JPH0259673A - サンプリング装置 - Google Patents

サンプリング装置

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JPH0259673A
JPH0259673A JP21074288A JP21074288A JPH0259673A JP H0259673 A JPH0259673 A JP H0259673A JP 21074288 A JP21074288 A JP 21074288A JP 21074288 A JP21074288 A JP 21074288A JP H0259673 A JPH0259673 A JP H0259673A
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JP
Japan
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cleaning
probe
cleaning chamber
chamber
sample
Prior art date
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Pending
Application number
JP21074288A
Other languages
English (en)
Inventor
Masumi Suzuki
真澄 鈴木
Kyoko Imai
恭子 今井
Hiroshi Umetsu
梅津 広
Tadashi Oishi
大石 忠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0259673A publication Critical patent/JPH0259673A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/10Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
    • G01N35/1004Cleaning sample transfer devices

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、サンプリング装置に係り、特に試料又は試薬
を反応容器へ分注するプローブを洗浄するに好適な洗浄
装置を備えたサンプリング装置に関する。
〔従来の技術〕
ディスクリートタイプの臨床用自動分析装置では、試料
および試薬をピペッティングプローブを用いて反応容器
の列へ次々と分注することが行われる。同じプローブに
よって次々と異なる試料あるいは試薬を分注しなければ
ならないから、そのプローブは分注の都度洗浄液によっ
て洗浄される。
初期の自動分析装置におけるプローブの洗浄例は、特公
昭39−18296に示されている。この従来技術は、
洗浄液体溜から試料吸入ノズル内に洗浄液を吸入し、フ
ローセルの方へ流入するものである。ノズルは洗浄液体
清白に侵入されるからノズル外壁もある程度洗浄される
が、汚染された洗浄液に浸漬されることになるから洗浄
の程度は充分ではない。
ピペッティングプローブの内壁を洗浄する例としては、
例えば米国特許第3484207号および特開昭63−
70169号が知られている。米国特許第348420
7号は、試料および試薬をプローブから吐出した後、プ
ローブを廃液槽上に移動してプローブから洗浄液を排出
し、プローブ内壁を洗浄している。また、特開昭63−
70169号は、試薬をプローブから吐出した後、プロ
ーブから乱流領域の速度で洗浄水を吐出することによっ
てプローブ内壁に残っている試薬を洗浄している。
従来行われている最も一般的な洗浄方法は、特公昭59
−22905号に示されているように、洗浄槽内ヘプロ
ーブを挿入し、プローブから洗浄液を排出すると同時に
プローブ外壁へも洗浄液を吹き付ける方法である。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した米国特許第3484207号および特開昭63
−70169号は、プローブ外壁を洗浄する点について
配慮されていない。臨床用自動分析装置では血液試料や
種々の試薬を扱うが、血漿試料や粘性の高い試薬を分注
する際には分注プローブの内外壁に血漿や試薬が残留し
やすい。特公昭59−22905号に示されたような洗
浄槽では、洗浄槽内の洗浄液が溜まるため、プローブか
ら排出された不要試料又は不要試薬が洗浄液に拡散しプ
ローブ外壁を再汚染するという問題がある。このため被
検項目の測定誤差を極めて小さくしなければならない場
合には、洗浄時間を長くしなければならなかった。
本発明の目的は、プローブの内壁および外壁の高い洗浄
効果が得られるサンプリング装置を提供することにある
〔課題を解決するための手段〕
本発明では、洗浄装置に、分注用プローブからの不要の
試料又は試薬の排出液を受け入れる第1の洗浄室と、こ
の第1の洗浄室に連通されており。
プローブ外壁洗浄用洗浄液が噴射されると共にプローブ
から内壁洗浄用洗浄液が排出される第2の洗浄室とを設
け、プローブを上記第1の洗浄室に挿入した後上記第2
の洗浄室へ移動するように構成し、洗浄性能を向上させ
た。
本発明の望ましい実施例では、洗浄装置の洗浄室にプロ
ーブ外壁洗浄用洗浄液の噴射口を設け、プローブおよび
上記噴射口から洗浄液を断続的に射出せしめるように構
成した。
〔作用〕
プローブを降下した状態で洗浄装置の第1洗浄室から第
2洗浄室へ移動する場合には、プローブ内に残っていた
不要試料や不要試薬が最初に第1洗浄室へ排出されるが
、第1洗浄室内を流れる試料又は試薬の混入した洗浄液
は第2洗浄室の方へ流れ込まないから、プローブ外壁が
再汚染されることを防止できる。第2洗浄室への入口を
狭めておくことにより第1洗浄室からの液が第2洗浄室
へ一層侵入し難くなる。第2洗浄室内へ噴射された洗浄
液は次々と第1洗浄室の方へ流れるので、プローブから
一旦離れた壁面付着物が再度プローブを汚染することが
ない。
浄浄室の噴射口およびプローブから洗浄液を断続的に射
出する場合には、プローブの内外の壁面に衝突する洗浄
液の勢いが変化することにより、壁面付着物の剥離が連
続液の洗浄液供給の場合よりも進行が早いので、洗浄が
効率的に行われる。
〔実施例〕
まず、本発明が適用される臨床用自動分析装置の全体構
成について第2図を参照して説明する。
分注装置21は、液体を吸排し得る管から成る分注プロ
ーブ4を保持したアーム30を持っており、このアーム
30は図示しないパルスモータを備えた駆動機構によっ
て、所定位置での上下動および横方向(水平方向)への
回転動がなされる。
試料ディスク22と試薬ディスク24は同軸駆動され、
間欠的に必要な試料カップ23と試薬液槽25を所定位
置(プローブ4によって吸入される位置)に位置づける
。試料ディスク22上には分析測定されるべき血液試料
を収容した多数の試料カップが配列されている。試料カ
ップの上端は試料の蒸発を防止するためのシールふたに
よってシールされている。試薬ディスク24上には複数
の被検項目に対応する試薬液を収容した複数の試薬液槽
25が配列されている。
一方、間欠回転される反応ディスク26は、恒温槽29
上に配置されており、多数の反応容器27が反応ディス
ク26上に配列されている。反応容器列の移送経路付近
には、反応容器洗浄機構28が配設されており、反応容
器内の反応液を測光するための光度計(図示せず)が配
設されている。試薬ディスク24と反応ディスク26の
間には、プローブ洗浄装置の洗浄槽7が配置されている
アーム30の回転によって特定の試料カップ23又は特
定の試薬液槽25上に位置づけられたプローブ4は、試
料又は試薬を吸入保持した後反応ディスク26上に移動
し、特定の反応容器27内の所定量の試料又は試薬を吐
出する。この分注動作後、プローブ4は洗浄槽7上に移
動され、洗浄槽7内でプローブの内壁および外壁が洗浄
される。洗浄後のプローブ4は洗浄槽7から引き上げら
れ、次の試料又は試薬のピペッティングのために移動す
る。
プローブ4が試料を分注する場合には、第1番目の被検
項目のときにふたを突き砿って試料カップ内に降下され
、プローブ4内に所定量の試料を吸入保持した後試料カ
ップ23内からプローブが上昇される。ところがこの際
プローブ4の先端に付着した試料が試料カップ23のふ
たに付着する。
従ってこのプローブ4が第2番目以降の被検項目用の分
注動作をするときに、ふたに付着していた試料がプロー
ブ4の比較的上の方に付着することになる。そのため、
ふた部によって付着されたプローブ外壁面の試料も洗浄
時に除去しなければならない。
第1図は、第2図の実施例におけるサンプリング装置に
含まれる洗浄装置および分注装置を説明するための概略
構成図である。
洗浄水タンク1内の洗浄水は、チューブ12を通してダ
イヤフラムポンプ2によって吸い上げられ、電磁弁5,
6をそれぞれ介して分注用流路9および洗浄用流路10
の方へ送られる。洗浄動作をしていない間は、電磁弁5
,6が切り換えられ、洗浄水は戻り流路13.14を介
して洗浄水タンク1へ戻される。分注用流路9はアーム
30を通ってプローブ4に接続されている。分注用シリ
ンジ3は、試料又は試薬をプローブ内に吸入するときお
よびプローブ内から吐出するときに動作される。洗浄槽
用流路10は、洗浄槽7に接続されており、洗、浄液は
噴射口15.16から洗浄槽7の洗浄室内へ噴射される
。洗浄槽7に排出された洗浄液はドレインパイプ17を
通って廃液ボトル8に集められる。ダイヤフラムポンプ
2は洗浄液を断続的に送液するためのもので、マイクロ
コンピュータ11に動作制御される。電磁弁5,6の切
換動作、アーム30の移動動作、分注シリンジ3の動作
もマイクロコンピュータ11によって制御される。
第3図、第4図、第5図は第1図における洗浄槽7の構
造を示す図である。第3図は外観図、第4図は平面図、
第5図は第4図の■−■縦断面図である。
洗浄槽7は、比較的内容積の大きな第1の洗浄室41と
比較的内容積の小さい第2の洗浄室42を備えている。
第1洗浄室41はほぼ円柱状の部屋であり、下方にドレ
インパイプ17に接続される排液口43が形成されてい
る。第2洗浄室42は細長い溝の形状を有しており、第
2洗浄室の底面は傾斜しかつ第1洗浄室41の排液口上
端よりも高くなっているので、第2洗浄室42内の液は
溜まることなく直ちに第1洗浄室41の方へ流出する。
第2洗浄室42には、上方に洗浄液噴射口15が開口し
、下方に洗浄液噴射口16が開口している。上方の噴射
口15から噴射される洗浄水は、プローブ4が試料カッ
プ23のふたと接触する高さより」二方位置となるよう
にプローブに向けて射出される。このときプローブは、
第4図、第5図に示す4′の状態にある。下方の噴射口
16から噴射される洗浄水は、第2洗浄室内のプローブ
の先端付近に向けられる。
第2洗浄室42において、噴射口15.16と対向する
側の壁には、洗浄水反射面4.4.45が形成されてい
る。この反射面44.45は球凹面を形成するように湾
曲しており、プローブを通り過ぎた噴射洗浄水がこの反
射面で跳ね返りプローブの方向へ方向づけられる。反射
面は、球状湾曲面以外にもプローブの方へ方向づけられ
るような角度を持った平面の組合せでもよい。
第1洗浄室41から第2洗浄室42への入口はプローブ
4が通過できる幅のスリット状となっている。このスリ
ット状入口は、第1洗浄室41においてプローブ4内か
ら液体が吐出されるときに、排出液が第2洗浄室42の
方へ侵入することを制限する。第2洗浄室42は細長い
部屋となっているので、プローブ42の外壁を効率良く
洗浄水によって洗浄し得る。
次にプローブの洗浄動作について説明する。第6図のタ
イムチャートは、分注アー゛ム30の回転動、分注アー
ム30の上下動、分注シリンジ3の吸排動作、電磁弁5
,6の切換動作、およびダイヤフラムポンプ2の動作の
タイミングを示している。
ダイヤフラムポンプ2は、洗浄時間の間洗浄水を送るよ
うに駆動される。反応ディスク26上の反応容器27へ
試料又は試薬を添加し終ったプローブ4は、アーム30
によって洗浄槽7上に移動され、まず第1洗浄室41内
に下降される。第1洗浄室41内で一旦停止したプロー
ブ4からは、プローブ4内に残っていた余分な試料又は
試薬が排出され、引き続いて洗浄水が排出される。これ
によってプローブ4の内壁面が洗浄される。この間噴射
口15.16からも洗浄水が射出されている。洗浄水は
ダイヤフラムポンプによって断続的に送られる。
次にプローブ4は、第2洗浄室42の方へアーム30に
よって移動され、第5図の4′の位置で停止する。第2
洗浄室42ではプローブの内壁および外壁が洗浄される
。プローブ4からは引き続き洗浄水が断続的に排出され
、噴射口15,1.6からは断続的に洗浄水が噴射され
る。反射面44゜45に当たって反射された洗浄水は、
プローブ4の裏側の外壁面を洗浄するのに有効に働く。
この実施例における反射面は洗浄水が洗浄槽7から飛散
することを防止する効果もある。球凹面状反射面は、反
射水に乱流やバブルを生せしめ洗浄効果を向上する。内
壁および外壁が洗浄されたプローブは、洗浄槽7から引
き上げられ、次のサンプリングのための動作をする。
上述した実施例では、プローブ外壁洗浄用の洗浄水噴射
口を複数個設けたが、第2洗浄゛室の構成はこれに限定
されるものではない。第7図は第2洗浄室の変形例を示
す断面図であり、第2洗浄室74は単一の噴射ロア3が
ら上方に幅広く噴射水が分散されるように縦溝状に形成
されている。プローブ4′の後方には反射面72が形成
されている。
次に、第2図の実施例を実試料に適用した例を説明する
。試料ディスク22に粘度が5mPa・Sのhorse
酵素液を収容した試料カップ23をセットする。この酵
素液の酵素活性は10万IU/mQである。プローブ4
内にこの酵素液を吸入し、反応ディスク26上の反応容
器27に200μQを添加する。同じ酵素液についてプ
ローブにょる分注動作を3回行った後、プローブ4を洗
浄槽7で洗浄した。
この洗浄のあと、次の試料カップ23からプロ−ブ4内
に生理食塩水を吸入保持し、反応容器27にこの試料を
200μQ添加する。この生理食塩水の入った反応容器
に酵素活性を測定する試薬を分注し、酵素活性を測定し
た。酵素液を3回分注したのち、生理食塩水を3回分注
し、測定するという動作を、7バツチ行った。その結果
を表−1に示す。尚、従来使用していたギヤポンプを用
いて、しかもプローブの内外洗浄槽が分離していない、
洗浄槽を用いて、洗浄した測定結果も表1に示した。
表−1 残留率の計算は下記の式に従った。
この洗浄方法と洗浄槽を使用すると、従来に比べ約17
20の残留率になったことがわかった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、プローブ外壁が、プローブに残留した
試薬あるいは試料に、再汚染されることなく、しかも少
ない洗浄水で、これまで以上に試薬あるいは試料の残留
率を低下させることができるため、分析データの信頼性
が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は第2図の実施例に採用されているサンプリング
装置の概略構成を示す図、第2図は本発明の一実施例の
全体構成を説明する図、第3図は第2図における洗浄槽
の外観図、第4図は洗浄槽の平面図、第5図は第4図の
■−■断面図、第6図は各部の動作を示すタイムチャー
ト、第7図は洗浄槽の変形例を示す断面図である。 2・・・ダイヤフラムポンプ、4・・・分注プローブ、
7 ・洗浄槽、15.16・・・噴射口、21・・分注
装置、41・・・第1洗浄室、42・・・第2洗浄室。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、試料又は試薬を吸入し反応容器に供給する可動プロ
    ーブとこのプローブを上下動および横移動する駆動部と
    を有する分注装置を備え、試料又は試薬の供給後に上記
    プローブを洗浄する洗浄装置を備えたサンプリング装置
    において、上記洗浄装置には、上記プローブからの不要
    の試料又は試薬の排出液を受け入れる第1の洗浄室と、
    上記第1の洗浄室に連通されており、プローブ外壁洗浄
    用洗浄液が噴射されると共に上記プローブから内壁洗浄
    用洗浄液が排出される第2の洗浄室とを設け、上記プロ
    ーブを上記第1の洗浄室に挿入した後上記第2の洗浄室
    へ移動するように構成したことを特徴とするサンプリン
    グ装置。 2、特許請求の範囲第1項記載のサンプリング装置にお
    いて、上記第2の洗浄室は、噴射された上記外壁洗浄用
    洗浄液を挿入されているプローブの方へ方向づける反射
    面を備えていることを特徴とするサンプリング装置。 3、試料又は試薬を吸入し反応容器に供給する可動プロ
    ーブとこのプローブを上下動および横移動する駆動部と
    を有する分注装置を備え、試料又は試薬の供給後に上記
    プローブを洗浄する洗浄装置を備えたサンプリング装置
    において、上記洗浄装置の洗浄室にプローブ外壁洗浄用
    洗浄液の噴射口を設け、上記プローブおよび上記噴射口
    から洗浄液を断続的に射出せしめる洗浄液供給装置を設
    けたことを特徴とするサンプリング装置。 4、特許請求の範囲第3項において、上記洗浄液供給装
    置は、ダイヤフラムポンプを含むことを特徴とするサン
    プリング装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0475965U (ja) * 1990-11-13 1992-07-02
WO2014200031A1 (ja) * 2013-06-14 2014-12-18 協和メデックス株式会社 洗浄装置及び、攪拌部材の洗浄方法
EP3517975A4 (en) * 2016-09-23 2020-06-17 Hitachi High-Tech Corporation AUTOMATED ANALYSIS DEVICE
EP4047373A4 (en) * 2019-10-18 2023-11-22 Hitachi High-Tech Corporation AUTOMATED ANALYZER

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