JPH0251297A - Manufacture of printed wiring board - Google Patents

Manufacture of printed wiring board

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Publication number
JPH0251297A
JPH0251297A JP20208488A JP20208488A JPH0251297A JP H0251297 A JPH0251297 A JP H0251297A JP 20208488 A JP20208488 A JP 20208488A JP 20208488 A JP20208488 A JP 20208488A JP H0251297 A JPH0251297 A JP H0251297A
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JP
Japan
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electron beam
conductive
printed
wiring board
conductive paste
Prior art date
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Pending
Application number
JP20208488A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadatsugu Tagami
忠嗣 田上
Yuki Matsuhashi
松橋 由記
Hidetoshi Nagata
永田 秀俊
Takashi Kobayashi
敬 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication of JPH0251297A publication Critical patent/JPH0251297A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make it possible to obtain a printed wiring board which is small in warp and small in lowering of adhesion even after soaking in fused solder, generation of blister and rise of resistance value by covering it with electron beam hardening covering composition and hardening it by electron beam irradiation after printing conductive paste on a substrate and hardening it by electron beam irradiation so as to form an electric circuit. CONSTITUTION:After printing conductive paste, which has conductive fine powder and electron beam hardening resin for its main ingredients, onto, e.g., a one-side copper clad paper-phenol resin laminate using a screen print made of stainless steel, electron beams are applied from the conductive paste printed face side of the laminate using an electron beam irradiation device so as to harden the conductive paste printed part. Next, electron beam hardening resin, or electron beam hardening covering composition which has it and inorganic filler for its main ingredients is printed onto the conductive past printed hardened part using a screen print made of nylon, and then electron beams are applied under the same conditions as the case of hardening of the conductive paste so as to harden an electron beam hardening covering composition printed part, thus a printed wiring board is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は電子機器などに使用される印刷配線板の製造方
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a method of manufacturing a printed wiring board used in electronic equipment and the like.

(従来の技術) 近年、電子機器は小型軽量化、高密度実装化、省エネル
ギー化が急速に進みつつあり、これにともない、電子機
器などに使用される印刷配線板に対する要求も多様化し
てきており、印刷配線板における導電層や導電回路の保
護もますます重要となってきている。このような導電層
や導電回路に、従来から導電性微粉末、熱硬化性樹脂お
よび有機溶剤を主成分とする導電性ペーストが、また、
これら導電層や導電回路の保護被覆剤としては、従来か
ら、熱硬化性樹脂および有機溶剤、またはこれらと無機
充填剤とを主成分とするものが、それぞれ用いられてき
た。
(Conventional technology) In recent years, electronic devices have been rapidly becoming smaller and lighter, more densely packaged, and more energy efficient, and along with this, the requirements for printed wiring boards used in electronic devices are becoming more diverse. Protection of conductive layers and circuits in printed wiring boards is also becoming increasingly important. Conventionally, conductive pastes mainly composed of conductive fine powder, thermosetting resins, and organic solvents have been used for such conductive layers and conductive circuits.
As protective coating materials for these conductive layers and conductive circuits, materials containing thermosetting resins, organic solvents, or these and inorganic fillers as main components have been used.

これら熱硬化性樹脂を含む導電性ペーストや保護被覆剤
を硬化させるには、高温長時間の数次にわたる加熱が必
要であり、加熱による基板のそり、劣化。
In order to cure conductive pastes and protective coatings containing these thermosetting resins, multiple heating steps at high temperatures and long periods of time are required, which can cause warping and deterioration of the substrate due to heating.

収縮などを生じ2部品実装の歩留りが低下するとともに
、省エネルギー、省資源、環境保全などの面で。
This causes shrinkage, which lowers the yield of two-component mounting, and also reduces energy savings, resource savings, and environmental protection.

溶剤揮発による問題があった。There was a problem due to solvent volatilization.

これらの問題を解決するために、導電層や導電回路に、
導電性微粉末、および紫外線硬化性樹脂を主成分とする
導電ペーストを用いることが検討された。
In order to solve these problems, conductive layers and conductive circuits are
Consideration has been given to using a conductive paste whose main components are conductive fine powder and ultraviolet curable resin.

しかしながら、これら、金属微粉末、金属酸化物微粉末
、カーボンブラック、グラファイトなどの導電性微粉末
を高濃度で含有する導電性ペーストは、導電性微粉末に
より紫外線が吸収または反射されるために、紫外線を照
射しても内部まで十分硬化しないという欠点があった。
However, these conductive pastes containing high concentrations of conductive fine powders such as metal fine powders, metal oxide fine powders, carbon black, and graphite do not absorb or reflect ultraviolet rays due to the ultraviolet rays being absorbed or reflected by the conductive fine powders. The drawback was that even when irradiated with ultraviolet light, the inside was not sufficiently cured.

このため1本発明者らは、熱硬化性導電性ペーストを硬
化させて得られる導電層や導電回路の保護被覆剤として
、紫外線硬化性樹脂、またはこれらと無機充填剤とを主
成分とするものを検討した。しかしながら、これら導電
性ペーストを硬化させて得られる導電層や導電回路はき
わめて多孔質であり、導電層や導電回路の孔に深く浸透
した保護被覆剤は、紫外線を照射しても十分硬化せず1
次工程において部品を実装した後ハンダに浸漬させた時
に、保護被覆にふくれや破断を生じるという欠点があっ
た。
For this reason, 1 the present inventors have developed an ultraviolet curable resin, or a UV curable resin and an inorganic filler as main components, as a protective coating material for a conductive layer or a conductive circuit obtained by curing a thermosetting conductive paste. It was investigated. However, the conductive layers and conductive circuits obtained by curing these conductive pastes are extremely porous, and the protective coating that has penetrated deeply into the pores of the conductive layers and conductive circuits cannot be sufficiently cured even when exposed to ultraviolet light. 1
In the next process, when the parts are mounted and immersed in solder, the protective coating may blister or break.

そこで1本発明者らは、基板上に、導電性微粉末および
電子線硬化性樹脂を主成分とする導電性ペーストを塗布
または印刷し、電子線照射により硬化させて導電層また
は導電回路を形成させ、さらに、この上に、熱硬化性樹
脂および有機溶剤またはこれらと無機充填剤を主成分と
する熱硬化性被覆組成物を被覆し、加熱により硬化させ
ることを検討した。しかしながら、この方法では、熱硬
化性被覆組成物に含まれる有機溶剤によって、導電層ま
たは導電回路が膨潤し、導電層または導電回路の導電性
が変化するとともに基板への密着性が低下し、信頼性が
損われるとともに1部品実装後に保護被覆を設ける場合
には、実装した部品が熱劣化するという欠点があった。
Therefore, the present inventors coated or printed a conductive paste mainly composed of conductive fine powder and electron beam curable resin on a substrate, and cured it by electron beam irradiation to form a conductive layer or a conductive circuit. Furthermore, it was considered that a thermosetting coating composition containing a thermosetting resin and an organic solvent, or a thermosetting resin and an inorganic filler as main components, was coated thereon and cured by heating. However, in this method, the organic solvent contained in the thermosetting coating composition causes the conductive layer or conductive circuit to swell, changing the conductivity of the conductive layer or conductive circuit and reducing its adhesion to the substrate, resulting in reliability. In addition, when a protective coating is provided after one component is mounted, the mounted component is subject to thermal deterioration.

(発明が解決しようとする課題) 本発明は、そりが少なく、溶融ハンダ浸漬後にも密着性
の低下、ブリスターの発生や抵抗値の上昇が少ない印刷
配線板の製造方法を提供するものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides a method for manufacturing a printed wiring board that has less warpage, less decrease in adhesion, less occurrence of blisters, and less increase in resistance value even after being immersed in molten solder.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発明は、 (1)基板上に、導電性微粉末および熱硬
化性または電子線硬化性の樹脂を主成分とする導電性ペ
ーストを塗布あるいは印刷し、加熱または電子線照射に
より硬化させて導電層あるいは導電回路を形成させた後
、上記導電層あるいは導電回路上に、電子線硬化性樹脂
、またはこれらと無機充填剤とを主成分とする電子線硬
化性被覆組成物を被覆し。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides the following: (1) A conductive paste containing conductive fine powder and a thermosetting or electron beam curing resin as main components is coated or printed on a substrate, and heated. Alternatively, after curing by electron beam irradiation to form a conductive layer or a conductive circuit, an electron beam curable resin or an electron beam curable resin containing these and an inorganic filler as main components is applied on the conductive layer or conductive circuit. Coat the coating composition.

電子線照射により硬化させることを特徴とする印刷配線
板の製造方法であり、 (2)さらに、電子部品を実装
させ電子線硬化性コンフォーマルコーティング剤を被覆
し、電子線照射により硬化させる上記(1)記載の印刷
配線板の製造方法であり、 (3)電子線硬化性被覆組
成物が実質的に溶剤を含まないものである上記(1)ま
たは(2)記載の印刷配線板の製造方法であり、 (4
)電子線硬化性コンフォーマルコーティング剤が実質的
に溶剤を含まないものである上記(2)記載の印刷配線
板の製造方法である。
A method for manufacturing a printed wiring board characterized by curing by electron beam irradiation, (2) further comprising mounting electronic components, coating with an electron beam curable conformal coating agent, and curing by electron beam irradiation. 1) The method for producing a printed wiring board according to (1) or (2) above, wherein the electron beam curable coating composition does not substantially contain a solvent. and (4
) The method for producing a printed wiring board according to (2) above, wherein the electron beam curable conformal coating agent does not substantially contain a solvent.

本発明において、基板としては1紙−フエノール樹脂、
ガラス−エポキシ樹脂1紙−ポリエステル樹脂などから
なる樹脂積層板、ポリイミド、ポリエステルなどのフレ
キシブル基板、セラミックス基板絶縁被覆した金属基板
など、印刷配線板用の基板として通常用いられるものを
用いることができる。基板として、銅箔、アルミニウム
箔、鉄箔などの金属箔を張ってエツチング処理および研
磨処理を施して回路を形成し、かつ(または)導電性ペ
ースト、抵抗ペーストおよび(または)絶縁ペーストが
塗布または印刷されたものを用いてもよい。
In the present invention, the substrate includes 1 paper-phenol resin,
Substrates commonly used for printed wiring boards can be used, such as resin laminates made of glass-epoxy resin, paper-polyester resin, etc., flexible substrates made of polyimide, polyester, etc., ceramic substrates, metal substrates coated with insulation, etc. As a substrate, a metal foil such as copper foil, aluminum foil, or iron foil is applied and etched and polished to form a circuit, and/or a conductive paste, a resistive paste, and/or an insulating paste are applied or A printed version may also be used.

本発明において導電性微粉末としては、導電性金属微粉
、導電性金属酸化物微粉、カーボンブラ・ツクおよびグ
ラファイトの1種または2種以上を用いることができる
。導電性金属微粉としては、金、銀。
In the present invention, as the conductive fine powder, one or more of conductive metal fine powder, conductive metal oxide fine powder, carbon black, and graphite can be used. Gold and silver are used as conductive metal fine powder.

白金、銅、ニッケル、クロム、パラジウム、アルミニウ
ム、タングステンなどの金属、あるいはこれらの合金か
らなる微粉、あるいはこれらの金属または合金で被覆さ
れた無機物微粉など、あるいはこれらの混合物を用いる
ことができる。導電性金属酸化物微粉としては、すす、
チタン、鉄などのき金属のき酸化物の微粉、あるいはこ
れらの混合物を用いることができる。また2グラフアイ
トとして・は、リン片状黒鉛、土状黒鉛などの天然黒鉛
を精製したもの。
It is possible to use metals such as platinum, copper, nickel, chromium, palladium, aluminum, and tungsten, fine powders made of alloys thereof, fine inorganic powders coated with these metals or alloys, or mixtures thereof. As conductive metal oxide fine powder, soot,
Fine powder of oxides of metals such as titanium and iron, or mixtures thereof can be used. 2. Graphite is refined natural graphite such as scale graphite and earthy graphite.

人造黒鉛、あるいはこれらの混合物が用いられる。Artificial graphite or a mixture thereof is used.

導電性微粉末が銀粉などの導電性金属微粉からなる場合
は、得られる導電性ペーストは導電性の高いものとなり
、導電性微粉末が導電性金属酸化物微粉。
When the conductive fine powder is made of conductive metal fine powder such as silver powder, the resulting conductive paste has high conductivity, and the conductive fine powder is a conductive metal oxide fine powder.

カーボンブランクおよびグラファイトの1種または2種
以上からなる場合には、得られる導電性ペーストは導電
性の低い抵抗ペーストとなるというように。
When the paste is composed of one or more of carbon blank and graphite, the resulting conductive paste becomes a resistance paste with low conductivity.

導電性微粉末の組成および導電性ペースト中での含有量
を適宜選択することによって、所望の導電性を有する導
電性ペーストとすることができる。
By appropriately selecting the composition of the conductive fine powder and its content in the conductive paste, a conductive paste having desired conductivity can be obtained.

本発明において、熱硬化性の樹脂としては、熱硬化性の
、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、変性フェノール樹、
アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アミ
ノ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂など、あるいはこれらを適宜組合せたものを用
いることができる。
In the present invention, thermosetting resins include thermosetting epoxy resins, phenolic resins, modified phenolic resins,
Alkyd resins, polyamide resins, polyimide resins, amino resins, acrylic resins, urethane resins, unsaturated polyester resins, etc., or appropriate combinations thereof can be used.

電子線硬化性の樹脂としては、ジアリルオルトフタレー
ト、ジアリルイソフタレートなどのポリアリル化合物、
不飽和ポリエステル類、ビスフェノールA型エポキシポ
リ (メタ)アクリレート、ノボラック型エポキシポリ
 (メタ)アクリレートなどのエポキシ(メタ)アクリ
レート類、ポリウレタンポリ(メタ)アクリレート類、
トリメチロールプロパントリ (メタ)アクリレート類
、ポリエーテルポリオールポリ (メタ)アクリレート
類、ポリウレタンポリ (メタ)アクリレート類、ジビ
ニル化合物、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、 (メ
タ)アクリル酸アルキルエステル、オリゴエステルモノ
 (メタ)アクリレート、 (メタ)アクリル酸アルキ
ル3 (メタ)アクリル酸2−ヒドロキシアルキル、 
(メタ)アクリル酸グリシジル、スチレン、α−アルキ
ルスチレンなどのモノマー類、トリス(2−アクリロイ
ルエチルエステル)イソシアヌレートなど、あるいはこ
れらの混合物からなるラジカル重合性の樹脂の他、光カ
チオン重合開始剤およびエポキシ樹脂を主成分とするカ
チオン重合性の樹脂を用いることができる。
Examples of electron beam curable resins include polyallyl compounds such as diallyl orthophthalate and diallyl isophthalate;
Unsaturated polyesters, epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A type epoxy poly (meth)acrylate, novolac type epoxy poly (meth)acrylate, polyurethane poly(meth)acrylates,
Trimethylolpropane tri(meth)acrylates, polyether polyol poly(meth)acrylates, polyurethane poly(meth)acrylates, divinyl compounds, phenoxyethyl(meth)acrylate,
Tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid alkyl ester, oligoester mono (meth)acrylate, (meth)acrylic acid alkyl 3 (meth)acrylic acid 2-hydroxyalkyl,
In addition to radically polymerizable resins made of monomers such as glycidyl (meth)acrylate, styrene, and α-alkylstyrene, tris(2-acryloyl ethyl ester) isocyanurate, and mixtures thereof, cationic photopolymerization initiators and A cationic polymerizable resin containing an epoxy resin as a main component can be used.

導電性微粉末は、導電性微粉末および熱硬化性または電
子線硬化性の樹脂に対して5〜95重量%の割合で含ま
れることが好ましい。導電性微粉末の量が95重量%を
超える場合には、熱硬化性または電子線硬化性の樹脂に
よる導電性微粉末の同着硬化が阻害されることがあり、
5重量%未満の場合には。
The conductive fine powder is preferably contained in a proportion of 5 to 95% by weight based on the conductive fine powder and the thermosetting or electron beam curing resin. If the amount of the conductive fine powder exceeds 95% by weight, the co-adhesive curing of the conductive fine powder by the thermosetting or electron beam curable resin may be inhibited.
If it is less than 5% by weight.

導電性微粉末同士の接触による導通回路の形成が阻害さ
れることがある。
Formation of a conductive circuit due to contact between conductive fine powders may be inhibited.

導電性微粉末および熱硬化性または電子線硬化性の樹脂
の他、必要に応じて、メチルエチルケトン。
In addition to conductive fine powder and thermosetting or electron beam curable resin, methyl ethyl ketone as required.

エチルセロソルブ2エチルセロソルブアセテート。Ethyl Cellosolve 2 Ethyl Cellosolve Acetate.

酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレン、ブチル
カルピトールなどの有機溶剤、シランカップリング剤な
どのカップリング剤、熱可塑性樹脂などを?n合し、2
本ロール、3本ロール、ボールミル、ペイントコンディ
ショナー、デイスパー、ニーダ−など従来公知の混線分
散手段により混線分散させることによって導電性ペース
トが得られる。
Organic solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, toluene, xylene, butylcarpitol, coupling agents such as silane coupling agents, thermoplastic resins, etc.? n combined, 2
A conductive paste can be obtained by cross-dispersing using a conventionally known cross-dispersing means such as a main roll, a three-roll roll, a ball mill, a paint conditioner, a disper, or a kneader.

このようにして得られた導電性ペーストを、基板上に、
ロールコータ−などの塗装機によりベタ状に塗布し、あ
るいはスクリーン印刷機などの印刷機により所望のパタ
ーン状に印刷し、導電性ペーストが溶剤を含有する場合
には必要に応じて溶剤を除去し。
The conductive paste obtained in this way is placed on the substrate.
It is applied in a solid manner using a coating machine such as a roll coater, or printed in the desired pattern using a printing machine such as a screen printer, and if the conductive paste contains a solvent, the solvent is removed as necessary. .

導電性ペーストが熱硬化性の樹脂を用いている場合には
加熱により、導電性ペーストが電子線硬化性の樹脂を用
いている場合には電子線照射により、塗布あるいは印刷
された導電性ペーストを硬化させ、導電層あるいは導電
回路を形成させる。加熱により硬化させる場合には8通
常、130〜200℃10〜30分程度の条件で加熱硬
化され、電子線照射により硬化させる場合には1通常、
加速電圧150〜300kV、吸収線量3〜30 M 
r a d程度の条件で電子線硬化される。
The applied or printed conductive paste is cured by heating if the conductive paste is made of thermosetting resin, or by electron beam irradiation if the conductive paste is made of electron beam curable resin. It is cured to form a conductive layer or circuit. When curing by heating, 8 usually heat curing is carried out at 130 to 200°C for about 10 to 30 minutes, and when curing by electron beam irradiation, 1 usually,
Accelerating voltage 150-300kV, absorbed dose 3-30M
Electron beam curing is performed under conditions of approximately rad.

このようにして形成された導電層あるいは導電回路上に
は、電子線硬化性樹脂、またはこれらと無機充填剤とを
主成分とする電子線硬化性被覆組成物が被覆され、電子
線照射により硬化される。
The conductive layer or conductive circuit thus formed is coated with an electron beam curable resin or an electron beam curable coating composition containing these and an inorganic filler as main components, and cured by electron beam irradiation. be done.

電子線硬化性樹脂としては前記の電子線硬化性の樹脂と
同様のものを用いることができる。無機充填剤としては
、タルク、硫酸バリウム1炭酸カルシウム、微細シリカ
、クレー、カオリン、けいそう土などの1種または2種
以上を用いることができるが。
As the electron beam curable resin, the same resin as the electron beam curable resin described above can be used. As the inorganic filler, one or more of talc, barium sulfate monocalcium carbonate, fine silica, clay, kaolin, diatomaceous earth, etc. can be used.

これらの中でも平均粒子径1.5〜3.5μmのタルク
Among these, talc has an average particle size of 1.5 to 3.5 μm.

とりわけシラン化合物処理タルクを含有するものが好ま
しい。電子線硬化性被覆組成物には、上記電子線硬化性
樹脂、またはこれらと無機充填剤の他、必要に応じて、
少量の前記有機溶剤、シランカップリング剤、熱可塑性
樹脂、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン
、チタン白1黄鉛などの有機顔料または無機顔料、染料
などの添加剤を加えることができるが、有機溶剤は実質
的に含まないことが好ましい。上記電子線硬化性樹脂、
またはこれらと無機充填剤、および必要に応じて添加剤
を、デイスパー、ペイントコンディショナー、2本ロー
ル、3本ロール、ボールミル、ニーダ−などの従来公知
の混合分散混練手段により混合分散または混練させるこ
とによって電子線硬化性被覆組成物が得られる。
Particularly preferred are those containing talc treated with a silane compound. In addition to the above electron beam curable resin or these and an inorganic filler, the electron beam curable coating composition may contain, if necessary,
A small amount of the above organic solvent, silane coupling agent, thermoplastic resin, organic pigments such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, titanium white 1 yellow lead, or other additives such as inorganic pigments and dyes can be added, but the organic solvent is substantially It is preferable that it not be included. The above electron beam curable resin,
Or by mixing, dispersing, or kneading these, an inorganic filler, and, if necessary, additives using a conventionally known mixing, dispersing, and kneading means such as a disper, paint conditioner, two-roll, three-roll, ball mill, or kneader. An electron beam curable coating composition is obtained.

このようにして得られた電子線硬化性被覆組成物は、前
記導電層あるいは導電回路上に、ロールコータ−などの
塗装機によりベタ状に塗布することにより、またはスク
リーン印刷機などの印刷機により所望のパターン状に印
刷することにより被覆され、電子線照射により硬化され
る。電子線照射は2通常。
The electron beam curable coating composition thus obtained is applied onto the conductive layer or conductive circuit in a solid manner using a coating machine such as a roll coater, or by a printing machine such as a screen printer. It is coated by printing in the desired pattern and cured by electron beam irradiation. Electron beam irradiation is 2 normal.

加速電圧150〜300kV、吸収線量3〜30Mra
d程度で行なわれる。電子線照射により硬化された被覆
は、ソルダーレジスト、絶縁被覆、および(または)オ
ーバーコートとして作用する。
Accelerating voltage 150-300kV, absorbed dose 3-30Mra
It is done at about d. Coatings cured by electron beam radiation act as solder resists, insulation coatings, and/or overcoats.

電子線照射により硬化された被覆が絶縁被覆またはソル
ダーレジストである場合には、その上にさらに導電層を
設け、さらにその上に絶縁被覆または保護被覆を施すこ
とによって、電磁波シールド印刷配線板を製造すること
もできる。電磁波シールド印刷配線板となす際の導電層
として上記導電ペーストを用い、かつ(または)絶縁被
覆または保護被覆として上記電子線硬化性被覆組成物を
用いることもできる。このようにして得られた電磁波シ
ールド印刷配線板は、印刷配線板回路および外部からの
電磁波をシールドでき、電子機器の誤動作や電子部品の
損傷を防止することができる。
When the coating cured by electron beam irradiation is an insulating coating or solder resist, an electromagnetic shielding printed wiring board is manufactured by further providing a conductive layer on top of it and then applying an insulating coating or protective coating on top of it. You can also. The above conductive paste may be used as a conductive layer when forming an electromagnetic shield printed wiring board, and/or the above electron beam curable coating composition may be used as an insulating coating or protective coating. The electromagnetic wave shield printed wiring board thus obtained can shield the printed wiring board circuit and electromagnetic waves from the outside, and can prevent malfunction of electronic equipment and damage to electronic components.

電子線照射により硬化された被覆がソルダーレジストで
ある場合には、スクリーン印刷により金属箔部分に同調
させてハンダクリームが印刷され、チップコンデンサ、
チップ抵抗器、チップインダクタ。
If the coating cured by electron beam irradiation is a solder resist, solder cream is printed in synchronization with the metal foil part by screen printing, and the chip capacitor,
Chip resistors, chip inductors.

トランジスタ、ダイオードなどの電子部分が搭載され、
加熱されることによって電子部品が実装され。
Equipped with electronic parts such as transistors and diodes,
Electronic components are mounted by heating.

電子線硬化性コンフォーマルコーティング剤が被覆され
、電子線照射により硬化される。電子線硬化性コンフォ
ーマルコーティング剤は、前記電子aN 化性被覆組成
物と同様なものを用いることができ、スプレーコーター
、カーテンコーター、ロールコータ−などの塗装機でベ
タ状に塗布することにより被覆し、前記電子線硬化性被
覆組成物の場合と同様の条件で硬化させることができる
An electron beam curable conformal coating is applied and cured by electron beam radiation. The electron beam curable conformal coating agent can be the same as the electron aN curable coating composition described above, and can be coated by applying it in a solid state with a coating machine such as a spray coater, curtain coater, or roll coater. However, it can be cured under the same conditions as for the electron beam curable coating composition.

電子線照射により硬化された被覆が絶縁被覆である場合
には、導電層あるいは導電回路を形成し、その上に電子
線硬化性被覆組成物を被覆し、硬化させる工程をくりか
えすことにより、多層の印刷配線板を製造することがで
きる。
When the coating cured by electron beam irradiation is an insulating coating, a multilayer structure can be formed by forming a conductive layer or a conductive circuit, coating the electron beam curable coating composition thereon, and repeating the curing process. Printed wiring boards can be manufactured.

このようにして得られた印刷配線板に、さらに。Furthermore, on the printed wiring board thus obtained.

絶縁被覆またはソルダーレジストを施し、その上に導電
層を設け、さらにその上に絶縁被覆または保護被覆を施
すことにより、電磁波シールド印刷配線板を製造するこ
ともできる。電磁波シールド印刷配線板のシールド部を
形成する絶縁被覆、ソルダーレジストまたは保護被覆と
して上記電子線硬化性被覆組成物を用い、かつ(または
)導電層として上記導電性ペーストを用いることもでき
る。このようにして得られた電磁波シールド印刷配線板
は、印刷配線板回路および外部からの電磁波をシールド
でき、電子機器の誤動作や電子部品の損傷を防止するこ
とができる。
An electromagnetic shield printed wiring board can also be manufactured by applying an insulating coating or a solder resist, providing a conductive layer thereon, and further applying an insulating coating or a protective coating thereon. The electron beam curable coating composition may be used as an insulating coating, solder resist, or protective coating that forms the shield portion of an electromagnetic shield printed wiring board, and/or the conductive paste may be used as a conductive layer. The electromagnetic wave shield printed wiring board thus obtained can shield the printed wiring board circuit and electromagnetic waves from the outside, and can prevent malfunction of electronic equipment and damage to electronic components.

(実施例) 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。例
中2部とは重量部を表わす。
(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. In the examples, 2 parts represents parts by weight.

製造例1 下記組成の混合物を3本ロールにより混練し、電子線硬
化性の導電性ペーストAを得た。
Production Example 1 A mixture having the following composition was kneaded using three rolls to obtain electron beam curable conductive paste A.

トリメチロールプロパントリアクリレート  2部電子
線硬化性スピラン樹脂 「スピラックU−3000J  (昭和高分子■製、商
品名)                  10部T
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン1.5部 銀粉rD−15J  (デグサジャパン■製、商品名)
28部 シリカ粉「エアロジル−200」 (日本エアロジル■製、商品名)       2部製
造例2 下記組成の混合物を3本ロールにより混練し、電子線硬
化類の導電性ペースl−Bを得た。
Trimethylolpropane triacrylate 2 parts Electron beam curable spiran resin "Spirac U-3000J (manufactured by Showa Kobunshi ■, trade name) 10 parts T
-Methacryloxypropyltrimethoxysilane 1.5 parts Silver powder rD-15J (manufactured by Degussa Japan, trade name)
28 parts Silica powder "Aerosil-200" (manufactured by Nippon Aerosil ■, trade name) 2 parts Production example 2 A mixture having the following composition was kneaded using three rolls to obtain an electron beam-curable conductive paste 1-B.

トリメチロールプロパントリアクリレート 30部トリ
ス(2−アクリロイルエチルエステル)イソシアヌレー
ト             30部ジアリルイソフタ
レートオリゴマー    30部2−ヒドロキシエチル
メタクリレート   10部カルピトールアセテート 
        80部ファーネスブラック「ケッチエ
ンブラックECJ(ライオンアクゾ■製、商品名)  
     15部アセチレンブラック「デンカブラック
」(電気化学工業a@製製部商品名       18
部製造例3および4 表1に示す組成の混合物をそれぞれ3本ロールにより混
練し、電子線硬化製被覆組成物CおよびDを得た。
Trimethylolpropane triacrylate 30 parts Tris(2-acryloylethyl ester) isocyanurate 30 parts Diallylisophthalate oligomer 30 parts 2-hydroxyethyl methacrylate 10 parts Carpitol acetate
80 parts Furnace Black “Ketchen Black ECJ (manufactured by Lion Akzo ■, product name)
15 parts acetylene black "Denka Black" (Denka Kagaku Kogyo a@ Seisakubu product name 18
Production Examples 3 and 4 The mixtures having the compositions shown in Table 1 were each kneaded using three rolls to obtain electron beam-curable coating compositions C and D.

なお2表1中、記号は次の通りである。Note that in Table 2, the symbols are as follows.

TMPTA: トリメチロールプロパントリアクリレー
ト 「リポキシ」:昭和高分子■製エポキシアクリレート、
商品名。
TMPTA: Trimethylolpropane triacrylate "Lipoxy": Epoxy acrylate manufactured by Showa Kobunshi ■,
Product name.

3−HPMA:3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
3-HPMA: 3-hydroxypropyl methacrylate.

MAOEP:メタクロイルオキシエチルフォスフェート
MAOEP: methacroyloxyethyl phosphate.

N−VCZ : N−ビニルカルバゾール。N-VCZ: N-vinylcarbazole.

[ミクロエースに−IJ:白石カルシウム■製タルク、
平均粒子径3.3μm、商品名。
[Micro Ace-IJ: Shiraishi calcium talc,
Average particle size: 3.3 μm, trade name.

「リオノールグリーン」:東洋インキ製造■製フタロシ
アニングリーン、商品名。
"Lionor Green": Phthalocyanine green manufactured by Toyo Ink Manufacturing ■, product name.

表1 製造例5 下記組成の混合物を3本ロールにより混練し、紫外線硬
化性被覆組成物Eを得た。
Table 1 Production Example 5 A mixture having the following composition was kneaded using three rolls to obtain an ultraviolet curable coating composition E.

トリメチロールプロパントリアクリレート 50部「リ
ポキシ」               90部3−ヒ
ドロキシプロピルメタアクリレート 20部N−ビニル
カルバゾール          5部2−クロロチオ
キサントン         5部「ミクロエース K
−IJ        100部炭酸カルシウム   
           5部「リオノールグリーン」 
          5部実施例1 あらかじめ銅箔電極部分を設けた片面鋼張り紙−フェノ
ール樹脂積層板上に、製造例1において得られた導電性
ペース)Aを、銅箔電極間の導電性ペーストA印刷部の
大きさがたて4mm横4mmとなるように200メツシ
ユのステンレススチール製スクリーン版を用いて印刷し
た後、エナジーサイエンス社製150B−15型電子線
照射装置を用い、ちっ素ガス雰囲気中、加速電圧160
kV、吸収!tlA量10Mr a dの条件で積層板
の導電性ベースl−A印刷面側から電子線を照射し、導
電性ペース)A印刷部を硬化させた。次に、導電性ペー
ス)A印刷硬化部上に、製造例3において得られた電子
線硬化性被覆組成物Cを、200メソシユのナイロン製
スクリーン版を用いて印刷した後、上記導電性ペースl
−Aの硬化の場合と同じ条件で電子線を照射し、電子線
硬化性被覆組成物C印刷部を硬化させ、印刷配線板を得
た。この際、導電性ペースI−A印刷前のそりのない積
層板を標準として、電子線硬化性被覆組成物C印刷硬化
後のそりの発生状況を目視評価するとともに、導電性ペ
ースI−A印刷硬化後で、電子線硬化性被覆組成物C印
刷前の抵抗値および電子線硬化性被覆組成物C印刷硬化
後の抵抗値を測定し、被覆前後の抵抗値の変化率を算出
した。そりの発生の評価結果および算出した抵抗率の変
化率を表2に示す。また、電子線硬化性被覆組成物C印
刷硬化部の密着性をセロハン粘着テープ剥離試験により
評価した。評価結果をあわせて表2に示す。
Trimethylolpropane triacrylate 50 parts “Lipoxy” 90 parts 3-hydroxypropyl methacrylate 20 parts N-vinylcarbazole 5 parts 2-chlorothioxanthone 5 parts “Microace K
-IJ 100 parts calcium carbonate
Part 5 “Lionor Green”
5 Parts Example 1 The conductive paste A obtained in Production Example 1 was applied onto a single-sided steel-clad paper-phenolic resin laminate on which a copper foil electrode portion had been provided in advance, and the conductive paste A printed portion between the copper foil electrodes was applied. After printing using a 200-mesh stainless steel screen plate with a size of 4 mm vertically and 4 mm horizontally, it was printed at an accelerating voltage in a nitrogen gas atmosphere using an energy science 150B-15 electron beam irradiation device. 160
kV, absorption! An electron beam was irradiated from the conductive base 1-A printed surface side of the laminate under the condition that the amount of tlA was 10 Mr ad to cure the printed part of the conductive paste A). Next, the electron beam curable coating composition C obtained in Production Example 3 was printed on the printed hardened part of the conductive paste A) using a 200 mesos nylon screen plate, and then the conductive paste L
-The printed portion of electron beam curable coating composition C was cured by irradiation with an electron beam under the same conditions as in the case of curing A, and a printed wiring board was obtained. At this time, using the laminate without warpage before printing the conductive paste I-A as a standard, visually evaluating the occurrence of warpage after printing and curing of the electron beam curable coating composition C, and After curing, the resistance value before printing of electron beam curable coating composition C and the resistance value after printing and curing of electron beam curable coating composition C were measured, and the rate of change in resistance value before and after coating was calculated. Table 2 shows the evaluation results for the occurrence of warpage and the calculated rate of change in resistivity. Further, the adhesion of the printed cured portion of the electron beam curable coating composition C was evaluated by a cellophane adhesive tape peel test. The evaluation results are also shown in Table 2.

次に、得られた印刷配線板を260℃の溶融ハンダ(す
ず/鉛=60/40.重量比)浴に10秒間浸漬し、ハ
ンダ浴から取り出し、室温にまで冷却し。
Next, the obtained printed wiring board was immersed in a molten solder (tin/lead = 60/40, weight ratio) bath at 260° C. for 10 seconds, taken out from the solder bath, and cooled to room temperature.

浸漬後の電子線硬化性被覆組成物C印刷硬化部の外観状
態を目視評価し、密着性をセロハン粘着テープ剥離試験
により評価するとともに、溶融ハンダ浴浸漬後の抵抗値
を測定し、溶融ハンダ浴浸漬後の抵抗値の変化率を算出
した。密着性の評価結果および算出した抵抗値の変化率
を表2に示す。
The external appearance of the printed cured part of electron beam curable coating composition C after immersion was visually evaluated, the adhesion was evaluated by a cellophane adhesive tape peel test, and the resistance value after immersion in the molten solder bath was measured. The rate of change in resistance after immersion was calculated. Table 2 shows the evaluation results of adhesion and the calculated rate of change in resistance value.

なお、抵抗値は、銅箔電極間のそれを三相計器製作所製
ワイドレンジデジタルオームメーターDR−100CU
(商品名)を用いて測定し、抵抗変化率は次式により算
出し、抵抗変化率が+1.5%を超えるものを不合格と
した。
In addition, the resistance value is that between the copper foil electrodes using a wide range digital ohmmeter DR-100CU manufactured by Sansho Keiki Seisakusho.
(trade name), and the resistance change rate was calculated using the following formula, and those whose resistance change rate exceeded +1.5% were rejected.

または 抵抗変化率(χ)= 浸漬後の抵抗値−浸漬前の抵抗値 ×100 浸漬前の抵抗値 また2表2中、評価結果などの表示は次の通りである。or Resistance change rate (χ) = Resistance value after immersion - resistance value before immersion ×100 Resistance value before immersion In addition, in Table 2, the display of evaluation results, etc. is as follows.

そりの発生 ◎:そりの発生なし、O:そりが若干発生したが実用上
の問題はなかった。×:そり著しかった。
Occurrence of warpage ◎: No warpage occurred; O: Slight warpage occurred, but there was no practical problem. ×: Significant warpage.

印刷硬化後の密着性 ○:良好 ハンダ浸漬後の外観状態 ○:良好、×ニブリスター発生、不良。Adhesion after printing cures ○: Good Appearance after solder immersion ○: Good, ×Niblistering occurred, poor.

ハンダ浸漬後の密着性 O:良好、×:不良。Adhesion after solder immersion O: Good, ×: Poor.

実施例2 導電性ペースl−Aの代りに製造例2において得られた
導電性ペーストBを用い、導電性ペーストBの印刷後硬
化前に雰囲気温度180℃で1分間遠赤外線を照射して
カルピトールアセテートを除去した以外は、実施例1と
同様にして試験評価を行なった結果を表2に示す。
Example 2 Conductive paste B obtained in Production Example 2 was used instead of conductive paste I-A, and after printing and before curing conductive paste B, far infrared rays were irradiated for 1 minute at an ambient temperature of 180 ° C. Table 2 shows the results of the test and evaluation carried out in the same manner as in Example 1 except that tall acetate was removed.

実施例3 導電性ベースl−Aの代りに熱硬化性銀ペーストrFA
−620TJ  (藤倉化成■製、商品名)を用い、導
電性ペーストを150℃で30分間加熱することによっ
て硬化させたこと以外は、実施例Iと同様にして試験評
価を行なった結果を表2に示す。
Example 3 Thermosetting silver paste rFA instead of conductive base l-A
Table 2 shows the results of a test evaluation conducted in the same manner as in Example I, except that -620TJ (manufactured by Fujikura Kasei ■, trade name) was used and the conductive paste was cured by heating at 150°C for 30 minutes. Shown below.

比較例I 電子線硬化性被覆組成物Cの代りに製造例5において得
られた紫外線硬化性被覆組成物Eを用い、紫外線硬化性
被覆組成物Eを2 kW、  80 W/ c mのオ
ゾンレス高圧水銀灯1灯下IQcm、コンベアスピード
1m/分で1回通過させる(700mJ/cmz相当)
ことにより紫外線照射して硬化させた以外は、実施例1
と同様にして試験評価を行なった結果を表2に示す。
Comparative Example I Using the ultraviolet curable coating composition E obtained in Production Example 5 instead of the electron beam curable coating composition C, the ultraviolet curable coating composition E was heated at 2 kW and an ozone-free high pressure of 80 W/cm. Pass once under one mercury lamp at IQcm and conveyor speed at 1m/min (equivalent to 700mJ/cmz)
Example 1 except that it was cured by ultraviolet irradiation.
Table 2 shows the results of test evaluation conducted in the same manner as above.

比較例2 電子線硬化性被覆組成物りの代りに製造例5において得
られた紫外線硬化性被覆組成物Eを用い、紫外線硬化性
被覆組成物Eを、比較例Iにおける紫外線照射条件と同
様の条件で紫外線を照射することによって硬化させた以
外は、実施例2と同様にして試験評価を行った結果を表
2に示す。
Comparative Example 2 The ultraviolet curable coating composition E obtained in Production Example 5 was used instead of the electron beam curable coating composition, and the ultraviolet curable coating composition E was subjected to the same ultraviolet irradiation conditions as in Comparative Example I. Table 2 shows the results of a test evaluation conducted in the same manner as in Example 2, except that the cured product was cured by irradiation with ultraviolet rays under the same conditions.

比較例3 電子線硬化性被覆組成物Cの代りに熱硬化性ソルダーレ
ジストrS−222J  (太陽インキGW製、商品名
)を用い、rS−222Jを150℃で10分間加熱硬
化させた以外は、実施例1と同様にして試験評価を行な
った結果を表2に示す。
Comparative Example 3 Thermosetting solder resist rS-222J (manufactured by Taiyo Ink GW, trade name) was used instead of electron beam curable coating composition C, except that rS-222J was heat-cured at 150°C for 10 minutes. Table 2 shows the results of the test evaluation conducted in the same manner as in Example 1.

比較例4 電子線硬化製被覆組成物りの代りにrs−222を用い
、rS−222Jを150℃で10分間加熱硬化させた
以外は、実施例2と同様にして試験評価を行なった結果
を表2に示す。
Comparative Example 4 The results of a test evaluation were conducted in the same manner as in Example 2, except that rs-222 was used instead of the electron beam curing coating composition, and rS-222J was heat-cured at 150°C for 10 minutes. It is shown in Table 2.

表2 実施例4 実施例工において得られた印刷配線板の銅箔電極部にハ
ンダクリームを印刷し、チップ抵抗(北陸電気工業特性
、CRI/8.lkΩ)を搭載し、ハンダクリームを加
熱し、チップ抵抗をハンダづけした。
Table 2 Example 4 Solder cream was printed on the copper foil electrode part of the printed wiring board obtained in the example process, a chip resistor (Hokuriku Electric Industrial characteristics, CRI/8.lkΩ) was mounted, and the solder cream was heated. , soldered the chip resistor.

覆組成物りを電子線硬化性コンフォーマルコーティング
として厚さ100μmとなるように塗布し、実施例1に
おける導電性ペーストAの硬化条件と同様の条件で電子
線を照射して硬化させた。この際、印刷配線板にはそり
を生じなかった。
The coating composition was applied as an electron beam curable conformal coating to a thickness of 100 μm, and cured by electron beam irradiation under the same conditions as those for conductive paste A in Example 1. At this time, no warping occurred on the printed wiring board.

比較例5 電子線硬化性被覆組成物りの代りにrS−222Jを用
い、rS−222Jを150℃で10分間加熱硬化させ
た以外は、実施例4と同様にしてチップ抵抗実装印刷配
線板を得た。この際、印刷配線板には著しいそりを生じ
、実用に供しえなかった。
Comparative Example 5 A chip resistor mounted printed wiring board was produced in the same manner as in Example 4, except that rS-222J was used instead of the electron beam curable coating composition and rS-222J was heated and cured at 150°C for 10 minutes. Obtained. At this time, the printed wiring board was severely warped and could not be put to practical use.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により、そりが少なく、溶融ハンダ浸漬後にも密
着性の低下、ブリスターの発生や抵抗値の上昇が少ない
印刷配線板が得られるようになった。
According to the present invention, it has become possible to obtain a printed wiring board with less warpage, less decrease in adhesion, less occurrence of blisters, and less increase in resistance value even after immersion in molten solder.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.基板上に,導電性微粉末および熱硬化性または電子
線硬化性の樹脂を主成分とする導電性ペーストを塗布あ
るいは印刷し,加熱または電子線照射により硬化させて
導電層あるいは導電回路を形成させた後,上記導電層あ
るいは導電回路上に,電子線硬化性樹脂,またはこれら
と無機充填剤とを主成分とする電子線硬化性被覆組成物
を被覆し,電子線照射により硬化させることを特徴とす
る印刷配線板の製造方法。
1. A conductive paste consisting mainly of conductive fine powder and thermosetting or electron beam curable resin is applied or printed onto a substrate, and is cured by heating or electron beam irradiation to form a conductive layer or a conductive circuit. After that, the conductive layer or the conductive circuit is coated with an electron beam curable resin, or an electron beam curable coating composition containing these and an inorganic filler as main components, and cured by electron beam irradiation. A method for manufacturing a printed wiring board.
2.さらに,電子部品を実装させ,電子線硬化性コンフ
ォーマルコーティング剤を被覆し,電子線照射により硬
化させる請求項1記載の印刷配線板の製造方法。
2. 2. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 1, further comprising mounting electronic components, coating with an electron beam curable conformal coating agent, and curing by electron beam irradiation.
3.電子線硬化性被覆組成物が実質的に溶剤を含まない
ものである請求項1または請求項2記載の印刷配線板の
製造方法。
3. 3. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the electron beam curable coating composition is substantially free of solvent.
4.電子線硬化性コンフォーマルコーティング剤が実質
的に溶剤を含まないものである請求項2記載の印刷配線
板の製造方法。
4. 3. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 2, wherein the electron beam curable conformal coating agent is substantially free of solvent.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001313452A (en) * 2000-02-21 2001-11-09 Toray Eng Co Ltd Manufacturing method and apparatus of thick-film conductive circuit board
JP2015532533A (en) * 2012-10-05 2015-11-09 タイコ・エレクトロニクス・コーポレイションTyco Electronics Corporation Electrical component and method and system for manufacturing electrical component

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