JP3222950B2 - Strong solderable conductive paste - Google Patents

Strong solderable conductive paste

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JP3222950B2
JP3222950B2 JP28755992A JP28755992A JP3222950B2 JP 3222950 B2 JP3222950 B2 JP 3222950B2 JP 28755992 A JP28755992 A JP 28755992A JP 28755992 A JP28755992 A JP 28755992A JP 3222950 B2 JP3222950 B2 JP 3222950B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、はんだ付け性が良く、
特にリフローでのはんだ付け可能な導電性ペースト及び
該ペーストを用いた成形体に関するものである。コンデ
ンサー外部電極、アルミ電解コンデンサー匡体のプリン
ト基板への固着、太陽電池用導電回路、ITOガラス電
極、IOガラス電極、ネサガラス電極、プリント回路の
はんだ付け導通部、厚膜導体回路、ジャンパー回路,ハ
イブリッドIC回路に応用できる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has good solderability,
In particular, the present invention relates to a conductive paste that can be soldered by reflow and a molded body using the paste. Capacitor external electrode, fixing aluminum electrolytic capacitor housing to printed circuit board, conductive circuit for solar cell, ITO glass electrode, IO glass electrode, Nesa glass electrode, soldering conductive part of printed circuit, thick film conductor circuit, jumper circuit, hybrid Applicable to IC circuits.

【0002】[0002]

【従来の技術】樹脂をバインダーとした導電性ペースト
として、従来より銀、銅、銀パラジウム、金、白金、ニ
ッケル、カーボンペーストが公知であるが、はんだ付け
可能な導電性ペーストとしては銅、銀、銀メッキ銅、銀
−銅メカニカルアロイング粉を用いたものが良く知られ
ている。これら公知材料は、熱硬化、電線硬化、近ある
いは遠赤外線硬化で塗布膜を硬化させ、はんだ付けして
用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, silver, copper, silver palladium, gold, platinum, nickel, and carbon paste have been known as conductive pastes using a resin as a binder. Those using silver-plated copper and silver-copper mechanical alloying powder are well known. These known materials are used by curing a coating film by heat curing, electric wire curing, or near or far infrared curing and soldering.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】公知はんだ付け可能導
電性ペーストの課題としては以下のとおりである。銅粉
を用いたものは、粒子表面の酸化性が高く、はんだ付け
の場合、付けムラが生じる。銀粉を用いたものは、導電
性は得られるが、はんだ食われが起こり易く、はんだと
の接着強度が得られない。また、導体として用いる場
合、銀のマイグレーションの問題がある。銀メッキ銅粉
を用いたものでは、少量の銀のメッキ粉でもやはり銀の
マイグレーションの問題がある。また、銀−銅のメカニ
カルアロイニング粉を用いた場合には、銅のはんだ付け
性を向上する、多量の銀を必要とするものであり、その
ために、マイグレーション性を悪くすることになる。
Problems to be solved by the known solderable conductive paste are as follows. In the case of using copper powder, the oxidizing property of the particle surface is high, and in the case of soldering, unevenness occurs. In the case of using silver powder, conductivity can be obtained, but solder erosion is likely to occur, and adhesive strength with solder cannot be obtained. When used as a conductor, there is a problem of silver migration. In the case of using silver-plated copper powder, a small amount of silver plating powder still has a problem of silver migration. Also, when silver-copper mechanical alloying powder is used, a large amount of silver is required to improve the solderability of copper, and therefore, the migration property is deteriorated.

【0004】公知のはんだ付け方法としては、ディップ
法、リフロー法などあるがこれらの方法を用いても前記
の課題が存在する。特に、フラックスを硬化膜に塗布
し、その後はんだ付けするタイプの場合よりリフロータ
イプのはんだ付けではフラックスの塗布を行わない場合
が殆どで、はんだ付け性が公知導電性ペーストではさら
に困難になる。
[0004] Known soldering methods include a dip method and a reflow method, but the above-mentioned problems still exist even when these methods are used. In particular, in most cases, the flux is not applied in the reflow type soldering than in the case of applying the flux to the cured film and then soldering, and the solderability is further difficult with the known conductive paste.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、一般式AgxCu1−x(ただし、0.00
1≦x≦0.4、原子比)で表され、且つ粒子表面の銀
濃度が平均の銀濃度の2.1倍より高く、銀濃度が表面
に向かって増加する領域を有する銅合金粉末100重量
部に対して、一般式AgyCu1−y(ただし、0.4
<y≦0.999)の銀合金粉末0.1〜60重量部、
少なくとも1種類以上のフェノール樹脂を1〜50重量
部、トリエタノールアミン0.001〜30部、及びさ
らにロジン0.001〜30重量部含有してなるペース
トが導電性及びはんだ付け性、特にリフローはんだ付け
良好であることを見いだした。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the general formula AgxCu1-x (but 0.00x
1 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), and a copper alloy powder 100 having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than 2.1 times the average silver concentration and the silver concentration increases toward the surface. With respect to parts by weight, the general formula AgyCu1-y (however, 0.4
<Y ≦ 0.999) 0.1 to 60 parts by weight of a silver alloy powder,
A paste containing 1 to 50 parts by weight of at least one kind of phenolic resin, 0.001 to 30 parts by weight of triethanolamine, and 0.001 to 30 parts by weight of rosin is more conductive and solderable, especially reflow soldering. Was found to be good.

【0006】本発明で用いる表面の銀濃度が2.1倍以
上で、且つ銀濃度が内部より表面に向かって増加する領
域を有する銅合金粉末、及び一般式AgyCu1−y
(ただし、0.4<y≦0.999、原子比)であらわ
される銀合金粉末は、既に本発明者らにより出願されて
いるUSP5091114号で開示されている方法で作
製するのが好ましい。
A copper alloy powder used in the present invention having a silver concentration of 2.1 times or more on the surface and having a region where the silver concentration increases from the inside toward the surface, and a general formula AgyCu1-y
(However, the silver alloy powder represented by 0.4 <y ≦ 0.999, atomic ratio) is preferably produced by the method disclosed in US Pat. No. 5,091,114, which has already been filed by the present inventors.

【0007】本発明で用いることのできる銅合金粉末の
銀量xは0.001未満では充分なはんだ付け性が得ら
れず、0.4を越える場合には、はんだ食われが起こり
易くなり、接着性が劣る。また、表面濃度の銀濃度とし
ては、平均の銀濃度の2.1倍以上であるが、2.1倍
以上25倍以下が好ましく、3倍以上15倍以下がさら
に好ましい。表面の銀濃度とは、すでに開示されている
XPS(X線光電子分光分析装置:XSAM800 K
RATOS社製)を用いて測定した。試料台に導電性を
有するカーボン両面接着テープをはりつけ、かかる組成
の試料粉末を変形させないように静かに両面テープ上を
完全に覆うように付着させた。以下の条件で測定した。
If the silver content x of the copper alloy powder that can be used in the present invention is less than 0.001, sufficient solderability cannot be obtained, and if it exceeds 0.4, solder erosion is likely to occur, Poor adhesion. Further, the silver concentration of the surface concentration is 2.1 times or more of the average silver concentration, preferably 2.1 times or more and 25 times or less, more preferably 3 times or more and 15 times or less. The silver concentration on the surface refers to the already disclosed XPS (X-ray photoelectron spectrometer: XSAM800K).
RATOS). A conductive carbon double-sided adhesive tape was attached to the sample table, and the sample powder having such a composition was gently adhered so as to completely cover the double-sided tape so as not to be deformed. The measurement was performed under the following conditions.

【0008】 測定条件;10-8torr アルゴン雰囲気 マグネシウムのKα線(電圧12kV,電流10mA)
を入射させ、光電子の取り出し角は試料面に対して90
度行った。 エッチング条件;アルゴンガスを加速電圧3keV,ア
ルゴンイオンビームの試料面に対する入射角45度、室
内圧力10-7torr、10分間で行った。銀濃度の測
定は、測定とエッチングを5回繰り返し行い、最初の2
回の測定値の平均値を表面の銀濃度とした。平均の銀濃
度の測定は、濃硝酸中で溶解し、ICP(高周波誘導結
合型プラズマ発光分析計 セイコー電子製)を用いて測
定した値である。
Measurement conditions: 10 -8 torr Argon atmosphere Kα line of magnesium (voltage 12 kV, current 10 mA)
And the take-off angle of photoelectrons is 90
I went there. Etching conditions: Argon gas was applied at an acceleration voltage of 3 keV, an incident angle of an argon ion beam to the sample surface of 45 degrees, and a room pressure of 10 -7 torr for 10 minutes. The measurement of the silver concentration was repeated five times in the measurement and etching.
The average value of the measured values was defined as the silver concentration on the surface. The average silver concentration is measured by dissolving in concentrated nitric acid and using an ICP (high frequency inductively coupled plasma emission spectrometer manufactured by Seiko Denshi).

【0009】本発明は、銅合金粉末100重量部に対し
て一般式AgyCu1−y(ただし、0.4<y≦0.
999、原子比)で表される銀合金粉末0.1〜60重
量部混合されているが、銀合金粉末を添加することで、
はんだ付け性がかなり良好になる。すなわち、硬化膜
中、銅合金粉末、銀合金粉末が分散されている状態で、
はんだ付けを行う。この時、硬化膜表面の銅合金粉末、
銀合金粉末比g重要である。つまり、銀合金粉末ははん
だとの結合性が高く、はんだへの拡散、はんだの銀合金
粉末への拡散が表面から起こる。表面がすべてかかる組
成の銀合金粉末でははんだ食われが起こり易く、銀合金
粉末がはんだ相に溶解して抜き取られ十分な接着強度が
得られない。しかし本発明のように、はんだ付け可能な
銅合金粉末100重量部に対して銀合金粉末0.1〜6
0重量部混合されていると、はんだと積極的に結合する
銀合金粉部分とはんだがある程度結合する銅合金粉部分
と両方あることでより高いはんだ付け性、優れた耐はん
だ食われ性、高い接着強度を有することができる。
According to the present invention, the formula AgyCu1-y (where 0.4 <y ≦ 0.
999, atomic ratio), and 0.1 to 60 parts by weight of a silver alloy powder represented by the following formula:
The solderability is considerably better. That is, in the cured film, in the state where the copper alloy powder and the silver alloy powder are dispersed,
Perform soldering. At this time, the copper alloy powder on the cured film surface,
The silver alloy powder ratio g is important. That is, the silver alloy powder has a high bonding property with the solder, and diffusion into the solder and diffusion of the solder into the silver alloy powder occur from the surface. With silver alloy powder having a composition whose surface is all such, solder erosion is likely to occur, and the silver alloy powder dissolves in the solder phase and is extracted, so that sufficient adhesive strength cannot be obtained. However, as in the present invention, the silver alloy powder is 0.1 to 6 parts per 100 parts by weight of the solderable copper alloy powder.
When 0 parts by weight are mixed, both the silver alloy powder portion that positively binds to the solder and the copper alloy powder portion that binds the solder to some extent provide higher solderability, higher solder erosion resistance, and higher solder erosion resistance. It can have adhesive strength.

【0010】銅合金粉末100重量部に対して銀合金粉
末が60重量部を越える場合にははんだ食われが起こり
易く、表面の銀合金粉末ははんだ相に食われてしまう。
0.1重量部未満の場合には、接着強度が十分でない。
銀合金粉末の量は、銅合金粉末100重量部に対して1
〜40重量部がさらに好ましい。本発明で用いる銅合金
粉末に必要で有れば金属組成として、Ti、Zn、S
n、Pt、Au、Pd、Pb、Mn、Mg、Li、B、
P、C、Si、In、Al、Sb、Cr、Ge、Co、
Zr、W、Ta、Tl、Bi、Ni、Feの元素よりな
る化合物を添加しても構わない。
When the silver alloy powder exceeds 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder, solder erosion tends to occur, and the silver alloy powder on the surface is eroded by the solder phase.
If the amount is less than 0.1 part by weight, the adhesive strength is not sufficient.
The amount of silver alloy powder is 1 to 100 parts by weight of copper alloy powder.
-40 parts by weight is more preferred. If necessary for the copper alloy powder used in the present invention, Ti, Zn, S
n, Pt, Au, Pd, Pb, Mn, Mg, Li, B,
P, C, Si, In, Al, Sb, Cr, Ge, Co,
A compound composed of the elements Zr, W, Ta, Tl, Bi, Ni, and Fe may be added.

【0011】本発明で用いる銅合金粉末の平均粒子径と
しては、0.1〜100μmであり、0.1μm未満で
あると粉末の酸化のためはんだ付け性が劣る。また、1
00μmを越える場合には、塗布膜の厚みが厚くなりす
ぎて導電性が悪くなる。好ましくは0.1〜50μm、
さらに0.3〜20μmが好ましい。ここで用いる平均
粒子径は体積積算平均粒子径を意味する。測定はレーザ
ー回折型粒径測定装置を用いて行った。粒子形状は、球
状、鱗片状及びそれらの混合物など公知の形状の粉末を
用いることができる。
The average particle size of the copper alloy powder used in the present invention is 0.1 to 100 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, the solderability is inferior due to oxidation of the powder. Also, 1
If it exceeds 00 μm, the thickness of the coating film becomes too large, and the conductivity becomes poor. Preferably 0.1 to 50 μm,
Further, the thickness is preferably 0.3 to 20 μm. The average particle diameter used here means a volume-integrated average particle diameter. The measurement was performed using a laser diffraction type particle size measuring device. As the particle shape, a powder having a known shape such as a sphere, a scale, and a mixture thereof can be used.

【0012】鱗片状粉の場合には、アスペクト比(円盤
状の最も長い径/厚み)が2以上である粉末が好まし
い。アスペクト比は2以上500以下が好ましい。銀合
金粉末平均粒子径は、銅合金粉末と同様に0.1〜10
0μmが好ましい。粉末形状は球状、鱗片状及びそれら
の混合物が好ましい。本発明で用いるフェノール樹脂と
しては、公知のフェノール樹脂を用いることができる
が、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノー
ル樹脂、キシレン樹脂変性レゾール型樹脂、ロジン変性
フェノール樹脂が挙げられる。なかでもレゾール型、お
よび変性レゾール型樹脂が好ましい。フェノール樹脂量
は、1〜50重量部であるが、好ましくは1〜30重量
部である。1未満の場合には、接着性が不十分であり、
50を越える場合にははんだ付け性が劣る。また、用途
に応じて特に接着性を向上するためにエポキシ樹脂を混
合して用いるのが良い。たとえば、エポキシ樹脂の混合
割合は、フェノール樹脂100重量部に対して0.5〜
50重量部、好ましくは1〜30重量部混合することが
できる。50重量部を越える場合には、はんだ付け性が
悪くなる。エポキシ樹脂は公知のものが使用できるが、
例えばビスA型エポキシ樹脂(液状、固形)、臭素化エ
ポキシ樹脂、ビスF型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキ
シ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート型エポキシ、
グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン
型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂などが使用でき
る。
In the case of scaly powder, a powder having an aspect ratio (the longest diameter / thickness of a disc) of 2 or more is preferable. The aspect ratio is preferably 2 or more and 500 or less. The average particle diameter of the silver alloy powder is 0.1 to 10 as in the case of the copper alloy powder.
0 μm is preferred. The powder shape is preferably spherical, scaly, or a mixture thereof. As the phenol resin used in the present invention, a known phenol resin can be used, and examples thereof include a novolak phenol resin, a resol phenol resin, a xylene resin-modified resol resin, and a rosin-modified phenol resin. Among them, resol type and modified resol type resins are preferred. The amount of the phenol resin is 1 to 50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight. If it is less than 1, the adhesiveness is insufficient,
If it exceeds 50, the solderability will be poor. Further, it is preferable to mix and use an epoxy resin in order to particularly improve the adhesiveness according to the use. For example, the mixing ratio of the epoxy resin is 0.5 to 100 parts by weight of the phenol resin.
50 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight can be mixed. If the amount exceeds 50 parts by weight, the solderability deteriorates. Known epoxy resins can be used,
For example, bis A type epoxy resin (liquid, solid), brominated epoxy resin, bis F type epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin, triglycidyl isocyanurate type epoxy,
Glycidyl ester type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, heterocyclic epoxy resin and the like can be used.

【0013】本発明の強固なはんだ付け可能導電性ペー
ストは、溶剤を用いることができる。これは、ペースト
に適当な粘度、チキソ性を与えるものであり、公知の溶
剤が使用できる。エポキシ樹脂を混合したものについて
は、反応性希釈剤を用いることもできる。例えば、エチ
ルセロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
ヘキシルセロソルブ及びそれらのアセテート、メチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール及びそれらのアセテー
ト、酢酸ブチル、トルエン、酢酸メチルなど公知の溶剤
で構わない。
The strong solderable conductive paste of the present invention can use a solvent. This gives the paste an appropriate viscosity and thixotropy, and known solvents can be used. For those mixed with an epoxy resin, a reactive diluent can also be used. For example, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve,
A known solvent such as hexyl cellosolve and their acetates, methyl carbitol, butyl carbitol and their acetates, butyl acetate, toluene, and methyl acetate may be used.

【0014】フェノール性OH変性エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹
脂を混合して用いることもできる。硬化する方法として
は、公知の方法で構わない。特に、雰囲気としては、空
気中、窒素中あるいは還元雰囲気中で硬化することがで
きる。硬化温度としては、100℃〜180℃、好まし
くは、130℃〜180℃である。加熱、遠赤外線、近
赤外線、電子線などで硬化させることができる。
A phenolic OH-modified epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, and an amino resin can be mixed and used. As a method for curing, a known method may be used. In particular, the curing can be performed in air, nitrogen, or a reducing atmosphere. The curing temperature is from 100C to 180C, preferably from 130C to 180C. It can be cured by heating, far infrared rays, near infrared rays, electron beams and the like.

【0015】本発明の強固なはんだ付け可能導電性ペー
ストは、銅合金粉末100重量部に対してトリエタノー
ルアミン0.001〜30重量部を含有しているが、3
0重量部を越える場合には、接着性が劣る。また、0.
001重量部未満の場合には、耐環境性が劣る。好まし
くは、0.01〜10重量部であり、さらに0.1〜7
部が好ましい。
The strong solderable conductive paste of the present invention contains 0.001 to 30 parts by weight of triethanolamine with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder.
If it exceeds 0 parts by weight, the adhesiveness is poor. Also, 0.
If the amount is less than 001 parts by weight, the environmental resistance is poor. Preferably, it is 0.01 to 10 parts by weight, and further 0.1 to 7 parts by weight.
Parts are preferred.

【0016】本発明の強固なはんだ付け可能導電性ペー
ストは、銅合金粉末100重量部に対してさらにロジン
を0.001〜30重量部含有しているが、ロジンとし
ては、部分水添ロジン、完全水添ロジン、エステル化ロ
ジン、マレイン化ロジン、不均化ロジン、重合ロジンな
どの変性ロジンが挙げられる。30部を越える場合に
は、ペーストのだれが生じ易くなり、接着性が不十分に
なる。0.001部未満の場合には、リフローでのはん
だ付け性が悪くなる。好ましくは、0.5〜20部であ
り、さらに、0.6〜10部が好ましい。本発明は、は
んだ浴にディップでのはんだ付け可能であるのみならず
リフローでのはんだ付け性を可能にするものである。リ
フローでのはんだ付けは、公知のリフロー炉を用いて行
うことができる。例えば赤外線加熱、熱風循環方式、気
化潜熱方式、ホットプレート、加熱ツール、光ビーム、
レーザー、エアヒーター方式などが使用できる。加熱温
度としては、使用はんだペーストの融点の10℃〜20
℃高めに最高温度を設定するのが好ましい。はんだ付け
雰囲気としては、空気中、窒素中、還元ガス雰囲気中い
ずれでも構わない。はんだ付けするはんだは、公知のは
んだを用いることができる。
The solid solderable conductive paste of the present invention further contains 0.001 to 30 parts by weight of rosin with respect to 100 parts by weight of the copper alloy powder. Modified rosins such as fully hydrogenated rosin, esterified rosin, maleated rosin, disproportionated rosin, and polymerized rosin are exemplified. If the amount exceeds 30 parts, dripping of the paste tends to occur, and the adhesiveness becomes insufficient. If the amount is less than 0.001 part, the reflow solderability will be poor. Preferably, it is 0.5 to 20 parts, more preferably 0.6 to 10 parts. The present invention not only allows soldering in a solder bath by dip, but also enables reflow solderability. Soldering by reflow can be performed using a known reflow furnace. For example, infrared heating, hot air circulation system, vaporization latent heat system, hot plate, heating tool, light beam,
Laser, air heater system, etc. can be used. As the heating temperature, the melting point of the used solder paste is 10 ° C to 20 ° C.
It is preferable to set the maximum temperature higher by ° C. The soldering atmosphere may be air, nitrogen, or a reducing gas atmosphere. Known solder can be used as the solder to be soldered.

【0017】本発明の強固なはんだ付け可能ペースト
に、必要に応じて、チキソ剤、消泡剤、銅酸化物除去
剤、カップリング剤を加えることもできる。銅酸化物除
去剤としては、高級脂肪酸及びその銅塩(リノール酸、
ステアリン酸、リノレン酸、オレイン酸)、フェノール
及びフェノール化合物(例えばハイドロキノン、カテコ
ール、ピロカテコール、ピロガロールなど)などや、チ
キソ剤としては水添ひまし油や、カップリング剤として
はシランカップリング剤、チタンカップリング剤を添加
することもできる。なかでも、チタンカップリング剤、
高級脂肪酸およびそれらの銅塩などを含んでいるものが
好ましい。これらの添加剤は、銅合金粉末100重量部
に対して0.01〜50重量部が好ましく、さらに、
0.1〜30重量部が好ましい。
If necessary, a thixotropic agent, an antifoaming agent, a copper oxide removing agent, and a coupling agent can be added to the strong solderable paste of the present invention. Copper oxide removers include higher fatty acids and their copper salts (linoleic acid,
Stearic acid, linolenic acid, oleic acid), phenol and phenol compounds (eg, hydroquinone, catechol, pyrocatechol, pyrogallol, etc.), hydrogenated castor oil as a thixotropic agent, silane coupling agent as a coupling agent, titanium cup A ring agent can be added. Among them, titanium coupling agent,
Those containing higher fatty acids and their copper salts are preferred. These additives are preferably used in an amount of 0.01 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the copper alloy powder.
0.1 to 30 parts by weight is preferred.

【0018】本発明の強固なはんだ付け可能導電性ペー
ストを塗布あるいは印刷して用いる基材としては、1つ
には有機基材がある。材料としては、ポリフェニレンサ
ルファイド樹脂、紙フェノール樹脂基板、ガラスエポキ
シ樹脂基板、ポリフェニレエーテル樹脂、ポリエーテル
ケトン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポ
リイミド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂があげら
れる。これらの基材の形状は基板、コンデンサー匡体、
異種基板間、粒子など挙げられる。塗布方法は特に指定
はなく公知の方法で構わない。これらの基材を用いたも
のとしては、例えば、アルミ電解コンデンサーの匡体の
固着あるいは電極部の接合、プリント回路のはんだ付け
用導通部、プリント回路の厚膜導体回路、プリント基板
のジャンパー回路部、フレキシブル基板プリント回路に
もちいることができる。
One of the substrates used by applying or printing the strong solderable conductive paste of the present invention is an organic substrate. Examples of the material include polyphenylene sulfide resin, paper phenol resin substrate, glass epoxy resin substrate, polyphenylene ether resin, polyether ketone resin, polyester resin, polystyrene resin, polyimide resin, phenol resin, and epoxy resin. The shape of these substrates is substrate, capacitor housing,
Examples include particles between different kinds of substrates and particles. The application method is not particularly specified, and may be a known method. Examples of the use of these base materials include, for example, fixing the housing of an aluminum electrolytic capacitor or joining electrodes, conducting parts for soldering printed circuits, thick-film conductor circuits for printed circuits, and jumper circuit parts for printed circuit boards. It can also be used for flexible printed circuit boards.

【0019】また、セラミック基材としては、アルミナ
基板、ちっかアルミナ基板、ガラス基板、炭化ケイソ基
板などの上に塗布あるいは印刷してもちいる導電回路あ
るいは接点として、またはタンタルコンデンサーの外部
電極として用いることができる。また、導電性基材とし
ては、前記有機基材の導電性付与材料のみならず、導電
性ガラス電極、金属基材上に用いることができる。例え
ば、ITOあるいはIOガラス電極上の回路、接点、ま
たはネサガラス電極の回路、接点などや、液晶パネル内
部のガラス間の導電性接点、光導電素子のCdS部のリ
ード線接着用、回路補修用、ポテンショメーターのリー
ド線接着用、太陽電池用電極部として使用できる。金属
基材としては、プリント基板銅箔部、アルミ電解コンデ
ンサーの銅あるいはアルミ電極の接合部、太陽電池用電
極接点部、回路部、ホウロウ基板に用いることができ
る。
As the ceramic substrate, it is used as a conductive circuit or a contact which is applied or printed on an alumina substrate, a small alumina substrate, a glass substrate, a silicate carbide substrate, or the like, or as an external electrode of a tantalum capacitor. be able to. In addition, as the conductive base material, not only the conductivity-imparting material of the organic base material but also a conductive glass electrode or a metal base material can be used. For example, a circuit on an ITO or IO glass electrode, a contact, or a circuit or contact of a Nesa glass electrode, a conductive contact between glass inside a liquid crystal panel, a lead wire bonding of a CdS part of a photoconductive element, a circuit repair, It can be used for bonding lead wires of potentiometers and as electrode parts for solar cells. As the metal substrate, it can be used for a copper foil portion of a printed board, a joint portion of a copper or aluminum electrode of an aluminum electrolytic capacitor, an electrode contact portion for a solar cell, a circuit portion, and an enamel substrate.

【0020】本発明は、強固なはんだ付け性に優れ、特
にリフローでのはんだ付け性に優れた銅合金粉末、銀合
金粉末からなる導電性ペーストに関するものであり、以
下に実施例により説明する。接着強度の測定は、すずメ
ッキ銅線0.8mmφを一緒にはんだ付けし、垂直に引
っ張ったときの剥がれ強度を測定した。5kg以上を実
用上優れている物であった。
The present invention relates to a conductive paste made of a copper alloy powder and a silver alloy powder which is excellent in strong solderability and particularly excellent in reflow solderability, and will be described below with reference to examples. For the measurement of the adhesive strength, a tin-plated copper wire 0.8 mmφ was soldered together, and the peeling strength when pulled vertically was measured. 5 kg or more was practically excellent.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

【0022】[0022]

【実施例1】銅粒子(平均粒子径2mm、純度99.9
%以上)228.6g、銀粒子(平均粒子径3mm、純
度99.9%以上)43.2gを混合して黒鉛るつぼに
入れ、高周波誘導加熱装置を用いて窒素雰囲気中で17
00℃まで加熱溶解した。溶解後、るつぼ先端より窒素
雰囲気中へ噴出した。噴出と同時に、窒素ガス(純度9
9.99%以上)(30kg/cm2 G)を融液に対し
て噴出し、アトマイズした。得られた粉末は、平均粒子
径12μmの球状粉末であった。得られた粉末の表面の
銀濃度の測定をしたところ、表面より0.6、0.5
4、0.45、0.3、0.26であり、表面の銀濃度
は0.57、平均の銀濃度xは0.1であり、表面の銀
濃度は平均の銀濃度の5.7倍であった。
Example 1 Copper particles (average particle diameter 2 mm, purity 99.9)
%, 228.6 g) and 43.2 g of silver particles (average particle diameter: 3 mm, purity: 99.9% or more) were mixed and placed in a graphite crucible, and mixed in a nitrogen atmosphere using a high frequency induction heating apparatus in a nitrogen atmosphere.
The mixture was dissolved by heating to 00 ° C. After dissolution, it was spouted from the crucible tip into a nitrogen atmosphere. The nitrogen gas (purity 9)
(9.99% or more) (30 kg / cm 2 G) was ejected to the melt and atomized. The obtained powder was a spherical powder having an average particle diameter of 12 μm. When the silver concentration on the surface of the obtained powder was measured, it was 0.6, 0.5 from the surface.
4, 0.45, 0.3, 0.26, the surface silver concentration was 0.57, the average silver concentration x was 0.1, and the surface silver concentration was 5.7 of the average silver concentration. It was twice.

【0023】また、同様にして、銅粒子63.5g、銀
粒子972gを混合して黒鉛るつぼ中で1700℃まで
加熱溶解して窒素雰囲気中で30kg/cm2 Gの圧力
で融液をアトマイズした。得られた銀合金粉末の平均粒
子径は10μmの球状であった。平均の銀濃度yは0.
9、銅濃度は0.1であった。得られた銅合金粉末の中
10μm以下の粉末(平均5ミクロン)10g、及び得
られた銀合金粉末の中10μm以下の粉末(平均5ミク
ロン)2g、レゾール型フェノール樹脂0.6g、トリ
エタノールアミン0.01g、ロジン0.03g、ヘキ
シルセロソルブ0.3g、チタンカップリング剤0.0
01g、チキソ剤0.0001gを混合してペーストと
した。
Similarly, 63.5 g of copper particles and 972 g of silver particles were mixed, heated and melted in a graphite crucible to 1700 ° C., and the melt was atomized in a nitrogen atmosphere at a pressure of 30 kg / cm 2 G. . The obtained silver alloy powder had a spherical shape with an average particle size of 10 μm. The average silver concentration y is 0.
9. Copper concentration was 0.1. 10 g of powder having a size of 10 μm or less (average 5 μm) in the obtained copper alloy powder, 2 g of powder having a size of 10 μm or less (average 5 μm) in the obtained silver alloy powder, 0.6 g of resole type phenol resin, triethanolamine 0.01 g, rosin 0.03 g, hexyl cellosolve 0.3 g, titanium coupling agent 0.0
01g and 0.0001g of thixotropic agent were mixed to form a paste.

【0024】[0024]

【実施例2】実施例1で得られたペーストをポリフェニ
レンサルファイド樹脂で作製されたアルミ電解コンデン
サー匡体に塗布し、170℃、20分間で加熱硬化し
た。硬化膜にクリームはんだペーストを塗布し、150
℃、2分間さらに、225℃20秒に設定されたリフロ
ー炉ではんだ付けした。はんだ付け性は100%であっ
た。また、同様にして、ガラスエポキシ樹脂基板上へ塗
布し、170℃、15分間で加熱硬化した。硬化後、先
ほどのクリームはんだを塗布し、同様にしてリフロー炉
ではんだ付けした。はんだ付け性は100%であった。
接着強度はコンデンサー匡体をプッシュしたところ6k
gと良好であった。
Example 2 The paste obtained in Example 1 was applied to an aluminum electrolytic capacitor housing made of polyphenylene sulfide resin, and cured by heating at 170 ° C. for 20 minutes. Apply cream solder paste to the cured film,
Further, soldering was performed in a reflow furnace set at 225 ° C. for 20 seconds. The solderability was 100%. Similarly, it was applied on a glass epoxy resin substrate and cured by heating at 170 ° C. for 15 minutes. After curing, the cream solder was applied and soldered in a reflow furnace in the same manner. The solderability was 100%.
Adhesion strength is 6k after pushing the condenser housing
g.

【0025】[0025]

【実施例3】実施例1で得られたペーストを太陽電池用
パネルのIO導電性膜の上に100μm幅、30mm長
さで塗布した。塗布後、170℃、20分間加熱硬化し
た。硬化後、クリームはんだペーストを塗布した。塗布
後、150℃2分、230℃20秒のリフロー炉ではん
だ付けした。はんだ付け性は良好であった。また、IT
Oとの接着性は6kg以上と良好であった。導電性もは
んだ付け前で10−4Ω・cmと良好であった。
Example 3 The paste obtained in Example 1 was applied on an IO conductive film of a solar cell panel in a width of 100 μm and a length of 30 mm. After the application, it was cured by heating at 170 ° C. for 20 minutes. After curing, a cream solder paste was applied. After the application, soldering was performed in a reflow furnace at 150 ° C. for 2 minutes and 230 ° C. for 20 seconds. Solderability was good. Also, IT
Adhesion with O was as good as 6 kg or more. The conductivity was as good as 10-4 Ω · cm before soldering.

【0026】[0026]

【実施例4】実施例1で得られたペーストをポリエーテ
ルケトン樹脂基板1mm厚み上に100μm幅、30m
m長さのラインをスクリーン印刷で印刷した。170
℃、20分加熱硬化した。硬化膜の上に、クリームはん
だペーストを印刷し、リフロー炉で230℃ではんだ付
けした。はんだ付け性は100%であった。はんだ付け
前の導電性は、10-4Ω・cmであった。この基板にさ
らに、パターンを印刷して導電回路として用いた。
Example 4 The paste obtained in Example 1 was applied on a polyetherketone resin substrate 1 mm thick to a width of 100 μm and a thickness of 30 m.
m-length lines were printed by screen printing. 170
The composition was cured by heating at 200C for 20 minutes. A cream solder paste was printed on the cured film and soldered at 230 ° C. in a reflow oven. The solderability was 100%. The conductivity before soldering was 10 −4 Ω · cm. The substrate was further printed with a pattern and used as a conductive circuit.

【0027】[0027]

【実施例5】実施例1で得られたペーストをアルミナ基
板上へ回路を印刷した。170℃で遠赤外線を用いて硬
化した。硬化膜にさらに、はんだペーストを印刷して、
230℃リフロー炉ではんだ付けした。はんだ付け前の
導電性は10-4Ω・cmであり、はんだ付け性は100
%であった。また、接着強度は7kgと優れていた。
Example 5 A circuit was printed on the alumina substrate using the paste obtained in Example 1. Cured at 170 ° C. using far infrared. Further print the solder paste on the cured film,
Soldering was performed in a 230 ° C reflow furnace. The conductivity before soldering is 10 −4 Ω · cm, and the solderability is 100
%Met. The adhesive strength was as excellent as 7 kg.

【0028】[0028]

【実施例6】実施例1で得られたペーストを紙フェノー
ル基板の銅箔を既にエッチングして作製された100μ
mの導体間(間隔1mm)にジャンパー回路としてスク
リーン印刷した。170℃で近赤外線を用いて加熱硬化
した。導電性は、10-4Ω・cmであった。さらに、ジ
ャンパー線の一部にはんだペーストを印刷し、230℃
リフロー炉ではんだ付けした。はんだ付け性は100%
であった。また、接着強度は8kgと高かった。
Example 6 The paste obtained in Example 1 was prepared by etching a copper foil of a paper phenol substrate by 100 μm.
Screen printing was performed as a jumper circuit between m conductors (interval 1 mm). The composition was cured by heating at 170 ° C. using near infrared rays. The conductivity was 10 −4 Ω · cm. Furthermore, print a solder paste on a part of the jumper wire,
Soldering was performed in a reflow furnace. 100% solderability
Met. The adhesive strength was as high as 8 kg.

【0029】[0029]

【実施例7】実施例1で得られたペーストを銅箔積層さ
れたポリフェニレンエーテル樹脂基板上に回路をスクリ
ーン印刷した。170℃、20分間加熱硬化した。導電
性は10-4Ω・cmであった。さらに、はんだペースト
を回路の端子に印刷し、230℃リフロー炉ではんだ付
けした。はんだ付け性は100%であった。また、接着
強度は7kgと高かった。
Example 7 A circuit was screen-printed with the paste obtained in Example 1 on a polyphenylene ether resin substrate on which a copper foil was laminated. The composition was cured by heating at 170 ° C. for 20 minutes. The conductivity was 10 −4 Ω · cm. Further, a solder paste was printed on the terminals of the circuit, and soldered in a 230 ° C. reflow furnace. The solderability was 100%. The adhesive strength was as high as 7 kg.

【0030】[0030]

【実施例8】実施例1で得られたペーストをポリスチレ
ン樹脂匡体で作製された部品上に塗布した。160℃、
30分間加熱硬化した。さらに、はんだペーストを塗布
後、150℃ 2分間、230℃ 20秒間リフロー炉
ではんだ付けした。はんだ付け性は100%であった。
また、接着強度は6kgであった。
Example 8 The paste obtained in Example 1 was applied on a part made of a polystyrene resin housing. 160 ° C,
Heat cured for 30 minutes. Further, after applying the solder paste, soldering was performed in a reflow furnace at 150 ° C. for 2 minutes and at 230 ° C. for 20 seconds. The solderability was 100%.
Further, the adhesive strength was 6 kg.

【0031】[0031]

【実施例9】実施例1で得られたペーストをポリイミド
樹脂基板上へ回路をスクリーン印刷した。165℃で設
定された遠赤外線炉で加熱硬化した。導電性は、10-4
Ω・cmであった。さらに、はんだ浴230℃に5秒間
dipした。はんだ付け性は100%であった。また、
接着強度は8kgであった。
Example 9 A circuit was screen-printed from the paste obtained in Example 1 on a polyimide resin substrate. The composition was heated and cured in a far-infrared oven set at 165 ° C. Conductivity is 10 -4
Ω · cm. Further, dip was performed in a solder bath at 230 ° C. for 5 seconds. The solderability was 100%. Also,
The adhesive strength was 8 kg.

【0032】[0032]

【実施例10】銅粒子252.7g、銀粒子2.16g
を黒鉛るつぼに入れ、高周波誘導加熱装置を用いて窒素
雰囲気中で1700℃まで加熱溶解した。溶解後、るつ
ぼ先端より窒素雰囲気中へ融液を噴出した。噴出と同時
に、窒素ガス(純度99.99%以上、圧力40kg/
cm2 G)を融液に向かって噴出しアトマイズした。得
られた粉末は平均粒径11μmであった。表面の銀濃度
を測定したところ、表面より0.1、0.06、0.0
4、0.02、0.01であり、表面の銀濃度は0.0
8であった。平均の銀濃度xは0.005であり、表面
の銀濃度は平均の銀濃度の16倍であった。
Example 10 Copper particles 252.7 g, silver particles 2.16 g
Was placed in a graphite crucible and melted by heating to 1700 ° C. in a nitrogen atmosphere using a high-frequency induction heating device. After dissolution, the melt was jetted from the crucible tip into a nitrogen atmosphere. Simultaneously with the ejection, nitrogen gas (purity 99.99% or more, pressure 40 kg /
cm 2 G) toward the melt and atomized. The obtained powder had an average particle size of 11 μm. The silver concentration on the surface was measured to be 0.1, 0.06, 0.0
4, 0.02 and 0.01, and the silver concentration on the surface is 0.0
It was 8. The average silver concentration x was 0.005, and the silver concentration on the surface was 16 times the average silver concentration.

【0033】同様にして銅粒子63.5g、銀粒子10
8gを十分に混合して黒鉛るつぼ中で1750℃まで加
熱溶解した。融液を40kg/cm2 Gの窒素ガスでア
トマイズした。得られた銀合金粉末の平均粒子径は10
μmの球状粉末であった。また、平均の銀濃度yは0.
5、銀濃度は0.5であった。得られた銅合金粉末の中
10μm以下の粉末(平均5ミクロン)10g、得られ
た銀合金粉末の中5μm以下の粉末(平均2ミクロン)
5g、レゾール型フェノール樹脂2g、ノボラック型フ
ェノール樹脂0.1g、ビスA型エポキシ樹脂H.1
g、ビスF型エポキシ樹脂0.05g、ロジン0.2
g、トリエタノールアミン0.2g、チキソ剤0.00
1g、ブチルセロソルブ2g、消泡剤0.001gを充
分に混合してペーストとした。
Similarly, 63.5 g of copper particles and 10 particles of silver particles
8 g was sufficiently mixed and dissolved by heating to 1750 ° C. in a graphite crucible. The melt was atomized with 40 kg / cm 2 G nitrogen gas. The average particle diameter of the obtained silver alloy powder is 10
It was a spherical powder of μm. Further, the average silver concentration y is 0.1.
5. Silver concentration was 0.5. 10 g of powder of 10 μm or less in the obtained copper alloy powder (average 5 μm), powder of 5 μm or less in the obtained silver alloy powder (average 2 μm)
5 g, resol type phenol resin 2 g, novolak type phenol resin 0.1 g, bis A type epoxy resin 1
g, bis F type epoxy resin 0.05 g, rosin 0.2
g, triethanolamine 0.2 g, thixotropic agent 0.00
1 g, butyl cellosolve 2 g, and defoamer 0.001 g were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0034】[0034]

【実施例11】実施例10で得られたペーストを用いて
既に回路が形成されているちっかアルミニウム基板に2
mm角パットを印刷し、170℃、20分間で硬化し
た。さらに、はんだペーストをパット上に印刷し、23
0℃に設定されたリフロー炉ではんだ付けした。はんだ
付け性は100%であった。このパットを導電回路の接
点として使用した。接着強度は7kgであった。
Example 11 The paste obtained in Example 10 was used to coat a small aluminum substrate on which a circuit had already been formed.
A mm-square pad was printed and cured at 170 ° C. for 20 minutes. Further, the solder paste is printed on the pad, and 23
Soldering was performed in a reflow furnace set at 0 ° C. The solderability was 100%. This pad was used as a contact of a conductive circuit. The adhesive strength was 7 kg.

【0035】[0035]

【実施例12】実施例10で得られたペーストを用いて
液晶デスプレイの部品で使用するネサガラス上に電極接
点として印刷した。印刷後、170℃、15分間で赤外
線炉を用いて硬化した。さらに、クリームはんだを硬化
された膜上に印刷後、230℃に設定されたリフロー炉
ではんだ付けした。膜の厚み方向の導電性は充分であ
り、はんだ付け性は100%であった。接着強度は8k
gであった。
Example 12 Using the paste obtained in Example 10, printing was performed as electrode contacts on Nesa glass used for a liquid crystal display component. After printing, it was cured using an infrared oven at 170 ° C. for 15 minutes. Further, after the cream solder was printed on the cured film, it was soldered in a reflow furnace set at 230 ° C. The conductivity in the thickness direction of the film was sufficient, and the solderability was 100%. Adhesive strength is 8k
g.

【0036】[0036]

【実施例13】実施例10で得られたペーストを用い
て、すでにカーボンペーストが塗布、硬化されているタ
ンタルコンデンサーの外部電極にディップで全面に塗布
した。塗布後、160℃、30分間加熱硬化した。硬化
後、さらに、はんだペーストを全面に塗布し、240℃
に設定されているリフロー炉ではんだ付けした。
Example 13 Using the paste obtained in Example 10, a carbon paste was applied to the entire surface of the external electrode of the tantalum capacitor, which had already been applied and cured, using a dip. After the application, it was cured by heating at 160 ° C. for 30 minutes. After curing, further apply solder paste on the entire surface,
Soldering was performed in a reflow furnace set to.

【0037】導電性をさらに銀電極をつけて計ったとこ
ろ、10-5Ω・cmのオーダーの良好な導電性が得られ
た。はんだ付け性は100%であった。また、接着強度
は7kgであった。
When the conductivity was further measured by attaching a silver electrode, a good conductivity of the order of 10 −5 Ω · cm was obtained. The solderability was 100%. Further, the adhesive strength was 7 kg.

【0038】[0038]

【実施例14】実施例10で得られたペーストを用い
て、光導電素子のCdS部に塗布した。170℃、15
分間加熱硬化した。さらに、はんだペーストを塗布し
て、230℃15秒に設定されたリフロー炉ではんだ付
けした。導電性と接着性は良好であった。はんだ付け部
をリード線取り出し部として用いた。また、接着強度は
6kgであった。
Example 14 The paste obtained in Example 10 was applied to the CdS portion of a photoconductive element. 170 ° C, 15
Heat cured for minutes. Furthermore, a solder paste was applied and soldered in a reflow furnace set at 230 ° C. for 15 seconds. The conductivity and adhesion were good. The soldered part was used as a lead wire take-out part. Further, the adhesive strength was 6 kg.

【0039】[0039]

【実施例15】実施例10で得られたペーストを用い
て、ポテンショメーターのリード線取付部に塗布した。
170℃、20分間加熱硬化した。さらに、はんだペー
ストを塗布し、230℃、20秒に設定されたリフロー
炉ではんだ付けした。リード線を付けたところ、接着強
度は9kg、はんだ濡れ性共に良好であった。
Example 15 The paste obtained in Example 10 was applied to a lead wire mounting portion of a potentiometer.
The composition was cured by heating at 170 ° C. for 20 minutes. Furthermore, a solder paste was applied and soldered in a reflow furnace set at 230 ° C. for 20 seconds. When the lead wire was attached, the adhesive strength was 9 kg, and the solder wettability was good.

【0040】[0040]

【実施例16】実施例10で得られたペーストを用い
て、アルミ電解コンデンサーのアルミ取り出し電極部に
印刷した。160℃、30分間加熱硬化した。さらに、
はんだペーストを印刷し、片側の銅の接点に張り付け2
30℃、20秒の設定のリウロー炉ではんだ付けした。
接着強度7kg、導電性ともに良好であった。
Example 16 Using the paste obtained in Example 10, printing was performed on an aluminum extraction electrode portion of an aluminum electrolytic capacitor. The composition was cured by heating at 160 ° C. for 30 minutes. further,
Print solder paste and paste it on one copper contact 2
The soldering was performed in a reflow furnace set at 30 ° C. for 20 seconds.
The adhesive strength was 7 kg and the conductivity was good.

【0041】[0041]

【実施例17】実施例10で得られたペーストを用い
て、ホウロウ基板に回路をスクリーン印刷で作製した。
180℃、10分間で加熱硬化した。さらに、はんだペ
ーストを印刷後、230℃、15秒に設定されたリフロ
ー炉ではんだ付けした。はんだ付け性は100%であっ
た。基板との接着性も7kgで充分であった。
Example 17 Using the paste obtained in Example 10, a circuit was formed on an enamel substrate by screen printing.
The composition was cured by heating at 180 ° C. for 10 minutes. Further, after printing the solder paste, it was soldered in a reflow furnace set at 230 ° C. for 15 seconds. The solderability was 100%. 7 kg was sufficient for the adhesion to the substrate.

【0042】[0042]

【実施例18】銅粒子228.6g、銀粒子43.2g
を混合し、黒鉛るつぼに入れ、窒素雰囲気中で1750
℃まで高周波誘導加熱を用いて加熱溶解した。融解後、
融液を窒素雰囲気中(純度99.9%以上)にるつぼ先
端より噴出した。噴出と同時に、窒素ガス(20kg/
cm2 G、純度99.99%以上)を融液に対して噴出
し、アトマイズした。得られた粉末は平均粒子径12μ
mの球状粉であった。表面の銀濃度の測定をしたとこ
ろ、表面より、0.7、0.6、0.55、0.45、
0.39であり、表面の銀濃度は0.65、さらに、平
均の銀濃度xは0.1であり、表面の銀濃度は平均の銀
濃度の6.5倍であった。
Example 18 228.6 g of copper particles and 43.2 g of silver particles
And placed in a graphite crucible and placed in a nitrogen atmosphere at 1750
It melted by heating using high frequency induction heating to ℃. After melting,
The melt was spouted from the crucible tip in a nitrogen atmosphere (purity of 99.9% or more). Nitrogen gas (20kg /
cm 2 G, purity 99.99% or more) to the melt and atomized. The resulting powder has an average particle size of 12μ.
m spherical powder. When the silver concentration on the surface was measured, it was found that 0.7, 0.6, 0.55, 0.45,
0.39, the surface silver concentration was 0.65, the average silver concentration x was 0.1, and the surface silver concentration was 6.5 times the average silver concentration.

【0043】銅粒子190.5g、銀粒子756gを混
合して、同様にして黒鉛るつぼ中で1750℃まで加熱
溶解した。融液を40kg/cm2 Gの窒素ガスでアト
マイズした。得られた銀合金粉末は、平均粒子径10μ
mの球状であった。平均の銀濃度yは0.7、平均の銅
濃度は0.3であった。得られた銅合金粉末の中、10
μm以下の粉末10g(平均粒子径5μm)、得られた
銀合金粉末の中5μm以下の粉末0.1g(平均粒子径
2μm)、キシレン樹脂変性レゾール型フェノール樹脂
1.0g、ノポラック型フェノール樹脂1.0g、ロジ
ン変性フェノール樹脂0.5g、レゾール型フェノール
樹脂1g、水添ロジン0.2g、マレイン化ロジン0.
1g、完全水添ロジン0.4g、不均化ロジン0.5
g、重合ロジン0.03g、トリエタノールアミン0.
001g、チキソ剤0.001g、チタンカップリング
剤0.001g、ヘキシルセロソルブ1g、ブチルカウ
ビトールアセテート1g、消泡剤、0.001gを充分
に混合してペーストとした。
190.5 g of copper particles and 756 g of silver particles were mixed and dissolved in a graphite crucible by heating to 1750 ° C. in the same manner. The melt was atomized with 40 kg / cm 2 G nitrogen gas. The obtained silver alloy powder has an average particle diameter of 10 μm.
m. The average silver concentration y was 0.7 and the average copper concentration was 0.3. Among the obtained copper alloy powder, 10
10 g of powder having an average particle diameter of 5 μm or less (average particle diameter of 5 μm), 0.1 g of powder having an average particle diameter of 5 μm or less (average particle diameter of 2 μm), 1.0 g of a xylene resin-modified resole type phenol resin, and a nopolak type phenol resin 1 0.0 g, rosin-modified phenol resin 0.5 g, resole-type phenol resin 1 g, hydrogenated rosin 0.2 g, maleated rosin 0.0 g
1 g, fully hydrogenated rosin 0.4 g, disproportionated rosin 0.5
g, polymerized rosin 0.03 g, triethanolamine 0.1 g.
001 g, 0.001 g of a thixotropic agent, 0.001 g of a titanium coupling agent, 1 g of hexyl cellosolve, 1 g of butyl carbitol acetate, 0.001 g of an antifoaming agent, and a paste were sufficiently mixed to form a paste.

【0044】[0044]

【実施例19】実施例18で得られた銅合金粉末の10
μm以下の粉末10g(平均粒子径4μm)をソルベン
トザフサ50cc、表面活性剤、0.1g、2mmφの
ステンレスボール200個を用いて、ステンレス容器中
で振動ボールミルを用いて10分間鱗片化した。得られ
た粉末をろ過、乾燥したところ、平均粒子径25μm、
厚さ1μm(アスペクト比25)の鱗片粉が得られた。
鱗片粉の表面の銀濃度は、0.5、0.48、0.3、
0.3、0.2で表面の銀濃度は0.4であり、平均の
銀濃度4.9倍であった。得られた銅合金鱗片粉10g
を用いて実施例18と同一配合組成(銅合金鱗片粉10
0重量部に対して銀合金粉4重量部混合)のペーストを
作製した。
Example 19 10% of the copper alloy powder obtained in Example 18
10 g of powder having an average particle diameter of 4 μm or less (average particle diameter: 4 μm) was scalyed for 10 minutes using a vibrating ball mill in a stainless steel container using 50 cc of solvent saphtha, 0.1 g of a surfactant and 2 stainless steel balls of 2 mmφ. When the obtained powder was filtered and dried, the average particle diameter was 25 μm,
A scale powder having a thickness of 1 μm (aspect ratio 25) was obtained.
The silver concentration on the surface of the scale powder is 0.5, 0.48, 0.3,
At 0.3 and 0.2, the silver concentration on the surface was 0.4, which was 4.9 times the average silver concentration. 10 g of the obtained copper alloy scale powder
And the same composition as in Example 18 (copper alloy flake powder 10)
A paste was prepared by mixing 4 parts by weight of silver alloy powder with respect to 0 parts by weight.

【0045】[0045]

【実施例20】実施例18で得られたペーストをポリエ
ステルフレキシブルプリント基板のエッチング処理され
た銅箔部に印刷し、170℃、20分間で加熱硬化し
た。さらに、グランド取り出し部にはんだペーストを印
刷し、230℃、20秒間でリフロー炉ではんだ付けし
た。導電性、接着性8kgともに良好であった。また、
180度織り曲げても接着性は良かった。
Example 20 The paste obtained in Example 18 was printed on an etched copper foil portion of a polyester flexible printed circuit board and cured by heating at 170 ° C. for 20 minutes. Further, a solder paste was printed on the ground take-out portion and soldered in a reflow furnace at 230 ° C. for 20 seconds. Both the conductivity and the adhesion of 8 kg were good. Also,
Adhesion was good even when woven 180 degrees.

【0046】[0046]

【実施例21】実施例18で得られたペーストを用いて
ガラスで作製された電子部品の匡体に塗布した。170
℃に設定された遠赤外線炉で加熱硬化した。硬化膜の表
面にはんだペーストを塗布し、230℃リフロー炉では
んだ付けした。はんだ付け部からリード先の取り出しを
行った。はんだ付け性の接着性6kg、付着性ともに充
分であった。
Example 21 The paste obtained in Example 18 was applied to a case of an electronic component made of glass. 170
The composition was heated and cured in a far-infrared oven set at a temperature of ℃ C. A solder paste was applied to the surface of the cured film and soldered in a reflow furnace at 230 ° C. The lead was taken out from the soldered part. The solderability of 6 kg was sufficient for both the adhesion and the adhesion.

【0047】[0047]

【実施例22】実施例18で得られたペーストを既にガ
ラスエポキシプリント基板上に形成されている絶縁膜
(エポキシ樹脂)上にジャンパー線として印刷した。印
刷後、170℃遠赤外線炉で加熱硬化した。硬化膜上に
はんだペーストを印刷した。230℃のリフロー炉では
んだ付けしたところジャンパ線の回路接続部へのはんだ
付け性は充分であった。また、接着性も9kgで充分で
あった。
Example 22 The paste obtained in Example 18 was printed as a jumper wire on an insulating film (epoxy resin) already formed on a glass epoxy printed circuit board. After printing, it was cured by heating in a far infrared oven at 170 ° C. The solder paste was printed on the cured film. When soldered in a reflow furnace at 230 ° C., the solderability of the jumper wire to the circuit connection was sufficient. Further, 9 kg was sufficient for the adhesiveness.

【0048】[0048]

【比較例】[Comparative example]

【0049】[0049]

【比較例1】市販銅粉末(純度99.9%以上、平均粒
子径2μm)10g、レゾール型フェノール樹脂1g、
エポキシ樹脂0.3g、部分水添ロジン0.1g、トリ
エタノールアミン0.01g、フェノール0.001
g、ステアリン酸0.001g、ブチルカルビトールア
セテート1g、チキソ剤0.001gを充分に混合して
ペーストとした。得られたペーストをガラスエポキシ樹
脂基板上に回路としてスクリーン印刷した。印刷後、1
70℃、20分間加熱硬化した。導電性は10-3Ω・c
mと悪かった。さらに、はんだペーストを印刷して23
0℃リフロー炉ではんだ付けしたところ、はんだ付け性
は50%しかなかった。
Comparative Example 1 Commercially available copper powder (purity 99.9% or more, average particle diameter 2 μm) 10 g, resol type phenol resin 1 g,
0.3 g of epoxy resin, 0.1 g of partially hydrogenated rosin, 0.01 g of triethanolamine, 0.001 of phenol
g, 0.001 g of stearic acid, 1 g of butyl carbitol acetate, and 0.001 g of thixotropic agent were sufficiently mixed to obtain a paste. The obtained paste was screen-printed as a circuit on a glass epoxy resin substrate. After printing, 1
The composition was cured by heating at 70 ° C. for 20 minutes. Conductivity is 10 -3 Ω · c
m was bad. Furthermore, solder paste is printed and 23
When soldered in a 0 ° C reflow furnace, the solderability was only 50%.

【0050】[0050]

【比較例2】市販銀粉末(純度99.9%以上、平均粒
子径1μm)10g、レゾール型フェノール樹脂1g、
エチルカルビトール1g、トリエタノールアミン0.0
1g、完全水添ロジン0.01gを混合してペーストし
た。プリント基板銅箔部にペーストを塗布した。さら
に、硬化膜上にはんだペーストを印刷し、230℃リフ
ロー炉ではんだ付けした。はんだは付いたが、はんだ食
われが著しく、接着強度が1kgなかった。
Comparative Example 2 10 g of commercially available silver powder (purity 99.9% or more, average particle size 1 μm), 1 g of resole type phenol resin,
1 g of ethyl carbitol, 0.0 of triethanolamine
1 g and 0.01 g of completely hydrogenated rosin were mixed and pasted. A paste was applied to the printed circuit board copper foil portion. Further, a solder paste was printed on the cured film and soldered in a 230 ° C. reflow furnace. Although the solder was attached, the solder erosion was remarkable and the adhesive strength was 1 kg.

【0051】[0051]

【比較例3】銅粒子101.6g、銀粒子259.2g
を黒鉛るつぼに入れ、窒素雰囲気中(純度99.99%
以上)で1750℃まで高周波誘導加熱を用いて溶解し
た。融液を窒素雰囲気中(純度99.99%以上)へ噴
出し、噴出と同時に、窒素ガス(純度99.99%以
上、圧力40kg/cm2 G)を融液に対して噴出し、
アトマイズした。得られた粉末は平均粒子径12μmの
球状粉末であった。表面の銀濃度は表面より0.8、
0.7、0.6、0.54、0.3であり、表面の銀濃
度は0.75であった。また、平均の銀濃度xは0.6
で表面の銀濃度は平均の銀濃度の1.25倍しかなかっ
た。
Comparative Example 3 101.6 g of copper particles and 259.2 g of silver particles
Into a graphite crucible and placed in a nitrogen atmosphere (purity 99.99%
) To 1750 ° C using high frequency induction heating. The melt is jetted into a nitrogen atmosphere (purity 99.99% or more), and simultaneously with the jet, nitrogen gas (purity 99.99% or more, pressure 40 kg / cm 2 G) is jetted to the melt.
Atomized. The obtained powder was a spherical powder having an average particle diameter of 12 μm. The silver concentration on the surface is 0.8,
0.7, 0.6, 0.54, and 0.3, and the silver concentration on the surface was 0.75. The average silver concentration x is 0.6
The silver concentration on the surface was only 1.25 times the average silver concentration.

【0052】得られた粉末の中、10μm以下の粉末1
0g(平均5μm)、レゾール型フェノール樹脂1g、
トリエタノールアミン0.2g、マレイン化ロジン0.
01g、酢酸ブチル1gを充分に混合し、ペーストとし
た。得られたペーストを紙フェノール樹脂プリント基板
状へ印刷した。170℃、10分間加熱硬化した。この
時、マイグレーションテスト(water−dropテ
スト)(10DCV、1mm間隔)をしたところ、著し
いマイグレーションが生じた。また、はんだペーストを
印刷し、リフローでのはんだ付けを行ったところ、接着
強度がはんだ食われのため0.3kgと低下した。
Among the obtained powders, powder 1 having a size of 10 μm or less
0 g (average 5 μm), resol type phenol resin 1 g,
0.2 g of triethanolamine, maleated rosin 0.
01 g and butyl acetate 1 g were sufficiently mixed to obtain a paste. The obtained paste was printed on a paper phenolic resin printed circuit board. It was cured by heating at 170 ° C. for 10 minutes. At this time, when a migration test (water-drop test) (10 DCV, 1 mm interval) was performed, significant migration occurred. When the solder paste was printed and soldered by reflow, the adhesive strength was reduced to 0.3 kg due to solder erosion.

【0053】[0053]

【比較例4】実施例1で作製された銅合金粉末球状粉末
(平均銀濃度x=0.1)の中5μm以下の粉末(平均
粒子径2μm)10g、実施例1で作製された銀合金球
状粉末(平均銀濃度y=0.9)の中5μm以下の粉末
(平均粒子径2μm)20gレゾール型フェノール樹脂
7g、トリエタノールアミン0.1g、完全水添ロジン
0.01g、リノール酸0.01g、エポキシ樹脂0.
1g、エチルセロソルブ2gを充分に混合してペースト
とした。
Comparative Example 4 Among the copper alloy powder spherical powder (average silver concentration x = 0.1) produced in Example 1, 10 g of powder (average particle diameter: 2 μm) having a particle size of 5 μm or less, the silver alloy produced in Example 1 Among spherical powders (average silver concentration y = 0.9), powder having a particle size of 5 μm or less (average particle diameter: 2 μm) 20 g resole type phenol resin 7 g, triethanolamine 0.1 g, fully hydrogenated rosin 0.01 g, linoleic acid 0.1 g 01 g, epoxy resin 0.
1 g and 2 g of ethyl cellosolve were sufficiently mixed to obtain a paste.

【0054】ペーストをITO透明電極上に印刷して1
70℃、20分間で加熱硬化した。得られた硬化膜上に
はんだペーストを印刷し、230℃、20秒でリフロー
によるはんだ付けを行ったところ、はんだ食われが起こ
り接着強度は0.2kgとほとんどなかった。
Printing the paste on the ITO transparent electrode,
The composition was cured by heating at 70 ° C. for 20 minutes. A solder paste was printed on the obtained cured film, and soldering was performed by reflow at 230 ° C. for 20 seconds. As a result, solder erosion occurred, and the bonding strength was almost 0.2 kg.

【0055】[0055]

【比較例5】実施例1で作製された銅合金球状粉末(平
均銀濃度x=0.1)の中5μm以下の粉末10g(平
均2μm)、レゾール型フェノール樹脂1g、トリエタ
ノールアミン5g、ロジン0.01g、ブチルセロソル
ブ2g、チキソ剤0.0001gを混合してペーストと
した。得られたペーストをガラスエポキシ樹脂基板上に
スクリーン印刷した。170℃、15分間加熱硬化し
た。導電性は、10-2Ω・cmと悪かった。さらに、は
んだペーストをスクリーン印刷して230℃、20秒リ
フロー炉ではんだ付けした。はんだ付け性は数%と悪か
った。
Comparative Example 5 Among the copper alloy spherical powder (average silver concentration x = 0.1) produced in Example 1, 10 g of powder having a size of 5 μm or less (average 2 μm), 1 g of resole type phenol resin, 5 g of triethanolamine, rosin A paste was prepared by mixing 0.01 g, 2 g of butyl cellosolve, and 0.0001 g of a thixotropic agent. The obtained paste was screen-printed on a glass epoxy resin substrate. The composition was cured by heating at 170 ° C. for 15 minutes. The conductivity was as low as 10 −2 Ω · cm. Further, the solder paste was screen-printed and soldered in a reflow furnace at 230 ° C. for 20 seconds. Solderability was as poor as several percent.

【0056】[0056]

【比較例6】実施例1で作製された球状粉末(平均銀濃
度x=0.1)の中5μm以下の粉末10g(平均2μ
m)、レゾール型フェノール樹脂1g、トリエタノール
アミン0.1g、完全水添ロジン7g、エチルセロソル
ブアセテート2g、ピロガロール0.001g、シラン
カップリング剤0.001gを充分に混合してペースト
とした。得られたペーストを紙フェノール樹脂基板上に
スクリーン印刷した。160℃、30分間で加熱硬化し
た。硬化後、はんだペーストをスクリーン印刷を用いて
印刷し、230℃、20秒間でリフロー炉ではんだ付け
した。はんだ付け性は、はんだが粒状になって殆ど付か
なかった。また、基板との接着性が悪かった。
Comparative Example 6 Of the spherical powder (average silver concentration x = 0.1) produced in Example 1, 10 g of powder having a size of 5 μm or less (average 2 μm)
m), 1 g of resole type phenol resin, 0.1 g of triethanolamine, 7 g of completely hydrogenated rosin, 2 g of ethyl cellosolve acetate, 0.001 g of pyrogallol, and 0.001 g of a silane coupling agent were sufficiently mixed to form a paste. The obtained paste was screen-printed on a paper phenolic resin substrate. The composition was cured by heating at 160 ° C. for 30 minutes. After curing, the solder paste was printed using screen printing and soldered in a reflow oven at 230 ° C. for 20 seconds. Solderability was hardly adhered due to the granularity of the solder. In addition, the adhesion to the substrate was poor.

【0057】[0057]

【比較例7】実施例1で作製された球状粉末(平均銀濃
度x=0.1)の中10μm以下の粉末10g(平均粒
子径4μm)、レゾール型フェノール樹脂1g、トリエ
タノールアミン0.00008g、水添ロジン0.00
005g、ブチルセロソルブ1gを充分に混合してペー
ストとした。得られたペーストを紙フェノール樹脂基板
上にスクリーン印刷した。さらに、.70℃、30分間
で加熱硬化した。はんだペーストを塗布し、230℃、
20秒リフローではんだ付けしたところ、付け性は30
%と悪かった。
Comparative Example 7 10 g of powder having a particle size of 10 μm or less (average particle diameter of 4 μm), 1 g of resole type phenol resin, and 0.00008 g of triethanolamine in the spherical powder (average silver concentration x = 0.1) produced in Example 1 , Hydrogenated rosin 0.00
005 g and butyl cellosolve 1 g were sufficiently mixed to obtain a paste. The obtained paste was screen-printed on a paper phenolic resin substrate. further,. The composition was cured by heating at 70 ° C. for 30 minutes. Apply solder paste, 230 ℃,
When soldered by reflow for 20 seconds, attachability is 30
% Was bad.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明は、一般式AgxCul−x
(0.001≦x≦0.4、原子比)で表され表面の銀
濃度が平均の銀濃度の2.1倍より高く、且つ内部より
表面に向かって銀濃度が増加する領域を有する銅合金粉
末100重量部に対して一般式AgyCul−y(ただ
し、0.4<y≦0.999、原子比)で表される銀合
金粉末0.1〜60重量部用いてなる強固なはんだ付け
性、特にリフローはんだ付け可能導電性ペーストに関す
るが、表面に銀が濃縮しているためはんだ付け性が良
く、また、表面より内部に向かって銀濃度が低下してい
るためはんだ食われの問題が起こらない利点を有してい
る。さらに、銀合金粉末を混合しているためはんだの硬
化膜中への拡散拠点ができるためはんだ付け強度をいっ
そう高めることができる。また、かかる組成のフェノー
ル樹脂及びエポキシ樹脂との混合物バインダーを保有す
ることで被接着基材との接着性を良好にするものであ
る。
The present invention relates to a compound of the general formula AgxCul-x
(0.001 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio) Copper having a region where the silver concentration on the surface is higher than 2.1 times the average silver concentration and the silver concentration increases from the inside toward the surface. Strong soldering using 0.1 to 60 parts by weight of silver alloy powder represented by the general formula AgyCul-y (where 0.4 <y ≦ 0.999, atomic ratio) with respect to 100 parts by weight of alloy powder Regarding the conductive paste, especially reflow solderable conductive paste, the silver is concentrated on the surface, so the solderability is good, and the silver concentration decreases from the surface to the inside, the problem of solder erosion It has the advantage of not happening. Further, since the silver alloy powder is mixed, a solder diffusion site is formed in the cured film, so that the soldering strength can be further increased. Further, by having a mixture binder of a phenolic resin and an epoxy resin having such a composition, the adhesiveness to the substrate to be adhered is improved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05K 1/09 H05K 1/09 A (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 5/24 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI H05K 1/09 H05K 1/09 A (58) Investigated field (Int.Cl. 7 , DB name) C09D 5/24

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式AgxCu1−x(ただし、0.
001≦x≦0.4、原子比)で表され、粒子表面の銀
濃度が平均の銀濃度の2.1倍より高く、且つ粒子表面
に向かって銀濃度が増加する領域を有する銅合金粉末1
00重量部に対して、一般式AgyCu1−(ただ
し、0.4<y≦0.999、原子比)の銀合金粉末
0.1〜60重量部、有機バインダーとして少なくとも
1種類以上のフェノール樹脂1〜50重量部、及び添加
剤としてトリエタノールアミン0.001〜30重量部
を含有していることを特徴とするはんだ付け可能導電性
ペースト。
1. A compound of the general formula AgxCu1-x (where 0.1.
001 ≦ x ≦ 0.4, atomic ratio), a copper alloy powder having a region where the silver concentration on the particle surface is higher than 2.1 times the average silver concentration and the silver concentration increases toward the particle surface 1
0.1 to 60 parts by weight of a silver alloy powder having the general formula AgyCu1- y (where 0.4 <y ≦ 0.999, atomic ratio) with respect to 00 parts by weight, and at least one or more phenol resins as an organic binder A solderable conductive paste containing 1 to 50 parts by weight and 0.001 to 30 parts by weight of triethanolamine as an additive.
【請求項2】 請求項1記載の導電性ペーストにさらに
銅合金粉末100重量部に対してロジン0.001〜3
0部添加してなるはんだ付け可能導電性ペースト。
2. The conductive paste according to claim 1, further comprising rosin 0.001 to 3 with respect to 100 parts by weight of copper alloy powder.
A solderable conductive paste obtained by adding 0 parts.
【請求項3】 請求項1または2記載の有機バインダー
としてフェノール樹脂100重量部に対して0.1〜5
0重量部のエポキシ樹脂を含有することを特徴とするは
んだ付け可能導電性ペースト
3. The organic binder according to claim 1, wherein the organic binder is 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the phenol resin.
A solderable conductive paste containing 0 parts by weight of an epoxy resin.
【請求項4】 請求項1〜3いずれかに記載のリフロー
はんだ付け可能ペースト。
4. The reflow solderable paste according to claim 1, wherein the paste is a reflow solderable paste.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載のペース
トを用いて有機基材上に硬化してなる成形体。
5. A molded article obtained by curing the paste according to claim 1 on an organic substrate.
【請求項6】 請求項1〜4のいずれかに記載のペース
トを用いてセラミックス基材上に硬化してなる成形体。
6. A molded product obtained by curing the paste on any one of claims 1 to 4 on a ceramic substrate.
【請求項7】 請求項5記載の有機基材がポリフェニレ
ンサルファイド樹脂、紙フェノール樹脂基板、ガラスエ
ポキシ基板、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリイミド
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、フ
ェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂より選
ばれた1種以上であることを特徴とする成形体。
7. The organic substrate according to claim 5, wherein the organic substrate is a polyphenylene sulfide resin, a paper phenol resin substrate, a glass epoxy substrate, a polyphenylene ether resin, a polyimide resin, a polyester resin, a polyether ketone resin, a phenol resin, an epoxy resin, or a polystyrene resin. A molded article characterized in that it is at least one member selected from the group consisting of:
【請求項8】 請求項1〜4のいずれかに記載のペース
トをITOあるいはIO導電性ガラス、金属基板上に硬
化してなる成形体
8. A molded product obtained by curing the paste according to claim 1 on an ITO or IO conductive glass or metal substrate.
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