JPS63228525A - Electron beam hardening type conducting paste - Google Patents

Electron beam hardening type conducting paste

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JPS63228525A
JPS63228525A JP6021887A JP6021887A JPS63228525A JP S63228525 A JPS63228525 A JP S63228525A JP 6021887 A JP6021887 A JP 6021887A JP 6021887 A JP6021887 A JP 6021887A JP S63228525 A JPS63228525 A JP S63228525A
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JP
Japan
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electron beam
conductive paste
parts
curing
meth
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Pending
Application number
JP6021887A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
永田 秀俊
敬 小林
忠嗣 田上
大廻 敏郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink SC Holdings Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication of JPS63228525A publication Critical patent/JPS63228525A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は電子線硬化型導電性ペーストに関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to an electron beam curable conductive paste.

さらに詳しくは2本発明は電子機器部品およびプリント
配線板などの基材に塗装または印刷した後に電子線を照
射することにより硬化する導電性ペーストに関する。
More specifically, the present invention relates to a conductive paste that is cured by applying electron beams after coating or printing on base materials such as electronic device parts and printed wiring boards.

(従来の技術) 従来から、プリント配線回路あるいはハイブリッド厚膜
回路の製造工程において、導体回路形成のために導電性
ペーストが用いられ、また、これらのペーストの導電性
の低いものが抵抗部分の形成の目的に使用されている。
(Prior art) Conventionally, conductive pastes have been used to form conductor circuits in the manufacturing process of printed wiring circuits or hybrid thick film circuits, and those with low conductivity have been used to form resistive parts. is used for the purpose of

さらにこの種のペーストが上記の回路形成の目的以外に
も膜スィッチ、抵抗器などの各種電子部品あるいは電磁
波遮蔽用として使用されていることも周知である。これ
らのペーストは。
Furthermore, it is well known that this type of paste is used not only for the above-mentioned purpose of circuit formation, but also for various electronic components such as membrane switches and resistors, or for shielding electromagnetic waves. These pastes.

バインダーとして熱硬化性樹脂および/またはガラスフ
リットなどの無機物質を用いているため、適用にあたっ
ては基材に塗布または印刷後高温度に加熱して硬化焼成
を行う必要がある。しかしながら、硬化焼成には多大の
エネルギー、加熱のための時間。
Since a thermosetting resin and/or an inorganic substance such as glass frit is used as a binder, it is necessary to apply it to a substrate or print it and then heat it to a high temperature to harden and bake it. However, hardening and firing requires a lot of energy and time for heating.

加熱装置設置のための床面積を必要とし不経済であるば
かりでなく2次に示すような大きな制約があった。すな
わち、バインダーとしてガラスフリットなどの無機物質
を用いた導電性ペーストは2通常800℃以上での焼成
を必要とするために合成樹脂系の基材には適用できず、
また熱硬化性樹脂バインダーを使用した導電性ペースト
は合成樹脂系の基材に対しても適用可能であるが、ペー
ストを硬化させる際の加熱によって基材が変形し1例え
ばプリント配線回路配線板において後工程の部品搭載に
支障をきたすなど大きな障害となっていた。
Not only is it uneconomical because it requires floor space for installing a heating device, but it also has major constraints as shown below. In other words, conductive pastes using inorganic substances such as glass frit as binders cannot be applied to synthetic resin base materials because they usually require firing at temperatures of 800°C or higher.
Conductive paste using a thermosetting resin binder can also be applied to synthetic resin base materials, but the base material is deformed by heating during curing of the paste. This was a major problem, as it interfered with the mounting of parts in subsequent processes.

これらの欠点を改良するために、紫外線、電子線などの
活性エネルギー線の照射により2室温またはそれに近い
温度で導電性ペーストを硬化させる方法が開発された。
In order to improve these drawbacks, a method has been developed in which the conductive paste is cured at or near room temperature by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.

しかしながら、これらの方法で硬化させた導電性ペース
トは、一般に、高温度あるいは高湿度の環境下で、基材
への接着性が著しく低下するとともに、その導電性が著
しく低下するという欠点があった。
However, conductive pastes cured by these methods generally have the disadvantage that their adhesion to the substrate is significantly reduced in environments of high temperature or high humidity, and their conductivity is also significantly reduced. .

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記の種々の欠点を改良し、室温またはそれ
に近い温度で電子線照射により硬化させることができ、
硬化後高温度あるいは高湿度の環境下でも、基材への接
着性および導電性の低下がない電子線硬化型導電性ペー
ストを提供するものである。また9本発明は、無機質系
および合成樹脂系両方の基材に対して適用できるととも
に、無機質系基材に従来用いられていたガラスフリフト
をバインダーとした導電性ペーストと同等の性能を有す
る電子線硬化型導電性ペーストを提供するものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention improves the various drawbacks described above, and can be cured by electron beam irradiation at or near room temperature.
An object of the present invention is to provide an electron beam-curable conductive paste that does not deteriorate in adhesion to a substrate and conductivity even under high temperature or high humidity environments after curing. In addition, the present invention can be applied to both inorganic and synthetic resin base materials, and has the same performance as a conductive paste using glass flift as a binder, which has been conventionally used for inorganic base materials. The present invention provides a line-curable conductive paste.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(問題点を解決するための手段) 本発明は、 (A)電子線反応性基を有するシラン化合
物、 (B)上記(A)以外の電子線反応性基を1個ま
たは2個以上有する化合物の1種または2種以上、およ
び(C)導電性微粉末からなる電子線硬化型導電性ペー
ストであり、また、 (B)の少なくとも1種が、水酸
基を有する上記電子線硬化型導電性ペーストである。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides: (A) a silane compound having an electron beam-reactive group; (B) a compound having one or more electron beam-reactive groups other than the above (A); An electron beam curable conductive paste comprising one or more of the following, and (C) conductive fine powder, and at least one of (B) having a hydroxyl group. It is.

本発明において、 (A)電子線反応性基を有するシラ
ン化合物としては、特に制限はなく、ジビニルジメトキ
シシラン、ジビニルジ−β−メトキシエトキシシラン、
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシ
エトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン。
In the present invention, (A) the silane compound having an electron beam-reactive group is not particularly limited, and includes divinyldimethoxysilane, divinyldi-β-methoxyethoxysilane,
Vinyltrichlorosilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane.

アリルトリエトキシシランなどを例示することができる
Examples include allyltriethoxysilane.

本発明において、 (B)上記(A)以外の電子線反応
性基を1個または2個以上有する化合物とじては、特に
制限はなく、ジアリルオルトフタレート。
In the present invention, (B) the compound having one or more electron beam reactive groups other than the above (A) is not particularly limited, and is diallyl orthophthalate.

ジアリルイソフタレートなどのポリアリル化合物。Polyallyl compounds such as diallyl isophthalate.

不飽和ポリエステル類、ポリエステルポリ (メタ)ア
クリレート類、エポキシポリ (メタ)アクリレート類
、ポリウレタンポリ (メタ)アクリレート類。
Unsaturated polyesters, polyester poly(meth)acrylates, epoxy poly(meth)acrylates, polyurethane poly(meth)acrylates.

ポリオールポリ (メタ)アクリレート類、ポリエーテ
ルポリ (メタ)アクリレート類、ジビニル化合物。
Polyol poly(meth)acrylates, polyether poly(meth)acrylates, divinyl compounds.

フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレート、 (メタ)アクリル
酸アルキルエステル、オリゴエステルモノ(メタ)アク
リレート、スチレン、α−アルキルスチレンなどを用い
ることができ、また、これらのうち、水酸基を有する化
合物としては、テトラメチロールメタントリ (メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ (メタ)ア
クリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジ(メタ)アク
リロキシプロパン。
Phenoxyethyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid alkyl ester, oligoester mono(meth)acrylate, styrene, α-alkylstyrene, etc. can be used, and among these, As a compound having a hydroxyl group, tetramethylolmethane tri(meth)
acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, 2-hydroxy-1,3-di(meth)acryloxypropane.

2−ヒドロキシ−1−アクロキシ−3−メタクリロキシ
プロパン、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌ
レートリ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジル
エステルジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレートなどがある。
2-Hydroxy-1-acroxy-3-methacryloxypropane, tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate tri(meth)acrylate, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth)acrylate, etc.

電子線硬化後の導電性ペーストと基材との接着性をさら
に良好なものとするには、 (B)の少なくとも1種が
水酸基を有するものであることが特に好ましい。
In order to further improve the adhesion between the conductive paste and the base material after electron beam curing, it is particularly preferable that at least one type of (B) has a hydroxyl group.

本発明において(C)導電性微粉末としては、特に制限
はなく、カーボンブラック、グラファイト導電性金属微
粉、導電性金属酸化物微粉、あるいはこれらの混合物を
用いることができる。
In the present invention, the conductive fine powder (C) is not particularly limited, and carbon black, graphite conductive metal fine powder, conductive metal oxide fine powder, or a mixture thereof can be used.

カーボンブランクとしては特に制限はな(、アセチレン
ブランク、ファーネスブラック、サーマルブラック、チ
ャンネルブラック、あるいはこれらにビニルモノマーを
グラフト重合させたものや酸化処理を施したものがある
There are no particular restrictions on the carbon blank (eg, acetylene blank, furnace black, thermal black, channel black, or those obtained by graft polymerization of vinyl monomers or oxidation treatment on these).

グラファイトとしては特に制限はなく、りん片状黒鉛、
土状黒鉛など゛の天然黒鉛の精製されたものや人造黒鉛
が用いられる。
There are no particular restrictions on graphite, including flaky graphite,
Refined natural graphite such as earthy graphite and artificial graphite are used.

導電性金属微粉としては特に制限はなく、金、銀。There are no particular restrictions on the conductive metal fine powder, including gold and silver.

白金、m、ニッケル、クロム、パラジウム、アルミニウ
ム、タングステン、モリブデンなど、あるいはこれらの
合金からなる金属微粉、あるいはこれらの金属または合
金で被覆された無機物微粉などを用いることができる。
Metal fine powder made of platinum, metal, nickel, chromium, palladium, aluminum, tungsten, molybdenum, or an alloy thereof, or inorganic fine powder coated with these metals or alloys can be used.

また、金属酸化物微粉としては特に制限はなく。Further, there are no particular restrictions on the metal oxide fine powder.

錫、チタン、鉄などの酸化物の微粉、あるいはこれらの
混合物を用いることができる。
Fine powder of oxides such as tin, titanium, iron, etc., or a mixture thereof can be used.

本発明の導電性ペーストにおける(C)導電性微粉末の
含有量は、5〜90重量%の範囲が好ましい。
The content of the conductive fine powder (C) in the conductive paste of the present invention is preferably in the range of 5 to 90% by weight.

5重量%未満では、硬化後の導電性ペースト中で導電性
微粉末同士の接触による導電通路が形成されにくくなる
傾向があり、また90重量%を超える場合にはバインダ
ーによる導電性微粉末の固着効果が阻害される傾向があ
る。本発明において、 (C)がカーボンブラックのみ
からなる場合には、得られる導電性ペーストは、硬化後
の導電性が比較的低いいわゆる抵抗ペーストとして作用
し、 (C)が導電性金属微粉2例えば銀粉のみからな
る場合は硬化後の導電性が高い導電性ペーストとなる。
If it is less than 5% by weight, it tends to be difficult to form a conductive path due to contact between the conductive fine powders in the conductive paste after curing, and if it exceeds 90% by weight, the conductive fine powders may not be fixed by the binder. It tends to be less effective. In the present invention, when (C) consists only of carbon black, the resulting conductive paste acts as a so-called resistance paste with relatively low conductivity after curing, and (C) is a conductive metal fine powder 2, e.g. When it is made only of silver powder, it becomes a conductive paste with high conductivity after curing.

このように2本発明において、 (C)の種類9組成お
よび含有量を適宜調節することによって所望の導電性の
ペーストとすることができる。
As described above, in the present invention, a desired conductive paste can be obtained by appropriately adjusting the composition and content of type 9 (C).

本発明の導電性ペーストには、上記(A)、  (B)
および(C)の他、その性能を阻害しない範囲において
、必要に応じて、微粉シリカなどのチキソトロープ剤、
シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、クレー、
タルク、マイカ、硫酸バリウムなどの無機充填剤、揮発
性溶剤、チタネート化合物などの接着性向上剤などを添
加することができる。
The conductive paste of the present invention includes the above (A) and (B).
In addition to (C), if necessary, a thixotropic agent such as finely divided silica, as long as it does not impair its performance.
Silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, clay,
Inorganic fillers such as talc, mica, barium sulfate, volatile solvents, adhesion improvers such as titanate compounds, etc. can be added.

本発明の導電性ペーストには、揮発性溶剤を添加するこ
ともできるが、これらの揮発性溶剤の除去は。
Although volatile solvents can be added to the conductive paste of the present invention, removal of these volatile solvents is difficult.

従来の熱硬化型導電ペーストの硬化に必要な乾燥処理よ
りはるかに低温で9例えば常温で短時間の乾燥処理で済
む。
The drying process can be performed at a much lower temperature than the drying process required for curing conventional thermosetting conductive pastes, for example, in a short time at room temperature.

本発明の導電性ペーストは、上記(A)、  (B)お
よび(C)を混合後2通常の導電性ペーストの製造に用
いられる方法2例えば3本ロール装置などを用いる方法
によって容易に製造することができる。
The conductive paste of the present invention can be easily produced by mixing the above (A), (B) and (C), and then using a method 2 which is commonly used in the production of conductive pastes, such as a method using a three-roll device. be able to.

本発明の導電性ぺ°−ストを基材に適用する方法として
はスクリーン印刷がもっとも適しているが、その他の印
刷塗装方法1例えばローラー塗装などを用いることも可
能である。
Although screen printing is the most suitable method for applying the conductive paste of the present invention to a substrate, it is also possible to use other printing and coating methods such as roller coating.

本発明の導電性ペーストは基材に印刷・塗装し。The conductive paste of the present invention is printed and painted on a base material.

本発明の導電性ペーストが揮発性溶剤を含む場合には、
必要に応じて常温で、あるいは低温短時間の加熱により
揮発性溶剤を除去した後、空気中または不活性ガス雰囲
気中で電子線を照射することによって硬化される。電子
線照射の条件としては、加速電圧150〜300KV、
吸収線量3〜30 Mradの範囲にあることが望まし
い。
When the conductive paste of the present invention contains a volatile solvent,
If necessary, the volatile solvent is removed at room temperature or by heating at a low temperature for a short time, and then it is cured by irradiation with an electron beam in air or an inert gas atmosphere. The conditions for electron beam irradiation include an accelerating voltage of 150 to 300 KV;
The absorbed dose is preferably in the range of 3 to 30 Mrad.

本発明の導電性ペーストは電子線照射による硬化後その
まま実用に供することが可能であるが、必要に応じて、
加熱エージング処理を行うことや、保護のための塗料な
どによって被覆することも可能である。
The conductive paste of the present invention can be put to practical use as it is after being cured by electron beam irradiation, but if necessary,
It is also possible to perform a heat aging treatment or to coat it with a paint for protection.

(作  用) (A)電子線反応性基を有するシラン化合物を用いるこ
とによって、硬化後の導電性ペーストの導電性の信頼性
が向上し、さらに、 (B)の少なくとも1種を水酸基
を有するものとすることにより、硬化後の導電性ペース
トの導電性の信頼性がさらに向上する理由は十分明らか
ではない。硬化後の導電性ペーストの抵抗値とは、硬化
後の導電性ペースト自体の抵抗値に、基材導体部と硬化
後の導電性ペーストとの接触抵抗値を加算したものであ
り、基材導体部と硬化後の導電性ペーストとの接着性が
悪いと、接触抵抗値が大きくなり、結果として硬化後の
導電性ペーストの抵抗値が大きくなる。すなわち導電性
が低くなるとともに、高温度あるいは高湿度の環境下で
は、さらに接着性が低下し、抵抗値が大きくなり。
(Function) (A) By using a silane compound having an electron beam-reactive group, the reliability of the conductivity of the conductive paste after curing is improved, and furthermore, at least one of (B) has a hydroxyl group. The reason why the reliability of the conductivity of the cured conductive paste is further improved by setting the above-described conditions is not sufficiently clear. The resistance value of the conductive paste after curing is the sum of the resistance value of the conductive paste itself after curing and the contact resistance value between the base conductor part and the conductive paste after curing. If the adhesion between the conductive paste and the hardened conductive paste is poor, the contact resistance value will increase, and as a result, the resistance value of the hardened conductive paste will increase. In other words, the conductivity decreases, and in environments of high temperature or high humidity, the adhesiveness further decreases and the resistance value increases.

導電性の信頼性が小さくなる。(A)電子線反応性基を
有するシラン化合物を用いることによって、また、さら
に、 (B)の少なくとも1種を水酸基を有するものと
することによって、基材導体部と硬化後の導電性ペース
トとの接着性が高くなり、導電性およびその信頼性が向
上するものと考えられる。
Conductivity becomes less reliable. By using (A) a silane compound having an electron beam-reactive group, and by using at least one of (B) having a hydroxyl group, the base conductor portion and the conductive paste after curing can be bonded together. It is thought that the adhesiveness of the material is increased, and the conductivity and reliability thereof are improved.

(実 施 例) 以下に実施例により本発明をさらに詳しく説明する。例
中1部とは重量部を表わす。
(Examples) The present invention will be explained in more detail below using Examples. In the examples, 1 part represents parts by weight.

実施例I T−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン1部 トリメチロールプロパントリアクリレート (TMPT
A)               l Q部トリス(
2〜アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート  
                4部ファーネスブラ
ック「UK−VULCAN  PJ(CABOT社製、
商品名)2.8部 アセチレンブラック「デンカブラック」 (電気化学工
業■製、商品名)0.6部 グラファイトrPOG−10j  (住友アルミニウム
製錬■製、商品名)2.2部 上記組成の電子線硬化型導電性ペーストを、200 m
eshのナイロン製スクリーン版を用い、あらかじめエ
ツチング処理および研摩処理によって銅箔電極部分を作
った片面銅張紙フエノール積層板上に印刷した。印刷さ
れた導電性ペーストの銅箔電極間の大きさはたて4龍よ
こ4鶴であった。つぎに電子線照射装置(エナージー・
サイエンス社製150B−15型)を用い、ちっ素ガス
雰囲気中で加速電圧160KV、吸収線量10Mrad
の条件下でこの積層板の印刷面側より電子線を照射し、
導電性ペーストを硬化させた。さらに硬化後の導電性ペ
ーストの上に200meshのナイロン製スクリーン版
を用いて紫外線硬化性ソルダーレジスト(タムラ化研■
製USR−2B)を印刷し、紫外線照射装置(オゾンレ
ス高圧水銀灯、  2 KW、  80W/am、ラン
プ試料間距離1OCI11.コンベアー速度1.0m/
分)を用いてソルダーレジストを硬化させた。この様に
して得られた積層板試料を用い、つぎの3種類の試験を
行ない、クロスカットセロファン粘着テープ剥離により
試験前後の接着性を評価するとともに、試験前後の抵抗
値を測定し、試験によるシート抵抗値の変化率を計算し
た。
Example I T-methacryloxypropyltrimethoxysilane 1 part Trimethylolpropane triacrylate (TMPT
A) l Q part Tris (
2~acryloyloxyethyl) isocyanurate
Part 4 Furnace Black “UK-VULCAN PJ (manufactured by CABOT,
Product name) 2.8 parts Acetylene black "Denka Black" (manufactured by Denki Kagaku Kogyo ■, trade name) 0.6 parts Graphite rPOG-10j (manufactured by Sumitomo Aluminum Smelting ■, trade name) 2.2 parts Electron of the above composition 200 m of line-curing conductive paste
Using an esh nylon screen plate, printing was carried out on a single-sided copper-clad paper phenol laminate on which a copper foil electrode portion had been previously formed by etching and polishing. The dimensions between the copper foil electrodes of the printed conductive paste were 4 dragons (vertical) and 4 (horizontal) cranes. Next, an electron beam irradiation device (Energy
150B-15 (manufactured by Science) in a nitrogen gas atmosphere with an acceleration voltage of 160 KV and an absorbed dose of 10 Mrad.
An electron beam is irradiated from the printed side of this laminate under the conditions of
The conductive paste was cured. Furthermore, a 200 mesh nylon screen plate is used on top of the hardened conductive paste to apply ultraviolet curable solder resist (Tamura Kaken).
(manufactured by USR-2B) and ultraviolet irradiation equipment (ozone-less high-pressure mercury lamp, 2 KW, 80 W/am, lamp sample distance 1 OCI 11, conveyor speed 1.0 m/
The solder resist was cured using 10 minutes). Using the laminate sample obtained in this way, the following three types of tests were conducted, and the adhesion before and after the test was evaluated by peeling off the cross-cut cellophane adhesive tape, and the resistance value before and after the test was measured. The rate of change in sheet resistance was calculated.

半田浸漬試験:温度260℃の溶融半田浴(スズ60/
鉛40)に10秒間浸漬。
Solder immersion test: Molten solder bath (Tin 60/
Immerse in lead 40) for 10 seconds.

耐湿性試験:温度40℃、相対湿度90〜95%の恒温
恒温中に500時間放置。
Humidity resistance test: Left for 500 hours in a constant temperature room at a temperature of 40°C and a relative humidity of 90 to 95%.

温度サイクル試験:タバイエスペック■製恒温恒温器P
L−2CP型を用いて一40℃30分、室温15分、8
5℃30分、室温15分のサイクルを5回くり返した。
Temperature cycle test: Tabai Espec ■ constant temperature incubator P
Using L-2CP type - 40℃ 30 minutes, room temperature 15 minutes, 8
A cycle of 30 minutes at 5°C and 15 minutes at room temperature was repeated 5 times.

なお、シート抵抗値は、銅箔電極間の抵抗値を三相計器
製作所製ワイドレンジ・デジタルオームメータDR−1
000CUを用いて測定し、単位Ω/口で表わして導電
性の尺度とした。
The sheet resistance value is determined by measuring the resistance value between the copper foil electrodes using a wide range digital ohmmeter DR-1 manufactured by Sansho Keiki Seisakusho.
The conductivity was measured using 000 CU and expressed in the unit Ω/mouth.

また、各試験による抵抗変化率は次の式により算出した
In addition, the resistance change rate in each test was calculated using the following formula.

抵抗変化率(X)・試験前の抵抗値−試験後の抵抗値x
 100試験前の抵抗値 得られた結果を表1に示す。
Resistance change rate (X)・Resistance value before test - Resistance value after test x
Table 1 shows the resistance values obtained before 100 tests.

実施例2 ビニルトリメトキシシラン         1部TM
PTA              8部ポリエステル
ジアクリレートrOE−A410J(日本触媒化学工業
■製、商品名)      8部2−ヒドロキシエチル
メタアクリレート   4部rUK−VULCAN  
PJ        3部「デンカブランクJ    
           1部rPOG−10J    
        2部上記組成の電子線硬化型導電性ペ
ーストを、実施例1と同様の方法により印刷硬化させた
後の接着性および抵抗値の変化率を求めた結果を表1に
示す。
Example 2 Vinyltrimethoxysilane 1 part TM
PTA 8 parts Polyester diacrylate rOE-A410J (manufactured by Nippon Shokubai Chemical Co., Ltd., trade name) 8 parts 2-hydroxyethyl methacrylate 4 parts rUK-VULCAN
PJ Part 3 “Denka Blank J
Part 1 rPOG-10J
2 parts The electron beam curable conductive paste having the above composition was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the adhesiveness and rate of change in resistance were determined and the results are shown in Table 1.

実施例3 T−メタアクリロキシプロピルメトキシシラン1部 TMPTA              8部トリス(
2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジアクリレート
                8部テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート    4部銀粉rD−25J 
 (デグサジャパン■製、商品名)50部 上記組成の電子線硬化型導電性ペーストを、実施例1と
同様の方法により印刷硬化させた後の接着性および抵抗
値の変化率を求めた結果を表1に示す。
Example 3 T-methacryloxypropylmethoxysilane 1 part TMPTA 8 parts Tris(
2-Hydroxyethyl) isocyanate diacrylate 8 parts Tetrahydrofurfuryl acrylate 4 parts Silver powder rD-25J
(manufactured by Degussa Japan ■, trade name) 50 parts The electron beam curable conductive paste having the above composition was printed and cured in the same manner as in Example 1, and the adhesion and the rate of change in resistance were determined. It is shown in Table 1.

耐湿性試験および温度サイクル試験において抵抗変化率
が若干大きい値を示したが、導電性を増加させる方向に
あったので実用上問題はなかった。
Although the resistance change rate showed a slightly large value in the humidity resistance test and the temperature cycle test, there was no problem in practical use because it was in the direction of increasing the conductivity.

実施例4 γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン1部 TMATA             12部トリス(
2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジアクリレート
               12部ジアリルイソフ
タレー゛ト          12部rUK−VUL
CAN  PJ       17部「デンカブラック
」             3部rPOG−10J 
          14部カルピトールアセテート 
         30部上記組成の電子線硬化型導電
性ペーストを、印刷後、電子線の照射前に100℃で2
0分間乾燥させた以外は、実施例1と同様の方法により
印刷硬化させた後の接着性および抵抗値の変化率を求め
た結果を表1に示す。
Example 4 γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 1 part TMATA 12 parts Tris(
2-Hydroxyethyl) isocyanate diacrylate 12 parts Diaryl isophthalate 12 parts rUK-VUL
CAN PJ Part 17 “Denka Black” Part 3 rPOG-10J
14 parts carpitol acetate
30 parts of the electron beam curable conductive paste having the above composition was heated at 100°C for 2 hours after printing and before irradiation with the electron beam.
Table 1 shows the results of determining the rate of change in adhesiveness and resistance after printing and curing in the same manner as in Example 1, except that the print was dried for 0 minutes.

実施例5 ビニルトリメトキシシラン         1部フヱ
ノキシエチルアクリレート       10部2−ヒ
ドロキシエチルメタアクリレート  10部rUK−V
ULCAN  PJ        3部「デンカブラ
ック」             1部rPOG−10
j            2部上記組成の電子線硬化
型導電性ペーストを、実施例1と同様の方法により、印
刷硬化させた後の接着性および抵抗値の変化率を求めた
結果を表1に示す。
Example 5 Vinyltrimethoxysilane 1 part Phenoxyethyl acrylate 10 parts 2-hydroxyethyl methacrylate 10 parts rUK-V
ULCAN PJ Part 3 “Denka Black” Part 1 rPOG-10
Table 1 shows the results of determining the adhesion and the rate of change in resistance after printing and curing the electron beam curable conductive paste having the above composition in the same manner as in Example 1.

比較例1 γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシランの代
りにトリス(2−ヒドロキシエチ)L;)イソシアヌレ
ートジアクリレートを用いた以外は、実施例1と同様の
方法により、印刷硬化させた後の接着性および抵抗値の
変化率を求めた結果を表1に示す。
Comparative Example 1 After printing and curing in the same manner as in Example 1 except that tris(2-hydroxyethyl) L;) isocyanurate diacrylate was used instead of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. Table 1 shows the results of determining the rate of change in adhesiveness and resistance.

比較例2 ビニルトリメトキシシランの代りに2−ヒドロキシエチ
ルメタアクリレートを用いた以外は、実施例2と同様の
方法により、印刷硬化させた後の接着性および抵抗値の
変化率を求めた結果を表1に示す。
Comparative Example 2 The same method as in Example 2 was used except that 2-hydroxyethyl methacrylate was used instead of vinyltrimethoxysilane, and the results of determining the rate of change in adhesion and resistance after printing were cured. It is shown in Table 1.

比較例3 γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシランの代
りに2−ヒドロキシエチルメタアクリレートを用いた以
外は、実施例4と同様の方法により印刷硬化させた後の
接着性および抵抗値の変化率を求めた結果を表1に示す
Comparative Example 3 The rate of change in adhesion and resistance after printing and curing was measured in the same manner as in Example 4, except that 2-hydroxyethyl methacrylate was used instead of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. The obtained results are shown in Table 1.

比較例4 T−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシランの代
りにγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用
いた以外は、実施例1と同様の方法により、印刷硬化さ
せた後の接着性および抵抗値の変化率を求めた結果を表
゛1に示す。
Comparative Example 4 Adhesion and resistance values after printing and curing were performed in the same manner as in Example 1, except that γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used instead of T-methacryloxypropyltrimethoxysilane. The results of determining the rate of change are shown in Table 1.

(以下余白) 〔発明の効果〕 本発明により、硬化後、高温度または高湿度の環境下に
長期間保持しても、基材への接着性および導電性の低下
が少なく、経時の品質の信転性が高い電子線硬化型導電
性ペーストが得られるようになった。
(Margins below) [Effects of the Invention] According to the present invention, even after being cured, there is little deterioration in adhesiveness to the base material and conductivity even if the product is kept in a high temperature or high humidity environment for a long period of time, and the quality of the product improves over time. Electron beam-curable conductive paste with high reliability can now be obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(A)電子線反応性基を有するシラン化合物、(B
)上記(A)以外の電子線反応性基を1個または2個以
上有する化合物の1種または2種以上、および(C)導
電性微粉末からなる電子線硬化型導電性ペースト。 2、(B)の少なくとも1種が、水酸基を有するもので
ある特許請求の範囲第1項記載の電子線硬化型導電性ペ
ースト。
[Claims] 1. (A) a silane compound having an electron beam-reactive group, (B
) An electron beam-curable conductive paste comprising one or more compounds having one or more electron beam-reactive groups other than (A) above, and (C) conductive fine powder. 2. The electron beam curable conductive paste according to claim 1, wherein at least one of (B) has a hydroxyl group.
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