JPH04268381A - Copper alloy composition - Google Patents

Copper alloy composition

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JPH04268381A
JPH04268381A JP3048768A JP4876891A JPH04268381A JP H04268381 A JPH04268381 A JP H04268381A JP 3048768 A JP3048768 A JP 3048768A JP 4876891 A JP4876891 A JP 4876891A JP H04268381 A JPH04268381 A JP H04268381A
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copper alloy
alloy composition
composition according
acid
resins
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Akinori Yokoyama
明典 横山
Tsutomu Katsumata
勉 勝又
Hitoshi Nakajima
斉 中島
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

PURPOSE:To provide a conductive paste excellent in electric conductivity. oxidation resistance, and migration resistance at a low cost, and a product containing the paste. CONSTITUTION:The title compsn. comprises 100 pts.wt. copper alloy powder of the general formula: AgxCuy (wherein 0.001<=x<=0.999, 0.001<=y<=0.999, and x+y=1) wherein the silver content at the surface of the particle of the alloy powder is higher than that in the central part of the particle, 5-200 pts.wt. org. binder, and 0.01-100 pts.wt. additive which can remove copper oxide. The compsn. is used for producing a printed circuit board and as a paste for screen printing, electromagnetic wave shielding, a conductive circuit, a conductive adhesive, an electrode, and through hole coating.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、導電性に優れ、且つ、
耐酸化性が良く、耐マイグレ―ション性に優れた特性を
有する銅合金系組成物ペ―スト及び該ペ―ストを用いた
導電体に関するものであり、電磁波シ―ルド、導電性接
着剤、導電回路用ペ―スト、電極用ペ―スト、スクリ―
ン印刷用ペ―スト、印刷抵抗端子用ペ―スト、スル―ホ
―ル用ペ―スト、接点材料等として利用できる。
[Industrial Application Field] The present invention has excellent conductivity and
It relates to a copper alloy composition paste with good oxidation resistance and excellent migration resistance, and a conductor using the paste, and is useful for electromagnetic shielding, conductive adhesives, Paste for conductive circuits, paste for electrodes, screen
It can be used as a paste for printing, a paste for printed resistor terminals, a paste for through-holes, a contact material, etc.

【従来の技術】従来、導電性ペ―ストあるいは導電性組
成物として金、白金、パラジウム、銀、銀パラジウム等
の貴金属や(例えば、特開昭56−70064号、51
−124655号、59−45355号、特開平1−9
8674号)、ニッケル(例えば、特開昭58−539
66号)、銀めっき銅(例えば、特開昭56−8892
号、特開平1−231208号)、銅(例えば、特開昭
56−163166号、特開昭62−74967号、6
3−89577号、57−55974号、特開平2−1
6172号)などの金属粉に有機バインダ―、必要に応
じて溶剤、添加物を加え分散させたものが公知である。
BACKGROUND ART Conventionally, conductive pastes or conductive compositions have been made of noble metals such as gold, platinum, palladium, silver, silver-palladium, etc. (for example, JP-A-56-70064;
-124655, 59-45355, JP-A-1-9
No. 8674), nickel (for example, JP-A No. 58-539
66), silver-plated copper (for example, JP-A-56-8892
Copper (e.g., JP 56-163166, JP 62-74967, 6)
No. 3-89577, No. 57-55974, JP-A-2-1
No. 6172), etc., in which an organic binder, optionally a solvent, and additives are added and dispersed are known.

【0002】公知導電性ペ―ストとして用いられている
ものには以下の欠点がある。銅は安価であるが、酸化に
より導電性が低下しやすい。また、酸化防止剤を銅粉を
用いたペ―ストに添加する試みも行われているが、初期
には粉末表面の銅酸化物が除去され導電性が得られるが
、やはり塗膜化された後、高温あるいは高湿度中では次
第に接点抵抗が増加し導電性を損ねる。また、銀粉を用
いた導電性ペ―ストが公知であるが、マイグレ―ション
の問題がある。銀を銅粉にメッキした粉末を用いた導電
性ペ―ストも公知であるが、微粉末に均一に銀のメッキ
をするのが困難であり、また、メッキ銀の剥がれの問題
とマイグレ―ションの問題がやはり生じる。また、銀と
銅との間に局部電池が生じ易く、かえって銅を酸化させ
易い。銀と銅とを機械的に強制接合する方法が開示され
ているが(例えば、特開昭56−155259号、57
−98572号)、機械的接合であるために、銀のマイ
グレ―ションの防止には効果が乏しい欠点を有する。
[0002] The known conductive pastes used have the following drawbacks. Copper is inexpensive, but its conductivity tends to decrease due to oxidation. In addition, attempts have been made to add antioxidants to pastes using copper powder, but initially the copper oxide on the powder surface was removed and conductivity was obtained, but it was still difficult to form a coating. After that, contact resistance gradually increases at high temperatures or high humidity, impairing conductivity. Furthermore, conductive pastes using silver powder are known, but they have the problem of migration. Conductive pastes that use copper powder plated with silver are also known, but it is difficult to uniformly plate the fine powder with silver, and there are also problems with peeling of the plated silver and migration. The problem still arises. Moreover, local batteries are likely to occur between silver and copper, and the copper is more likely to be oxidized. A method of mechanically forcibly bonding silver and copper has been disclosed (for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 56-155259, 57).
98572), it has the disadvantage that it is not very effective in preventing silver migration because it is a mechanical bond.

【発明が解決しようとする課題】本発明は、導電性に優
れ、且つ長期にわたり耐酸化性に優れ、耐マイグレ―シ
ョン性に優れた安価な導電性ペ―ストおよびそれを用い
た製品を提供しようとするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides an inexpensive conductive paste that has excellent conductivity, long-term oxidation resistance, and migration resistance, and products using the same. This is what I am trying to do.

【0003】0003

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載されたとおり
の銅合金系組成物およびそれを利用した物である。以下
、それ等について具体的に説明する。本発明に用いる銅
合金粉末は、アトマイズ法により作製される。ガスアト
マイズ法、水アトマイズ法が好ましいが、特に不活性ガ
スアトマイズ法が好ましい。本発明で用いられる不活性
ガスアトマイズ法については本発明者らによりすでに開
示されている出願番号USP395531号の方法が好
ましい。例えば、かかる組成の銅、銀混合物、または合
金を不活性雰囲気中あるいは真空中で、高周波誘導加熱
を用いてるつぼ中で融解する。この時、不活性雰囲気と
しては、融液と全く反応しないか、あるいは極めてゆる
やかにしか反応しない雰囲気を意味する。例えば、窒素
、ヘリウム、水素、アルゴンを主成分にした雰囲気が好
ましい。さらに、るつぼ先端より融液を不活性ガス雰囲
気中へ噴出する。噴出と同時に、圧縮された不活性ガス
を断熱膨張させて発生した高速気流を融液に向かって噴
出し、アトマイズする方法である。ここで用いられる不
活性ガスとは、かかる組成の融液とまったく反応しない
か、あるいは極めてゆるやかにしか反応しないガスを意
味する。例えば、窒素、ヘリウム、アルゴン、水素、及
びそれらの混合物が好ましい。この時、ガスに含まれる
酸素は、2%以下が好ましく、さらに0.1%以下が好
ましい。
[Means for Solving the Problems] The structure of the present invention for solving the above problems is a copper alloy composition and a product using the same as described in the claims. These will be explained in detail below. The copper alloy powder used in the present invention is produced by an atomization method. The gas atomization method and the water atomization method are preferred, and the inert gas atomization method is particularly preferred. Regarding the inert gas atomization method used in the present invention, the method already disclosed by the present inventors and disclosed in Application No. USP 395,531 is preferred. For example, copper, silver mixtures, or alloys of such composition are melted in a crucible in an inert atmosphere or in vacuum using high frequency induction heating. At this time, the inert atmosphere means an atmosphere that does not react with the melt at all or reacts only very slowly. For example, an atmosphere containing nitrogen, helium, hydrogen, or argon as a main component is preferable. Furthermore, the melt is spouted from the tip of the crucible into an inert gas atmosphere. At the same time as the ejection, a high-speed airflow generated by adiabatically expanding compressed inert gas is ejected toward the melt to atomize it. Inert gas, as used herein, means a gas that does not react at all or reacts only very slowly with a melt of such composition. For example, nitrogen, helium, argon, hydrogen, and mixtures thereof are preferred. At this time, the oxygen contained in the gas is preferably 2% or less, more preferably 0.1% or less.

【0004】ガスの圧力(膨張直前)は、5kg/cm
2G以上が好ましく、さらに15kg/cm2G以上が
好ましい。高速気流の速度は、融液との衝突位置で50
m/秒以上が好ましく、さらに100m/秒以上が好ま
しく、300m/秒以上が最も好ましい。ガスと融液と
の質量速度比(ガス質量速度/融液質量速度)は0.1
以上が好ましく、1以上がさらに好ましい。また、この
時の冷却速度は、102℃/秒以上109℃/秒以下が
好ましく、103℃/秒〜107℃/秒が最も好ましい
。本発明で用いるAgxCuy(ただし、0.001≦
x≦0.999、0.001≦y≦0.999、x+y
=1、原子比)であが、xが0.001未満では、充分
な耐酸化性が得られず、またxが0.999を超える場
合には耐マイグレ―ション性が充分でない。本発明で用
いる銅合金粉末は0.001≦x≦0.4の場合には、
粉末表面の銀濃度が平均の銀濃度より高く、かつ表面近
傍で銀濃度が内部より表面に向かって銀濃度が増加する
領域を有しており、表面の銀濃度が平均の銀濃度の2.
1倍以上である。好ましくは、3倍以上40倍以下であ
り、さらに4倍以上15倍以下が好ましい。銀量xは、
好ましくは0.005≦x≦0.3、さらに0.01≦
x≦0.25が好ましい。
[0004] The pressure of the gas (just before expansion) is 5 kg/cm
2G or more is preferable, and 15kg/cm2G or more is more preferable. The velocity of the high-speed airflow is 50 at the point of collision with the melt.
The speed is preferably at least m/sec, more preferably at least 100 m/sec, and most preferably at least 300 m/sec. The mass velocity ratio of gas and melt (gas mass velocity/melt mass velocity) is 0.1
The number is preferably at least 1, and more preferably at least 1. Moreover, the cooling rate at this time is preferably 102°C/second to 109°C/second, most preferably 103°C/second to 107°C/second. AgxCuy used in the present invention (however, 0.001≦
x≦0.999, 0.001≦y≦0.999, x+y
= 1, atomic ratio), but when x is less than 0.001, sufficient oxidation resistance cannot be obtained, and when x exceeds 0.999, migration resistance is insufficient. When the copper alloy powder used in the present invention satisfies 0.001≦x≦0.4,
The silver concentration at the surface of the powder is higher than the average silver concentration, and there is a region near the surface where the silver concentration increases from the inside toward the surface, and the silver concentration at the surface is 2.5 times higher than the average silver concentration.
It is more than 1 times. Preferably, it is 3 times or more and 40 times or less, and more preferably 4 times or more and 15 times or less. The amount of silver x is
Preferably 0.005≦x≦0.3, more preferably 0.01≦
Preferably, x≦0.25.

【0005】本発明で用いる0.001≦x≦0.4の
銅合金粉末は、表面の銀濃度が平均の銀濃度より高いが
、低融点である銀が表面に濃縮される機構については、
本発明者らにより既に開示されているように(出願番号
USP395531号)、以下の様に考えられる。 例えば高速気流ガスとの衝突により生じた微細な金属液
滴が高速気流に同伴し高速走行しながら急冷凝固する。 この凝固過程で低融点である銀に富んだ液相が表面に排
出されて遅れて固化し、表面に銀が濃縮された粉末がで
きるものと考えられる。水アトマイズ法を用いる場合に
は、該組成の融液をるつぼ先端より噴出する。噴出と同
時に、ノズル先端より噴出された融液に向かって、加圧
された水をノズルより噴出し、該組成の融液と衝突させ
微粒子化し、急冷凝固する。この時、水の質量速度/融
液の質量速度比が10以上であることが好ましく、さら
に、40以上が好ましい。また、水と融液との衝突位置
における水の速度は80m/秒以上が好ましく、さらに
、100m/秒以上が好ましい。加圧水をノズル先端よ
り噴出する時の圧力は、50kg/cm2G以上が好ま
しく、さらに、100kg/cm2G以上が好ましい。
[0005] The copper alloy powder of 0.001≦x≦0.4 used in the present invention has a surface silver concentration higher than the average silver concentration, but the mechanism by which silver, which has a low melting point, is concentrated on the surface is as follows.
As already disclosed by the present inventors (Application No. USP 395,531), it can be considered as follows. For example, fine metal droplets generated by collision with high-speed airflow gas are accompanied by the high-speed airflow and rapidly solidify while traveling at high speed. It is thought that during this solidification process, a liquid phase rich in silver with a low melting point is discharged to the surface and solidifies with a delay, forming a powder with concentrated silver on the surface. When using the water atomization method, a melt having the above composition is ejected from the tip of the crucible. At the same time as the ejection, pressurized water is ejected from the nozzle toward the melt ejected from the tip of the nozzle, collides with the melt having the composition, becomes fine particles, and rapidly solidifies. At this time, the ratio of mass velocity of water to mass velocity of melt is preferably 10 or more, more preferably 40 or more. Further, the speed of the water at the collision position of the water and the melt is preferably 80 m/sec or more, and more preferably 100 m/sec or more. The pressure when pressurized water is jetted from the nozzle tip is preferably 50 kg/cm2G or more, more preferably 100 kg/cm2G or more.

【0006】銀量xが0.4を超える場合には(0.4
<x≦0.999)、特に高温での耐酸化性を要求する
場合に用いることができる。この場合には、粉末中の銀
が銅と合金化しているために耐マイグレ―ション性も高
く、且つ、表面の銀の濃度が高く、しかもかなり粒子内
部にまでも銀が存在しているために銅の酸化防止に対し
て効果を有するものである。水アトマイズ法により作製
された急冷凝固粉末は、不規則形状のものが多く含まれ
るが、本発明では、球状粒子のはんちゅうに入る。ここ
で、銀濃度とは、Ag/(Ag+Cu)(原子比)を意
味する。表面及び表面近傍の銀濃度の測定はXPS(X
線光電子分光分析装置;KRATOS社製XSAM80
0)を用いた。先ず、試料台に導電性を有するカ―ボン
両面接着テ―プをはりつけ、試料粉末を変形させないよ
うに静かに両面テ―プ上を完全に覆うように付着させた
。銀濃度の測定条件;マグネシウムのKα線(電圧12
kv、電流10mA)を入射させ、光電子の取り出し角
は試料面に対し90度、室内圧力10−8torrで行
った。エッチング条件;アルゴンイオンガンを加速電圧
3keV、アルゴンイオンビ―ムの試料面にたいする入
射角45度、室内圧力10−7torr、10分間で行
った。
[0006] When the silver amount x exceeds 0.4, (0.4
<x≦0.999), it can be used especially when oxidation resistance at high temperatures is required. In this case, the migration resistance is high because the silver in the powder is alloyed with copper, and the concentration of silver on the surface is high, and silver is present even inside the particles. It is effective in preventing copper oxidation. The rapidly solidified powder produced by the water atomization method is often irregularly shaped, but in the present invention, it is mainly spherical particles. Here, the silver concentration means Ag/(Ag+Cu) (atomic ratio). The silver concentration on the surface and near the surface can be measured using XPS (X
Line photoelectron spectrometer; XSAM80 manufactured by KRATOS
0) was used. First, conductive carbon double-sided adhesive tape was attached to the sample stand, and the sample powder was gently adhered to completely cover the double-sided tape so as not to deform it. Measurement conditions for silver concentration; magnesium Kα ray (voltage 12
kv, current 10 mA), the photoelectron extraction angle was 90 degrees with respect to the sample surface, and the room pressure was 10-8 torr. Etching conditions: An argon ion gun was used at an accelerating voltage of 3 keV, an argon ion beam was incident on the sample surface at an angle of 45 degrees, and the room pressure was 10 -7 torr for 10 minutes.

【0007】銀濃度の測定は、測定とエッチングを5回
繰り返し行い、最初の2回の測定値の平均値を表面の銀
濃度とした。平均の銀濃度の測定は、試料を濃硝酸中で
溶解し、ICP(高周波誘導結合型プラズマ発光分析計
)を用いて測定した。本発明で用いる銅合金粉末は、平
均粒径が0.1〜100μmであるが、0.1μm未満
では、接触抵抗が増加して導電性を損ねる。また、10
0μmを超える場合には、スクリ―ン印刷適正が劣る。 好ましくは、0.1〜50μm、さらに好ましくは0.
5〜30μmである。平均粒径の測定は、レ―ザ―回折
型粒度分析計(SALD1100)を用いた。測定法と
しては、エチレングリコ―ル溶液に粉末を充分に分散さ
せ(粉末濃度1〜20×10−3g/cc)、5回測定
した。体積積算平均値5回測定の平均値を平均粒子径と
した。粒子形状は、球状、燐片状及びそれらの混合物が
好ましい。燐片状粉末を用いる場合には、機械的に偏平
化させる公知の方法を用いることができる。例えば、ス
タンプミル、ボ―ルミル等の方法が挙げられる。本発明
で用いられる銅合金粉末は、特性を損なわない程度であ
れば、溶融時にAl,Zn,Sn,Pb,Si,Mn,
Bi,Mo,Cr,lr,Nb,Sb,B,P,Mg,
Li,C,Na,Ba,Ti,In,Au,Pd,Pt
,Rh,Ru,Zr,Hf,Y,Laなどの金属、半金
属及びそれらの化合物を添加しても構わないし、また、
本発明で用いる粉末と同時に、Al,Zn,Sn,Pb
,Si,Mn,Bi,Mo,Cr,Ir,Nb,Sb,
B,P,Mg,Li,C,Na,Ba,Ti,In,A
u,Ag,Cu,Pd,Pt,Rh,Ru,Zr,Hf
,Y,Laなどの金属、半金属及びそれらの化合物から
なる粉末を混合しても構わない。
To measure the silver concentration, measurement and etching were repeated five times, and the average value of the first two measurements was taken as the silver concentration on the surface. The average silver concentration was measured by dissolving the sample in concentrated nitric acid and using an ICP (inductively coupled plasma emission spectrometer). The copper alloy powder used in the present invention has an average particle size of 0.1 to 100 μm, but if it is less than 0.1 μm, contact resistance increases and conductivity is impaired. Also, 10
If it exceeds 0 μm, suitability for screen printing is poor. Preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.1 to 50 μm.
It is 5 to 30 μm. The average particle size was measured using a laser diffraction particle size analyzer (SALD1100). As a measurement method, the powder was sufficiently dispersed in an ethylene glycol solution (powder concentration 1 to 20 x 10-3 g/cc) and measured five times. The average value of the volume cumulative average value measured five times was taken as the average particle diameter. The particle shape is preferably spherical, scaly, or a mixture thereof. When using scaly powder, a known method of mechanically flattening it can be used. For example, methods such as stamp milling and ball milling may be used. The copper alloy powder used in the present invention may contain Al, Zn, Sn, Pb, Si, Mn,
Bi, Mo, Cr, lr, Nb, Sb, B, P, Mg,
Li, C, Na, Ba, Ti, In, Au, Pd, Pt
, Rh, Ru, Zr, Hf, Y, La and other metals, semimetals, and compounds thereof may be added;
At the same time as the powder used in the present invention, Al, Zn, Sn, Pb
, Si, Mn, Bi, Mo, Cr, Ir, Nb, Sb,
B, P, Mg, Li, C, Na, Ba, Ti, In, A
u, Ag, Cu, Pd, Pt, Rh, Ru, Zr, Hf
, Y, La, etc., metalloids, and powders of compounds thereof may be mixed.

【0008】本発明に用いる有機バインダ―としては、
熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、電子線硬
化性樹脂、光分解型樹脂、電子線分解型樹脂より選ばれ
た1種以上であるが、熱可塑性樹脂としては、熱可塑性
アクリル樹脂、アルキッド樹脂、塩化ビニル樹脂、ウレ
タン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリカ―ボネ―ト樹脂、スチレン系樹脂などから
選ばれた1種以上が挙げられる。また、熱硬化性樹脂と
しては、エポキシ系樹脂、フェノ―ル系樹脂、アミノ樹
脂、アルキッド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル
系樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、メラ
ミンアルキッド樹脂及びそれらの変性樹脂より選ばれた
1種以上が好ましい。
[0008] As the organic binder used in the present invention,
One or more types selected from thermosetting resins, thermoplastic resins, photocurable resins, electron beam curable resins, photodegradable resins, and electron beam decomposable resins, but as thermoplastic resins, thermoplastic acrylic Selected from resins, alkyd resins, vinyl chloride resins, urethane resins, polyester resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, vinyl acetate resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, polycarbonate resins, styrene resins, etc. One or more types may be mentioned. In addition, thermosetting resins include epoxy resins, phenolic resins, amino resins, alkyd resins, polyurethane resins, polyester resins, thermosetting acrylic resins, polyimide resins, melamine alkyd resins, and modified resins thereof. One or more selected types are preferred.

【0009】エポキシ系樹脂としては、分子量380〜
8000のビスフェノ―ルA型エポキシ樹脂、エポキシ
フェノ―ルノボラック型樹脂、ブロム化ビスフェノ―ル
A型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、鎖状エポキシ
樹脂、ポリアルキレンエ―テル型エポキシ樹脂、ポリグ
リシジルエ―テル型エポキシ樹脂、ジグリシジルエステ
ル型エポキシ樹脂、ダイマ―酸系ジグリシジルエステル
型エポキシ樹脂、エポキシアクリレ―ト樹脂、及びそれ
らのフェノ―ル性OH末端変性エポキシ樹脂、脂肪酸変
性エポキシ樹脂、ウレタン変性エポキシ樹脂などが挙げ
られる。また、必要に応じて公知の反応性希釈剤を用い
ることもできる。例えば、ジグリシジルエ―テル、エチ
レングリコ―ルジグリシジルエ―テル、1、3ブタンジ
オ―ルジグリシジルエ―テル、ブタジエンジオキサイド
、ジエチレングリコ―ルジグリシジルエ―テル、ビニル
シクロヘキサンジエポキサイド、トリグリシジルシアヌ
レ―ト、N−ジグリシジルアミン、ジビニルベンゼンジ
エポキサイドなどが挙げられるがこれらに限定するもの
ではない。フェノ―ル系樹脂としては、ノボラック型フ
ェノ―ル樹脂、レゾ―ル型フェノ―ル樹脂、アルキルフ
ェノ―ルレゾ―ル型樹脂、キシレン樹脂変性レゾ―ル型
樹脂、ロジン変性フェノ―ル樹脂などが挙げられる。 中でも、レゾ―ル型、変性レゾ―ル型樹脂が好ましい。 アミノ樹脂としては、例えば、メチル化メラミン樹脂、
ブチル化メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹
脂、ブチル化尿素樹脂などが挙げられる。熱硬化性アク
リル樹脂、フェノ―ル系樹脂、エポキシ系樹脂の架橋剤
として用いるのが好ましい。
[0009] Epoxy resins with a molecular weight of 380 to
8000 bisphenol A type epoxy resin, epoxyphenol novolac type resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, linear epoxy resin, polyalkylene ether type epoxy resin, polyglycidyl epoxy resin - Ter type epoxy resin, diglycidyl ester type epoxy resin, dimer acid type diglycidyl ester type epoxy resin, epoxy acrylate resin, and their phenolic OH terminal modified epoxy resin, fatty acid modified epoxy resin, urethane Examples include modified epoxy resins. Further, a known reactive diluent can also be used if necessary. For example, diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,3-butanediol diglycidyl ether, butadiene dioxide, diethylene glycol diglycidyl ether, vinylcyclohexane diepoxide, triglycidyl cyanurate, Examples include, but are not limited to, N-diglycidylamine and divinylbenzene diepoxide. Examples of phenolic resins include novolak-type phenolic resins, resol-type phenolic resins, alkylphenol-resol-type resins, xylene resin-modified resol-type resins, and rosin-modified phenolic resins. Can be mentioned. Among these, resol type and modified resol type resins are preferred. Examples of amino resins include methylated melamine resins,
Examples include butylated melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, and butylated urea resin. It is preferably used as a crosslinking agent for thermosetting acrylic resins, phenolic resins, and epoxy resins.

【0010】ポリイミド樹脂としては、例えば、総合型
ポリイミドやビスマレイド系樹脂や分子末端にアセチレ
ン基などを有する付加型ポリイミドが挙げられる。硬化
促進剤として、必要に応じて有機ポリアミン、酸無水物
、ジシアンジアミド、ベンゾグアナミン、ビグアニド、
アルキルフェニルビグアニド、ジフェニルビグアニド、
三ふっかほうそ、アミン化合物などの公知の硬化剤を用
いることができる。アクリル樹脂としては、官能基とし
て(−COOH)10〜80mg/g、水酸基価(−O
H)40〜250mg/gのもので、特に、50〜20
0の水素基が好ましく、酸価は20〜75が好ましい。 また、耐水性を向上させるためには、ヒドロキシブチル
基を有するアクリル樹脂の使用が好ましい。分子量とし
ては、2400以上が使用できるが、4500以上が好
ましく、16000以下が好ましい。ポリエステル樹脂
またはアルキッド樹脂としては、平均分子量4000以
上が好ましく、7000以上がさらに好ましい。
[0010] Examples of the polyimide resin include general polyimide, bismaleide resin, and addition type polyimide having an acetylene group at the end of the molecule. As a curing accelerator, organic polyamine, acid anhydride, dicyandiamide, benzoguanamine, biguanide,
Alkylphenyl biguanide, diphenyl biguanide,
Known curing agents such as Sanfukkahoso and amine compounds can be used. The acrylic resin has a functional group (-COOH) of 10 to 80 mg/g and a hydroxyl value (-O
H) 40 to 250 mg/g, especially 50 to 20 mg/g.
0 hydrogen group is preferable, and the acid value is preferably 20 to 75. Further, in order to improve water resistance, it is preferable to use an acrylic resin having a hydroxybutyl group. The molecular weight can be 2,400 or more, preferably 4,500 or more, and preferably 16,000 or less. The average molecular weight of the polyester resin or alkyd resin is preferably 4,000 or more, more preferably 7,000 or more.

【0011】ポリウレタン系樹脂としては、ウレタンを
形成するウレタンプレポリマ―が使用できるが、好まし
くは末端活性イソシアネ―ト基を活性水素化合物でブロ
ック化したブロックイソシアネ―トプレポリマ―を主体
とするものが好ましい。熱硬化性樹脂を用いる場合には
、加熱方法としては、ボックス式熱風対流炉、連続式熱
風炉、マッフル式加熱炉、近赤外線炉、遠赤外線炉、ベ
―パ―フェイズ加熱炉などが挙げられるが公知の方法で
構わない。また、乾燥あるいは熱硬化する温度としては
、基板の特性に悪影響を与えない温度が好ましく、例え
ば、室温から300℃が好ましく、さらに、室温から2
50℃が好ましい。また、硬化させる雰囲気としては、
空気中(酸素濃度約20%)で構わないが、酸素濃度が
少ないかあるいは存在しない雰囲気でも良い。光硬化性
樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、可視光線硬化性樹脂
があげられるが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。紫外線
硬化性樹脂を用いる場合には、光重合性オリゴマ―、光
重合性モノマ―を光開始剤、光開始助剤とともに用いる
のがよい。
[0011] As the polyurethane resin, urethane prepolymers that form urethane can be used, but preferably those mainly composed of blocked isocyanate prepolymers in which terminal active isocyanate groups are blocked with active hydrogen compounds. preferable. When using a thermosetting resin, heating methods include a box-type hot air convection furnace, a continuous hot-air furnace, a muffle-type heating furnace, a near-infrared furnace, a far-infrared furnace, a vapor phase heating furnace, etc. Any known method may be used. Furthermore, the temperature for drying or thermosetting is preferably a temperature that does not adversely affect the characteristics of the substrate, for example, preferably from room temperature to 300°C, and furthermore, from room temperature to 300°C.
50°C is preferred. In addition, the curing atmosphere is as follows:
It may be in air (oxygen concentration of about 20%), but it may also be in an atmosphere with low or no oxygen concentration. Examples of the photocurable resin include ultraviolet curable resins and visible light curable resins, with ultraviolet curable resins being preferred. When using an ultraviolet curable resin, it is preferable to use a photopolymerizable oligomer or a photopolymerizable monomer together with a photoinitiator and a photoinitiation aid.

【0012】光重合性オリゴマ―としては、低分子量反
応性分子(数百から数千)で、ポリエステル、エポキシ
、ウレタンなどの骨格に官能基としてアクリル基、メタ
アクリル基が2つ以上付加したものであり、例えば、エ
ポキシアクリレ―ト、ウレタンアクリレ―ト、ポリエス
テルアクリレ―ト、ポリエ―テルアクリレ―トが挙げら
れる。光重合性モノマ―としては、アクリロイル基(C
H2=CHCO―)または、メタアクリロイル基(CH
2C(CH3)CO―)を1分しあたり1個または2個
以上持つものであり、1個以上持つ単官能アクリレ―ト
(メタ)、2個以上持つ多官能アクリレ―ト、その他ビ
ニル基(CH2=CH―)をもつものが好ましい。 単官能アクリレ―トとしては、例えば、アリルアクリレ
―ト、アリルメタアクリレ―ト、ベンジルアクリレ―ト
(メタ)、イソボニルアクリレ―ト、シクロヘキシルア
クリレ―ト(メタ)、N,N―ジメチルアミノエチルア
クリレ―ト、グリシジルメタアクリレ―ト、ラウリルア
クリレ―ト、ポリエチレンアクリレ―ト90メタアクリ
レ―ト、トリフロロエチルメタクリレ―トなどがある。 多官能アクリレ―トとしては、例えば、1、4ブタンジ
オ―ルジアクリレ―ト、1、6ヘキサンジオ―ルジアク
リレ―ト、ジエチレングリコ―ルジアクリレ―ト、ネオ
ペンチルグリコ―ルアクリレ―ト、ポリエチレングリコ
―ル400ジアクリレ―ト、トリプロピレングリコ―ル
ジアクリレ―ト、ビスフェノ―ルAジエトキシジアクリ
レ―ト、テトラエチレングリコ―ルジアクリレ―ト、ト
リメチロ―ルプロパントリアクリレ―ト、ペンタエリス
リト―ルトリアクリレ―トなどが挙げられる。ビニル基
を有する反応性モノマ―としては、例えば、スチレン、
ビニルトルエン、酢酸ビニル、N―ビニルピロリドンな
どの単官能モノマ―が使用できる。
[0012] Photopolymerizable oligomers are low molecular weight reactive molecules (several hundred to several thousand) with two or more acrylic or methacrylic groups added as functional groups to the backbone of polyester, epoxy, urethane, etc. Examples thereof include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, and polyether acrylate. As the photopolymerizable monomer, an acryloyl group (C
H2=CHCO-) or methacryloyl group (CH
2C(CH3)CO-) per minute, monofunctional acrylate (meth) having one or more, polyfunctional acrylate having two or more, and other vinyl groups ( Those having CH2=CH-) are preferred. Examples of monofunctional acrylates include allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate (meth), isobonyl acrylate, cyclohexyl acrylate (meth), N,N- Examples include dimethylaminoethyl acrylate, glycidyl methacrylate, lauryl acrylate, polyethylene acrylate 90 methacrylate, and trifluoroethyl methacrylate. Examples of polyfunctional acrylates include 1,4 butanediol diacrylate, 1,6 hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol acrylate, and polyethylene glycol 400 diacrylate. , tripropylene glycol diacrylate, bisphenol A diethoxy diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, etc. . Examples of the reactive monomer having a vinyl group include styrene,
Monofunctional monomers such as vinyltoluene, vinyl acetate, and N-vinylpyrrolidone can be used.

【0013】前記オリゴマ―、モノマ―とともに用いら
れる光開始剤は、紫外線を吸収してラジカルを発生しや
すい物質が好ましく、アセトフェノン系、チオキサン系
、ベンゾイン系、バ―オキサイド系の公知の光開始剤が
使用できる。例えば、ジエトキシアセトフェノン、4―
フェノキシジクロロアセトフェノン、ベンゾイン、ベン
ゾインエネチルエ―テル、ベンゾインイソプロピルエ―
テル、ベンジルジメチルケタ―ル、ベンゾフェノン、4
―フェニルベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン
、チオキサンソン、2―エチルアンスラキノンなどが挙
げられる。この場合、好ましくはポリエステルアクリレ
―ト樹脂、エポキシアクリレ―ト樹脂、ポリウレタンア
クリレ―ト樹脂が挙げられる。本発明で用いることので
きる光開始助剤としては、それ自身は紫外線照射により
活性化はしないが、光開始剤とともに使用すると、光開
始剤単独よりも開始反応が促進され、硬化反応を効率的
にするものであり、脂肪族、芳香族のアミンなどの公知
の光開始助剤が使用できる。例えば、トリエタノ―ルア
ミン、N―メチルジエタノ―ルアミン、ミヒラ―ケトン
、4、4―ジエチルアミノフェノンなどの公知の光開始
助剤が使用できる。
The photoinitiator used together with the oligomer and monomer is preferably a substance that easily generates radicals by absorbing ultraviolet rays, and includes known photoinitiators such as acetophenone, thioxane, benzoin, and peroxide. can be used. For example, diethoxyacetophenone, 4-
Phenoxydichloroacetophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether
ter, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4
-Phenylbenzophenone, acrylated benzophenone, thioxanthone, 2-ethyl anthraquinone, etc. In this case, preferred examples include polyester acrylate resin, epoxy acrylate resin, and polyurethane acrylate resin. The photoinitiation aid that can be used in the present invention is not activated by UV irradiation by itself, but when used together with a photoinitiator, the initiation reaction is accelerated more than the photoinitiator alone, making the curing reaction more efficient. Known photoinitiation aids such as aliphatic and aromatic amines can be used. For example, known photoinitiation aids such as triethanolamine, N-methyldiethanolamine, Michler's ketone, and 4,4-diethylaminophenone can be used.

【0014】硬化方法としては、例えば、室温あるいは
それ以上、好ましくは40〜80℃でコ―トされた塗膜
を水銀ランプ灯の紫外線発生装置を光源として照射する
。光源としては、公知の装置で構わないが、100ワッ
ト/cm以上が好ましい。照射時間としては、数秒から
数十秒で充分である。電子線硬化性樹脂としては、前記
光硬化性樹脂(光重合性オリゴマ―、光重合性モノマ―
)を用いることができる。電子線で硬化する場合には、
高電圧で加速した電子はエネルギ―が大きく、光に比較
して物質透過性が大きいために硬化能力が大きく、しか
も室温で硬化できる。また、前記オリゴマ―、モノマ―
は電子線を吸収してイオン、ラジカルを発生するため、
光開始剤、光開始助剤は原則として必要ない。電子線硬
化する場合には、公知の方法で構わない。例えば、塗膜
厚100μm以下程度であれば、150kv以上の加速
電圧が好ましく、公知の方法が使用できる。本発明の銅
合金系組成物は、銅合金粉末100重量部に対して、有
機バインダ―5〜200重量部を有するが、5重量部未
満の場合には、塗膜中の導電性金属粉末を結合させてお
くに充分な樹脂量がなく、導電性及び機械的強度を低下
させる。また、200重量部を超える場合には、導電性
金属粉量が充分でなく、導電性が得られない。好ましく
は、5〜100重量部である。さらに、5〜50重量部
が好ましい。
[0014] As a curing method, for example, the coated film is irradiated at room temperature or higher, preferably from 40 to 80°C, using an ultraviolet generator such as a mercury lamp as a light source. The light source may be any known device, but preferably 100 watts/cm or more. As for the irradiation time, several seconds to several tens of seconds is sufficient. As the electron beam curable resin, the photocurable resins (photopolymerizable oligomers, photopolymerizable monomers)
) can be used. When curing with electron beam,
Electrons accelerated by high voltage have a large amount of energy and have greater material permeability than light, so they have great curing ability and can be cured at room temperature. In addition, the oligomer, monomer
absorbs electron beams and generates ions and radicals,
In principle, photoinitiators and photoinitiation aids are not required. In the case of electron beam curing, any known method may be used. For example, if the coating film thickness is about 100 μm or less, an accelerating voltage of 150 kV or more is preferable, and a known method can be used. The copper alloy composition of the present invention contains 5 to 200 parts by weight of an organic binder per 100 parts by weight of copper alloy powder, but if the amount is less than 5 parts by weight, the conductive metal powder in the coating film may be There is not enough resin to keep it bonded, reducing conductivity and mechanical strength. Moreover, when it exceeds 200 parts by weight, the amount of conductive metal powder is insufficient and conductivity cannot be obtained. Preferably it is 5 to 100 parts by weight. Furthermore, 5 to 50 parts by weight is preferred.

【0015】本発明の銅合金系組成物を用いる場合、必
要に応じて溶剤を用いることができる。溶剤量としては
、銅合金粉末と有機バインダ―の合計100重量部に対
して0〜100重量部を含有することが好ましい。本発
明で用いることができる溶剤としては、樹脂によって異
なるが、公知の溶剤で構わない。例えば、トルエン、キ
シレン、などの芳香族類、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトンなどのケトン類、酢酸ブチル、酢酸エ
チルなどのエステル類、エチレングリコ―ルモノメチル
エ―テル、エチレングリコ―ルモノエチルエ―テル、エ
チレングリコ―ルモノブチルエ―テル、エチレングリコ
―ルジメチルエ―テル、エチレングリコ―ルモノn―ブ
チルエ―テル、エチレングリコ―ルモノn―ヘキシルエ
―テル、エチレングリコ―ルモノアリルエ―テル、エチ
レングリコ―ルドデシルエ―テル、エチレングリコ―ル
モノイソブチルエ―テル、エチレングリコ―ルモノイソ
プロピルエ―テル及びそのアセテ―ト、ジエチレングリ
コ―ルモノメチルエ―テル、ジエチレングリコ―ルモノ
エチルエ―テル、ジエチレングリコ―ルモノブチルエ―
テル、ジエチレングリコ―ルモノイソブチルエ―テル、
ジエチレングリコ―ルドデシルエ―テル、ジエチレング
リコ―ルモノヘキシルエ―テル及びそのアセテ―ト、ジ
エチレングリコ―ルジメチルエ―テル、ジエチレングリ
コ―ルジエチルエ―テル、ジエチレングリコ―ルジブチ
ルエ―テル、トリエチレングリコ―ルモノメチルエ―テ
ル、トリエチレングリコ―ルドデシルエ―テル、トリエ
チレングリコ―ルモノn―ブチルエ―テル及びそのアセ
テ―ト、トリエチレングリコ―ルジメチルエ―テルやα
―テノペノ―ル、β―テルペノ―ル、イソプロパノ―ル
、ブタノ―ルなどのアルコ―ル類、フェノ―ル、クロル
フェノ―ル等のフェノ―ル類、ジオキサン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、N―メチルピロリ
ドン、γ―ラクトンより選ばれた1種以上を含むものが
好ましい。
When using the copper alloy composition of the present invention, a solvent may be used if necessary. The amount of solvent is preferably 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper alloy powder and organic binder. The solvent that can be used in the present invention varies depending on the resin, but any known solvent may be used. For example, aromatics such as toluene and xylene, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether. -ter, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol mono-n-hexyl ether, ethylene glycol monoallyl ether, ethylene glycol dodecyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether -ter, ethylene glycol monoisopropyl ether and its acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether
diethylene glycol monoisobutyl ether,
Diethylene glycol dodecyl ether, diethylene glycol monohexyl ether and its acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dodecyl ether -ter, triethylene glycol mono-n-butyl ether and its acetate, triethylene glycol dimethyl ether and α
-Alcohols such as tenopenol, β-terpenol, isopropanol, butanol, phenols such as phenol and chlorphenol, dioxane, dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methyl Preferably, it contains one or more selected from pyrrolidone and γ-lactone.

【0016】本発明の銅合金系組成物は、銅合金粉末1
00重量部に対して、銅酸化物を除去しうる添加剤を0
.01〜50重量部を有するが、粉末表面の銅酸化物を
還元するか又は粉末表面より銅酸化物を溶出除去する機
能を有するものである。即ち、本発明の銅合金系組成物
の導電機構は、粉末どおし接点によって導電性を有する
ものであり、そのために各粒子の表面の特性が重要とな
る。本発明で用いられる銅合金粉末は、粒子表面に銀が
濃縮されているが、粉末表面に存在する銅酸化物を除去
または還元することで銀の接点が充分に確保され、高温
あるいは高湿度中での粒子表面の耐酸化性に関して長期
の安定性を示すものである。これに対して、公知の銅粉
を用いたペ―ストにおいては、酸化物除去剤で表面処理
されていも新たな接点が銅―銅接点であることから、や
はり長期に渡る高温あるいは高湿度中では表面が酸化さ
れ導電性が徐々に劣化する。また、公知の銅粉を用いた
ペ―ストは、本発明の添加剤を加えることでかえって銀
表面に添加剤が吸着して粒子接点抵抗の増加を起こし導
電性を損ねてしまう。添加剤の使用量としては、0.1
重量部未満の場合には充分な導電性が得られず、また、
50重量部を超える場合には、かえって粒子表面に添加
剤が吸着して導電性を損ねる。従って、粒子表面の銅酸
化物の存在量に対して必要量加えるのが好ましく、1〜
50重量部が好ましく、さらには1〜30重量部が好ま
しい。本発明で用いる添加剤としては、脂肪酸、ジカル
ボン酸、オキシカルボン酸及びその金属塩、フェノ―ル
化合物、金属キレ―ト形成剤、高級脂肪族アミン、有機
チタン化合物、ロジン、アントラセン及びその誘導体か
ら選ばれた1種以上が挙げられる。
The copper alloy composition of the present invention comprises copper alloy powder 1
Additives capable of removing copper oxide are added to 0.00 parts by weight.
.. 01 to 50 parts by weight, and has the function of reducing copper oxide on the powder surface or eluting and removing copper oxide from the powder surface. That is, the conductive mechanism of the copper alloy composition of the present invention is that it has conductivity through powder-to-powder contact, and therefore the characteristics of the surface of each particle are important. The copper alloy powder used in the present invention has silver concentrated on the particle surface, but by removing or reducing the copper oxide present on the powder surface, sufficient silver contact is secured, and it can be used at high temperatures or high humidity. This shows long-term stability regarding the oxidation resistance of the particle surface. On the other hand, with pastes using known copper powder, even if the surface is treated with an oxide remover, the new contact is a copper-copper contact, so it is still possible to avoid exposure to high temperatures or high humidity over long periods of time. In this case, the surface is oxidized and the conductivity gradually deteriorates. Furthermore, when the additive of the present invention is added to a known paste using copper powder, the additive is instead adsorbed onto the silver surface, increasing particle contact resistance and impairing conductivity. The amount of additive used is 0.1
If the amount is less than 1 part by weight, sufficient conductivity cannot be obtained, and
If the amount exceeds 50 parts by weight, the additive will instead be adsorbed onto the particle surface, impairing the conductivity. Therefore, it is preferable to add the necessary amount to the amount of copper oxide present on the particle surface, and 1 to
It is preferably 50 parts by weight, and more preferably 1 to 30 parts by weight. The additives used in the present invention include fatty acids, dicarboxylic acids, oxycarboxylic acids and their metal salts, phenol compounds, metal chelate forming agents, higher aliphatic amines, organic titanium compounds, rosin, anthracene and their derivatives. One or more selected types may be mentioned.

【0017】脂肪酸としては、飽和脂肪酸(例えば、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナン
ト酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、トリデシ
ル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、ヘプタデシル酸
、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸
、など)や不飽和脂肪酸(例えば、アクリル酸、オレイ
ン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシ
ジン酸、ソルビン酸、リノ―ル酸、アラキドン酸、ステ
アロ―ル酸など)や及びその金属塩が挙げられる。この
時、密着性の高い塗膜を作製するためには、高級脂肪酸
の金属塩あるいは炭素数13以下の脂肪酸及びその金属
塩が好ましい。ジカルボン酸としては、脂肪族飽和ジカ
ルボン酸(例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸など)や脂肪族不飽和ジカルボン
酸(例えばマレイン酸、フマル酸など)や、芳香族ジカ
ルボン酸(例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸など)や及びその金属塩(例えば銅、鉄、マグネシ
ウム、マンガン、銀など)、無水物が挙げられる。
Examples of fatty acids include saturated fatty acids (for example, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, capric acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, heptadecylic acid, stearic acid) acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, etc.) and unsaturated fatty acids (e.g., acrylic acid, oleic acid, elaidic acid, cetoleic acid, erucic acid, brassicic acid, sorbic acid, linoleic acid, arachidonic acid, stearyl acid, etc.) - acid, etc.) and their metal salts. At this time, in order to produce a coating film with high adhesion, metal salts of higher fatty acids or fatty acids having 13 or less carbon atoms and metal salts thereof are preferable. Dicarboxylic acids include aliphatic saturated dicarboxylic acids (for example, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, etc.) and aliphatic unsaturated dicarboxylic acids (for example, (maleic acid, fumaric acid, etc.), aromatic dicarboxylic acids (e.g., phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc.) and their metal salts (e.g., copper, iron, magnesium, manganese, silver, etc.), and anhydrides. .

【0018】また、オキシカルボン酸としては、脂肪族
オキシカルボン酸(例えば、グリコ―ル酸、乳酸、ヒド
ロアクロル酸、α―オキシ酪酸、グリセリン酸、タルト
ロン酸、酒石酸、クエン酸など)や芳香族オキシカルボ
ン酸(例えば、サリチル酸、p―,m―オキシ安息香酸
、マンデル酸、トロパ酸、オキシフェニル酢酸、レゾル
シン酸、オルセリン酸、ゲンチシン酸、プロトカテチュ
酸、カフェ―酸、ウンベル酸など)やその金属塩が挙げ
られる。金属としては、銅、マンガン、銀、鉄、マグネ
シウム、コバルトなどが挙げられる。好ましくは、マン
デル酸、クエン酸、サリチル酸、レゾルシン酸、p―,
m―オキシ安息香酸である。フェノ―ル化合物としては
、一価、二価、三価フェノ―ル及びその誘導体が挙げら
れる(例えば、フェノ―ル、クレゾ―ル、3、5キシレ
ノ―ル、カルバクロ―ル、チモ―ル、ナフト―ル、カテ
コ―ル、レゾルシン、ヒドロキノン、メチルヒドロキノ
ン、tert―ブチルハイドロキノン、クロルハイドロ
キノン、フェニルハイドロキノン、1、2、4ベンゼン
トリオ―ル、ピロガロ―ル、フロログルシンなど)。金
属キレ―ト形成剤としては、たとえばアミノアルコ―ル
(例えば、エタノ―ルアミン、ジエタノ―ルアミン、ト
リエタノ―ルアミン及びその誘導体)や、エチレンジア
ミン、トリエチレンジアミン、トルエチレンテトラミン
などのアミン化合物や、アセチルアセトン及びその誘導
体(例えばトリフルオルアセチルアセトン、ヘキサフル
オルアセチルアセトン、ベンゾイルアセトンなど)が挙
げられる。
[0018] Examples of the oxycarboxylic acids include aliphatic oxycarboxylic acids (for example, glycolic acid, lactic acid, hydroacrylic acid, α-oxybutyric acid, glyceric acid, tartronic acid, tartaric acid, citric acid, etc.) and aromatic oxycarboxylic acids. Carboxylic acids (e.g. salicylic acid, p-, m-oxybenzoic acid, mandelic acid, tropic acid, oxyphenylacetic acid, resorcinic acid, orceric acid, gentisic acid, protocatechuic acid, caffeic acid, umbelic acid, etc.) and their metal salts can be mentioned. Examples of metals include copper, manganese, silver, iron, magnesium, and cobalt. Preferably mandelic acid, citric acid, salicylic acid, resorcinic acid, p-,
m-oxybenzoic acid. Examples of phenolic compounds include monovalent, divalent, and trivalent phenols and their derivatives (e.g., phenol, cresol, 3,5-xylenol, carvacrol, thymol, naphthol, catechol, resorcinol, hydroquinone, methylhydroquinone, tert-butylhydroquinone, chlorohydroquinone, phenylhydroquinone, 1,2,4benzenetriol, pyrogallol, phloroglucin, etc.). Examples of metal chelate forming agents include amino alcohols (e.g., ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and their derivatives), amine compounds such as ethylenediamine, triethylenediamine, toluethylenetetramine, acetylacetone and Derivatives thereof (for example, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, benzoylacetone, etc.) can be mentioned.

【0019】また、高級脂肪酸アミンとしては、溶剤に
可溶の炭素数8〜22のものが好ましく、例えば、飽和
モノアミンとしては、ステアリルアミン、パルミチルア
ミン、ベヘニルアミン、セチルアミン、オクチルアミン
、デシルアミン、ラウリルアミンなど、不飽和モノアミ
ンとしては、オレイルアミン、ジアミンとしては、ステ
アリルアミンプロピレンジアミン、オレイルプロピレン
ジアミンなどが挙げられる。有機チタン化合物としては
、R1―Ti―(R2)3(式中R1は炭素数1〜4、
好ましくは炭素数1〜3のアルコキシ基、R2は炭素数
1〜20、好ましくは炭素数2〜18のカルボン酸エス
テル)があげられ、例えば、イソプロピルトリイソステ
アロイルチタネ―ト、イソプロピルトリオクタノイルチ
タネ―トなどが挙げられる。アントラセン及びその誘導
体としては、例えば、アントラセンカルボン酸が挙げら
れる。ロジンとしては、例えば部分水添ロジン、完全水
添ロジン、エステル化ロジン、マレイン化ロジン、不均
化ロジン、重合ロジンなどの変性ロジンなどが挙げられ
る。
The higher fatty acid amine is preferably one having 8 to 22 carbon atoms and is soluble in a solvent. For example, the saturated monoamine includes stearylamine, palmitylamine, behenylamine, cetylamine, octylamine, decylamine, Examples of unsaturated monoamines such as laurylamine include oleylamine, and examples of diamines include stearylamine propylene diamine and oleylpropylene diamine. As the organic titanium compound, R1-Ti-(R2)3 (wherein R1 has 1 to 4 carbon atoms,
Preferably, an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, R2 is a carboxylic acid ester having 1 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 18 carbon atoms), such as isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl trioctano Examples include il titanate. Examples of anthracene and its derivatives include anthracenecarboxylic acid. Examples of the rosin include modified rosins such as partially hydrogenated rosin, fully hydrogenated rosin, esterified rosin, maleated rosin, disproportionated rosin, and polymerized rosin.

【0020】添加剤の量としては、銅合金粉末100重
量部に対して、前記添加剤より選ばれた1種以上を0.
1〜50重量部添加するが、0.1重量部未満の場合に
は、充分な導電性が得られず、また、50重量部を超え
る場合には、塗膜からのにじみを生じ、導電性がかえっ
て悪化する。好ましくは、1〜50であり、さらに好ま
しくは、1〜30重量部である。本発明の銅合金系組成
物は、導電性に優れ、耐マイグレ―ション性に優れた導
電性ペ―ストを提供するものであり、用いる際には、公
知の粘度調節剤、希釈剤、沈降防止剤、レベリング剤、
消泡剤、シランカップリング剤、チタンカップリング剤
、アルミカップリング剤等の添加剤を加えても良いこと
は言うまでもない。本発明の銅合金系組成物を使用する
場合には、スクリ―ン印刷、スプレ―法、刷毛、バ―コ
―ト法、ドクタ―ブレ―ド法、フレクシャ―印刷、マイ
クロデイスペンサ―法、グラビア印刷法、オフセット印
刷法、ベンライテイング法などの公知の印刷、塗布法を
用いることができる。このなかでも、スクリ―ン印刷法
が好ましい。スクリ―ン印刷法を用いる場合には、パタ
―ンにもよるが、例えば、50から400メッシュが好
ましく、さらに、150から400メッシュが好ましい
。ファインラインを印刷するのには中でも200メッシ
ュ以上が好ましい。
The amount of the additive is 0.00% of one or more selected from the above additives per 100 parts by weight of the copper alloy powder.
1 to 50 parts by weight is added, but if it is less than 0.1 part by weight, sufficient conductivity will not be obtained, and if it exceeds 50 parts by weight, bleeding from the coating will occur, resulting in poor conductivity. On the contrary, it gets worse. Preferably it is 1 to 50 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight. The copper alloy composition of the present invention provides a conductive paste with excellent conductivity and migration resistance. inhibitor, leveling agent,
It goes without saying that additives such as antifoaming agents, silane coupling agents, titanium coupling agents, aluminum coupling agents, etc. may be added. When using the copper alloy composition of the present invention, screen printing, spray method, brush, bar coating method, doctor blade method, flexure printing, microdispenser method, Known printing and coating methods such as a gravure printing method, an offset printing method, and a Ben-lighting method can be used. Among these, the screen printing method is preferred. When using a screen printing method, it is preferably 50 to 400 mesh, and more preferably 150 to 400 mesh, although it depends on the pattern. Among them, 200 mesh or more is preferable for printing fine lines.

【0021】本発明の銅組成物を印刷する基板は、公知
の基板をもちいることができるが、例えば、ガラスエポ
キシ樹脂基板、紙フェノ―ル樹脂基板、紙エポキシ樹脂
基板、ポリイミド基板、ポリエステル樹脂基板、BTレ
ジン樹脂基板、ポリサルフォン樹脂基板、ポリエ―テル
サルフォン樹脂基板、ポリエ―テルイミド樹脂基板、樹
脂、ポリブタジエン樹脂基板、ガラスポリイミド樹脂基
板の硬質板やフレキシブル基板、または、アルミナ基板
、窒化アルミ基板などのセラミックス基板、アルミ、ス
テンレスなどのメタル基板への塗布ができる。例えば、
ポリイミドやポリエステルなどのフレキシブル基板へ用
いる場合には、ビニル系樹脂(例えば、塩化ビニル―酢
酸ビニル共重合体など)、飽和ポリエステル、ポリウレ
タン系樹脂主成分とするバインダ―を用いる銅組成物が
好ましい。本発明の銅合金組成物を電磁波シ―ルドペ―
ストとして用いる場合には、印刷回路基板の表面に印刷
し、シ―ルドするのが好ましい。また、ワ―ドプロセッ
サ―、コンピュ―タ―用機器ハウジング、カ―ドリ―ダ
―、計測器、自動車電話、キ―ボ―ド、医療器、楽器、
CRTなどのプラスチック匡体にコ―テイングして用い
ることもできる。また、本発明の銅合金組成物を導電性
接着剤として使用する場合、例えば、水晶振動子の電極
からのリ―ド線の取り出し用接着剤、成形カ―ボンと金
属との接着剤、液晶(LCD)内部のガラス間の導電性
接着剤、IC、LSI、LED、SAWフィルタ―など
の素子をリ―ドフレ―ムや基板への接着剤(特にICダ
イボンディング用)、光導電素子のCdS部やポテンシ
ョメ―タ―のリ―ド線接着剤、回路捕集などや直接はん
だ付けができない材料の接着剤、高温がかけられない素
材等への応用ができる。
[0021] The substrate on which the copper composition of the present invention is printed can be any known substrate, such as a glass epoxy resin substrate, a paper phenol resin substrate, a paper epoxy resin substrate, a polyimide substrate, or a polyester resin substrate. Substrates, BT resin substrates, polysulfone resin substrates, polyether sulfone resin substrates, polyetherimide resin substrates, hard and flexible substrates such as resin, polybutadiene resin substrates, glass polyimide resin substrates, alumina substrates, aluminum nitride substrates, etc. Can be applied to ceramic substrates, metal substrates such as aluminum and stainless steel. for example,
When used for flexible substrates made of polyimide, polyester, or the like, a copper composition using a binder containing a vinyl resin (eg, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, etc.), a saturated polyester, or a polyurethane resin as a main component is preferable. The copper alloy composition of the present invention can be used as an electromagnetic shield plate.
When used as a shield, it is preferable to print on the surface of a printed circuit board and shield it. We also sell word processors, computer equipment housings, card readers, measuring instruments, car phones, keyboards, medical equipment, musical instruments,
It can also be used by coating a plastic casing such as a CRT. In addition, when the copper alloy composition of the present invention is used as a conductive adhesive, for example, an adhesive for taking out lead wires from the electrodes of a crystal resonator, an adhesive between molded carbon and metal, an adhesive for liquid crystal Conductive adhesive between glass inside (LCD), adhesive to lead frame and substrate for elements such as IC, LSI, LED, SAW filter (especially for IC die bonding), CdS for photoconductive element It can be applied to adhesives for parts and potentiometer lead wires, circuit collectors, adhesives for materials that cannot be directly soldered, materials that cannot be exposed to high temperatures, etc.

【0022】また、ス―ルホ―ルに用いる場合には、プ
リント配線板へパンチングなどで空けられたス―ルホ―
ルに前記記載の銅組成物を穴の内面だけ、あるいは穴の
内部に埋め込みして用いられる。この場合、例えばスク
リ―ン印刷、フレクシャ―印刷を用いて行うのが好まし
く、この時、組成物をホ―ルに充分埋め込めるように、
ホ―ルの裏側から多少減圧しておくのがよい。本発明の
銅合金系組成物からなる塗膜の導電性は、4端子法を用
いて測定した。また、マイグレ―ション試験は、1mm
間隔に塗布した2本の膜間に10Vの直流電圧を印加し
、さらに0.2mlの水滴を膜間に滴下してもれ電流を
測定し、電流値が100μAを超える時間をマイグレ―
ション時間とした。耐久性試験としては、60℃、90
%湿度放置後の導電性の変化(耐湿度試験)、および、
はんだ耐熱試験(260℃、10秒侵中後の導電性変化
)した。膜の密着性は基盤目試験を用いた。電磁波シ―
ルド特性は、導波管を用いて、スペクトロアナライザ―
、トラッキングジェネレ―タ―を用いて、100kHz
からりGHzまでのシ―ルド効果を測定した。スル―ホ
―ル用の導電性特性は、1.5、1、0.5、0.3m
mφのホ―ルを30個並べて空けた紙フェノ―ル樹脂基
板ヘスクリ―ン印刷(320メッシュ)を用いて減圧し
ながらホ―ルが完全に満たされるように印刷した。 印刷後、それぞれの組成物にあった方法で硬化した。ま
た、本発明の組成物よりなる硬化物を必要であれば、レ
―ザ―やその他の方法でトリミングしたりすることも可
能である。以下、実施例および比較例によって、本発明
を具体的に説明する。
[0022] Also, when used for through holes, through holes made by punching etc. on a printed wiring board can be used.
The copper composition described above is used in the hole by filling only the inner surface of the hole or filling the inside of the hole. In this case, it is preferable to use, for example, screen printing or flexure printing.
It is best to reduce the pressure somewhat from the back of the hole. The conductivity of the coating film made of the copper alloy composition of the present invention was measured using a four-terminal method. In addition, the migration test
A DC voltage of 10V was applied between the two films applied at an interval, and a 0.2ml water drop was further dropped between the films to measure the leakage current.The time during which the current value exceeded 100μA was determined as
tion time. Durability test: 60℃, 90℃
% humidity Change in conductivity after storage (humidity resistance test), and
A soldering heat resistance test (change in conductivity after immersion at 260° C. for 10 seconds) was conducted. The adhesion of the film was determined using a substrate test. electromagnetic wave sea
The waveguide characteristics can be measured using a spectrum analyzer using a waveguide.
, using a tracking generator, 100kHz
The shielding effect up to GHz was measured. Conductive properties for through holes are 1.5, 1, 0.5, 0.3m
Using screen printing (320 mesh) on a paper phenol resin substrate in which 30 mφ holes were lined up and opened, printing was carried out under reduced pressure so that the holes were completely filled. After printing, each composition was cured using a method appropriate to its composition. Further, if necessary, the cured product made of the composition of the present invention can be trimmed by laser or other methods. Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples and Comparative Examples.

【0023】[0023]

【実施例】粉末作製実施例 実施例1 銅粒子315.595gと銀粒子3.237gを黒鉛る
つぼ中で高周波誘導加熱を用いて融解した。雰囲気は9
9.9%以上の窒素中で行った。1720℃まで加熱後
、圧力15k/Gの窒素ガス99.9%以上をるつぼ先
端より落下する融液に対してガス/液質量速度比1でア
トマイズした。衝突位置でのガスの線速度は80m/秒
であった。得られた粉末は平均粒径20μmであった。 XPSで測定したところ、表面の銀濃度は表面より0.
05、0.04、0.03、0.02、0.01であり
、表面の銀濃度は0.045、また、平均の銀濃度はx
=0.006、y=0.994であり、表面の銀濃度は
平均の銀濃度の7.5倍であった。 実施例2 銅粒子314.325gと銀粒子5.395gを実施例
1と同様にして高周波誘導加熱のもとで融解した。16
80℃まで融解後、ガス圧20k/Gの窒素ガス(99
.7%以上)をノズル先端より噴出する融液に対してガ
ス/液質量速度比1.5でアトマイズした。この時の衝
突位置でのガスの線速度は120m/秒であった。得ら
れた粉末は平均粒径19μmであった。表面の銀濃度は
表面より0.07、0.06、0.05、0.04、0
.03であり、表面の銀濃度は0.065、また、平均
の銀濃度はx=0.01、y=0.99であり、表面の
銀濃度は平均の銀濃度の6.5倍であった。
[Examples] Powder Preparation Examples Example 1 315.595 g of copper particles and 3.237 g of silver particles were melted in a graphite crucible using high frequency induction heating. The atmosphere is 9
It was carried out in a nitrogen atmosphere of 9.9% or more. After heating to 1720° C., the melt falling from the tip of the crucible was atomized with 99.9% or more nitrogen gas at a pressure of 15 k/G at a gas/liquid mass velocity ratio of 1. The linear velocity of the gas at the impact location was 80 m/sec. The obtained powder had an average particle size of 20 μm. When measured by XPS, the silver concentration on the surface was 0.0% lower than that on the surface.
05, 0.04, 0.03, 0.02, 0.01, the surface silver concentration is 0.045, and the average silver concentration is x
=0.006, y=0.994, and the silver concentration on the surface was 7.5 times the average silver concentration. Example 2 314.325 g of copper particles and 5.395 g of silver particles were melted under high frequency induction heating in the same manner as in Example 1. 16
After melting to 80°C, nitrogen gas (99°C) with a gas pressure of 20k/G
.. 7% or more) was atomized to the melt ejected from the nozzle tip at a gas/liquid mass velocity ratio of 1.5. The linear velocity of the gas at the collision position at this time was 120 m/sec. The obtained powder had an average particle size of 19 μm. The silver concentration on the surface is 0.07, 0.06, 0.05, 0.04, 0
.. 03, the surface silver concentration is 0.065, and the average silver concentration is x = 0.01, y = 0.99, and the surface silver concentration is 6.5 times the average silver concentration. Ta.

【0024】実施例3 銅粒子285.75gと銀粒子53.95gを黒鉛るつ
ぼ中で同様にして融解した。1570℃まで融解後、る
つぼ先端より融液を噴出し、同時に圧力20k/Gの窒
素ガス(99.9%以上)をガス/液質量速度比2でア
トマイズした。この時の衝突位置でのガスの線速度は1
00m/秒であり、得られた粉末の平均粒径18μmで
あった。また、表面の銀濃度は表面より0.72、0.
65、0.55、0.5、0.48であり、表面の銀濃
度は0.685、また、平均の銀濃度はx=0.1、y
=0.9であり、表面の銀濃度は平均の銀濃度の6.8
5倍であった。 実施例4 銅粒子254gと銀粒子107.9gを同様にして高周
波誘導加熱で融解した。1800℃まで加熱した後、る
つぼ先端より不活性雰囲気中(窒素)へ噴出した融液に
向かって窒素ガス(圧力15k/G、99.9%以上)
をガス/液質量速度比2でアトマイズした。この時の衝
突位置でのガスの線速度は80m/秒であった。得られ
た粉末は平均粒径20μmであった。表面の銀濃度は表
面より0.8、0.75、0.7、0.65、0.6で
あり、表面の銀濃度は0.775であり、また、平均の
銀濃度はx=0.2、y=0.8であり、表面の銀濃度
は平均の銀濃度の3.85倍であった。
Example 3 285.75 g of copper particles and 53.95 g of silver particles were similarly melted in a graphite crucible. After melting to 1570° C., the melt was ejected from the tip of the crucible, and at the same time nitrogen gas (99.9% or more) at a pressure of 20 k/G was atomized at a gas/liquid mass velocity ratio of 2. At this time, the linear velocity of the gas at the collision position is 1
00 m/sec, and the average particle size of the obtained powder was 18 μm. Also, the silver concentration on the surface is 0.72, 0.
65, 0.55, 0.5, 0.48, the surface silver concentration is 0.685, and the average silver concentration is x=0.1, y
= 0.9, and the surface silver concentration is 6.8 of the average silver concentration.
It was 5 times more. Example 4 254 g of copper particles and 107.9 g of silver particles were similarly melted by high frequency induction heating. After heating to 1800℃, nitrogen gas (pressure 15k/G, 99.9% or more) is directed toward the melt that is spouted from the tip of the crucible into an inert atmosphere (nitrogen).
was atomized at a gas/liquid mass velocity ratio of 2. The linear velocity of the gas at the collision position at this time was 80 m/sec. The obtained powder had an average particle size of 20 μm. The silver concentration on the surface is 0.8, 0.75, 0.7, 0.65, 0.6 from the surface, the silver concentration on the surface is 0.775, and the average silver concentration is x = 0 .2, y=0.8, and the surface silver concentration was 3.85 times the average silver concentration.

【0025】実施例5 銅粒子206.375gと銀粒子188.825gを同
様にして高周波誘導加熱で1500℃まで融解した。さ
らに融液をるつぼ先端より不活性雰囲気中(窒素)へ噴
出した。噴出と同時に、ガス圧15k/Gの窒素ガス(
99.9%以上)を融液に対してガス/液質量速度比2
でアトマイズした。この時のガス線速度は90m/秒で
あった。得られた粉末の平均粒径は、18μmであった
。表面の銀濃度は、0.88、0.8、0.75、0.
7、0.65であり、表面の銀濃度は0.84であった
。また、平均の銀濃度はx=0.35、y=0.65で
あり、平均の銀濃度の2.4倍であった。 実施例6 銅粒子127gと銀粒子323.7gを同様にして16
00℃まで融解した。るつぼ先端より融液を不活性ガス
雰囲気中(窒素)へ噴出した。噴出と同時に、ガス圧3
0k/Gの窒素ガス(99.9%以上)を融液に対して
ガス/液質量度比0.7でアトマイズした。この時のガ
スの線速度は、衝突位置で150m/秒であり、得られ
た粉末は、平均粒径16μmであった。得られた粉末の
平均銀濃度はx=0.6、y=0.4であった。
Example 5 206.375 g of copper particles and 188.825 g of silver particles were similarly melted to 1500° C. by high frequency induction heating. Furthermore, the melt was spouted from the tip of the crucible into an inert atmosphere (nitrogen). Simultaneously with the ejection, nitrogen gas (with a gas pressure of 15k/G)
99.9% or more) to the melt at a gas/liquid mass velocity ratio of 2
It was atomized. The gas linear velocity at this time was 90 m/sec. The average particle size of the obtained powder was 18 μm. The silver concentrations on the surface are 0.88, 0.8, 0.75, 0.
7, 0.65, and the surface silver concentration was 0.84. Further, the average silver concentration was x=0.35, y=0.65, which was 2.4 times the average silver concentration. Example 6 127 g of copper particles and 323.7 g of silver particles were prepared in the same manner.
It melted to 00°C. The melt was ejected from the tip of the crucible into an inert gas atmosphere (nitrogen). At the same time as the ejection, the gas pressure is 3
Nitrogen gas (99.9% or more) of 0 k/G was atomized to the melt at a gas/liquid mass ratio of 0.7. The linear velocity of the gas at this time was 150 m/sec at the collision position, and the obtained powder had an average particle size of 16 μm. The average silver concentration of the obtained powder was x=0.6, y=0.4.

【0026】実施例7 銅粒子63.5gと銀粒子431.6gを同様にして高
周波誘導加熱で1700℃まで融解した。融液をるつぼ
先端より不活性雰囲気中へ噴出した。噴出と同時にガス
圧40k/Gの窒素ガス(99.9%以上)を融液にた
いしてガス/液質量速度比2.1でアトマイズした。こ
の時のガス線速度は160m/秒であった。得られた粉
末の平均粒径は14μmであった。また、平均の銀濃度
はx=0.8、y=0.2であった。 実施例8 銅粒子9.525gと銀粒子523.315gを同様に
して、高周波誘導加熱で1800℃まで加熱融解した。 融液をるつぼ先端より噴出し、同時にガス圧50k/G
の窒素ガス(99.9%以上)を融液に対してガス/液
質量速度比2.3でアトマイズした。この時のガスの線
速度は衝突位置で180m/秒であった。得られた粉末
は、平均粒径13μmであった。平均の銀濃度はx=0
.97、y=0.03であった。ペ―スト実施例
Example 7 63.5 g of copper particles and 431.6 g of silver particles were similarly melted to 1700° C. by high-frequency induction heating. The melt was ejected from the tip of the crucible into an inert atmosphere. Simultaneously with the ejection, the melt was atomized with nitrogen gas (99.9% or more) at a gas pressure of 40 k/G at a gas/liquid mass velocity ratio of 2.1. The gas linear velocity at this time was 160 m/sec. The average particle size of the obtained powder was 14 μm. Moreover, the average silver concentration was x=0.8 and y=0.2. Example 8 9.525 g of copper particles and 523.315 g of silver particles were similarly heated and melted to 1800° C. by high-frequency induction heating. The melt is ejected from the tip of the crucible, and at the same time the gas pressure is 50k/G.
of nitrogen gas (99.9% or more) was atomized to the melt at a gas/liquid mass velocity ratio of 2.3. The linear velocity of the gas at this time was 180 m/sec at the collision position. The obtained powder had an average particle size of 13 μm. The average silver concentration is x=0
.. 97, y=0.03. Paste example

【00
27】実施例9   実施例1で得られたx=0.006、y=0.99
4の粉末の中10μm以下の粒子(平均粒径5μm) 
                         
                10g  アルキル
化フェノ―ル樹脂                 
                         
3g  リノ―ル酸銅塩              
                         
         0.1g  ピロカテコ―ル   
                         
                    0.5g 
 ブチルカルビト―ル               
                         
        3gを充分に混合し、ガラスエポキシ
樹脂基板状ヘスクリ―ン印刷(250メッシュ)を用い
て塗布した。塗膜を160℃、20分間加熱硬化した。 得られた塗膜の体積抵抗率は、1×10−4Ω・cmで
あり、また、マイグレ―ション時間は295秒と銅程度
であった。さらに、耐温度試験をしたところ、(60℃
、90%)1000時間後の変化率は20%であった。 また、ごばん目試験の結果100/100であった。
00
27] Example 9 x=0.006, y=0.99 obtained in Example 1
Particles of 10 μm or less in powder No. 4 (average particle size 5 μm)

10g alkylated phenolic resin

3g linoleic acid copper salt

0.1g pyrocatechol

0.5g
Butyl carbitol

3 g were thoroughly mixed and coated on a glass epoxy resin substrate using hes screen printing (250 mesh). The coating film was cured by heating at 160° C. for 20 minutes. The volume resistivity of the resulting coating film was 1×10 −4 Ω·cm, and the migration time was 295 seconds, which was about the same as that of copper. Furthermore, when we conducted a temperature resistance test, (60℃
, 90%) The rate of change after 1000 hours was 20%. Also, the result of the second test was 100/100.

【0028】実施例10   実施例2で得られたx=0.01、y=0.99の
粉末の中15μm以下の粒子            
                         
                         
  10g  脂肪酸変性エポキシ樹脂       
                         
            2g  メチル化メラミン 
                         
                        1
g  マレイン酸                 
                         
          0.5g  ラウリン酸    
                         
                     0.05
g  ピロカテコ―ル               
                         
        0.2g  ブチルカルビト―ルアセ
テ―ト                      
                3gを充分に混合し
、ガラエポ基板上ヘスクリ―ン印刷した。塗膜を170
℃、30分間空気中で加熱硬化した。 得られた塗膜の体積抵抗率は、1×10−4Ω・cm、
マイグレ―ション試験の結果、295秒と銅と同程度で
あった。また、耐湿度試験の結果、1000時間後の変
化率は、20%以内であった。ごばん目試験の結果10
0/100であった。
Example 10 Particles of 15 μm or less in the powder with x=0.01 and y=0.99 obtained in Example 2


10g fatty acid modified epoxy resin

2g methylated melamine

1
g maleic acid

0.5g lauric acid

0.05
g pyrocatechol

0.2g Butyl carbitol acetate
3 g were thoroughly mixed and screen printed on a glass epoxy substrate. Paint film 170
C. for 30 minutes in air. The volume resistivity of the obtained coating film was 1 x 10-4 Ωcm,
The migration test result was 295 seconds, which was about the same as copper. Further, as a result of the humidity resistance test, the rate of change after 1000 hours was within 20%. Gobanmoku test result 10
It was 0/100.

【0029】実施例11   実施例3で得られたx=0.1、y=0.9の粉末
の中15μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  レゾ―ル型フェノ―ル樹脂      
                         
           4g  マンデル酸     
                         
                      0.7
g  トリエタノ―ルアミン            
                         
     0.3g  ブチルセロソルブ      
                         
                   4gを充分に
混合し、ガラスエポキシ樹脂基板上ヘスクリ―ン印刷を
用いて塗布した。塗膜を150℃、30分間空気中で加
熱硬化した。得られた塗膜の体積抵抗率は、8×10−
5Ω・cmであり、マイグレ―ション試験の結果、29
0秒、また耐湿度試験の結果、1000時間放置後でも
変化率10%であった。ごばん目試験の結果100/1
00であった。
Example 11 Among the powders with x=0.1 and y=0.9 obtained in Example 3, the powder size is 15 μm or less


10g resol type phenolic resin

4g mandelic acid

0.7
g Triethanolamine

0.3g Butyl cellosolve

4 g were thoroughly mixed and coated on a glass epoxy resin substrate using screen printing. The coating film was heat cured in air at 150°C for 30 minutes. The volume resistivity of the obtained coating film was 8×10−
5Ω・cm, and as a result of the migration test, 29
As a result of the humidity resistance test, the rate of change was 10% even after being left for 1000 hours. Gobanmoku test result 100/1
It was 00.

【0030】実施例12   実施例3で得られたx=0.1、y=0.9の粉末
の中15μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  熱可塑性アクリル樹脂        
                         
             5g  イソプロピルトリ
イソステアロイルチタネ―ト            
        0.1g  MEK        
                         
                         
  4gを良く混合し、紙フェノ―ル樹脂基板上ヘスプ
レ―塗布した。塗膜後、40℃、空気中で2日乾燥した
。乾燥後の体積抵抗率は、9×10−5Ω・cmであり
、マイグレ―ション時間は、290秒と殆ど銅と同程度
であった。 さらに、耐湿度試験の結果、1000時間放置後の変化
率5%以内であった。また、ごばん目試験の結果100
/100であった。 実施例13   実施例3で得られたx=0.1、y=0.9の粉末
の中15μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  付加型ポリイミド          
                         
           3.1g  オレイルアミン 
                         
                      0.6
g  ピロカテコ―ル               
                         
        0.3g  n―メチルピロリドン 
                         
                    2g  ト
リエチレングリコ―ルブチルエ―テル        
                      2gを
充分に混合し、アルミ基板上ヘ塗布した。塗膜を200
℃、15分間空気中で加熱硬化した。硬化後の体積抵抗
率は、1.5×10−4Ω・cm、マイグレ―ション時
間は、290秒、耐湿度試験の結果、変化率は6%以内
であった。また、ごばん目試験の結果100/100で
あった。
Example 12 Among the powders with x=0.1 and y=0.9 obtained in Example 3, the powder size is 15 μm or less.


10g thermoplastic acrylic resin

5g Isopropyl triisostearoyl titanate
0.1g MEK


4 g were mixed well and applied to a paper phenolic resin substrate by spray coating. After coating, it was dried in air at 40°C for 2 days. The volume resistivity after drying was 9×10 −5 Ω·cm, and the migration time was 290 seconds, which was almost the same as that of copper. Further, as a result of a humidity resistance test, the rate of change after standing for 1000 hours was within 5%. Also, the result of the first exam is 100.
/100. Example 13 Among the powders with x = 0.1 and y = 0.9 obtained in Example 3, the powder is 15 μm or less


10g addition type polyimide

3.1g oleylamine

0.6
g pyrocatechol

0.3g n-methylpyrrolidone

2g triethylene glycol butyl ether
2 g were thoroughly mixed and applied onto an aluminum substrate. 200 coats of paint
C. for 15 minutes in air. The volume resistivity after curing was 1.5×10 −4 Ω·cm, the migration time was 290 seconds, and the rate of change was within 6% as a result of a humidity resistance test. Also, the result of the second test was 100/100.

【0031】また、10cm×10cm×50μmの塗
膜を同様にしてガラスエポキシ樹脂基板上へ作製した。 60℃、90%湿度1000時間放置後、100kHz
から1GHzまでのシ―ルド特性を測定したところ、3
00MHzで50dBの高いシ―ルド効果が得られた。 実施例14   実施例4で得られたx=0.2、y=0.9の粉末
の中15μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  ノボラック型フェノ―ル樹脂     
                         
          2g  脂肪酸変性エポキシ樹脂
                         
                   2g  マン
デル酸                      
                         
   0.01g  ピロカテコール        
                         
             0.05g  チタンカッ
プリング剤                    
                    0.01g
  酢酸エチル                  
                         
             2g  エチルセロソルブ
                         
                         
3gを充分混合し、ガラスエポキシ樹脂基板上へ塗布し
た。 塗膜を155℃、20分間空中で加熱硬化した。硬化後
の塗膜の体積抵抗率は6×10−5Ω・cm、マイグレ
―ション時間は285秒であった。さらに耐湿度試験の
結果、1000時間放置後の変化率は1%以内であった
。 また、ごばん目試験の結果100/100であった。
A coating film of 10 cm x 10 cm x 50 μm was similarly prepared on a glass epoxy resin substrate. 100kHz after being left at 60℃ and 90% humidity for 1000 hours
When we measured the shielding characteristics from to 1GHz, we found that 3
A high shielding effect of 50 dB was obtained at 00 MHz. Example 14 Among the powders with x = 0.2 and y = 0.9 obtained in Example 4, the powder is 15 μm or less


10g novolac type phenolic resin

2g fatty acid modified epoxy resin
2g mandelic acid

0.01g pyrocatechol

0.05g titanium coupling agent
0.01g
Ethyl acetate

2g ethyl cellosolve

3 g were thoroughly mixed and applied onto a glass epoxy resin substrate. The coating film was heat cured in air at 155°C for 20 minutes. The volume resistivity of the cured coating film was 6×10 −5 Ω·cm, and the migration time was 285 seconds. Further, as a result of a humidity resistance test, the rate of change after standing for 1000 hours was within 1%. Also, the result of the second test was 100/100.

【0032】実施例15   実施例4で得られたx=0.2、y=0.8の粉末
の中15μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  エポキシ変性ポリイミド樹脂     
                         
          2g  ピロガロ―ル     
                         
                        1
g  ジエタノ―ルアミン             
                         
          1g  シランカップリング剤 
                         
              0.01g  ブチルカ
ルビト―ル                    
                         
   2gを充分に混合し、ガラスエポキシ樹脂基板上
へスクリ―ン印刷した。塗膜を230℃、15分間空気
中で加熱硬化した。得られた塗膜の体積抵抗率は、8×
10−5Ω・cmであり、マイグレ―ション時間は、2
85秒、耐湿度試験の結果、1000時間後の変化率は
1%以内であった。また、ごばん目試験の結果100/
100であった。また、同様にして作製した組成物を紙
フェノ―ル樹脂基板に空けた1、0.5、0.3mmφ
のホ―ルにスクリ―ン印刷(250メッシュ)を用いて
700mHgの減圧下でスル―ホ―ルに組成物を刷入し
た。さらに、230℃、10分間加熱硬化した。硬化物
は完全にホ―ルを埋め、導電性は高く、基板の表裏で0
.01Ωの抵抗値を示した。
Example 15 Among the powders with x=0.2 and y=0.8 obtained in Example 4, the powder size is 15 μm or less.


10g epoxy modified polyimide resin

2g pyrogallol

1
g Diethanolamine

1g silane coupling agent

0.01g Butyl carbitol

2 g were thoroughly mixed and screen printed onto a glass epoxy resin substrate. The coating film was heat cured in air at 230°C for 15 minutes. The volume resistivity of the obtained coating film was 8×
10-5Ω・cm, and the migration time is 2
As a result of the humidity resistance test for 85 seconds, the rate of change after 1000 hours was within 1%. Also, the result of the first exam is 100/
It was 100. In addition, the composition prepared in the same manner was prepared using paper phenolic resin substrates with holes of 1, 0.5, and 0.3 mmφ.
The composition was printed into the through-holes using screen printing (250 mesh) under a vacuum of 700 mHg. Furthermore, it was heat-cured at 230° C. for 10 minutes. The cured product completely fills the holes, has high conductivity, and has zero conductivity on the front and back of the board.
.. The resistance value was 0.01Ω.

【0033】実施例16   実施例4で得られたx=0.2、y=0.8の粉末
の中20μm以下の粉末              
                         
                         
  10g  ビスA型エポキシ樹脂        
                         
             6g  レゾ―ル型フェノ
―ル樹脂                     
                     1g  
メチルハイドロキノン               
                         
      3g  ブチルセロソルブアセテ―ト  
                         
             4gを充分に混合し、既に
カ―ボン抵抗体が印刷されているガラスエポキシ樹脂基
板上へ抵抗体をつなぐ回路としてスクリ―ン印刷した。 塗膜を160℃、15分間加熱硬化した。硬化膜の体積
抵抗率は、9×10−5Ω・cmであり、カ―ボン抵抗
体には変化は見られなかった。同じ組成物を同様にして
マイグレーション測定用に塗布し、硬化膜を作製した。 その結果、マイグレ―ション時間は、285秒、耐湿度
試験の結果、1000時間放置の変化率は2%以内であ
った。また、ごばん目試験の結果100/100であっ
た。
Example 16 Among the powders with x=0.2 and y=0.8 obtained in Example 4, powders with a diameter of 20 μm or less


10g Bis A type epoxy resin

6g resol type phenolic resin
1g
Methylhydroquinone

3g Butyl cellosolve acetate

4 g was sufficiently mixed and screen printed as a circuit to connect the resistor onto a glass epoxy resin substrate on which a carbon resistor had already been printed. The coating film was cured by heating at 160°C for 15 minutes. The volume resistivity of the cured film was 9×10 −5 Ω·cm, and no change was observed in the carbon resistor. The same composition was similarly applied for migration measurement to produce a cured film. As a result, the migration time was 285 seconds, and the humidity resistance test showed that the rate of change after being left for 1000 hours was within 2%. Also, the result of the second test was 100/100.

【0034】実施例17   実施例5で得られたx=0.35、y=0.65の
粉末の中10μm以下の粉末            
                         
                         
  10g  OH末端変性エポキシ樹脂      
                         
           1g  ブチル化メラミン樹脂
                         
                     2g  
ハイドロキノン                  
                         
     0.2g  エタノ―ルアミン      
                         
               0.1g  ブチルカ
ルビト―ルアセテ―ト               
                       3g
を充分混合し、アルミナ基板上へスクリ―ン印刷した。 塗膜を180±、30分間加熱硬化した。得られた硬化
膜の体積抵抗率は、2×10−4Ω・cm、マイグレ―
ション時間は、260秒であった。さらに、耐湿度試験
後の変化率は1%以内であった。また、ごばん目試験の
結果100/100であった。 実施例18   実施例5で得られたx=0.35、y=0.65の
粉末の中10μm以下の粉末            
                         
                         
  10g  液状エポキシ樹脂          
                         
               3g  トリエタノ―
ルアミン                     
                     0.1g
  メチルハイドロキノン             
                         
    0.1gを充分に混合し、ガラスポリイミド樹
脂基板上へ塗布した。塗膜を140℃、30分間加熱硬
化した。硬化膜の体積抵抗率は、2×10−4Ω・cm
、マイグレ―ション時間は、260秒であった。さらに
、耐湿度試験の結果、1000時間後の変化率は、4%
以内であった。また、ごばん目試験の結果100/10
0であった。
Example 17 Among the powders with x=0.35 and y=0.65 obtained in Example 5, the powder size is 10 μm or less.


10g OH-terminated modified epoxy resin

1g butylated melamine resin
2g
hydroquinone

0.2g ethanolamine

0.1g Butyl carbitol acetate
3g
were thoroughly mixed and screen printed onto an alumina substrate. The coating film was cured by heating at 180± for 30 minutes. The volume resistivity of the obtained cured film was 2 x 10-4 Ωcm,
The reaction time was 260 seconds. Furthermore, the rate of change after the humidity resistance test was within 1%. Also, the result of the second test was 100/100. Example 18 Powder of 10 μm or less among the powders with x = 0.35 and y = 0.65 obtained in Example 5


10g liquid epoxy resin

3g Trietano
Ruamine
0.1g
Methylhydroquinone

0.1 g was thoroughly mixed and applied onto a glass polyimide resin substrate. The coating film was cured by heating at 140° C. for 30 minutes. The volume resistivity of the cured film is 2×10-4Ω・cm
, the migration time was 260 seconds. Furthermore, as a result of the humidity resistance test, the rate of change after 1000 hours was 4%.
It was within Also, the result of the first exam is 100/10.
It was 0.

【0035】実施例19   実施例5で得られたx=0.35、y=0.65の
粉末の中10μm以下の粉末            
                         
                         
  10g  エポキシアクリレ―ト        
                         
             2g  バルミチン酸銅塩
                         
                     0.5g
  フェノ―ル                  
                         
             1g  ブチルセルソルブ
                         
                         
2gをニ―ダで充分に混合し、ポリイミド樹脂基板上へ
塗布した。塗膜を電子線で硬化した。この時、同時に2
00℃、1分間加熱した。得られた塗膜の体積抵抗率は
、1×10−4Ω・cm、マイグレ―ション時間は、2
60秒、耐湿度試験の結果、1000時間放置後の変化
率は、5%以内であった。また、ごばん目試験の結果1
00/100であった。 実施例20   実施例6で得られたx=0.6、y=0.4の粉末
の中、10μm以下の粉末             
                         
                         
   10g  エポキシアクリレ―ト       
                         
              2g  光重合開始剤 
                         
                        0
.1g  ピロカテコ―ル             
                         
          0.1g  有機チタネ―ト  
                         
                     0.1g
  MEK                    
                         
               1gを充分に混合し、
ポリサルフォン樹脂基板上へ塗布し、紫外線硬化した。 この時同時に200℃、5分間加熱した。得られた塗膜
の体積抵抗率は、8×10−5Ω・cm、マイグレ―シ
ョン時間は、230秒であった。さらに、耐湿度試験の
結果、1000時間放置後の変化率は、1%以内であっ
た。また、ごばん目試験の結果100/100であった
Example 19 Among the powders with x=0.35 and y=0.65 obtained in Example 5, the powder size is 10 μm or less.


10g epoxy acrylate

2g Valmitic acid copper salt
0.5g
phenol

1g Butyl cellosolve

2 g were thoroughly mixed in a kneader and applied onto a polyimide resin substrate. The coating film was cured with an electron beam. At this time, 2
Heated at 00°C for 1 minute. The volume resistivity of the resulting coating film was 1 x 10-4 Ωcm, and the migration time was 2
As a result of a 60 second humidity test, the rate of change after standing for 1000 hours was within 5%. Also, the results of the first exam
It was 00/100. Example 20 Among the powders with x = 0.6 and y = 0.4 obtained in Example 6, powders with a size of 10 μm or less


10g epoxy acrylate

2g photoinitiator

0
.. 1g pyrocatechol

0.1g organic titanate

0.1g
M.E.K.

Mix 1g thoroughly,
It was applied onto a polysulfone resin substrate and cured with ultraviolet light. At the same time, the mixture was heated at 200° C. for 5 minutes. The volume resistivity of the resulting coating film was 8×10 −5 Ω·cm, and the migration time was 230 seconds. Further, as a result of a humidity resistance test, the rate of change after being left for 1000 hours was within 1%. Also, the result of the second test was 100/100.

【0036】実施例21   実施例7で得られたx=0.8、y=0.2の粉末
の中、10μm以下の粉末             
                         
                         
   10g  熱可塑性アクリル樹脂       
                         
              4g  セバシン酸  
                         
                         
0.1g  エチルセロソルブ           
                         
              4gを充分混合し、ポリ
エステル樹脂フレキシブル基板上へ塗布した。塗膜を7
0℃、2日加熱乾燥した。乾燥後の塗膜の体積抵抗率は
、6×10−5Ω・cm、マイグレ―ション時間は、1
80秒であった。さらに、耐湿度試験の結果、1000
時間放置後の変化率は、1%以内であった。また、ごば
ん目試験の結果100/100であった。 実施例22   実施例8で得られたx=0.98、y=0.02の
粉末の中、10μm以下の粉末           
                         
                         
 10g  レゾ―ル型フェノ―ル樹脂       
                         
          3g  ロジン        
                         
                       0.
1g  L―アスコルビン酸            
                         
       0.1g  ステアリルアミン    
                         
                 0.1g  ブチ
ルカルビト―ル                  
                         
     3gを充分混合し、ポリイミド樹脂基板上へ
スクリ―ン印刷した。塗膜後、150℃、20分間ヘリ
ウム中で加熱硬化した。体積抵抗率は、5×10−5Ω
・cm、マイグレ―ション時間は、50秒であった。さ
らに、耐湿度試験の結果、1000時間後の変化率は、
2%以内であった。また、ごばん目試験の結果100/
100であった。
Example 21 Among the powders with x=0.8 and y=0.2 obtained in Example 7, powders with a size of 10 μm or less


10g thermoplastic acrylic resin

4g sebacic acid


0.1g ethyl cellosolve

4 g were thoroughly mixed and applied onto a polyester resin flexible substrate. Paint film 7
It was heated and dried at 0°C for 2 days. The volume resistivity of the coating film after drying is 6 x 10-5 Ω・cm, and the migration time is 1
It was 80 seconds. Furthermore, as a result of the humidity test, 1000
The rate of change after standing for a period of time was within 1%. Also, the result of the second test was 100/100. Example 22 Among the powders with x = 0.98 and y = 0.02 obtained in Example 8, powders with a size of 10 μm or less


10g resol type phenolic resin

3g rosin

0.
1g L-ascorbic acid

0.1g stearylamine

0.1g Butyl carbitol

3 g were thoroughly mixed and screen printed onto a polyimide resin substrate. After coating, the film was cured by heating in helium at 150°C for 20 minutes. Volume resistivity is 5×10-5Ω
・cm, migration time was 50 seconds. Furthermore, as a result of the humidity resistance test, the rate of change after 1000 hours was
It was within 2%. Also, the result of the first exam is 100/
It was 100.

【0037】実施例23   実施例2で得られたx=0.01、y=0.99の
粉末の中、10μm以下の粉末           
                         
                         
 10g  市販のポリエステル樹脂        
                         
     10重量部  市販のアルキッド樹脂   
                         
              5重量部  メチル化メ
ラミン樹脂                    
                    10重量部
  ブチルセロソルブ               
                         
    20重量部  トルエン          
                         
                   5重量部  
クエン酸                     
                         
        0.7g  ステアリルアミン   
                         
                  0.5g  チ
タンカップリング剤                
                        0
.01g  ピロカテコ―ル            
                         
           0.9gを充分混合し、ガラス
ポリイミド樹脂基板上へスクリ―ン印刷した。塗膜を窒
素中で150℃、20分間加熱硬化した。硬化膜の体積
抵抗率は、1×10−4Ω・cmであった。マイグレ―
ション試験の結果、250秒であった。また、耐湿度試
験の結果、1000時間後の変化率は、10%以内であ
った。基盤目試験の結果、100/100であった。
Example 23 Among the powders with x=0.01 and y=0.99 obtained in Example 2, powders with a size of 10 μm or less


10g commercially available polyester resin

10 parts by weight Commercially available alkyd resin

5 parts by weight methylated melamine resin
10 parts by weight Butyl cellosolve

20 parts by weight toluene

5 parts by weight
citric acid

0.7g stearylamine

0.5g titanium coupling agent
0
.. 01g pyrocatechol

0.9 g was thoroughly mixed and screen printed onto a glass polyimide resin substrate. The coating film was cured by heating at 150° C. for 20 minutes in nitrogen. The volume resistivity of the cured film was 1×10 −4 Ω·cm. My Gray
As a result of the compression test, it was 250 seconds. Further, as a result of the humidity resistance test, the rate of change after 1000 hours was within 10%. The base test result was 100/100.

【0038】実施例24   実施例4で得られたx=0.2、y=0.8の粉末
の中、15μm以下の粉末             
                         
                         
   10g  液状エポキシ樹脂         
                         
                2g  トリエタノ
―ルアミン                    
                      0.5
gを充分に混合し、接着剤としてICのダイボンデイン
グした。150℃、10分間窒素中で加熱硬化した。得
られた硬化膜は、接着性が高く剥がれは見られなかった
。 また、同様にして液晶に使用するネサガラス2枚を前記
組成物の接着剤で貼り合わせた。加熱硬化後の導電性の
接点はすべて良好であった。 実施例25   実施例4で得られたx=0.2、y=0.8の粉末
の中、10μm以下の粉末             
                         
                         
   10g  レゾ―ル型フェノ―ル樹脂     
                         
            2g  トリエタノ―ルアミ
ン                        
                  0.3g  ブ
チルカルビト―ル                 
                         
      2gを充分に混合し、ポリイミド樹脂基板
上に既に印刷硬化されているカ―ボン抵抗体の両末端に
電極としてスクリン印刷して窒素中で加熱硬化した。硬
化膜を測定したところ、充分なオ―ミックコンタクトが
得られていることが確認できた。
Example 24 Among the powders with x=0.2 and y=0.8 obtained in Example 4, powders with a diameter of 15 μm or less


10g liquid epoxy resin

2g triethanolamine
0.5
g was thoroughly mixed and used as an adhesive for die bonding of IC. It was heated and cured in nitrogen at 150°C for 10 minutes. The obtained cured film had high adhesiveness and no peeling was observed. Further, in the same manner, two sheets of Nesa glass used for liquid crystal were bonded together using the adhesive of the above composition. All conductive contacts after heat curing were good. Example 25 Among the powders with x = 0.2 and y = 0.8 obtained in Example 4, powders with a size of 10 μm or less


10g resol type phenolic resin

2g triethanolamine
0.3g Butyl carbitol

2 g were sufficiently mixed, screen printed as electrodes on both ends of a carbon resistor that had already been printed and hardened on a polyimide resin substrate, and then heated and hardened in nitrogen. When the cured film was measured, it was confirmed that sufficient ohmic contact was obtained.

【0039】[0039]

【比較例】粉末作製比較例 比較例1 銅粒子317.46825g、銀粒子0.05395g
を黒鉛るつぼ中で高周波誘導加熱で1700℃まで融解
した。融液をるつぼ先端に取り付けたノズルより不活性
雰囲気中(窒素)へ噴出した。噴出と同時に、ガス圧2
0k/Gの窒素(99.9%以上)を融液に対して、ガ
ス/液質量速度比2でアトマイズした。この時のガス線
速度は、100m/秒であった。得られた粉末の平均粒
径は、19μmであった。この時の平均銀濃度はx=0
.0001、y=0.9999であった。 比較例2 銅粒子0.03175g、銀粒子539.446gを同
様にして高周波誘導加熱で1720℃まで融解した。融
液を噴出させ同時に、ガス圧20k/Gの窒素ガス(9
9.9%以上)を融液に対して、ガス/液質量速度比2
でアトマイズした。この時のガス線速度は、110m/
秒であった。得られた粉末の平均粒径は、18μmであ
った。平均の銀濃度はx=0.9999、y=0.00
01であった。
[Comparative example] Powder production comparative example Comparative example 1 Copper particles 317.46825g, silver particles 0.05395g
was melted to 1700°C by high frequency induction heating in a graphite crucible. The melt was spouted into an inert atmosphere (nitrogen) through a nozzle attached to the tip of the crucible. At the same time as blowing out, gas pressure 2
0 k/G nitrogen (99.9% or more) was atomized to the melt at a gas/liquid mass velocity ratio of 2. The gas linear velocity at this time was 100 m/sec. The average particle size of the obtained powder was 19 μm. The average silver concentration at this time is x=0
.. 0001, y=0.9999. Comparative Example 2 0.03175 g of copper particles and 539.446 g of silver particles were similarly melted to 1720° C. by high-frequency induction heating. While spouting the melt, nitrogen gas (9
9.9% or more) to the melt, gas/liquid mass velocity ratio 2
It was atomized. The gas linear velocity at this time was 110 m/
It was seconds. The average particle size of the obtained powder was 18 μm. The average silver concentration is x=0.9999, y=0.00
It was 01.

【0040】比較例3 銅粒子285.75g、銀粒子53.95gを同様にし
て1600℃まで、融解した。融液を噴出と同時にガス
圧20k/G(酸素10%窒素90%の混合ガス)を融
液に対してガス/液質量速度比2でアトマイズした。こ
の時のガス線速度は、110m/秒であった。得られた
粉末の表面銀濃度を測定したところ、表面より0.08
、0.09、0.1、0.11、0.13と表面の方が
銀濃度が少なく、表面の銀濃度は0.085、また平均
の銀濃度はx=0.1、y=0.9であり、表面の銀濃
度は平均の銀濃度の0.85倍であった。ペ―スト化比
較例 比較例4   実施例1で作製したx=0.0001、y=0.9
999の粉末の中10μm以下の粉末        
                         
                       10
g  熱可塑制アクリル樹脂            
                         
         3g  リノ―ル酸銅塩     
                         
                0.01g  ME
K                        
                         
           3gを充分混合し、紙フェノ―
ル樹脂基板上へスプレ―塗布した。塗膜を50℃、1日
加熱乾燥した。乾燥後の塗膜の体積抵抗率は、2×10
−3Ω・cmと高かった。また、ごばん目試験の結果1
00/100であったが、耐湿度試験の結果、1000
時間放置後の変化率は300%と大きかった。また、同
時にして得られた組成物を紙フェノ―ル基板に空けた1
、0.5、0.3mmφのホ―ルにスクリ―ン印刷(2
50メッシュ)を用いて、減圧下700mmHgでホ―
ルの裏側を引っ張りながら刷入した。得られた硬化物の
基板の表裏間の抵抗値は3Ωと高かった。
Comparative Example 3 285.75 g of copper particles and 53.95 g of silver particles were similarly melted to 1600°C. At the same time as the melt was ejected, a gas pressure of 20 k/G (mixed gas of 10% oxygen and 90% nitrogen) was atomized at a gas/liquid mass velocity ratio of 2. The gas linear velocity at this time was 110 m/sec. When the surface silver concentration of the obtained powder was measured, it was found that 0.08
, 0.09, 0.1, 0.11, 0.13, the silver concentration on the surface is lower, the silver concentration on the surface is 0.085, and the average silver concentration is x = 0.1, y = 0 .9, and the surface silver concentration was 0.85 times the average silver concentration. Paste Comparative Example Comparative Example 4 x=0.0001, y=0.9 produced in Example 1
Powder of 10μm or less among 999 powders

10
g Thermoplastic acrylic resin

3g linoleic acid copper salt

0.01g ME
K

Mix 3g thoroughly and add paper phenol.
spray applied onto the resin substrate. The coating film was dried by heating at 50° C. for 1 day. The volume resistivity of the coating film after drying is 2×10
It was as high as -3Ω·cm. Also, the results of the first exam
00/100, but as a result of the humidity test, it was 1000
The rate of change after standing for a period of time was as large as 300%. In addition, the composition obtained at the same time was placed on a paper phenol substrate.
, 0.5, 0.3mmφ hole screen printing (2
50 mesh) at 700 mmHg under reduced pressure.
I printed while pulling the back side of the card. The resistance value between the front and back surfaces of the obtained cured substrate was as high as 3Ω.

【0041】比較例5   比較例2で作製したx=0.9999、y=0.0
001の粉末の中10μm以下の粉末        
                         
                       10
g  ビスA型エポキシ樹脂            
                         
     0.1g  ブチルカルビト―ル     
                         
                  2gを充分混合
し、ガラスエポキシ樹脂基板上へ塗布した。 塗膜の体積抵抗率は、5×10−5Ω・cmであり、耐
湿度試験の結果1000時間放置しても変化率が10%
で、ごばん目試験も100/100であったが、マイグ
レ―ション時間は15秒と短くマイグレ―ションしやす
かった。 比較例6   実施例2で作製したx=0.01、y=0.99の
粉末の中10μm以下の粉末            
                         
                         
  10g  レゾ―ル型フェノ―ル樹脂      
                         
         30g  エチルセロソルブ   
                         
                    20gを混
合し、ガラスエポキシ樹脂基板上へスクリ―ン印刷した
。塗膜を150℃、30分間加熱硬化した。得られた硬
化膜の体積抵抗率は、1×10−2Ω・cmと高かった
。また、耐湿度試験の結果、1000時間放置後の変化
率は、200%と大きかった。、ごばん目試験100/
100であった。また、同様にして得られた組成物を1
0cm×10cm×50μmの塗膜をガラスエポキシ樹
脂基板上へ塗布し、加熱硬化した。硬化膜を60℃、9
0%湿度1000時間放置し、100kHzから1GH
zまでのシ―ルドを測定したところ、10dBの低いシ
―ルド効果しか示さなかった。
Comparative Example 5 x=0.9999, y=0.0 produced in Comparative Example 2
Powder of 10μm or less among 001 powders

10
g Bis A type epoxy resin

0.1g Butyl carbitol

2 g were thoroughly mixed and applied onto a glass epoxy resin substrate. The volume resistivity of the coating film is 5 x 10-5 Ωcm, and the humidity resistance test shows that the rate of change is 10% even after being left for 1000 hours.
The second test was also 100/100, but the migration time was short at 15 seconds, making it easy to migrate. Comparative Example 6 Among the powders with x=0.01 and y=0.99 produced in Example 2, the powder is 10 μm or less


10g resol type phenolic resin

30g ethyl cellosolve

20g were mixed and screen printed onto a glass epoxy resin substrate. The coating film was cured by heating at 150° C. for 30 minutes. The volume resistivity of the obtained cured film was as high as 1×10 −2 Ω·cm. Further, as a result of the humidity resistance test, the rate of change after being left for 1000 hours was as large as 200%. , First exam 100/
It was 100. In addition, a composition obtained in the same manner as 1
A coating film of 0 cm x 10 cm x 50 μm was applied onto a glass epoxy resin substrate and cured by heating. Cured film at 60℃, 9
0% humidity left for 1000 hours, 100kHz to 1GH
When the shielding up to z was measured, it showed only a low shielding effect of 10 dB.

【0042】比較例7   比較例3で得られた粉末x=0.1、y=0.9の
中10μm以下の粉末               
                         
                         
 10g  脂肪酸変性エポキシ樹脂        
                         
       0.1g  ピロカテコ―ル     
                         
                  0.2gを混合
し、ガラスエポキシ樹脂基板上へスクリ―ン印刷した。 塗膜を140℃、30分間加熱硬化した。硬化膜の体積
抵抗率は、、2×10−2Ω・cmと高かった。また、
耐湿度試験の結果、1000時間放置の変化率は、25
0%と大きかった。また、膜は剥がれ易かった(ごばん
目試験3/100)。 比較例8   比較例2で作製したx=0.01、y=0.99の
粉末の中15μm以下の粉末            
                         
                         
  10g  メチル化メラミン          
                         
           0.1g  ピロカテコ―ル 
                         
                      0.1
g  エチルセロソルブ              
                         
           2gを混合し、ガラスエポキシ
樹脂基板上へスクリ―ン印刷した。塗膜を150℃、3
0分間空気中で加熱硬化した。硬化膜の体積抵抗率は、
1×10−2Ω・cmと高く。膜もすぐに剥がれた(ご
ばん目試験10/100)。耐湿度試験の結果、100
0時間放置後の変化率は180%と高かった。
Comparative Example 7 Among the powders x=0.1 and y=0.9 obtained in Comparative Example 3, the powder size is 10 μm or less.


10g fatty acid modified epoxy resin

0.1g pyrocatechol

0.2 g was mixed and screen printed onto a glass epoxy resin substrate. The coating film was cured by heating at 140° C. for 30 minutes. The volume resistivity of the cured film was as high as 2×10 −2 Ω·cm. Also,
As a result of humidity resistance test, the rate of change after being left for 1000 hours was 25
It was as large as 0%. In addition, the film was easy to peel off (coarse eye test 3/100). Comparative Example 8 Among the powders with x=0.01 and y=0.99 produced in Comparative Example 2, the powder is 15 μm or less


10g methylated melamine

0.1g pyrocatechol

0.1
g Ethyl cellosolve

2g were mixed and screen printed onto a glass epoxy resin substrate. Paint film at 150℃, 3
It was cured by heating in air for 0 minutes. The volume resistivity of the cured film is
As high as 1×10-2Ω・cm. The film also peeled off immediately (fine test 10/100). As a result of the humidity test, 100
The rate of change after standing for 0 hours was as high as 180%.

【0043】比較例9   比較例2で作製したx=0.01、y=0.99の
粉末の中15μm以下の粉末10gを   レゾ―ル型フェノ―ル樹脂           
                         
      2g  トリエタノ―ルアミン     
                         
              20g  ブチルカルビ
ト―ルアセテ―ト                 
                     2gに分
散させた組成物を同様にしてガラスエポキシ樹脂基板上
へスクリ―ン印刷した。塗膜を160℃、20分間加熱
硬化した。得られた硬化膜の体積抵抗率は、、2×10
−2Ω・cmと高かった。また、耐湿度試験の結果、1
000時間放置後の変化率は、200%と大きかった。 また、ごばん目試験の結果30/100と悪かった。 比較例10   銅粉末に銀90wt%メッキした平均粒径10μm
の粉末            10g  レゾ―ル型
フェノ―ル樹脂                  
                        2
g  トリエタノ―ルアミン            
                         
     0.8g  ブチルセロソルブ      
                         
                   2gを混合し
、ガラスエポキシ樹脂基板上へスクリ―ン印刷した。1
50℃、20分間加熱硬化した。硬化膜の体積抵抗率は
、3×10−3Ω・cmであったが、マイグレ―ション
試験の結果、15秒と速かった。
Comparative Example 9 Among the powders prepared in Comparative Example 2 with x=0.01 and y=0.99, 10 g of powder with a diameter of 15 μm or less was added to resol type phenolic resin.

2g triethanolamine

20g Butyl carbitol acetate
The composition dispersed in 2 g was similarly screen printed onto a glass epoxy resin substrate. The coating film was cured by heating at 160° C. for 20 minutes. The volume resistivity of the obtained cured film is 2×10
It was as high as -2Ω·cm. In addition, as a result of the humidity test, 1
The rate of change after standing for 000 hours was as large as 200%. Also, the result of the second test was 30/100, which was poor. Comparative Example 10 Copper powder plated with 90 wt% silver, average particle size 10 μm
powder 10g resol type phenolic resin
2
g Triethanolamine

0.8g Butyl cellosolve

2g were mixed and screen printed onto a glass epoxy resin substrate. 1
It was cured by heating at 50°C for 20 minutes. The volume resistivity of the cured film was 3×10 −3 Ω·cm, but the migration test results showed that it took only 15 seconds.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、導電性
に優れ耐酸化性に優れ、且つ、耐マイグレ―ション性に
優れた銅合金系組成物を提供するものであり、電磁波シ
―ルドペ―スト、導電性接着剤、導電回路用ペ―スト、
電極用導電ペ―スト、スル―ホ―ル用ペ―ストとして優
れた特性を有するものである。
Effects of the Invention As explained above, the present invention provides a copper alloy composition that has excellent conductivity, excellent oxidation resistance, and excellent migration resistance, and which paste, conductive adhesive, paste for conductive circuits,
It has excellent properties as a conductive paste for electrodes and a paste for through holes.

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  一般式  AgxCuy(ただし、0
.001≦x≦0.999、0.001≦y≦0.99
9、x+y=1、原子比)で表される銅合金粉末100
重量部と有機バインダ―5〜200重量部、及び銅酸化
物を除去しうる添加剤0.01〜100重量部からなる
銅合金系組成物。
[Claim 1] General formula AgxCuy (where 0
.. 001≦x≦0.999, 0.001≦y≦0.99
9, x+y=1, atomic ratio) copper alloy powder 100
5 to 200 parts by weight of an organic binder, and 0.01 to 100 parts by weight of an additive capable of removing copper oxide.
【請求項2】  一般式AgxCuyで表される銅合金
粉末が0.001≦x≦0.4、0.6≦y≦0.99
9(原子比)の範囲で、銅合金粉末の粒子表面の銀濃度
が平均の銀濃度より高く、且つ表面近傍で内部より表面
に向かって銀濃度が増加する領域を有することを特徴と
する請求項1記載の銅合金系組成物。
Claim 2: Copper alloy powder represented by the general formula AgxCuy is 0.001≦x≦0.4, 0.6≦y≦0.99
9 (atomic ratio), the silver concentration on the surface of the copper alloy powder particles is higher than the average silver concentration, and there is a region near the surface where the silver concentration increases from the inside toward the surface. Item 1. Copper alloy composition according to item 1.
【請求項3】  銅合金粉末の粒子表面の銀濃度が平均
の銀濃度の2.1倍以上であることを特徴とする請求項
2記載の銅合金系組成物。
3. The copper alloy composition according to claim 2, wherein the silver concentration on the surface of the copper alloy powder particles is 2.1 times or more the average silver concentration.
【請求項4】  銅合金粉末の粒子の平均粒径が0.1
〜100ミクロンであることを特徴とする請求項1乃至
3の何れかに記載の銅合金系組成物。
[Claim 4] The average particle size of the particles of the copper alloy powder is 0.1.
4. The copper alloy composition according to claim 1, wherein the copper alloy composition has a diameter of 100 microns.
【請求項5】  銅合金粉末がアトマイズ法を用いて製
造されることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記
載の銅合金系組成物。
5. The copper alloy composition according to claim 1, wherein the copper alloy powder is produced using an atomization method.
【請求項6】  有機バインダ―が熱硬化性樹脂、熱可
塑性樹脂、電子線硬化性樹脂、光硬化性樹脂、電子線分
解型樹脂、光分解型樹脂より選ばれた1種以上であるこ
とを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の銅合金
系組成物。
[Claim 6] The organic binder is one or more selected from thermosetting resins, thermoplastic resins, electron beam curable resins, photocurable resins, electron beam decomposable resins, and photodegradable resins. The copper alloy composition according to any one of claims 1 to 5, characterized in that:
【請求項7】  銅酸化物を除去しうる添加物が脂肪酸
及びその金属塩、ジカルボン酸、オキシカルボン酸、フ
ェノ―ル類、金属キレ―ト形成剤、高級脂肪族アミン、
有機チタネ―ト化合物、ロジン、アントラセン及びその
誘導体より選ばれた1種以上を含むことを特徴とする請
求項1乃至6の何れかに記載の銅合金系組成物。
7. Additives capable of removing copper oxides include fatty acids and their metal salts, dicarboxylic acids, oxycarboxylic acids, phenols, metal chelate forming agents, higher aliphatic amines,
7. The copper alloy composition according to claim 1, comprising one or more selected from organic titanate compounds, rosin, anthracene, and derivatives thereof.
【請求項8】  請求項1乃至7のいずれかに記載の銅
合金組成物をガラスエポキシ樹脂基板、紙フェノ―ル樹
脂基板、紙エポキシ樹脂基板、ポリエステル樹脂基板、
ポリサルフォン樹脂基板、ポリエ―テルイミド樹脂基板
、ポリイミド樹脂基板、BTレジン樹脂基板、ポリエ―
テルサルフォン樹脂基板、ガラスポリイミド樹脂基板、
ポリブタジエン樹脂基板、ポリフェニレンエ―テル樹脂
基板、ポリフェニレンサルファイド樹脂基板、フッ素樹
脂基板、アルミナ基板、窒化アルミ基板、アルミ基板、
ステンレス基板、ホーロー基板の硬質基板あるいはフレ
キシブル基板より選ばれた1種以上に印刷された成形物
8. The copper alloy composition according to any one of claims 1 to 7 can be used for glass epoxy resin substrates, paper phenol resin substrates, paper epoxy resin substrates, polyester resin substrates,
Polysulfone resin substrate, polyetherimide resin substrate, polyimide resin substrate, BT resin resin substrate, polyether
Telsulfone resin substrate, glass polyimide resin substrate,
Polybutadiene resin substrate, polyphenylene ether resin substrate, polyphenylene sulfide resin substrate, fluororesin substrate, alumina substrate, aluminum nitride substrate, aluminum substrate,
Molded products printed on one or more types of hard substrates such as stainless steel substrates, enamel substrates, or flexible substrates.
【請求項9】  請求項1乃至7のいずれかに記載の銅
合金組成物よりなるスクリ―ン印刷用ペ―スト。
9. A screen printing paste comprising the copper alloy composition according to any one of claims 1 to 7.
【請求項10】  請求項1乃至7のいずれかに記載の
銅合金組成物よりなる電磁波シ―ルド用ペ―スト。
10. A paste for electromagnetic shielding comprising the copper alloy composition according to any one of claims 1 to 7.
【請求項11】  請求項1乃至7のいずれかに記載の
銅合金組成物よりなる導電回路用ペ―スト。
11. A conductive circuit paste comprising the copper alloy composition according to claim 1.
【請求項12】  請求項1乃至7のいずれかに記載の
銅合金組成物よりなる導電性接着剤。
12. A conductive adhesive comprising the copper alloy composition according to claim 1.
【請求項13】  請求項1乃至7のいずれかに記載の
銅合金組成物よりなる電極用ペ―スト。
13. An electrode paste comprising the copper alloy composition according to claim 1.
【請求項14】  請求項1乃至7のいずれかに記載の
銅合金組成物よりなるスル―ホ―ル用ぺ―スト。
14. A paste for through-holes comprising the copper alloy composition according to any one of claims 1 to 7.
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