JPH0258019A - レーザ走査装置 - Google Patents

レーザ走査装置

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JPH0258019A
JPH0258019A JP20810488A JP20810488A JPH0258019A JP H0258019 A JPH0258019 A JP H0258019A JP 20810488 A JP20810488 A JP 20810488A JP 20810488 A JP20810488 A JP 20810488A JP H0258019 A JPH0258019 A JP H0258019A
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JP
Japan
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mirror surface
mirror
laser
laser beam
light
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Application number
JP20810488A
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English (en)
Inventor
Kenjiro Hori
謙治郎 堀
Yoshimi Kuramochi
喜美 倉持
Toshio Yoshimoto
善本 敏生
Satoru Akiyama
哲 秋山
Takashi Nakahara
隆 中原
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、レーザ光源より射出されるレーザ光を回転
多面体鏡(ポリゴンミラー)により像形成走査する光学
走査系を備えたビーム走査装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、この種の装置は、高速に回転するポリゴンミラー
にラスク画像情報に報じて強度変調されたレーザビーム
を射出し、そのポリゴンミラーの反射光を感光ドラム上
に走査させて静電潜像を形成するレーザビームプリンタ
等に採用されている。
ところが、上記感光ドラム上に一定濃度の画像形成させ
る場合には、ポリゴンミラーの各鏡面から反射されるレ
ーザ光強度が一定に保持させる必要があった。
(発明が解決しようとする課題〕 このため、ポリゴンミラーの各鏡面間の平行度および反
射率のバラツキを非常に小さくしてポリゴンミラーの各
鏡面間の反射率を均一化するため、ポリゴンミラーの各
鏡面成形工程において、各面の蒸着膜の厚みを均一にし
なければならず、ポリゴンミラーの製品化率が著しく低
下し、ビーム走査装置コストを大幅に引き上げてしまう
問題があった。
さらに、上記のような精密蒸着塗装工程で製造されたポ
リゴンミラーであっても、その各鏡面間の反射率を完全
に一定にすることは難しく、反射されるレーザビームの
光量は一定とはならず、極めて画像濃度が不安定となり
、均一濃度の画像を形成できなかった。
この発明は、上記の問題点を解決するためになされたも
ので、ポリゴンミラーを構成する各鏡面の反射率に基づ
いて各鏡面に対するレーザ照射光量を可変補正すること
により、ポリゴンミラーの各鏡面反射率バラツキに影響
されず、各鏡面から一定光量のレーザ光を感光体に走査
露光できるレーザ走査装置を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係るレーザ走査装置は、あらかじめ記憶され
る各鏡面の反射率に基づいてレーザ発光手段から各鏡面
に照射されるレーザ光の発光強度を各鏡面毎に可変補正
制御する第1の補正制御手段とを設けたものである。
また、回転多面体鏡の各鏡面により偏向走査されるビー
ム光を受光して回転多面体鏡の各鏡面を識別検知する鏡
面検知手段と、この鏡面検知手段が検知する回転多面体
鏡の各鏡面に対応する各鏡面の反射率データをあらかじ
め記憶する反射率データメモリと、鏡面検知手段が検知
する回転多面体鏡の各鏡面に対応して反射率データメモ
リから読み出される各鏡面の反射率データに基づいてレ
ーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強度を各鏡
面毎に可変補正制御する第2の補正制御手段とを設けた
ものである。
さらに、回転多面体鏡の各鏡面により順次偏向走査され
るビーム光を検知するビーム検知器と、このビーム検知
器により検知される各鏡面からのビーム光量ピーク値を
順次検出するピーク値検出手段と、このピーク値検出手
段により順次検出されたビーム光量ピーク値に応じて各
鏡面に対するビーム反射率を順次演算する演算手段と1
.この演算手段により順次演算されたビーム反射率に基
づいてレーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強
度を各鏡面毎に可変補正制御する第3の補正制御手段と
を設けたものである。
(作用) この発明において、第1の補正制御手段は、あらかじめ
記憶される各鏡面の反射率に基づいてレーザ発光手段か
ら各鏡面に照射されるレーザ光の発光強度を各鏡面毎に
可変補正制御し、各鏡面に偏向走査される感光体上の各
レーザ光の光量を一定に制御する。
また、第2の補正制御手段は、鏡面検知手段により回転
多面体鏡の各鏡面が識別検知されると、各鏡面に対応す
る反射率データを反射率データメモリより読み出し、レ
ーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強度を各鏡
面毎に可変補正制御し、各鏡面に偏向走査される感光体
上の各レーザ光の光量を一定に制御する。
さらに、ビーム検知器により各鏡面からのビーム光量ピ
ーク値が順次検出されると、演算手段が順次検出された
ビーム光量ピーク値に応じて各鏡面に対するビーム反射
率を順次演算し、第3の補正制御手段が順次演算された
ビーム反射率に基づいてレーザ発光手段から発光される
レーザ光の発光強度を各鏡面毎に可変補正制御し、各鏡
面に偏向走査される感光体上の各レーザ光の光量を一定
に制御する。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施例を示すレーザ走査装置の構
成を説明するブロック図であり、1は感光ドラムで、ド
ラムモータ2により所定速度で回転される。3はレーザ
発光手段となる半導体レーザ部で、レーザビーム制御回
路13から出力される画像信号VDOまたは強制点灯信
号LONに基づいてレーザビームLBを発射する。
4は回転多面体鏡(ポリゴンミラー)で、例えば6面の
鏡面から構成される場合を示してあり、このポリゴンミ
ラー4がスキャナモータ5により一定速度で回転される
。6.7は結像光学系で、ポリゴンミラー4の各鏡面に
より偏向されるレーザビームLBの感光ドラム1に対す
る焦点を結ぶとともに、レーザビームLBの走査速度を
一定に調整する。8,9は例えばフォトダイオードで構
成されるビーム検知器(この発明の鏡面検知手段を構成
する)で、特にビーム検知器8はポリゴンミラー4の特
定の1鏡面を検知し、ビーム検知器9はビーム検知器8
により検知される特定の1鏡面検知後、順次各鏡面から
の反射されるレーザビームLBを検知し、受光光量に応
じたアナログ信号をレーザビーム制御回路13に出力す
る。10はラスク画像形成装置で、画像信号VIDEO
をレーザビーム制御回路13に出力する。
11はドラムモータ駆動回路で、レーザビーム制御回路
13から出力される駆動指令に基づいて回転駆動する。
12はポリゴンモータ(スキャナモータ)駆動回路で、
レーザビーム制御回路13から出力される駆動指令に基
づいて回転駆動する。
第2図(a)、(b)は、第1図に示したポリゴンミラ
ー4の構成を説明する平面図および側面図であり、第1
図と同一のものには同じ符合を付しである。
この図において、48〜4fは鏡面で、各鏡面48〜4
fにより、例えば6面のポリゴンミラー4が構成され、
各鏡面48〜4fには、レーザビームL−Bを吸収する
非反射部位(黒い部位)Mb〜Mfが設けてあり、特に
鏡面4aには非反射部位が設けられず、これによりポリ
ゴンミラー4の1回転を認識可能となるとともに、各各
鏡面4a〜4fを識別することができる。
なお、各鏡面4a〜4fは固有の反射強度特性を有して
おり、この反射強度を後述するように個別に識別検知し
て、各鏡面48〜4fに対するレーザ光量を可変補正す
る。
第3図は、第1図に示したレーザビーム制御回路13の
構成を説明する詳細回路ブロック図であり、第1図と同
一のものには同じ符合を付しである。
この図において、15は例えば日本電気社製のμC0M
87−AD等で構成されるマイクロプロセッサ(M P
 U )であって、RAM、ROM、タイマ回路が内蔵
されており、ROMに記憶された制御プログラム(後述
するフローチャートの制御手順を記憶している)に基づ
いて各部を総括的に制御する。RAM、ROMはこの発
明の反射率データメモリを兼ねており、後述するフロー
により得られる反射率データを記憶していて、この発明
の第1および第2の補正制御手段を兼ねるMPU15が
あらかじめRAM、ROMに記憶される各鏡面48〜4
fの反射率データに基づいて半導体レーザ26から各鏡
面4a〜4fに照射されるレーザビームLBの発光強度
を各鏡面48〜4f毎に可変補正制御し、各鏡面48〜
4fに偏向走査される感光ドラム1上の各レーザ光の光
量を一定に制御する。
また、鏡面検知手段を構成するフォトダイオード8.9
の出力により回転多面体鏡4の各鏡面4a〜4fが識別
検知されると、各鏡面48〜4fに対応する反射率デー
タをMPU 15があらかじめRAM、ROMより読み
出し、半導体レーザ26から発光されるレーザ光の発光
強度を各鏡面4a〜4f毎に可変補正制御し、各鏡面4
8〜4fに偏向走査される感光ドラム1上の各レーザ光
の光量を一定に制御する。
16はD/Aコンバータで、MPU15から出力される
ディジタル信号を電圧電流変換器1日の電圧入力Viに
出力する。電圧電流変換器18の電圧入力Viに入力さ
れた電圧信号を電流出力Idから半導体レーザ部3に駆
動電流として印加する。なお、電圧電流変換器18のD
iは、スイッチ端子で、電流出力Idからの駆動電流の
導通/遮断を制御する。
17はA/Dコンバータで、半導体レーザ部3の半導体
レーザ26の、例えばバックビームを受光するフォトダ
イオード27が検知した発光光量に対応し、増幅器19
で増幅された光量電圧アナログ信号Vp  (n)をデ
ィジタル信号に変換し、変換したディジタルデータDp
  (n)をMPU15に出力する。なお、2日は抵抗
器で、フォトダイオード27に印加される電流に応じた
電圧を発生する。
20はコンパレータで、各鏡面48〜4fに対応してフ
ォトダイオード9に受光されるレーザビームLBの発光
光量に応じた電圧9a  (抵抗器23により発生する
)とあらかじめ設定された参照電位Vrefとを比較し
、電圧9aが参照電位Vrefを越えた時点で水平同期
信号HSYNC(BD傷信号をラスク画像形成装置1o
およびMPU15の割込みボートlNTlに出力する。
21はコンパルータで、フォトダイオード8に受光され
るレーザビームLB(鏡面4aに対応する)の発光光量
に応じた電圧8a  (抵抗器24により発生する)と
あらかじめ設定された参照電位Vrefとを比較し、電
圧8aが参照電位Vrefを越えた時点でMPU15の
割込みボートINT2に割込み要求を指令し、順次出力
される各鏡面4a〜4fに対応する電圧9aを識別しな
がら、発光強度データをRAMにサンプリングする。
22はゲート回路で、MPU15から送出される強制点
灯信号L ONまたはラスク画像形成装置10から送出
される画像信号VIDEOを電圧電流変換器18のスイ
ッチ端子Diにゲートする。
25はバックアップ電源で、RAM上に記憶された各鏡
面48〜4fに対応する発光強度データを不揮発に後進
可能に記憶する。
第4図は、第3図に示したMPU 15の割込みボート
lNT1.INT2に入力されるコンパレータ20.2
1の動作タイミングを説明するタイミングチャートであ
る。
次に第3図の動作について説明する。
MPU15は、先ずD/Aコンバータ16にディジタル
データDi  (n)を出力する。このとき、D/Aコ
ンバータ16のアナログ出力電圧はVi  (n)とす
るとともに、強制点灯信号LONをLレベルとする。こ
のため、ゲート回路22の出力がHレベルとなり、電圧
電流変換器18のスイッチ端子Diをオンする。これに
より、電圧電流変換器18の電流出力Idから半導体レ
ーザ26に対して駆動電流Id  (n)が印加される
従って、半導体レーザ26が点灯し、そのバックビーム
がフォトダイオード27に検知され、その発光光量に応
じた光量電圧アナログ信号Vp(n)が増幅器19を介
してA/Dコンバータ17に出力される。そして、この
光量電圧アナログ信号Vp  (n)をA/Dコンバー
タ17がディジタルデータDp  (n)に変換してM
PU15に出力する。
なお、MPU15は上記ディジタルデータDi(n)〈
レーザ駆動電流に比例する〉を0から徐々に上昇させ、
それに対応する光i電圧アナログ信号Vp  (n)を
順次測定し、ディジタルデータDp  (n)<レーザ
発光強度に比例する〉を順次帯てRAMに格納すること
により、半導体レーザ26の発光強度特性を求めること
ができる。このように、MPU15はディジタルデータ
Di  (n)に対応するディジタルデータDp  (
n)をあらかじめ設定されたディジタルデータDp M
AXとなるまで、ディジタルデータDp  (n)のサ
ンブリングを実行し、サンプリングしたディジタルデー
タDp  (n)をRAMの所定領域に更新可能に記憶
する。そして、後述する反射率データに対応するディジ
タルデータDp  (n)がD/Aコンバータ16に出
力される。
第5図はこの発明による発光強度特性データ測定処理手
順の一例を説明するフローチャートである。なお、(1
)〜(5)は各ステップを示す。
先ず、MPU15はパラメータNを「0」としく1)、
ディジタルデータDi(n)をD/Aコンバータ16に
出力する(2)。
次いで、A/Dコンバータ17から出力されるディジタ
ルデータDp  (n)を受信しく3)  その値がデ
ィジタルデータDp MAX以上となったかを判断しく
4)   YESならば処理を終了し、NOならばパラ
メータNを「1」インクリメントしく5)、ステップ(
2)に戻る。
次にMPL115はドラムモータ駆動回路11およびポ
リゴンモータ駆動回路12に対して駆動指令を送出し、
ポリゴンミラー4および感光ドラム1を一定速度で口拡
させるように制御する。
そして、ポリゴンミラー4の各鏡面4a〜4fに対する
反射強度特性サンプリング処理を開始する。
なお、この実施例ではポリゴンミラー4が6面体で構成
されるため、ポリゴンミラー4が1回転すると、半導体
レーザ26から発射されたレーザビームLBは感光ドラ
ム1上を6回うスク走査する。このとき、第1図に示し
たようにフォトダイオードで構成されるビーム検知器8
.ビーム検知器9を図示される関係を満足するように配
置するとともに、ポリゴンミラー4の鏡面4aには非反
射部位を設けないことにより、鏡面4aに対するレーザ
ビームLBのみがビーム検知器8を横切る構成となり、
これがMPU 15の割込みボート■NTIに出力され
る。そして、この割込みボートlNTlがHレベルとな
ってから、順次ビーム検知器9をポリゴンミラー4の各
鏡面4a〜4fを走査通過して、コンパレータ20に設
定された参照電位Vrefよりもフォトダイオード9の
受光電位が高くなると、第4図に示すようにMPU 1
5の割込みボートINT2は、ポリゴンミラー4が1回
転する毎に6回Hレベルとなる。この割込みボートIN
T2に人力されるコンパレータ20の出力に同期し、す
なわちコンパレータ20の出力(水平同期信号HSYN
C)に基づいてレーザビームLBが感光ドラム1に水平
走査される。このため、MPU15は割込みボートlN
TlがHレベルとなってから、順次割込みボートINT
2に出力される水平同期信号HSYNCを、ポリゴンミ
ラー4の各鏡面48〜4fから走査されたレーザビーム
LBに基づく信号であると識別することが可能となる。
次にMPU 15による光量補正設定処理について説明
する。
上記のように、ポリゴンミラー4の各鏡面4a〜4fを
識別可能となるので、この識別処理に並行して、RAM
にあらかじめ格納された後述する処理によりポリゴンミ
ラー4の各鏡面4a〜4fの反射率データRM(1)〜
RM (6)を読み出し、下記第(1)式に基づくディ
ジタル光量補正データDPM(0〜1.0%)を各鏡面
毎に演算して、D/Aコンバータ16に出力して、ポリ
ゴンミラー4の各鏡面4a〜4fから走査されるレーザ
ビームLBの感光ドラム1上の光量を一定となるように
制御する。
Dr(K)=DPM/RM(K)  −−−(1)ただ
し、Kはポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fの識別番
号となる。また、ディジタル光量補正データDPMは、
ポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fの反射率が1.0
 (100%の反射)であるとぎ、感光ドラム1上で所
定のレーザ光強度1pmになったときの、A/Dコンバ
ータ17の出力に対応する。Dr(K)は、感光ドラム
1上で所定のレーザ光強度Ipmになったときの、D/
Aコンバータ16へのディジタルデータDi(n)に対
応する。
具体的には、MPU15が、上記第(1)式に基づいて
ディジタル光量補正データDPMを順次演算し、MPU
15があるに番目の鏡面にレーザビ−ムLBを照射する
とき、A/Dコンバータ17からの出力、すなわちディ
ジタルデータDp  (n)(第5図に示したフローに
より得られ、RAMに記憶される)が上記Dr(K)に
等しく、あるいは最も近似するように、D/Aコンバー
タ16へのディジタルデータDi  (n)の値を識別
される鏡面4a〜4fに対して個別に出力する。
これにより、ポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fの反
射率データRM(1)〜RM (6)がそれぞれ異なる
値であっても、その反射率による光量変化は相殺されて
、感光ドラム1上のレーザ光強度はレーザ光強度Ipm
となる。
次に第6図を参照しながらポリゴンミラー4の各鏡面4
a〜4fに対するディジタルデータDi(n)決定処理
動作について説明する。
第6図はポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fに対する
ディジタルデータDi  (n)決定処理手順の一例を
説明するフローチャートである。なお、(1)〜(6)
は各ステップを示す。
カウントパラメータKを「1」としく1)、上記次いで
、演算されたDr(K)に近似または一致するディジタ
ルデータDp  (n)をRAMから検索しく3)  
 D/Aコンバータ16へのディジタルデータDi  
(n)を決定する(4)。次いで、カウントパラメータ
Kが「6」かどうかを判定しく5)、YESならば処理
を終了し、NoならばカウントパラメータKを「1」カ
ウントアツプしく6)、ステップ(2)に戻る。
これにより、上記第(1)式により、Dr(K)が演算
されれば、ポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fの反射
率が個別に相違しても、D/Aコンバータ16へのディ
ジタルデータDi  (K)を各鏡面4a〜4fについ
て個別に補正可能となる。
次に第7図に示すフローチャートを参照しながら、各鏡
面4a〜4fに対するレーザビームLBの発光光量補正
設定処理について説明する。
第7図は、第1図に示したポリゴンミラー4の各鏡面4
a〜4fに対するレーザビームLBの発光光量補正設定
処理手順の一例を説明するフローチャートである。なお
、(1)〜(6)は各ステップを示す。
MPU15は割込みボートlNT1がHレベルとなる、
すなわちレーザビームLBが鏡面4aに走査され、フォ
トダイオード8を横切るのを待機しく1)、割込みボー
トlNTlがHレベルとなったら、カウントパラメータ
K(831面識別パラメータ)を「1」に設定しく2)
、次いで、割込みボートINT2がHレベル、すなわち
フォトダイオード8を走査し、その走査方向に所定距離
離れて設けられるフォトダイオード9をレーザビームL
Bが走査する(INT2mH)のを待機しく3)、割込
みボートINT2がHレベルとなったら、上記第6図に
示したフローチャートにより演算れたポリゴンミラー4
の各鏡面48〜4fに対するディジタルデータDi  
(K)をD/Aコンバータ16に出力する(4)。次い
で、カウントパラメータKを「1」カウントアツプしく
5)  カウントパラメータKが7かどうかを判断しく
6)Noならばステップ(3)に戻り、YESならばス
テップ(1)に戻る。
このようにして、現在レーザビームLBが照射している
ポリゴンミラー4の各鏡面43〜4fを識別認知しなが
ら、各鏡面48〜4fに対するディジタルデータDi 
 (K)を出力して、レーザビームLBの光量を各鏡面
48〜4fの反射率に応じて可変補正し、感光ドラム1
上を露光走査する際には、各鏡面4a〜4fから走査さ
れる各レーザビームLBの光量強度を常に一定(所定の
レーザ光強度I pm)に設定できる。
なお、MPU15は、割込みボートINT2がHレベル
となって、各鏡面48〜4fに対するディジタルデータ
Di  (K)を出力した後、強制点灯信号LONを消
灯する。そして、この割込みボートINT2に人力され
る水平同期信号H3YNCをラスタ画像形成装置10に
送出する。
これに応じてラスタ画像形成装置10が、水平同期信号
HSYNCに同期して画像信号VIDEOをゲート回路
22に送出する。
そして、この画像信号VIDEOに基づいてON10 
F F変調されたレーザビームLBが半導体レーザ26
から各鏡面48〜4f毎にその発光強度を変えながら感
光ドラム1上を走査する。
なお、上記実施例ではポリゴンミラー4の鏡面数を6面
としたが、面数は6面に限定されず、8面、10面等で
あっても差し支えなく、その面数に応じてROMまたは
RAM (バックアップされる)上に対して上記ポリゴ
ンミラー4の各鏡面4a〜4fの反射率データRM(1
)〜RM(6)を記憶させれば同様に機能する。
また、上記実施例においてはポリゴンミラー4の各鏡面
48〜4fの反射率データRM(1)〜RM (6)を
あらかじめ記憶させて、各鏡面4a〜4fに対するディ
ジタルデータDi  (K)をMPU15が演算する構
成としたが、あらかじめ各鏡面4a〜4fに対するディ
ジタルデータDi(K)をMPU15が演算して、MP
U15のROMまたはRAM (バックアップされる)
または外部記憶媒体に上に記憶させ、画像形成処理実行
に並行して、各鏡面48〜4fに対するディジタルデー
タDi  (K)を参照しながらポリゴンミラー4の各
鏡面48〜4fに対するレーザビームしBの発光強度を
可変補正設定制御しても良い。
さらに、上記実施例ではフォトダイオード8゜9を感光
ドラム1の非画像形成領域に配置してポリゴンミラー4
の各鏡面48〜4fからの各レーザビームLBを識別認
知する場合について説明したが、第8図に示すような構
成によりポリゴンミラー4の各鏡面4a〜4fからの各
レーザビームLBを識別検知してもよい。
第8図はポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fの識別検
知構成を説明する斜視図であり、第2図とと同一のもの
には同じ符号を付しである。
この図において、31は非反射部材で、ポリゴンミラー
4の鏡面に直交する、例えば6角形の平面31a (反
射部材で構成される)上で、かつ各鏡面48〜4fのう
ち、特定の鏡面から走査するレーザビームLBが感光ド
ラム1の非画像領域を走査する位置に対応して設けられ
ている。32は例えば発光ダイオード、レーザ素子等構
成される露光素子で、この露光素子32が平面31a上
を露光する。33は例えばフォトダイオード等で構成さ
れる受光素子で、露光素子32により露光され、平面3
1aから反射された光を受光し、ポリゴンミラー4の1
回転毎にLレベルとなる検知出力をMPU 15の割込
みボー)−INTIに出力する。なお、平面31aが非
反射部材31で構成される場合には、非反射部材31の
代わりに、反射部材を設ければ良いことは周知の通りで
ある。
この図から分かるように、各鏡面48〜4fから偏向走
査されるレーザビームLBが感光ドラム1の非画像領域
を走査する位置に対応して所定の検知部材をポリゴンミ
ラー4に設け、光学的にその位置を検知することにより
、各鏡面48〜4fから偏向走査される各レーザビーム
LBを個別に識別することができる。
次に第9図〜第12図を参照しながらこの発明による他
の実施例について説明する。
第9図はこの発明の他の実施例を示すレーザ走査装置の
構成を説明するブロック図であり、第1図と同一のもの
には同じ符号を付しである。
第10図は、第9図に示したレーザビーム制御回路13
の構成を説明する詳細回路ブロック図であり、第9図と
同一のものには同じ符合を付しである。
この図において、35はピークホールド回路で、フォト
ダイオード8に受光されるレーザビームLBの光量ピー
ク値をリセット人力R3TにMPU37よりリセット信
号RESETが人力されるまでホールディングする。
36はA/Dコンバータで、ピークホールド回路35の
出力P。からのホールド電位をディジタルデータに変換
してMPU37に出力する。なお、MPU37はこの発
明の演算手段、第3の補正制御手段を兼ねており、ビー
ム検知器8により各鏡面48〜4fからのビーム光量ピ
ーク値が順次検出されると、順次検出されたビーム光量
ピーク値に応じて各鏡面48〜4fに対するビーム反射
率を順次演算し、順次演算されたビーム反射率に基づい
て半導体レーザ26から発光されるレーザ光の発光強度
を各鏡面4a〜4f毎に可変補正制御し、各鏡面48〜
4fに偏向走査される感光体ドラム1上の各レーザ光の
光量を一定に制御する。
第11図は、第10図に示したピークホールド回路35
の構成を説明する回路図であり、40はオペアンプで、
非反転入力に抵抗器24に発生する電圧(レーザビーム
LBIの走査に応じて発生する)が入力され、反転入力
にはフィードバック用の抵抗器41.42の分割電位が
入力される。
43はダイオードで、ホールドコンデンサ44にチャー
ジされた電荷の放電電流印加を阻止する。45はスイッ
チで、リセット人力R3Tに人力されるリセット信号R
ESETに基づいてON/○FFL、ホールドコンデン
サ44に充電された電荷を抵抗器46を介して放電する
次に第10図の動作について説明する。
MPU37は、先ずD/Aコンバータ16に対してディ
ジタルデータDi  (K)を出力するとともに、強制
点灯信号LONをLレベルに設定する。これにより、半
導体レーザ26が発光し、フォトダイオード27に電流
が流れて抵抗器28の端子間に電圧が発生する。
この電圧差を増幅器19を介して増幅し、後段のA/D
コンバータ17に出力する。そして、A/Dコンバータ
17から出力されるディジタルデータDp  (n)を
MPU37が第5図に示した手順に従って発光強度特性
データ測定処理を実行し、A/Dコンバータ17から順
次出力されるディジタルデータDp  (n)をRAM
上に書き込んで行く。
次に、MPU37はポリゴンモータ駆動回路12および
ドラムモータ駆動回路11に駆動指令を送出し、スキャ
ナモータ5およびドラムモータ2を所定速度で回転させ
る。
このとき、半導体レーザ26から発射されるレーザビー
ムLBが感光ドラム1の非画像領域に設けられるフォト
ダイオード8を走査通過する。その際、フォトダイオー
ド8に電流が流れて、抵抗器24の端子間に電圧パルス
が発生する。この電圧パルスはポリゴンミラー4(例え
ば6鏡面)が1回転する間に6個出力され、各電圧パル
スの一部はピークホールド回路35の人力Piに人力さ
れる。
第12図は、第11図に示したピークホールド回路35
の動作を説明するタイミングチャートであり、第10図
と同一のものには同じ符号を付しである。
ポリゴンミラー4の駆動によりレーザビームしBがフォ
トダイオード8を露光走査すると、抵抗器24の端子間
に発生したビームデイテクト電圧(ピークホールド回路
35の入力Piの電位)は、第12図に示すように徐々
に上昇し、上々に減少する波形出力となる。
この波形出力の一部がコンパレータ21の非反転入力に
人力される。このとき、コンパレータ21は、波形出力
を参照電位Vrefで波形整形した水平同期信号HSY
NCをMPU37の割込みボートINT2およびラスタ
画像形成装置10に出力する。
一方、波形出力の一部はピークホールド回路35の人力
Piに取り込まれるため、すなわち、オペアンプ40の
非反転入力に出力されるため、ホールドコンデンサ44
には入射光量に応じて電荷が充電され、そのピーク電圧
E(第12図参照)をリセット信号RESETが出力さ
れるまで保持する。
そして、第12図に示すタイミングt1において出力さ
れた水平同期信号H3YNCが立ち上がってから所定時
間経過後、少なくともタイミングt3 (ピーク時)以
後にMPU37がホールドコンデンサ44にチャージン
グされた電位をA/Dコンバータ36を介して取り込む
。これにより取り込まれる値(ホールドデータDt(X
))は、上記ピーク電圧Eに比例した電圧となる(ポリ
ゴンミラー4の各鏡面4a〜4fの反射率に呼応した光
量データ)。そして、所定時間経過後、MPU37から
リセット信号RESETがピークホールド回路35に出
力され、ホールドコンデンサ44に充電された電荷が放
電し、出力P。の電位は「0」となる。
そこで、MPU37は、A/Dコンバータ36を介して
取り込んだピーク電圧E(ホールドデータDt(K))
に基づいて下記第(2)式に基づく演算を実行し、ポリ
ゴンミラー4の各鏡面48〜4fに対応する各反射率デ
ータRM (K)を演算する。
DI)(K)=CXDt  (K)/RM (K)・・
・(2) ただし、Cは比例定数(あらかじめROM上に記憶され
る)で、フォトダイオード8の感度、ポリゴンミラー4
の回転速度により決定される値である。
このように、ポリゴンミラー4の各鏡面4a〜4fの反
射率が「1」 (反射率100%)の場合は、A/Dコ
ンバータ17から出力されるディジタルデータDp  
(K)とホールドデータDt(K)との間には、上記第
(2)式を満足する関係が成立するので、上記第(2)
式よりポリゴンミラー4の各鏡面48〜4fに対応する
各反射率データRM (K)が演算可能となる。そして
、演算された各反射率データRM (K)に対応してR
AM上に記憶されたディジタルデータD i (n)か
らD/Aコンバータ16に出力するディジタルデータp
tr(K)を決定することが可能となり、第1図に示す
ように、フォトダイオード8.9を2つ設ける必要がな
く、各鏡面48〜4fの識別検知処理も省略でき、制御
および回路構成を簡素化できる。
そして、水平同期信号HSYNC出力毎に、各鏡面48
〜4fからの反射強度に対応したホールドデータDt 
 (K)に応じたディジタルデータDir  (K)が
D/Aコンバータ16に出力され、各鏡面48〜4fか
ら偏向走査されるレーザビームLBの光量強度が各鏡面
48〜4f毎に補正設定され、均一の光量強度のレーザ
ビームLBを感光ドラム1に露光走査できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明はあらかじめ記憶される
各鏡面の反射率に基づいてレーザ発光手段から各鏡面に
照射されるレーザ光の発光強度を各鏡面毎に可変補正制
御する第1の補正制御手段とを設けたので、回転多面佳
境の各鏡面の反射率が異なっても、回転多面佳境の各鏡
面から偏向露光される感光体上のレーザ走査光量を常に
均一とすることができる。
また、回転多面佳境の各鏡面により偏向走査されるビー
ム光を受光して回転多面佳境の各鏡面を識別検知する鏡
面検知手段と、この鏡面検知手段が検知する回転多面佳
境の各鏡面に対応する各鏡面の反射率データをあらかじ
め記憶する反射率データメモリと、鏡面検知手段が検知
する回転多面佳境の各鏡面に対応して反射率データメモ
リから読み出される各鏡面の反射率データに基づいてレ
ーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強度を各鏡
面毎に可変補正制御する第2の補正制御手段とを設けた
ので、各鏡面を識別しながら各鏡面に対する光量を精度
良く可変設定でき、常に回転多面体の各鏡面から偏向露
光される感光体上のレーザ走査光量を面単位に均一とす
ることができる。
さらに、回転多面佳境の各鏡面により順次偏向走査され
るビーム光を検知するビーム検知器と、このビーム検知
器により検知される各鏡面からのビーム光量ピーク値を
順次検出するピーク値検出手段と、このピーク値検出手
段により順次検出されたビーム光量ピーク値に応じて各
鏡面に対するビーム反射率を順次演算する演算手段と、
この演算手段により順次演算されたビーム反射率に基づ
いてレーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強度
を各鏡面毎に可変補正制御する第3の補正制御手段とを
設けたので、簡単な回路構成で回転多面佳境の各鏡面を
識別することなく、回転多面佳境の回転に追従して各鏡
面から偏向露光される感光体上のレーザ走査光量を均一
とすることができる。
従って、回転多面佳境の反射率が異なっても、すなわち
、回転多面佳境の反射率精度許容範囲を大幅に緩和でき
、常にハードウェアで回転多面佳境の各鏡面から感光体
に偏向走査されるレーザ光量を均一化できる。このため
、回転多面佳境の製造コストを大幅に削減できる等の幾
多の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示すレーザ走査装置の構
成を説明するブロック図、第2図(a)、(b)は、第
1図に示したポリゴンミラーの構成を説明する平面図お
よび側面図、第3図は、第1図に示したレーザビーム制
御回路の構成を説明する詳細回路ブロック図、第4図は
、第3図に示したMPUの割込みボートに入力されるコ
ンパレータの動作タイミングを説明するタイミングチャ
ート、第5図はこの発明による発光強度特性データ測定
処理手順の一例を説明するフローチャート、第6図はポ
リゴンミラーの各鏡面に対するディジタルデータの決定
処理手順の一例を説明するフローチャート、第7図は、
第1図に示したポリゴンミラーの各鏡面に対するレーザ
ビームの発光光量補正設定処理手順の一例を説明するフ
ローチャート、第8図はポリゴンミラーの各鏡面の識別
検知構成を説明する斜視図、第9図はこの発明の他の実
施例を示すレーザ走査装置の構成を説明するブロック図
、第10図は、第9図に示したレーザビーム制御回路の
構成を説明する詳細回路ブロック図、第11図は、第1
0図に示したピークホールド回路の構成を説明する回路
図、第12図は、第11図に示したピークホールド回路
の動作を説明するタイミングチャートである。 図中、1は感光ドラム、3は半導体レーザ部、4は回転
多面佳境(ポリゴンミラー)、4a〜4fは鏡面、5は
スキャナモータ、8.9はフォトダイ−オード、13は
レーザビーム制御回路、15はMPUである。 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 C 第 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)画像情報に基づいて変調されるレーザ光を発光す
    るレーザ発光手段と、このレーザ発光手段より発光され
    たレーザ光を偏向走査する複数の鏡面から成る回転多面
    体鏡とを有し、この回転多面体鏡の各鏡面から偏向され
    るレーザ光を感光体上に水平走査するレーザ走査装置に
    おいて、あらかじめ記憶される前記各鏡面の反射率に基
    づいて前記レーザ発光手段から各鏡面に照射されるレー
    ザ光の発光強度を各鏡面毎に可変補正制御する第1の補
    正制御手段とを具備したことを特徴とするレーザ走査装
    置。
  2. (2)回転多面体鏡の各鏡面により偏向走査されるビー
    ム光を受光して前記回転多面体鏡の各鏡面を識別検知す
    る鏡面検知手段と、この鏡面検知手段が検知する前記回
    転多面体鏡の各鏡面に対応する各鏡面の反射率データを
    あらかじめ記憶する反射率データメモリと、前記鏡面検
    知手段が検知する前記回転多面体鏡の各鏡面に対応して
    前記反射率データメモリから読み出される前記各鏡面の
    反射率データに基づいてレーザ発光手段から発光される
    レーザ光の発光強度を各鏡面毎に可変補正制御する第2
    の補正制御手段とを具備したことを特徴とするレーザ走
    査装置。
  3. (3)回転多面体鏡の各鏡面により順次偏向走査される
    ビーム光を検知するビーム検知器と、このビーム検知器
    により検知される各鏡面からのビーム光量ピーク値を順
    次検出するピーク値検出手段と、このピーク値検出手段
    により順次検出されたビーム光量ピーク値に応じて各鏡
    面に対するビーム反射率を順次演算する演算手段と、こ
    の演算手段により順次演算されたビーム反射率に基づい
    てレーザ発光手段から発光されるレーザ光の発光強度を
    各鏡面毎に可変補正制御する第3の補正制御手段とを具
    備したことを特徴とするレーザ走査装置。
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