JPH0254405A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH0254405A
JPH0254405A JP20514688A JP20514688A JPH0254405A JP H0254405 A JPH0254405 A JP H0254405A JP 20514688 A JP20514688 A JP 20514688A JP 20514688 A JP20514688 A JP 20514688A JP H0254405 A JPH0254405 A JP H0254405A
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JP
Japan
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alloy film
magnetic head
gap
alloy
ferrite
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Application number
JP20514688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Ashida
芦田 晶弘
Masuzo Hattori
服部 益三
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0254405A publication Critical patent/JPH0254405A/en
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Abstract

PURPOSE:To produce the head having good recording efficiency at a good yield by forming alloy films having prescribed compsns. to a desired thickness onto a ferrite substrate of the magnetic head consisting of the alloy film essentially consisting of Fe Al Si near the gap. CONSTITUTION:The Fe-Si alloy film 12 is formed to 0.1mum and the thin Fe Al Si film 13 to 10mum successively by sputtering on a ferrite substrate 11 subjected to polishing and chemical etching. Tracks 17 are worked on a composite bar 14 formed in such a manner. Two pieces of such bars are combined as one set and the one bar 14 is worked with a winding window. SiO2 or the like is formed on the gap surface 19. The gap is formed by combining two pieces of such bars 14 as one set and glass 25 is put into the part of the winding window and is poured into the grooves of the tracks 17. The gap bar 16 formed in such a manner is subjected to chip slicing by the cutting lines shown by chain lines 18a-18h, by which the magnetic head having a desired shape is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTR,DATあるいはFDD等に用いられる
高保磁力の磁気記録媒体に高密度に情報を記録するのに
適した磁気ヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head suitable for recording information at high density on a high coercive force magnetic recording medium used in a VTR, DAT, FDD, or the like.

従来の技術 高密度磁気記録再生においては、記録媒体の保磁力を大
きくすれば有利であることが一般に知られているが、高
保磁力の記録媒体に情報を記録するためには強い磁場が
必要となる。ヘッドコア材として主流をなすフェライト
材はその飽和磁束密度が4000〜5000ガウス程度
であるため、磁気記録媒体の保磁力が1000エルステ
ッド以上の磁気記録媒体(たとえばメタルテープ)にな
ると記録が不十分になるという欠点がある。
Conventional technology In high-density magnetic recording and reproduction, it is generally known that it is advantageous to increase the coercive force of the recording medium, but in order to record information on a recording medium with high coercive force, a strong magnetic field is required. Become. Ferrite material, which is the mainstream material for head cores, has a saturation magnetic flux density of about 4,000 to 5,000 Gauss, so if the magnetic recording medium has a coercive force of 1,000 Oe or more (for example, a metal tape), recording will be insufficient. There is a drawback.

そこでフェライトよりも飽和磁束密度の大きいCoNb
Zr、CoNbTaZr等のCo系の非晶質合金が利用
されている。しかしながらこれら非晶質磁性合金に於い
ても飽和磁束密度を大きくするためには合金中のCa1
lを多くすることが必要となる。一方Co量を多くする
と非晶質合金の結晶化温度が低くなり、熱処理工程の多
いヘッドの製造に支障をきたす、従って現状では900
0ガウス程度以下の飽和磁束密度を示す非晶質合金を利
用してしか磁気へラドとして製造できていない。
Therefore, CoNb, which has a higher saturation magnetic flux density than ferrite,
Co-based amorphous alloys such as Zr and CoNbTaZr are used. However, even in these amorphous magnetic alloys, in order to increase the saturation magnetic flux density, Ca1 in the alloy must be
It is necessary to increase l. On the other hand, increasing the amount of Co lowers the crystallization temperature of the amorphous alloy, which hinders the manufacture of heads that require many heat treatment steps.
Magnetic helads can only be manufactured using amorphous alloys that exhibit a saturation magnetic flux density of about 0 Gauss or less.

そこでヘッド材料として10000ガウス以上の飽和磁
束密度を示すセンダスト(FeAj!St)合金が利用
されている(例えば、第9回日本応用磁気学会学術講演
概要集、29pA−2)、そして磁気ヘッドの形として
は第2図(a)に示すように主コアがフェライトからな
り、ギャップ近傍のみが高飽和磁束密度のセンダスト薄
膜からなるMIGタイプのヘッド、第2図(ロ)に示す
ように補助コアにフェライトを用いて、トラックとなる
センダストfilをサンドインチにしたタイプのヘッド
などがある0両者ともにセンダストyIWAをフェライ
ト基板上に10μm程度以上堆積することが必要になる
Therefore, Sendust (FeAj!St) alloy, which exhibits a saturation magnetic flux density of 10,000 Gauss or more, is used as the head material (for example, the 9th Japan Society of Applied Magnetics, Academic Conference Abstracts, 29pA-2), and the shape of the magnetic head. As shown in Fig. 2(a), the main core is made of ferrite and only the vicinity of the gap is made of Sendust thin film with high saturation magnetic flux density.As shown in Fig. 2(b), the auxiliary core is a There is a type of head that uses ferrite and has a sand inch Sendust film serving as a track.In both cases, it is necessary to deposit Sendust yIWA to a thickness of about 10 μm or more on a ferrite substrate.

発明が解決しようとする課題 しかしながらFeAlSi合金F!膜をフェライト基板
上にlOμm程度形成し、FeAlSi合金の軟磁気特
性を良くするために600℃程度で熱処理を行うと、F
eAl5t合金膜がフェライトから剥離する。この程度
の激しいものはFeAj!Si合金膜がフェライトを引
き剥す形で剥離する。
Problems to be Solved by the Invention However, FeAlSi alloy F! When a film of about 10 μm is formed on a ferrite substrate and heat-treated at about 600°C to improve the soft magnetic properties of the FeAlSi alloy, F
The eAl5t alloy film peels off from the ferrite. Something as intense as this is FeAj! The Si alloy film peels off the ferrite.

これはFeAj!S1合金中のA!がフェライトと反応
して、FeA/!Si合金膜とフェライトの境界でこれ
らの反゛応層(Al2O2等)が形成されるためである
。これらの反応層の熱膨張係数はFeAj!Si合今に
比べると小さいために境界において大きな歪が生じて剥
離などの原因となる。
This is FeAj! A in S1 alloy! reacts with ferrite to form FeA/! This is because these reaction layers (Al2O2, etc.) are formed at the boundary between the Si alloy film and the ferrite. The coefficient of thermal expansion of these reaction layers is FeAj! Since it is smaller than the Si bond, a large strain occurs at the boundary, causing peeling.

また剥離にいたらなかった場合でもこれらの反応層は第
2図(a)では疑似ギャップ、第2スル)では初期形成
膜の特性劣化による記録再生特性の劣化、等の原因とな
り磁気ヘッドに悪影響を及ぼす。
In addition, even if separation does not occur, these reaction layers cause a pseudo gap in Figure 2 (a), a deterioration of the recording and reproducing characteristics due to the deterioration of the characteristics of the initially formed film in Figure 2 (a), and adversely affect the magnetic head. affect

また非磁性酸化物基板上にFeAlSi合金膜を形成す
る場合でも、両者の境界で大きな歪が生じるため、Fe
Al!、St合金膜の初期形成膜の特性劣化、膜の剥離
等の現象が現れ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼす。
Furthermore, even when forming a FeAlSi alloy film on a non-magnetic oxide substrate, large strain occurs at the boundary between the two, so
Al! , phenomena such as deterioration of characteristics of the initially formed St alloy film and peeling of the film appear, which adversely affects the magnetic head.

課題を解決するための手段 FeAj!SL合金薄膜を作製する際にフェライト基板
上、もしくは非磁性酸化物基板上にまずFe系合金膜を
形成し、その後FeAl1Si合金膜を所望の膜厚だけ
形成する。
Means to solve problems FeAj! When producing an SL alloy thin film, an Fe-based alloy film is first formed on a ferrite substrate or a nonmagnetic oxide substrate, and then an FeAl1Si alloy film is formed to a desired thickness.

作用 この技術的手段の作用は次のようになる。action The effect of this technical means is as follows.

フェライトもしくは非磁性酸化物基板とFaAffiS
i合金膜の境界にFe合金薄膜を形成し、両者の反応を
防止する。
Ferrite or non-magnetic oxide substrate and FaAffiS
A Fe alloy thin film is formed at the boundary of the i alloy film to prevent a reaction between the two.

フェライトもしくは非磁性酸化物基板上にFe系合金膜
を形成することでFeAlSi合金の初期形成膜の特性
が大幅に改善できる。またFe、6/!SL合金its
とフェライトの境界での反応層の形成を防止することで
、フェライト基板上にFeAlSi合金膜が110l1
以上形成可能となる。
By forming an Fe-based alloy film on a ferrite or non-magnetic oxide substrate, the characteristics of the initially formed film of FeAlSi alloy can be significantly improved. Also Fe, 6/! SL alloy its
By preventing the formation of a reaction layer at the boundary between the ferrite and the FeAlSi alloy film on the ferrite substrate,
It becomes possible to form the above.

この結果第2図のヘッドに現れていた疑似ギャップ、記
録再生特性の劣化、歪の増大などの現象を減少させるこ
とが可能となる。
As a result, it is possible to reduce phenomena such as pseudo gaps, deterioration of recording/reproducing characteristics, and increase in distortion that appeared in the head of FIG. 2.

実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を用いて説明す
る。
EXAMPLE Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図(a)は本発明により形成した磁気ヘッドの一例
である。ギャップ近傍に高飽和磁束密度のFeAl15
!を主成分とした合金膜W41を用い、それ以外の磁路
はフェライト2を用いたいわゆるMIGタイプのヘッド
である。この例では合金薄膜1の膜厚を10μmとして
いる。
FIG. 1(a) shows an example of a magnetic head formed according to the present invention. FeAl15 with high saturation magnetic flux density near the gap
! This is a so-called MIG type head using an alloy film W41 mainly composed of , and using ferrite 2 for the other magnetic paths. In this example, the thickness of the alloy thin film 1 is 10 μm.

なお3はガラスである。厚さ0.1μmのFee、 9
1Si 6.。、(重量比以下組成はすべて重量比)合
金膜4がフェライト2と合金薄膜1の間に形成されてい
る。
Note that 3 is glass. Fee of 0.1μm thickness, 9
1Si 6. . (all compositions below are weight ratios) An alloy film 4 is formed between the ferrite 2 and the alloy thin film 1.

従来例では、−10dB(IMHz)あった疑似ギャッ
プ効果がFee1□Sin、。1合金膜4を用いること
により一24dB(IM)Iz)に減少した。
In the conventional example, the pseudo gap effect of -10 dB (IMHz) is Fee1□Sin. By using the 1 alloy film 4, it was reduced to -24 dB (IM) Iz).

第1図(b)は本発明により形成した磁気ヘッドの一例
である。主コアとなるのがFeAffiSiを主成分と
した合金膜5である。この厚さがトラック幅になってい
る。ここではトラック幅20μmとした。補助コアとな
るのがフェライト6、そのあいだにあるのが、厚さ0.
1μmのFe0. wzsio、 oa合金膜7である
FIG. 1(b) shows an example of a magnetic head formed according to the present invention. The main core is an alloy film 5 mainly composed of FeAffiSi. This thickness is the track width. Here, the track width was set to 20 μm. The auxiliary core is the ferrite 6, and the material between them is the ferrite 6 with a thickness of 0.
1 μm Fe0. wzsio, oa alloy film 7.

従来フェライト上にFeAj2Si合金膜を20μm堆
積することは非常に困難であったが、この手法を用いる
ことにより可能となった。
Conventionally, it was very difficult to deposit a 20 μm thick FeAj2Si alloy film on ferrite, but this method has made it possible.

第1図(C)は本発明により形成した磁気ヘッドの一例
である。主コアとなるのがFeAj!Siを主成分とし
た合金膜5、それを挟持しているのが非磁性セラミック
基板9である。5と9のあ゛いだにあるのが、厚さ0.
1μmのFe++、 qzsio、 os合金膜7であ
る。この例では、FeAj!Si合金薄膜の厚みがトラ
ックになっている。
FIG. 1(C) is an example of a magnetic head formed according to the present invention. The main core is FeAj! An alloy film 5 mainly composed of Si is sandwiched between non-magnetic ceramic substrates 9. The thickness between 5 and 9 is 0.
It is a 1 μm Fe++, qzsio, os alloy film 7. In this example, FeAj! The thickness of the Si alloy thin film forms a track.

初期形成膜の特性向上により記録再生特性が1dB(0
,1M七〜5M七)アップした。
By improving the characteristics of the initially formed film, the recording and reproducing characteristics improved by 1 dB (0
, 1M7~5M7) has been uploaded.

第3図は本発明により製造される磁気へンドの製造方法
の一例である。
FIG. 3 is an example of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention.

第3図(a)ではまず研磨、ケミカルエンチングを施し
た磁気劣化層のないフェライト基板lI上にFe−Si
合金膜層12を0.1 /7 m、 FeAlSi合金
薄膜13を10μm順にスパンタ法で形成する。
In Fig. 3(a), Fe-Si is first deposited on a ferrite substrate lI which has been polished and chemically etched and has no magnetically degraded layer.
The alloy film layer 12 is formed to a thickness of 0.1/7 m, and the FeAlSi alloy thin film 13 is formed to a thickness of 10 μm by a spunter method.

このサンプルを複合バー14とする。This sample will be referred to as a composite bar 14.

Fe−5t の組成はここでは重量%でPea、 qr
sto、 O8を用いた。スパッタ時の基板温度は20
0°Cとした。12.13の膜は真空を破らずに形成す
るのが望ましい。
The composition of Fe-5t is expressed as Pea, qr in weight% here.
Sto, O8 was used. The substrate temperature during sputtering is 20
The temperature was set to 0°C. It is desirable to form the film 12.13 without breaking the vacuum.

第3図ら)では第3図(a)で形成した複合バー14に
トラック加工を施す、トラックは17である。
3), the composite bar 14 formed in FIG. 3(a) is subjected to track processing, and the number of tracks is 17.

また2本を1&llとして、少なくとも片方のバーに巻
線窓加工を施す、その後ギャップ面19にギャンプ材料
として、SiO2、ガラス(図では省略)を所望量形成
する。
Further, two bars are set as 1&ll, and at least one of the bars is processed with a winding window, and then a desired amount of SiO2 and glass (not shown in the figure) is formed as a gap material on the gap surface 19.

第3図(C)では第3図(+))で形成したバー2本を
1組としてギャップ形成を行う。巻線窓の部分にガラス
15をいれ、このガラスをトラック溝部に流し込む。で
きあがったバーをギャップバー16とする。ギャップ形
成条件は最高温度600 ”C1保持時間1時間、N2
雰囲気中で行った第3図(d)ではギャップパー16に
チップスライスを施す。所望の形状の磁気ヘッドができ
あがる。18a−bは切断線である。
In FIG. 3(C), a gap is formed by using the two bars formed in FIG. 3(+) as one set. A glass 15 is placed in the winding window portion, and this glass is poured into the track groove. The completed bar will be referred to as a gap bar 16. Gap formation conditions are maximum temperature 600℃, C1 holding time 1 hour, N2
In FIG. 3(d), which is performed in an atmosphere, chip slicing is performed on the gapper 16. A magnetic head with the desired shape is completed. 18a-b are cutting lines.

第4図は本発明により製造される磁気ヘッドの製造方法
の一例である。
FIG. 4 shows an example of a method for manufacturing a magnetic head manufactured according to the present invention.

第4図(a)ではMnZn−フェライト基板21に所定
幅の溝を所定間隔に形成し、その溝部にガラス22が形
成しである複合基板の2枚を1組とする。1枚の複合基
板上にまずFe−Si合金膜24を0.1μm、FeA
j2S i合金膜25を20μm形成する(トラック幅
20amの磁気ヘッドを作る場合)、この際高周波領域
での磁気特性を向上させるために絶縁物(例えばSiO
□(図では省略)とFeAj!St合金との積層構造に
するのが望ましい。
In FIG. 4(a), grooves of a predetermined width are formed at predetermined intervals in a MnZn-ferrite substrate 21, and two composite substrates each having glass 22 formed in the groove portions form a set. First, a Fe-Si alloy film 24 with a thickness of 0.1 μm and FeA
A j2S i alloy film 25 of 20 μm thickness is formed (when making a magnetic head with a track width of 20 μm). At this time, an insulator (for example, SiO
□ (omitted in the figure) and FeAj! It is desirable to have a laminated structure with an St alloy.

Fe−3iの組成はここでは重量%でFee、 qts
lo、 o。
The composition of Fe-3i is expressed here in weight% Fee, qts
lo, o.

を用いた。スパッタ時の基板温度は200°Cとした。was used. The substrate temperature during sputtering was 200°C.

24.25の膜は真空を破らずに形成するのが望ましい
It is desirable to form the films 24 and 25 without breaking the vacuum.

もう1枚の基板上にはガラス層26を2μm形成する。A glass layer 26 having a thickness of 2 μm is formed on the other substrate.

第4図[有])では第4図(a)で作った2枚の基板を
電気炉の中で約600°Cで加熱加圧接着し、複合ブロ
ック27を製造する。この際、窒素雰囲気中で行うのが
望ましい。
In FIG. 4 [ex.]), the two substrates made in FIG. 4(a) are bonded under heat and pressure in an electric furnace at about 600° C. to produce a composite block 27. At this time, it is desirable to carry out in a nitrogen atmosphere.

第4図(C)ではこの複合ブロックを短冊切断し、2本
のバー28.29を1&llとして、1本のバーには巻
線溝加工などを行う、30a−eは切断線である。
In FIG. 4(C), this composite block is cut into strips, two bars 28 and 29 are set as 1&ll, and one bar is processed with winding grooves, etc., and 30a-e are cutting lines.

第4図(d)では2本のバー28.29の突合せ面(ギ
ャップ面)を研磨した後、この面にSiO□、ガラス(
共に図では省略)を順にスパッタ法で形成し、電気炉内
で加圧加熱接着し、ヘッドバー32とする。このときの
温度は工程(b)で行った接着がゆるまないようにこの
温度より少し低い560℃くらいが望ましい。
In FIG. 4(d), after polishing the abutting surfaces (gap surfaces) of the two bars 28 and 29, SiO□ and glass (
(both are omitted from the figure) are sequentially formed by sputtering and bonded under pressure and heat in an electric furnace to form the head bar 32. The temperature at this time is preferably about 560° C., which is slightly lower than this temperature, so that the bonding performed in step (b) does not loosen.

その後ヘツドバー32を適当に切断して磁気ヘッドがで
きあがる。33 a −cは切断線である。
Thereafter, the head bar 32 is appropriately cut to complete the magnetic head. 33a-c are cutting lines.

第5図は本発明により製造される磁気ヘッドの製造方法
の一例である。
FIG. 5 shows an example of a method for manufacturing a magnetic head manufactured according to the present invention.

第5図(a)では非磁性酸化物基板41の2枚を1組と
し、1枚の基板4】上にまずFe−Si合金膜42を0
.1 pm、FeAj!S i合金1lI43を20μ
m形成する(トラック幅20μmの磁気ヘッドを作る場
合)、この際高周波領域での磁気特性を向上させるため
に絶縁物(例えば5i02(図では省略))とFeAf
fiS1合金との積層構造にするのが望ましい。
In FIG. 5(a), two nonmagnetic oxide substrates 41 are used as a set, and a Fe-Si alloy film 42 is first coated on one substrate 4.
.. 1 pm, FeAj! Si alloy 1lI43 20μ
m (when making a magnetic head with a track width of 20 μm), at this time, an insulator (for example, 5i02 (not shown)) and FeAf are used to improve the magnetic properties in the high frequency range.
It is desirable to have a laminated structure with fiS1 alloy.

Fe−5i の組成はここでは重量%でFee、 9!
510.。。
The composition of Fe-5i is expressed here as Fee, 9!
510. . .

を用いた。スパッタ時の基板温度は200°Cとした。was used. The substrate temperature during sputtering was 200°C.

42.43の膜は真空を破らずに形成するのが望ましい
It is desirable to form the film 42.43 without breaking the vacuum.

もう1枚の基板上にはガラス層44を2μm形成する。A glass layer 44 having a thickness of 2 μm is formed on the other substrate.

第5図(ハ)では第5図(a)で作った2枚の基板を電
気炉の中で約600℃で加熱加圧接着し、複合ブロック
45を製造する。この際、窒素雰囲気中で行うのが望ま
しい。
In FIG. 5(c), the two substrates made in FIG. 5(a) are bonded under heat and pressure at about 600° C. in an electric furnace to produce a composite block 45. At this time, it is desirable to carry out in a nitrogen atmosphere.

第5図(C)ではこの複合ブロックを短冊切断し、2本
のバー46.4’7を1組として、1本のバーには巻線
溝加工などを行う、43a−eは切断線である。
In Fig. 5(C), this composite block is cut into strips, and two bars 46.4'7 are used as one set. Each bar is machined with winding grooves, etc. 43a-e are cutting lines. be.

第5図(d)では2本のバー46.47の突合せ面(ギ
ャップ面)を研磨した後、この面に5i(h、ガラス(
共に図では省略)を順にスパッタ法で形成し、電気炉内
で加圧加熱接着し、ヘッドパー50とする。このときの
温度は工程(b)で行った接着がゆるまないようにこの
温度より少し低い560″Cくらいが望ましい。
In Fig. 5(d), after polishing the abutting surfaces (gap surfaces) of the two bars 46 and 47, this surface is polished with 5i (h) and glass (
(both are omitted from the figure) are sequentially formed by sputtering and bonded under pressure and heat in an electric furnace to form the head par 50. The temperature at this time is preferably about 560''C, which is slightly lower than this temperature, so that the bonding made in step (b) does not loosen.

その後ヘツドパー50を適当に切断して磁気ヘッドがで
きあがる。51a−bは切断線である。
Thereafter, the head par 50 is appropriately cut to complete a magnetic head. 51a-b are cutting lines.

なお本発明の一実施例ではFe系合金膜の組成が211
%でFe61□Si、、。、を用いたが、これ以外の組
成でも以下の範囲では問題がない。
In one embodiment of the present invention, the composition of the Fe-based alloy film is 211
% of Fe61□Si. , but there is no problem with other compositions within the following range.

exXy (但し、XはSi、 Mo、 Nb、 Ta、 Zr。exXy (However, X is Si, Mo, Nb, Ta, Zr.

Ru、Ti、Ge、Au、Ag、Pdのうち1種類以上
の合金からなる) 0.60≦ X ≦0.99 0401≦ y ≦0.40  (但しat%)従って
たとえばFee、wzSie、os+ PE1o、wJ
ue、++m+Fee、wiTi*、*s+  Fe+
、qxGee、oc+  Fee、*1Auo、os+
Fe@、w寞Age、@It  Fes、雫xPdo、
at+Fee、 *oS+o、 eJOo、 st、 
Fee、 *o5ia、 o−Ruo、 e富+Fee
、 *oSie、 esTae、ot+ Fee、*J
uo、osτa@、OZ+Pea、5sSie、+s+
 Fee、wsRuo、+s+ Feo、5sTio、
+s。
0.60≦X≦0.99 0401≦y≦0.40 (However, at%) Therefore, for example, Fee, wzSie, os+PE1o ,wJ
ue, ++m+Fee, wiTi*, *s+ Fe+
, qxGee, oc+ Fee, *1Auo, os+
Fe@, w寞Age, @It Fes, Shizuku x Pdo,
at+Fee, *oS+o, eJOo, st,
Fee, *o5ia, o-Ruo, e wealth + Fee
, *oSie, esTae, ot+ Fee, *J
uo, osτa@, OZ+Pea, 5sSie, +s+
Fee, wsRuo, +s+ Feo, 5sTio,
+s.

Fee、 5ssia、 +oRu*、 Ill pe
、、 5ssi*、 +Jb+、 *s*F@@、 @
@S1 @、I oMo、、 lls、F’l@−as
Si@、I OTa*−118+Fee、 wests
、 tJbe、 esTae、 ms+Feo、aos
io、+oZro、asNbo、os+Fee、l11
stl +oTa6.osTio、os。
Fee, 5ssia, +oRu*, Ill pe
,, 5ssi*, +Jb+, *s*F@@, @
@S1 @, I oMo,, lls, F'l@-as
Si@, I OTa*-118+Fee, wests
, tJbe, esTae, ms+Feo, aos
io, +oZro, asNbo, os+Fee, l11
stl +oTa6. osTio, os.

Feo、5oSlo、+OMoo、asTio、as+
Feo、5alluo、+ 。Tle、+o、Fe+、
*oRuo、l5M0o、+5Tie、+1Fe6. 
hosIo、 + 5Ru6. + Jbo、 + o
等の合金をフェライトもしくは非磁性酸化物基板とFe
A/!St合金との境界に設けても同様の効果が得られ
る。
Feo, 5oSlo, +OMoo, asTio, as+
Feo, 5alluo, +. Tle, +o, Fe+,
*oRuo, l5M0o, +5Tie, +1Fe6.
hosIo, +5Ru6. + Jbo, + o
ferrite or non-magnetic oxide substrate and Fe
A/! A similar effect can be obtained even if it is provided at the boundary with the St alloy.

また膜厚もここでは0.1omを用いたが反応を防止す
るためには0,03μmもあれば十分である。
Further, although a film thickness of 0.1 .mu.m was used here, a thickness of 0.03 .mu.m is sufficient to prevent reactions.

発明の効果 本発明による磁気ヘッドにより、例えばVTR。Effect of the invention The magnetic head according to the present invention can be used, for example, in a VTR.

DAT、FDD用ヘッドのコア材料として高飽和磁束密
度のFeAj!Si合金薄膜が利用でき、記録効率の優
れた磁気ヘッドを今までに比べて歩留り良く製造できる
FeAj with high saturation magnetic flux density as core material for DAT and FDD heads! A Si alloy thin film can be used, and a magnetic head with excellent recording efficiency can be manufactured at a higher yield than ever before.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図榊勧→は本発明の磁気ヘッドの斜視図、第2図は
従来の磁気ヘッドの実施例を示す斜視図、第3図、第4
図、第5図は本発明の磁気ヘッドの製造方法の工程図で
ある。 1・・・・・・合金薄膜、2.6・・・・・・フェライ
ト、3・・・・・・ガラス、4・・・・・・Pa@、q
tsia、。6合金膜、5・・・・・・FeAlSiを
主成分とした合金膜、7・・・・・・厚さ0.1μmの
Fee、 wzsie、 as合金膜、9・・・・・・
非磁性セラミック基板。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名図 f−・合わII膜 2−一−フヱラ4ト 第 図 第 図 Be
Fig. 1 is a perspective view of the magnetic head of the present invention, Fig. 2 is a perspective view showing an embodiment of a conventional magnetic head, Figs.
5A and 5B are process diagrams of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention. 1...Alloy thin film, 2.6...Ferrite, 3...Glass, 4...Pa@, q
tsia,. 6 Alloy film, 5... Alloy film mainly composed of FeAlSi, 7... Fee, wzsie, as alloy film with a thickness of 0.1 μm, 9...
Non-magnetic ceramic substrate. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano Figure 1 Figure f-・Membrane 2-1-Fura 4 Figure Figure Be

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)主コアがフェライトで、ギャップ近傍がFeAl
Siを主成分とする合金膜からなる磁気ヘッドで、フェ
ライト基板上にFe_xM_y合金膜が0.03μmか
ら1.0μm形成され、その上に上記FeAlSiを主
成分とする合金膜が所望の厚さ形成されていることを特
徴とする磁気ヘッド。 但しMはSi,Mo,Nb,Ta,Zr,Ru,Ti,
Ge,Au,Ag,Pdの1種類以上の合金からなり、
またx,y,zは重量比で 0.60≦X≦0.99 0.01≦Y≦0.40 X+Y=1 で表されるものとする。 (2)非磁性酸化物基板上もしくはフェライト基板上に
Fe_xM_y合金膜が0.03μmから1.0μm形
成され、その上に主コアとなるFeAlSiを主成分と
する合金膜が所望の厚さ形成されていることを特徴とす
る磁気ヘッド。 但しMはSi,Mo,Nb,Ta,Zr, Ru,Ti,Ge,Au,Ag,Pdの1種類以上の合
金からなり、またx,y,zは重量比で 0.60≦X≦0.99 0.01≦Y≦0.40 X+Y=1 で表されるものとする。
[Claims] (1) The main core is made of ferrite, and the vicinity of the gap is made of FeAl.
In a magnetic head made of an alloy film mainly composed of Si, a Fe_xM_y alloy film is formed on a ferrite substrate to a thickness of 0.03 μm to 1.0 μm, and the above-mentioned alloy film mainly composed of FeAlSi is formed to a desired thickness on top of the Fe_xM_y alloy film. A magnetic head characterized by: However, M is Si, Mo, Nb, Ta, Zr, Ru, Ti,
Consisting of one or more alloys of Ge, Au, Ag, and Pd,
In addition, x, y, and z are expressed in weight ratio as follows: 0.60≦X≦0.99 0.01≦Y≦0.40 X+Y=1. (2) A Fe_xM_y alloy film with a thickness of 0.03 μm to 1.0 μm is formed on a nonmagnetic oxide substrate or a ferrite substrate, and an alloy film containing FeAlSi as the main component is formed on top of it to a desired thickness. A magnetic head characterized by: However, M is made of one or more alloys of Si, Mo, Nb, Ta, Zr, Ru, Ti, Ge, Au, Ag, and Pd, and x, y, and z are 0.60≦X≦0 in terms of weight ratio. .99 0.01≦Y≦0.40 X+Y=1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03263306A (en) * 1990-02-02 1991-11-22 Nec Corp Magnetic film and magnetic head
US5155617A (en) * 1991-06-13 1992-10-13 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Electro-optic attenuated total internal reflection modulator and method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6391811A (en) * 1986-10-06 1988-04-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of magnetic head
JPH01303614A (en) * 1988-06-01 1989-12-07 Fuji Elelctrochem Co Ltd Magnetic head

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6391811A (en) * 1986-10-06 1988-04-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Production of magnetic head
JPH01303614A (en) * 1988-06-01 1989-12-07 Fuji Elelctrochem Co Ltd Magnetic head

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03263306A (en) * 1990-02-02 1991-11-22 Nec Corp Magnetic film and magnetic head
US5155617A (en) * 1991-06-13 1992-10-13 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Electro-optic attenuated total internal reflection modulator and method

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