品質化が図れる効果がある。
ゲート電極Gが2本のゲートハスラインに挟まれた配置
関係となるよう構成されたごとにより、特定のゲートハ
スラインにTFT不良が発生する現象がなくなり、薄膜
トランジスダマ1−リクスの製造歩留が向上した。従っ
て、アクティブマトリクス型液晶表示パネル等への適用
において高表示品質化が図れる効果がある。
以上説明した如(本発明によれば、製造工程中の静電気
による絶縁破壊が減少し、薄膜トランジスタマトリクス
の製造歩留が向上する。
による絶縁破壊が減少し、薄膜トランジスタマトリクス
の製造歩留が向上する。
第1図は本発明の構成説明図、
第2図は本発明の詳細な説明図、
第3図は本発明の他の実施例説明図、
第4図はTPTマトリクスの構造説明図である。
図において、Gはゲート電極、GB、 GB、、 GB
、。 GBN/□+ GB INyt+ ++ + GBNは
ゲートバスライン、DBはドレインバスライン、Dはド
レイン電極、Sはソース電極、Eは表示電極、1は絶縁
性基板、10は表示領域を示す。 第 図 本発明の構成説明図 第 1 図 本発明の他の実施例構成説明図 第 3 図
、。 GBN/□+ GB INyt+ ++ + GBNは
ゲートバスライン、DBはドレインバスライン、Dはド
レイン電極、Sはソース電極、Eは表示電極、1は絶縁
性基板、10は表示領域を示す。 第 図 本発明の構成説明図 第 1 図 本発明の他の実施例構成説明図 第 3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マトリクス状に配置された複数個の表示電極(E)と、
該表示電極に対応づけて配置された複数個の薄膜トラン
ジスタと、前記表示電極が形成するマトリクスの各行に
対応して配置され、その行に属する薄膜トランジスタの
ゲート電極(G)に接続するゲートバスライン(GB_
1〜GB_N)とを具備した表示パネルにおいて、 全ての薄膜トランジスタのゲート電極をバスライン間に
介在すべく、最も外側のゲートバスライン(GB_1、
GB_N)のそれぞれに接続するゲート電極を、互いに
対向する方向に向けて配設したことを特徴とする薄膜ト
ランジスタマトリクス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15975588A JPH0760234B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 薄膜トランジスタマトリクス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15975588A JPH0760234B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 薄膜トランジスタマトリクス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH027023A true JPH027023A (ja) | 1990-01-11 |
JPH0760234B2 JPH0760234B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=15700552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15975588A Expired - Fee Related JPH0760234B2 (ja) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | 薄膜トランジスタマトリクス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0760234B2 (ja) |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP15975588A patent/JPH0760234B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0760234B2 (ja) | 1995-06-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |