JPH0251982B2 - - Google Patents
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- JPH0251982B2 JPH0251982B2 JP61090148A JP9014886A JPH0251982B2 JP H0251982 B2 JPH0251982 B2 JP H0251982B2 JP 61090148 A JP61090148 A JP 61090148A JP 9014886 A JP9014886 A JP 9014886A JP H0251982 B2 JPH0251982 B2 JP H0251982B2
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 43
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 20
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、蒸発源又はスパツタリング源に対向
して設けられたクーリングローラ面上にフイルム
を連続して走行させ、フイルム面に蒸着又はスパ
ツタリング物質をコーテイングさせたフイルムを
巻取つて行くようにした巻取式真空蒸着又はスパ
ツタリング装置に関し、特に該装置に用いられる
フイルム走行用ローラ装置に関する。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention involves continuously running a film on the surface of a cooling roller provided opposite to an evaporation source or a sputtering source, and depositing or sputtering material on the film surface. The present invention relates to a winding-type vacuum deposition or sputtering apparatus for winding and transporting a coated film, and particularly to a film running roller apparatus used in the apparatus.
（従来の技術）
従来の巻取式真空蒸着又はスパツタリング装置
においては、第２図に示すように、蒸発源又はス
パツタリング源１に対向して、フイルムを冷却し
ながら送るようにしたクーリングローラ（冷却ド
ラム）２が設けられており、巻出し（巻戻し）ロ
ーラ３から送られて来たフイルム４を、上記クー
リングローラ２の周面上を該ローラ２と同一速度
で進行させ、該フイルム４をローラ２と密着状態
で冷却しながら蒸着又はスパツタリング物質をコ
ーテイングし、巻取りローラ５によつて巻取るよ
うに構成されている。(Prior Art) In a conventional winding type vacuum evaporation or sputtering apparatus, as shown in FIG. A drum) 2 is provided, and the film 4 sent from the unwinding (rewinding) roller 3 is advanced on the circumferential surface of the cooling roller 2 at the same speed as the cooling roller 2, and the film 4 is The material is coated with a vapor-deposited or sputtered material while being cooled in close contact with a roller 2, and then wound up by a winding roller 5.
上記のようにフイルム面を冷却するのは、コー
テイングされるフイルムは蒸発源からの熱輻射及
び蒸発物質の凝縮潜熱を受けて温度上昇し、これ
に伴つてフイルムから内蔵ガスが放出され蒸着面
の付着力が減少し、又はフイルムを変質、変形さ
せることを防ぐためである。 The reason for cooling the film surface as described above is that the temperature of the film to be coated rises due to thermal radiation from the evaporation source and latent heat of condensation of the evaporated substance, and as a result, the built-in gas is released from the film and the surface of the evaporation layer is cooled. This is to prevent the adhesive force from decreasing or the film from being altered or deformed.
従来、クーリングローラとフイルムとの密着力
は、適当な制動力を与えられた巻出しローラ３の
フイルムを、巻取りローラ５によつて巻取り張力
を与えながら巻取ることによつて生じさせてお
り、また、該フイルム４とクーリングローラ２と
の密着力を向上させるために、巻出しローラ３及
び巻取りローラ５とクーリングローラ２との間に
それぞれ図示しないダンサーローラ（テンシヨン
ローラ）を設けて、フイルムに適当な張力を与え
るようにしたものもあつた。 Conventionally, the adhesion force between the cooling roller and the film is created by winding the film on the unwinding roller 3, which has been given an appropriate braking force, while applying the winding tension with the winding roller 5. In addition, in order to improve the adhesion between the film 4 and the cooling roller 2, dancer rollers (not shown) are provided between the unwinding roller 3, the winding roller 5, and the cooling roller 2, respectively. Some were designed to apply appropriate tension to the film.
（発明が解決しようとする問題点）
上記した従来の巻取式真空蒸着又はスパリング
装置にあつては、フイルムの種類等によつてクー
リングローラとフイルム面との密着状態が完全に
行われず、そのため、フイルム面の冷却作用が充
分に行われず、フイルムが受ける熱影響等によつ
て、皺やコーテイングムラ等の種々の問題が発生
した。(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional winding type vacuum deposition or sparring apparatus described above, depending on the type of film, the cooling roller and the film surface may not be in perfect contact with each other. As a result, the film surface is not sufficiently cooled, and various problems such as wrinkles and uneven coating occur due to the effects of heat on the film.
また、巻取りローラの巻取り力を強めるなどし
て巻取り張力を高め、フイルムとクーリングロー
ラとの密着力を向上させるようにしたものは、巻
取つた原反硬度がかなり高くなり、ブロツキング
という現象が起こるという問題点もあつた。 In addition, when the winding tension is increased by increasing the winding force of the winding roller, etc., and the adhesion between the film and the cooling roller is improved, the hardness of the film to be wound becomes considerably high, which is called blocking. There was also the issue of the phenomenon occurring.
本発明は、上記の各問題点を解決することを技
術的課題としている。 The technical object of the present invention is to solve each of the above-mentioned problems.
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記した従来技術の問題点を解決す
るために巻取式真空蒸着又はスパツタリング装置
におけるクーリングローラのフイルム送入側と同
送出側の少くとも何れか一方の側に、サブローラ
を設け、該サブローラの周速度を可変にすると共
に、該サブローラを可変温度に冷却するようにし
たことを特徴としている。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above-mentioned problems of the prior art, the present invention is directed to at least both the film feeding side and the film sending side of the cooling roller in a winding type vacuum evaporation or sputtering apparatus. A sub-roller is provided on one side, the peripheral speed of the sub-roller is made variable, and the sub-roller is cooled to a variable temperature.
（作用）
本発明は上記のように構成されているので、ク
ーリングローラの両側にサブローラを設けた場
合、フイルム送出側のサブローラの周速度を同送
入側のサブローラの周速度より大きくし且つそれ
らの速度差を制御することにより、また、クーリ
ングローラの片側にのみサブローラを設けた場
合、クーリングローラ近傍のフイルムに張力を与
えるように該サブローラの周速度を制御すること
により、クーリングローラとフイルムとの密着力
が大きくなり、コーテイング時のフイルムの張力
が変化され、フイルムとクーリングローラとの密
着力が制御される。(Function) Since the present invention is constructed as described above, when sub-rollers are provided on both sides of the cooling roller, the circumferential speed of the sub-roller on the film feeding side is made larger than the circumferential speed of the sub-roller on the feeding side, and If a sub-roller is provided only on one side of the cooling roller, the circumferential speed of the sub-roller is controlled to apply tension to the film near the cooling roller. The adhesion force between the film and the cooling roller increases, the tension of the film during coating is changed, and the adhesion force between the film and the cooling roller is controlled.
また上記サブローラを温度可変に冷却するよう
にしてあるので、上記の作用の外、フイルムの温
度も制御される。 Furthermore, since the sub-roller is cooled to a variable temperature, the temperature of the film is also controlled in addition to the above-mentioned effects.
このようにして、フイルムの皺やコーテングム
ラ等が減少する。 In this way, film wrinkles, coating unevenness, etc. are reduced.
（実施例） 次に、本発明の実施例を図面と共に説明する。(Example) Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は、本発明の一実施例を示す説明図であ
つて、図中、第２図に記載した符号と同一の符号
は同一ないし同類部分を示すものとする。 FIG. 1 is an explanatory diagram showing one embodiment of the present invention, and in the figure, the same reference numerals as those shown in FIG. 2 indicate the same or similar parts.
図において、未コーテイングのフイルムを巻い
た巻出しローラ３とクーリングローラ２との間、
つまりフイルムの送入側に可変温度に冷却された
サブクーリングローラ１１が、また巻取りローラ
５とクーリングローラ２との間、つまりフイルム
の送出側に同じく可変温度に冷却されたサブクー
リングローラ１２がそれぞれ配設されており、こ
れらの両サブクーリングローラ１１，１２は、そ
れぞれ周速度が可変に構成されている。 In the figure, between the unwinding roller 3 on which the uncoated film is wound and the cooling roller 2,
In other words, there is a sub-cooling roller 11 cooled to a variable temperature on the film feed side, and a sub-cooling roller 12 cooled to a variable temperature between the take-up roller 5 and the cooling roller 2, that is, on the film feed side. Both sub-cooling rollers 11 and 12 are configured to have variable circumferential speeds.
上記の周速度制御手段としては、直流又は交流
モータによる電気的制御手段と、微少調整可能の
変速機による機械的制御手段とがあり、これらは
何れも従来公知のものでよい。 The circumferential speed control means mentioned above includes electrical control means using a DC or AC motor, and mechanical control means using a micro-adjustable transmission, both of which may be conventionally known.
この実施例によれば、フイルム４が巻出しロー
ラ３から巻取り５へ、クーリングローラ２を経て
矢印方向へ送られているとき、送出側のサブクー
リングローラ１２の周速度を送入側のサブクーリ
ングローラ１１の周速度より大きくすると、クー
リングローラ２を通過するフイルム部分に張力が
加えられるので、クーリングローラ２とフイルム
４との密着力が大きくなる。従つて、両サブクー
リングローラ１１，１２の周速度の違いを変化さ
せることによつて、コーテイング時のフイルム４
の張力及びクーリングローラ２とフイルム４との
密着力が制御（コントロール）される。 According to this embodiment, when the film 4 is being fed from the unwinding roller 3 to the take-up roller 5 via the cooling roller 2 in the direction of the arrow, the circumferential speed of the sub-cooling roller 12 on the feeding side is controlled by the sub-cooling roller 12 on the feeding side. When the circumferential speed is higher than that of the cooling roller 11, tension is applied to the portion of the film passing through the cooling roller 2, so that the adhesion between the cooling roller 2 and the film 4 increases. Therefore, by changing the difference in the circumferential speed of both sub-cooling rollers 11 and 12, the film 4 can be
The tension between the cooling roller 2 and the film 4 is controlled.
また上記サブクーリングローラ１１，１２の冷
却温度を調整することにより、クーリングローラ
２前後のフイルム４の温度を制御することができ
る。 Further, by adjusting the cooling temperature of the sub-cooling rollers 11 and 12, the temperature of the film 4 before and after the cooling roller 2 can be controlled.
このようにして、フイルム４の皺やコーテイン
グムラ等を減少させることができる。 In this way, wrinkles and coating unevenness in the film 4 can be reduced.
また、上記サブローラは、クーリングローラの
送入側又は送出側の何れか一方の側にのみ設ける
ことも可能である。この場合、送入側にのみ設け
るときは該サブローラの周速度を巻取りローラ５
の周速度より遅い速度範囲で調整することにより
フイルムの張力及びクーリングローラとの密着力
を制御することができ、また、送出側にのみ設け
るときは、巻取りローラ５の手前でクーリングロ
ーラの近傍のフイルム４の張力や該クーリングロ
ーラとの密着力の制御が確実に行われる効果があ
る。 Further, the sub-roller may be provided only on either the inlet side or the outlet side of the cooling roller. In this case, if the sub-roller is provided only on the feed side, the circumferential speed of the sub-roller should be adjusted to the take-up roller 5.
The tension of the film and the adhesion force with the cooling roller can be controlled by adjusting the speed in a speed range slower than the circumferential speed of This has the effect of reliably controlling the tension of the film 4 and the adhesion force with the cooling roller.
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、巻取式真
空装置におけるクーリングローラのフイルム送入
側と送出側の少くとも何れか一方の側にサブロー
ラを設け、該サブローラの周速度を可変とし、温
度を冷却可変としたことにより、コーテング時の
フイルムの張力及びフイルムとクーリングローラ
との密着力を制御することができ、フイルムとク
ーリングローラ間の熱伝達の割合を種々変化させ
ることができる。これにより、フイルムの皺やコ
ーテイングムラ等を減少させることができ、従来
不可能であつたあらゆる種類のフイルムに対して
コーテイングを可能とすることができる。(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, a sub-roller is provided on at least one of the film feeding side and the film feeding side of a cooling roller in a winding type vacuum device, and the circumferential speed of the sub-roller is By making the temperature variable and the cooling temperature variable, the tension of the film during coating and the adhesion between the film and the cooling roller can be controlled, and the rate of heat transfer between the film and the cooling roller can be varied. Can be done. As a result, wrinkles in the film, coating unevenness, etc. can be reduced, and it is possible to coat all kinds of films, which was previously impossible.
また、従来の巻取りローラによる巻取り張力と
は関係なく、クーリングローラとフイルムとの密
着力を周速度の変化により制御することができる
ため、従来のようなブロツキングという現象が起
こらない。 In addition, since the adhesion between the cooling roller and the film can be controlled by changing the circumferential speed, regardless of the winding tension of the conventional winding roller, the phenomenon of blocking, which is conventional, does not occur.
第１図は本発明の一実施例を示す巻取式真空蒸
着又はスパツタリング装置の説明図、第２図は従
来の同様装置の説明図である。
１……蒸発源又はスパツタリング源、２……ク
ーリングローラ、３……巻出しローラ、４……フ
イルム、５……巻取りローラ、１１，１２……サ
ブクーリングローラ。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a winding type vacuum deposition or sputtering apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of a similar conventional apparatus. 1... Evaporation source or sputtering source, 2... Cooling roller, 3... Unwinding roller, 4... Film, 5... Winding roller, 11, 12... Sub-cooling roller.
Claims (1)
られたクーリングローラ面上にフイルムを連続し
て走行させ、コーテイングされた該フイルムを巻
取りローラにより巻取るようにした巻取式真空装
置において、上記クーリングローラのフイルム送
入側と同送出側の少くとも何れか一方の側にサブ
ローラを設け、該サブローラの周速度を可変とす
ると共に、該サブローラを可変温度に冷却するよ
うにしたことを特徴とする巻取式真空装置。1. In a winding type vacuum device in which a film is continuously run on the surface of a cooling roller provided opposite to an evaporation source or a sputtering source, and the coated film is wound up by a winding roller, the above-mentioned cooling A sub-roller is provided on at least one of the film feeding side and the film sending side of the roller, the circumferential speed of the sub-roller is made variable, and the sub-roller is cooled to a variable temperature. Winding type vacuum device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9014886A JPS62247073A (en) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | Roller device for winding type vacuum device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9014886A JPS62247073A (en) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | Roller device for winding type vacuum device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62247073A JPS62247073A (en) | 1987-10-28 |
| JPH0251982B2 true JPH0251982B2 (en) | 1990-11-09 |
Family
ID=13990414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9014886A Granted JPS62247073A (en) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | Roller device for winding type vacuum device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62247073A (en) |
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1986
- 1986-04-21 JP JP9014886A patent/JPS62247073A/en active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62247073A (en) | 1987-10-28 |
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