JPH026349A - 光ファイバ線引炉 - Google Patents
光ファイバ線引炉Info
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- JPH026349A JPH026349A JP15235088A JP15235088A JPH026349A JP H026349 A JPH026349 A JP H026349A JP 15235088 A JP15235088 A JP 15235088A JP 15235088 A JP15235088 A JP 15235088A JP H026349 A JPH026349 A JP H026349A
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- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000012681 fiber drawing Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 16
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- 238000005422 blasting Methods 0.000 abstract 6
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
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- C03B2205/63—Ohmic resistance heaters, e.g. carbon or graphite resistance heaters
-
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- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は光ファイバの線引炉に関し、光フアイバ用ガラ
ス母材が加熱溶融される加熱室の上部でのガス対流を防
止するようにしたものである。
ス母材が加熱溶融される加熱室の上部でのガス対流を防
止するようにしたものである。
〈従来の技術〉
光ファイバは一般に、棒状の光ファイバ用ガラス母材を
炉中で加熱軟化させて延伸することにより線引きされろ
。このような光ファイバの製造にはカーボン抵抗炉が用
いられろことが多い。
炉中で加熱軟化させて延伸することにより線引きされろ
。このような光ファイバの製造にはカーボン抵抗炉が用
いられろことが多い。
従来の線引炉の一例を第３図に示す。同図に示すように
、炉本体ｌには加熱源としてカーボン炉芯管２とカーボ
ン抵抗ヒータ３とが設けられている。このカーボン炉芯
管２の内方が加熱室となっており、炉芯管２に挿入され
た光ファイバ用ガラス母材（以下、単にプリフォームと
いう）４は、炉芯管２内にて加熱軟化されて光ファイバ
５に線引きされろ。
、炉本体ｌには加熱源としてカーボン炉芯管２とカーボ
ン抵抗ヒータ３とが設けられている。このカーボン炉芯
管２の内方が加熱室となっており、炉芯管２に挿入され
た光ファイバ用ガラス母材（以下、単にプリフォームと
いう）４は、炉芯管２内にて加熱軟化されて光ファイバ
５に線引きされろ。
そして、この種の線引炉では炉芯ｖ！：２及びヒータ３
の酸化劣化を防止するために、炉本体工を気密構造とし
、且つ炉芯管２内にはその上部のガス導入部６から下部
へ向って不活性ガスを導入するとともにプリフォーム４
の押入口にはプリフォーム支持棒７と密着して気密を保
つシャッタ８が設けられている。
の酸化劣化を防止するために、炉本体工を気密構造とし
、且つ炉芯管２内にはその上部のガス導入部６から下部
へ向って不活性ガスを導入するとともにプリフォーム４
の押入口にはプリフォーム支持棒７と密着して気密を保
つシャッタ８が設けられている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら前述した線引炉においては、線引が進んで
プリフォーム４が短くなると、特に初めに長いプリフォ
ームを使用した場合には、プリフォーム４の上端位置（
支持棒７どの継ぎ目）の上方に、いわゆるエントラ部と
呼ばれる線引き方向に長く且つ広い空間ができてしまう
。このような空間においては、不活性ガスの量が多く、
かつ不活性ガスの流速が速いので、均一に熱されにくく
且つ上部と加熱部近傍とにおけろ温度差が大きくなり、
不活性ガスの対流が生じてしまうという問題がある。こ
のようなガス対流が生じるとプリフォーム４の加熱溶融
領域の雰囲気の変動が引き起こされ、線引きされた光フ
ァイバに線径変動が生じてしまう。
プリフォーム４が短くなると、特に初めに長いプリフォ
ームを使用した場合には、プリフォーム４の上端位置（
支持棒７どの継ぎ目）の上方に、いわゆるエントラ部と
呼ばれる線引き方向に長く且つ広い空間ができてしまう
。このような空間においては、不活性ガスの量が多く、
かつ不活性ガスの流速が速いので、均一に熱されにくく
且つ上部と加熱部近傍とにおけろ温度差が大きくなり、
不活性ガスの対流が生じてしまうという問題がある。こ
のようなガス対流が生じるとプリフォーム４の加熱溶融
領域の雰囲気の変動が引き起こされ、線引きされた光フ
ァイバに線径変動が生じてしまう。
本発明はこのような問題点に鑑み、プリフォームが加熱
溶融される加熱室上部でのガス対流を防止して均一な安
定した線引きを行うことができろようにした光ファイバ
線引炉を提供することを目的とする。
溶融される加熱室上部でのガス対流を防止して均一な安
定した線引きを行うことができろようにした光ファイバ
線引炉を提供することを目的とする。
く課題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明にかがる光ファイバ線引炉は
、不活性ガスが流し込まれろ加熱室中で光ファイバ用ガ
ラス母材を加熱軟化させつつ延伸して光ファイバに線引
きする光ファイバ線引炉において、上記加熱室内に流し
込まれる不活性ガスの吹出口を、当該加熱室の光ファイ
バ用ガラス母材の加熱領域の上部壁面に線引方向に亘っ
て均一に設けたことを特徴とし、さらに、上記光ファイ
バ線引炉において、上記加熱室の光ファイバ母材の上方
の空間を塞ぎ且つ当該光ファイバ母材とともに線引方向
に移動自在となる移動部材を有することを特徴とする。
、不活性ガスが流し込まれろ加熱室中で光ファイバ用ガ
ラス母材を加熱軟化させつつ延伸して光ファイバに線引
きする光ファイバ線引炉において、上記加熱室内に流し
込まれる不活性ガスの吹出口を、当該加熱室の光ファイ
バ用ガラス母材の加熱領域の上部壁面に線引方向に亘っ
て均一に設けたことを特徴とし、さらに、上記光ファイ
バ線引炉において、上記加熱室の光ファイバ母材の上方
の空間を塞ぎ且つ当該光ファイバ母材とともに線引方向
に移動自在となる移動部材を有することを特徴とする。
く作 用〉
前記構成のように、不活性ガスの吹出口を加熱室の上部
壁面に線引方向に亘って均一に設けるとその吹田面積が
大となるので同一流量を流し込む場合に流速が小さくな
る。したがって、加熱領域に到達するまでの時間が長く
なり、加熱室内のガス温度が均一化される。
壁面に線引方向に亘って均一に設けるとその吹田面積が
大となるので同一流量を流し込む場合に流速が小さくな
る。したがって、加熱領域に到達するまでの時間が長く
なり、加熱室内のガス温度が均一化される。
また、前述したような移動部材を設けろと、光ファイバ
用ガラス母材の残長が短くなってもその上方の空間が当
該移動部材により塞がれるので、不活性ガスは移動部材
の下方の加熱室の壁面とガラス母材との間の空間のみを
流れるようになり、当該加熱室内のガス温度が均一化さ
れろ。
用ガラス母材の残長が短くなってもその上方の空間が当
該移動部材により塞がれるので、不活性ガスは移動部材
の下方の加熱室の壁面とガラス母材との間の空間のみを
流れるようになり、当該加熱室内のガス温度が均一化さ
れろ。
く実 施 例〉
以下、本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明
する。なお、図中、第３図と同一部材には同一符号を付
して重複した説明は省略する。
する。なお、図中、第３図と同一部材には同一符号を付
して重複した説明は省略する。
第１図に（よ第１の実施例にかかる光ファイバ線引炉の
構成を示す。同図に示すように、加熱室を形成する炉芯
ｐｆ！ｒ１０の上部壁面には全体に亘って均一に多数の
不活性ガス吹田口１１が形成されており、これら多数の
不活性ガス吹出口１１は、炉芯管１０と炉本体１との間
に設けられた不活性ガス保持室１２に連通している。こ
の不活性ガス保持室１２には流量コントローラ１３を介
して図示しない不活性ガス供給源から不活性ガスが導入
されており、不活性ガス保持室１２に保持さた不活性ガ
スは多数の吹田口１１から均一に炉芯管１０内に流れ込
むようになっている。
構成を示す。同図に示すように、加熱室を形成する炉芯
ｐｆ！ｒ１０の上部壁面には全体に亘って均一に多数の
不活性ガス吹田口１１が形成されており、これら多数の
不活性ガス吹出口１１は、炉芯管１０と炉本体１との間
に設けられた不活性ガス保持室１２に連通している。こ
の不活性ガス保持室１２には流量コントローラ１３を介
して図示しない不活性ガス供給源から不活性ガスが導入
されており、不活性ガス保持室１２に保持さた不活性ガ
スは多数の吹田口１１から均一に炉芯管１０内に流れ込
むようになっている。
このような構造とすることにより、不活性ガス吹出口１
１の開口面積は従来より大きくなるので、同一流量を流
し込む場合に流速が小さくなる。したがって、不活性ガ
スがプリフォーム４の加熱領域まで流れていく時間が長
くなるので、十分加熱され、加熱室内のガス温度が均一
化される。
１の開口面積は従来より大きくなるので、同一流量を流
し込む場合に流速が小さくなる。したがって、不活性ガ
スがプリフォーム４の加熱領域まで流れていく時間が長
くなるので、十分加熱され、加熱室内のガス温度が均一
化される。
上述した第１の実施例にかかる光ファイバ線引炉により
、長さが５００調と１０００ ＋＋ｕｓのプリフォーム
をそれぞれ用いて１２５声の光ファイバを線引きした場
合の線径変動について評価したところ、第１表に示すよ
うに、プリフォーム長が５００間のときも１０００間の
ときも±０．２／Ｊ１の線径変動があっただけであった
。
、長さが５００調と１０００ ＋＋ｕｓのプリフォーム
をそれぞれ用いて１２５声の光ファイバを線引きした場
合の線径変動について評価したところ、第１表に示すよ
うに、プリフォーム長が５００間のときも１０００間の
ときも±０．２／Ｊ１の線径変動があっただけであった
。
比較のために、第３図に示す従来の線引炉で同様に長さ
５００ｍｙ＊、 １０００ｍｍのプリフォームを線引
きしたところ、同じく第１表に示すように、５００ｍｎ
＋のプリフォームの場合には±０．３／Ｊの線径変動が
あっただけだったが、１０００臘の場合には３声の線径
変動が生じた。
５００ｍｙ＊、 １０００ｍｍのプリフォームを線引
きしたところ、同じく第１表に示すように、５００ｍｎ
＋のプリフォームの場合には±０．３／Ｊの線径変動が
あっただけだったが、１０００臘の場合には３声の線径
変動が生じた。
以上の結果より、上記実施例の線引炉を用いた場合には
、長さが１０００ ｍｍのプリフォームを使用しても最
後までその上方空間においてガス対流が生じないが、従
来の線引炉を用いた場合には、長さが１０００ｍｍのプ
リフォームを使用した場合にはプリフォーム残長が小さ
くなるとその上方空間においてガス対流が生じて、線径
変動が引き起こされろことが認められた。
、長さが１０００ ｍｍのプリフォームを使用しても最
後までその上方空間においてガス対流が生じないが、従
来の線引炉を用いた場合には、長さが１０００ｍｍのプ
リフォームを使用した場合にはプリフォーム残長が小さ
くなるとその上方空間においてガス対流が生じて、線径
変動が引き起こされろことが認められた。
第１表
次に、第２の実施例にかかる光ファイバ線引炉を第２図
を参照しながら説明する。同図に示すように、加熱室を
形成する炉芯管２０の上部壁面には第１の実施例と同じ
ように多数の不活性ガス吹田口２１が形成されており、
これら多数の不活性ガス吹田口２１は、炉芯管２０と本
体１との間に設けられた不活性ガス保持室２２に連通し
ている。この不活性ガス保持室２２には流量コントロー
ラ２３を介して図示しない不活性ガス供給源から不活性
ガスが導入されており、不活性ガス保持室２２に保持さ
れた不活性ガスは多数の吹出口１１から均一に炉芯％”
２０内に流れ込むようになっている。
を参照しながら説明する。同図に示すように、加熱室を
形成する炉芯管２０の上部壁面には第１の実施例と同じ
ように多数の不活性ガス吹田口２１が形成されており、
これら多数の不活性ガス吹田口２１は、炉芯管２０と本
体１との間に設けられた不活性ガス保持室２２に連通し
ている。この不活性ガス保持室２２には流量コントロー
ラ２３を介して図示しない不活性ガス供給源から不活性
ガスが導入されており、不活性ガス保持室２２に保持さ
れた不活性ガスは多数の吹出口１１から均一に炉芯％”
２０内に流れ込むようになっている。
また、炉芯＠２０には、その内径とほぼ同一の外径とな
る円筒状のシールピストン２４が上方から挿入されてい
る。このシールピストン２４は、その中心にプリフォー
ム支持棒７が貫通する貫通孔２５を有してプリフォーム
４の上方の炉芯管２０内の空間を塞ぐように形成されて
おり、保持治具２６によりプリフォーム支持棒７と連結
されてプリフォーム４とともに同期して降下するように
なっている。すなわち、シールピストン２４は本実施例
の移動部材となっている。
る円筒状のシールピストン２４が上方から挿入されてい
る。このシールピストン２４は、その中心にプリフォー
ム支持棒７が貫通する貫通孔２５を有してプリフォーム
４の上方の炉芯管２０内の空間を塞ぐように形成されて
おり、保持治具２６によりプリフォーム支持棒７と連結
されてプリフォーム４とともに同期して降下するように
なっている。すなわち、シールピストン２４は本実施例
の移動部材となっている。
本実施例の線引炉を用いて線引きを行うと、プリフォー
ム４が徐々に短くなっていっても、当該プリフォーム４
に一定間隔をあけて連結された移動部材２４がプリフォ
ーム４とともに降下するようになっているので、プリフ
ォーム４の上方の加熱室内の空間は常に一定となる。こ
のとき不活性ガスは移動部材２４により塞がれていない
吹出口２１から吹き出すようになり、また、その流量は
流量コントローラ２３により制御されＣ常に一定の流速
で吹き出すように設定されている。
ム４が徐々に短くなっていっても、当該プリフォーム４
に一定間隔をあけて連結された移動部材２４がプリフォ
ーム４とともに降下するようになっているので、プリフ
ォーム４の上方の加熱室内の空間は常に一定となる。こ
のとき不活性ガスは移動部材２４により塞がれていない
吹出口２１から吹き出すようになり、また、その流量は
流量コントローラ２３により制御されＣ常に一定の流速
で吹き出すように設定されている。
このような構成とすることにより、プリフォーム４の残
長が小さくなっても、その上方の空間はシールピストン
２４により塞がれているので、いわゆるエントラ部がな
くなり、不活性ガスは常に炉芯管２０とプリフォーム４
との間に形成された小さい空間内を流れるようになる。
長が小さくなっても、その上方の空間はシールピストン
２４により塞がれているので、いわゆるエントラ部がな
くなり、不活性ガスは常に炉芯管２０とプリフォーム４
との間に形成された小さい空間内を流れるようになる。
したがって、不活性ガスは常に充分に且つ均一に加熱さ
れるようになるので、ガスの対流が防止されて、加熱溶
融部の雰囲気も一定に保たれろ。
れるようになるので、ガスの対流が防止されて、加熱溶
融部の雰囲気も一定に保たれろ。
かかる第２の実施例の線引炉により長さ１０００ ｍｍ
のプリフォームを用いて１２５声の光ファイバを線引き
し、プリフォーム残長と線径変動との関係について調べ
たところ、第２表に示すように、線径変動はプリフォー
ム残長の大小にかかわりなく一定であった。
のプリフォームを用いて１２５声の光ファイバを線引き
し、プリフォーム残長と線径変動との関係について調べ
たところ、第２表に示すように、線径変動はプリフォー
ム残長の大小にかかわりなく一定であった。
また、比較のため、第３図に示す従来の線引炉により同
様な綿引きを行い、線径変動とプリフォーム残長との関
係を調べたところ、プリフォーム残長が小さくなればな
るほど大きな線径変動が生じた。
様な綿引きを行い、線径変動とプリフォーム残長との関
係を調べたところ、プリフォーム残長が小さくなればな
るほど大きな線径変動が生じた。
このように上記第２の実施例の線引炉によれば、従来の
ようにプリフォーム残長の大小に影響されろことなく、
常に安定した線引が実現できることが認められた。
ようにプリフォーム残長の大小に影響されろことなく、
常に安定した線引が実現できることが認められた。
第 ２ 表
〈発明の効果〉
以上実施例とともに説明したように、本発明の光ファイ
バ線引炉によれば、プリフォーム上方の加熱室内でのガ
ス対流が防止されるので、長いプリフォームを用いて締
引きする場合に、そのプリフォーム残長の大小にかかわ
りなく常に均一な安定した線引きを行うことができる。
バ線引炉によれば、プリフォーム上方の加熱室内でのガ
ス対流が防止されるので、長いプリフォームを用いて締
引きする場合に、そのプリフォーム残長の大小にかかわ
りなく常に均一な安定した線引きを行うことができる。
第１図は第１の本実施例にかかる光ファイバ線引炉を示
す構成図、第２図は第２の実施例にかかる光ファイバ線
引炉を示す構成図、第３図は従来技術にかかる光ファイ
バ線引炉を示す構成図である。 図 面 中、 １は炉本体、 ３はカーボン抵抗ヒータ、 ４はプリフォーム・ ５は光ファイバ、 １０．２０は炉芯管、 １１．２１は不活性ガス吹出口、 １２．２２は不活性ガス保持室、 ２３．２４は流量コントローラ、 ２５はシールピストン、 ２７は保持治具である。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
す構成図、第２図は第２の実施例にかかる光ファイバ線
引炉を示す構成図、第３図は従来技術にかかる光ファイ
バ線引炉を示す構成図である。 図 面 中、 １は炉本体、 ３はカーボン抵抗ヒータ、 ４はプリフォーム・ ５は光ファイバ、 １０．２０は炉芯管、 １１．２１は不活性ガス吹出口、 １２．２２は不活性ガス保持室、 ２３．２４は流量コントローラ、 ２５はシールピストン、 ２７は保持治具である。 特 許 出 願 人 住友電気工業株式会社 代 理 人
Claims (2)
- （１）不活性ガスが流し込まれる加熱室中で光ファイバ
用ガラス母材を加熱軟化させつつ延伸して光ファイバに
線引きする光ファイバ線引炉において、上記加熱室内に
流し込まれる不活性ガスの吹出口を、当該加熱室の光フ
ァイバ用ガラス母材の加熱領域の上部壁面に線引方向に
亘って均一に設けたことを特徴とする光ファイバ線引炉
。 - （２）請求項１記載の光ファイバ線引炉において、上記
加熱室の光ファイバ母材の上方の空間を塞ぎ且つ当該光
ファイバ母材とともに線引方向に移動自在となる移動部
材を有することを特徴とする光ファイバ線引炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15235088A JP2542679B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 光ファイバ線引炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15235088A JP2542679B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 光ファイバ線引炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026349A true JPH026349A (ja) | 1990-01-10 |
| JP2542679B2 JP2542679B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=15538620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15235088A Expired - Lifetime JP2542679B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 光ファイバ線引炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2542679B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5176976A (en) * | 1990-04-09 | 1993-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic electronic material and electrophotographic photosensitive member containing same |
| US6668592B1 (en) | 1998-04-03 | 2003-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing furnace having adjustable partitions |
-
1988
- 1988-06-22 JP JP15235088A patent/JP2542679B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5176976A (en) * | 1990-04-09 | 1993-01-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic electronic material and electrophotographic photosensitive member containing same |
| US6668592B1 (en) | 1998-04-03 | 2003-12-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber drawing furnace having adjustable partitions |
| US6810692B2 (en) | 1998-04-03 | 2004-11-02 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of controlling an upper portion of an optical fiber draw furnace |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2542679B2 (ja) | 1996-10-09 |
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