JPH0260039A - イオン源 - Google Patents

イオン源

Info

Publication number
JPH0260039A
JPH0260039A JP20970088A JP20970088A JPH0260039A JP H0260039 A JPH0260039 A JP H0260039A JP 20970088 A JP20970088 A JP 20970088A JP 20970088 A JP20970088 A JP 20970088A JP H0260039 A JPH0260039 A JP H0260039A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
ion generation
ion
room
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20970088A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2615895B2 (ja
Inventor
Fumio Fukumaru
福丸 文雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP20970088A priority Critical patent/JP2615895B2/ja
Publication of JPH0260039A publication Critical patent/JPH0260039A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2615895B2 publication Critical patent/JP2615895B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、イオン注入装置などに使用するイオン源に
関する。
(従来の技術) イオン源において、真空とされたチャンバーの内部に、
イオン化物質たとえばソースガスを供給し、チャンバー
とフィラメントとの間でアーク放電を起こさせて、ソー
スガスを電離させてイオンを発生するようにしたイオン
源は、既によく知られている。
第2図は従来のこの種イオン源特に多極磁場型イオン源
を示し、1は内部が真空とされているパケット型のチャ
ンバーで、その内部がイオン生成室2とされている。3
はカソードフィラメント、4はプラズマ電極、5はカス
プ磁場を形成するための磁石(たとえば永久磁石)で、
チャンバー1の外側の周囲に複数取り付けられている。
チャンバー1の内部にソースガスを供給するとともに、
チャンバー1とカソードフィラメント3との間でアーク
放電を発生させる。このアーク放電によってソースガス
は電離され、イオンを発生する。このとき磁石5による
カスプ磁場によって。
イオンは効率良く発生する0発生したイオンはプラズマ
電極4によってイオンビームとして外部に引き出される
(発明が解決しようとする課題) ところでこのような構成のイオン源において、イオン化
対象となる元素若しくは化合物の、イオン生成室内にお
いて維持する必要のある圧力範囲は1通常I X 1O
−2Pa〜IPa程度である。金属等の元素では、飽和
蒸気を上記圧力にするためには、温度1400°に以上
を必要とする元素が多い。
従来ではイオン生成室内を高温に維持するのに、カソー
ドフィラメントからの熱のみに依存していた。しかしこ
れでは目的とする高温を維持するのには不足であった。
イオン生成室内の高温化が達成されないと、必要圧力の
維持が困難となり、かつイオン生成室内の構造物の表面
に、ソースガス、放電生成物などが多量に付着するよう
になる。
イオン生成室内の高温化のために、カソードフィラメン
トへの供給電力を増大させることが考えられる。しかし
カソードフィラメント電力の増減は、放電状態の制御を
困難にする。すなわちイオン生成室内の温度を制御しよ
うとしてカソードフィラメント電力を増減すると、放電
状態が変化してしまう可能性が大きい。
チャンバーの外部から加熱する方法も考えられるが、外
部からの加熱は加熱効率が悪く、そのため充分に加熱し
ようとするには、多大の電力が必要となる。
この発明は、放電条件の変更を伴うことなく、かつ高加
熱効率によってイオン生成室の内部温度を高めることを
目的とする。
(課題を解決するための手段) この発明は、イオン生成室の内部に、カソードフィラメ
ントとは別に、加熱のみを目的とするヒータフィラメン
トを設置したことを特徴とする。
(作用) ヒータフィラメントに通電して発熱させると、これから
の輻射熱により、イオン生成室の内部は加熱高温化され
る。カソードフィラメントへの供給電力を増減させる必
要がないので、イオン生成室内のアーク放電条件を変更
することなく、イオン生成室内の高温化が可能となる。
(実施例) この発明の実施例を第1図によって説明する。
なお第2図と同じ符号を付した部分は、同一または対応
する部分を示す。この発明にしたがい、ヒータフィラメ
ント6を、イオン生成室2の内部に設置する。
ヒータフィラメント6の材料としては、高温に耐えるも
の、たとえばタングステンなどが望ましい。
ヒータフィラメント6からの電子の放出を抑えるために
は、ヒータフィラメント6への電力供給電源電位を、チ
ャンバー1の電位、すなわちアーク放電のプラス側の電
位に電位固定しておくとよい。このようにしておくとヒ
ータフィラメント6からは電子は放出されない。
またヒータフィラメント6は、イオン生成室2を構成す
るチャンバ1およ°びプラズマ電極4をできるだけ均等
に加熱する位置に配置することが望ましい。
以上の構成において、イオン生成室2の内部においてチ
ャンバー1とカソードフィラメント3との間でのアーク
放電により、ソースガスは電離されイオンを発生する。
発生したイオンはプラズマ電極4によってイオンビーム
として外部に引き出される。このような作用は従来構成
のものと同じである。
この過程においてイオン生成室2の内部は、ヒータフィ
ラメント6への通電によって発生する熱により加熱され
る。その発熱量は供給電力によって任意に設定される。
これによってイオン生成室2内の高温化が、放電状態を
決定するカソードフィラメント3の発熱状態を固定した
ままで可能となる。またイオン生成室2内からの熱供給
によるので、外部からの加熱による場合に比較して加熱
効率は高い。
(発明の効果) 以上詳述したようにこの発明によれば、カソードフィラ
メントとは別にヒータフィラメントを設置し、これから
の熱によってイオン生成室内の高温化を図るようにした
ので、イオン化に必要な放電条件を固定したままで、そ
の高温化が可能となるし、また加熱効率も向上するとい
った効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例を示す断面図、第2図は従来
例を示す断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 チャンバの内部のイオン生成室に、カソードフィラメン
    トを設置し、前記イオン生成室の内部で発生する放電に
    よってイオン化物質をイオン化するイオン源において、 前記イオン生成室の内部に、前記カソードフィラメント
    とは別に、前記イオン生成室の内部を加熱するだけのた
    めのヒータフィラメントを設置してなるイオン源。
JP20970088A 1988-08-24 1988-08-24 イオン源 Expired - Lifetime JP2615895B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20970088A JP2615895B2 (ja) 1988-08-24 1988-08-24 イオン源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20970088A JP2615895B2 (ja) 1988-08-24 1988-08-24 イオン源

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0260039A true JPH0260039A (ja) 1990-02-28
JP2615895B2 JP2615895B2 (ja) 1997-06-04

Family

ID=16577187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20970088A Expired - Lifetime JP2615895B2 (ja) 1988-08-24 1988-08-24 イオン源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2615895B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2615895B2 (ja) 1997-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3652702B2 (ja) プラズマ処理用線形アーク放電発生装置
JP2002117780A (ja) イオン注入装置用のイオン源およびそのためのリペラ
EP0249658B1 (en) Ion source device
JP2664094B2 (ja) 金属イオン源および金属イオン生成方法
JPH0531260B2 (ja)
US4506160A (en) Ion source apparatus
RU2167466C1 (ru) Плазменный источник ионов и способ его работы
JP2615895B2 (ja) イオン源
JP2540492B2 (ja) イオン源用ア−クチヤンバ−装置
JP2643763B2 (ja) イオン打込み方法
RU2035789C1 (ru) Способ получения пучка ускоренных частиц в технологической вакуумной камере
JPH051895Y2 (ja)
JPS5941509B2 (ja) 強付着性の特に硬質炭素層を大きな面積に蒸着するための装置
JPH042031A (ja) イオン源装置
JPS594045Y2 (ja) 薄膜生成用イオン化装置
JPH069040U (ja) イオン源
JPS63282257A (ja) イオンプレ−ティング装置
JPH0261940A (ja) イオン源
JPH05266845A (ja) イオン源
JPS62163242A (ja) プラズマ源
JPH06176888A (ja) イオン源
JPS5811009Y2 (ja) イオン源装置
JPH0195454A (ja) 高ドーズイオン注入装置
JP2593292Y2 (ja) 金属イオン源輻射リフレクタ構造
JPH02162638A (ja) イオン源電極の加熱