JPH0251031A - スペクトル線強度の標準化方法および標準化方法を実施したスペクトルメータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、オプチカルスペクトロメータおよび特にスペ
クトロメータおよび関連の、スペクトル線強度の標準化
方法に関する。

従来の技術 種々の型のオプチカルスペクトロメータは、原子放射ス
ペクトロスコピー、原子吸光スペクトロスコピーおよび
天文学のような目的に対して使用されている。装置全体
は一般に、放射源、個々のスペクトル成分を分離しかつ
検出するスペクトロメータ、およびスペクトロメータか
らの情報を処理するデータステーションから成っている
。放射源は例えば、検査試料を誘導結合されたプラズマ
に注入する装置とすることができ、プラズマにおいて試
料中の原子種は励起されて特徴的な原子放射を放射する
。その他の例として、試料は黒鉛炉において蒸発され、
そこで気体状の試料は生じた放射の特定の周波数を吸収
して、原子吸収線を発生する。類似に、天体源は原子放
射および吸収線を発生する。

ここで特に関心のある型のスペクトロメータは、格子ま
たはプリズムがスペクトルの狭い部分を検出器に指向す
るように回転されるモノクロメータを使用して順次測定
を行う。その角度は、元素の種々の放射（または吸収）
線に相応するように調整される。単一検出器、すなわち
固体検出器またはホトマルチプライア管が使用される。

測定過程には、原子放放射線に固有の格子角度に相応す
る固定位置での測定が行われる格子の回転を伴う。

高級なモノクロメータ、特に誘導結合されたプラズマを
通して注入される試料中の原子の定量分析に対して使用
される型のモノクロメータはマイクロプロセッサおよび
パーソナルコンピュータによって制御される。このよう
な装置は、出願人によって販売されておりかつ米国特許
出願第８３７４３８号明細書、１９８６年３３７日（ｃ
ｏｌｌｉｎｓ）に記載されているＭｏｄｅｌ　Ｐｌａｓ
ｍａＩＩ　　ｅｍｉｓｓｉｏｎ　ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔ
ｅｒがその典型的なものである。ステップモータは格子
を検出器のスリットに関して配向してスペクトルの選択
された部分の強度の測定のためにその部分を位置決めす
る。使用されるマイクロプロセッサは、波長に関して選
択的に配向するためにステップモータに適当な信号を供
給する。マイクロプロセツサはまた、検出器から強度信
号を受信し、かつスペクトル強度対スペクトル位置の形
のデータを形成する。実際には走査信号が、スペクトル
を一連のステップにおいて順次走査するようにモータに
供給される。

高速の走査を行うために、モータに供給される信号は、
選択されたスペクトルバンドそれぞれをある程度余裕を
もってカバーするのに丁度十分な広さであるスペクトル
ウィンドウにおいて走査できるようなものである。モー
タは１つのウィンドウにおいてすべてのステップを通し
て走査し、かつそれから再度複数のステップにおける走
査の開始前に次のウィンドウに迅速に移動し、続いて次
のウィンドウというように、スペクトルバンド全系列に
対して走査を行う。

計器の較正は典型的に、未知の試料について測定を行う
前に、既知の濃度の標準元素について測定することによ
って、およびバックグラウンドまたは試料なしの全測定
によって実施される。これにより較正のために２点が形
成される。

精度を高めるために、源プラズマに注入される試料材料
の量の変化のような源における変動を補償することが必
要である。この目的のために一般に、源における既知の
量に付加される基準元素のスペクトル線の強度を測定す
ることによって標準化が貢われる。各々の実行期間中、
または試料中の未知の元素の実行の間に選択的に、基準
スペクトル線の強度が求められる。試料スペクトル線強
度の、基準スペクトル線の強度に対する比により、未知
の原子種の強度、それにより量の標準化された測定が行
われる。長年末広く使用されているこの方法は連続的標
準化である。不都合な問題点は、結果がプラズマ内に注
入される試料液体に付加された電解質のような外部放射
からの干渉を受けている可能性が大きいことである。こ
のような場合、リカバリー、すなわち測定された強度は
予測できない程低い可能性がある。

別の１つの標準化方法は、１ｍｐｒｏｖｅｄ　Ｐｅｒ−
ｆｏｒｍａｎｃｅ　ｕｓｉｎｇ　Ｉｎｔｅｒｎａｌ　５
ｔａｎｄａｒｉｚａｔｉｏｎ　１ｎＩｎｄｕｃｔｉｖｅ
ｌｙ−ｃｏｕｐｌｅｄ　　Ｐｌａｓｍａ　　Ｅｍｉｓｓ
ｉｏｎＳｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ″Ｓ　、　Ａ　、　Ｍ
ｙｅｒｓおよびり、Ｈ。

Ｔｒａｃｙ著、　５ｐｅｃｔｒｏｃｈｉＩＩｌｉｃａ　
　Ａｃｔａ　、３８　Ｂ　、　　１２２７−１２５３　
（１９８３年）に報告されているようにＭｙｅｒｓおよ
びＴｒａｃｙによって改良された。同時標準化として知
られたこの方法には、源からの入力ビームの一部を分離
することを含んでいる。この分離された部分は更に分離
され、かつ一方の半部は標準スペクトル線強度の測定の
ために使用される。他方の半部は標準および基準スペク
トル線強度から減算されるバックグラウンド放射の測定
のために使用される。マイアース−トレイシー比（“Ｍ
ｙｅｒｓ　−Ｔｒａｃｙ”比）は、試料および標準元素
の補正された強度の比として計算される。この標準化方
法は、補償測定が同時に行われるので、平均精度（リカ
バリー）を著しく改善し、かつＰｅｒｋｉｎ　−ＥＩＩ
ＩＩｅｒＰｌａｓｍａ　ＩＩにおいて使用されている。

発明が解決しようとする問題点 しかしながらそこにはしばしば、個別結果に著しいばら
つきがあり、すなわち精度が低い。

従って本発明の目的は、源変動に対する補償を改良する
ためにスペクトル線強度を標準化する優れた方法および
装置を提供することである。別の目的は、改良されたり
カバリ−および精度を有する分光演す定を効果的に実施
するためのオプチカルスペクトロメータを用いた優れた
方法を提供することである。別の目的は、原子に対する
定量測定における高い精度を可能にするための改良され
たオプチカルスペクトロメータを提供することである。

問題点を解決するための手段 上述の目的は、バックグラウンド放射を有しておりかつ
試料元素、基準元素および標準元素を含んでいる複数の
原子を特徴付けている入力ビームを発生する放射手段と
、入力ビームを試料元素を特徴付けるスペクトル線と基
準元素を特徴付ける基準スペクトル線と標準元素を特徴
付ける標準スペクトル線とバックグラウンド放射のバッ
クグラウンドスペクトルバンドとに分離する分離手段と
、それぞれのスペクトル線およびバックグラウンドバン
ドの強度を測定する測定手段とを含んでいるオプチカル
スペクトロメータにおけるスペクトル線強度を標準化す
る方法によって達成される。

この方法は、放射手段に、それぞれ試料スペクトル線、
基準スペクトル線および標準スペクトル線を発生しかつ
更にバックグラウンドバンドを発生するために、試料元
素、基準元素および標準元素を導入することと、第１時
点ｌ：８いて試料スペクトル線の強度■　　基準スペク
トＡゝ ル線の第１強度Ｉ　　およびバックグラウンドバンドの
第１強度Ｉ　　を測定することと、第２時点において標
準線の強度■　　基準スベクＳ　ゝ トル線の第２強度Ｉ　　およびパックブラウンドバンド
の第２強度Ｉ　　を測定することと、次の式 によって形成される強度比ＩＲを計算することとを有し
ている。強度比ＩＲは放射源変動に対して補償された試
料スペクトル線の標準化された強度を表している。バッ
クグラウンド強度は重要でなければ、省略することがで
きる。

上述の目的は東に、バックグラウンド放射および試料元
素、基準元素および標準元素を含んでいる複数の原子を
特徴付けている入力ビームを発生する放射手段を有して
いるオプチカルスペクトロメータによって達成される。

分離手段は入力ビームを試料元素を特徴付ける試料スペ
クトル線と、基準元素を特徴付ける基準スペクトル線と
標準元素を特徴付ける標準スペクトル線と、バックグラ
ウンド放射のバックグラウンドスペクトルバンドとに分
離する。第１の測定手段は第１時点において試料スペク
トル線の強度■　　基準スペクトル線の第１強度Ｉ　　
おＡ’　　　　　　　　　　　　　　　Ｒ１よびバック
グラウンドバンドの第１強度ＩＢ　ｌを測定する。第２
の測定手段は第２時点において基準スペクトル線の強度
ＩＲ，基準スペクトル線の第２強度Ｉ　　およびバック
グラウンドバンドの第２強度■　　を測定する。計算手
段は次の式 によって形成される強度比ＩＲを計算する。強度比ＩＲ
は、放射源変動に対して補償された試料スペクトル線の
標準化された強度を表している。バックグラウンド強度
は重要でなければ、省略することができる。

有利な実施例によれば、分離手段は分割手段および光学
的な分散手段を有している。分割手段は入力ビームを試
料元素および基準元素を特徴付けている１次ビームと、
標準スペクトル線を有している標準ビームと、バックグ
ラウンドスペクトルバンドを有しているバックグラウン
ドビームとに分割するためのものである。

光学的な分散手段は、試料スペクトル線および基準子ベ
クトル線を有している一連のスペクトル線を発生するた
めに１次ビームの供給を受ける。光学的な分散手段は更
に、試料スペクトル線および標準スペクトル線を順次検
出器に指向させるＩ；めの走査手段を有している。

実施例 次に本発明を図示の実施例につき図面を用いて詳細に説
明する。

源変動を補償するための本発明を実施するオプチカルス
ペクトロメータが第１図のブロック線図に示されている
。ここに図示されているのは、上述のＰｅｒｋｉｎ−Ｅ
１ｍｅｒ社のＰｌａｓｍａｎ　ｅｍｉｓｓｉｏｎｓｐｅ
ｃＬｒｏｍｅＬｅｒに匹敵する型のものである。大まか
に言えば、３つの部分装置、すなわち放射源１０、オプ
チカルスペクトロメータ１２８よびデータプロセッサ１
４がある。

放射源ｌＯは、一般に原子を特徴付けている赤外、可視
および／または紫外放射を発生する。源は例えば、電力
供給部１８によって駆動される誘導結合されたプラズマ
（ｒｃＰ）１６とすることができる。このプラズマ内に
、マトリックス溶液における検査材料（分析物）を含ん
でいる試料が試料注入器２０によって注入される。源は
、原子の放射線または吸収線を発生するように動作する
黒鉛炉等または天体望遠鏡によって集光される光線を放
つ宇宙であってもよい。

試料注入器２０はプラズマ内に、分析用の試料（例えば
未知の）材料、濃度がわかっている選択された標準元素
、および選択された基準元素から成る混合物を注入する
。標準元素は従来通り、試料元素および基準元素に対し
て測定されるべき原子線と干渉しそうもない原子スペク
トル線ヲ有しているスカンジウムまたは他の元素である
。

基準元素は、予測される試料材料に対して類似のスペク
トル特性を有するように選択されている。例えばランタ
ン（２０２，５４８ｎｍ）はマンガンの測定に対する好
適な基準元素である。このように源からの入力ビーム２
２は、試料、基準元素および標準元素を含んでいる複数
の元素の特徴を有している。

１次ビーム２４は、第２図１に詳しく図示されている補
助スペクトロメータを通過する。源ｌＯからの入力ビー
ム２２は約５％の反射率を有しているコーティングされ
ていない石英板２８によって分離される。反射された５
％のビームは続いて補助スペクトロメータ２６内に配向
される。板を透過する９５％分は１次ビーム２４を形成
し、それは第３図に図示されているように、スペクトル
モノクロメータにような従来のスペクトロメータ３０に
配向される。

少なくとも試料元素および基準元素の特徴を有している
１次ビーム２４は入射スリット３１を通過しかつ光線３
２は凹面状のコリメータ３４によって反射性のホログラ
フィック回折格子３６に反射される。格子からスペクト
ルパターンにおいて反射される分散された光線４０は凹
面状の球面鏡４２に達し、それは光線を出射スリット５
０を通して集束して検出器５１に達する。検出器は有利
には最大感、度を得るにはホトマルチプライアであるが
、固体検出器を使用することができる。

駆動アッセンブリ５１は第４図に詳細に図示されている
ように格子を回転するように結合されている。小型モー
タ５２はプーリーとベルトのセット５４を介してウオー
ムギア５３を回すつオームギア５３は扇形ギア５５、ひ
いては回折格子３６の位置を変化する。このようにステ
ッピングモータは、検出手段５０．５１（第３図）に関
して格子３６を配向して、スペクトルの選択された部分
の強度の測定に対してその部分を位置決めする。使用の
マイクロプロセッサユニット５６は、モータを配向する
ように適当な信号を導線５８に送出する。マイクロプロ
セッサはまた検出器５１かも導線６０を介して強度信号
を受取り、かつ選択のｔ；めにコンピュータにプログラ
ムされたスペクトル強度対各線のスペクトル位置の形の
出力信号データを発生する。

スペクトル位置は基本的に波長（または周波数）である
が、内部計算および監視の目的にために通例はモータの
ステップ位置である。選択されたスペクトル線は、試料
および基準元素を特徴付けているスペクトル線である。

更に監視を行いかつまた以下に説明するような本発明を
実施するために、第１図に戻って説明を続けるが、パー
ソナルコンピュータ（ＰＣ）のような第２のデータ処理
ユニット６２は強度および位置に基づいた情報を引き続
き処理するようにプログラミングされている。ＰＣはバ
ス６４を介してマイクロプロセッサ５６と交信し、かつ
必要とあらば更にバス６５を介して、モニタおよびキー
ボードを有する端末装置にようなインタフェースユニッ
トに接続されている（またはインタフェースユニットを
含んでいる）。ＰＣ６２，端末装置６６およびマイクロ
プロセッサ５６は共にデータプロセッサを形成しそれは
単一コンピュータまたは要求されるデータ処理を効果的
に行うために中実装置の部分であってよく、かつまたは
広義で“コンピュータ”である。

再び第２図に関して、補助）スペクトロメータ２６にお
いて５％反射されたビームは２次ビーム６６として視野
絞り開口６８および視野絞りレンズ７０を通って、その
上ｌこアルミニウムが薄くコーティングされている石英
板から成る５０％ビームスプリッタ７２に達する。ビー
ムの半分は続いて２次標準ビーム７４として第１の干渉
フィルタ７６に達する。このフィルタは、４２４．６８
３ｎｍのような選択されたスカンジウム線７７のみを通
す。第１のレンズはスカンジウム線を第１のホト検出器
８０に集光するこのホト検出器は、標準線の強度を表し
ている標準信号を導線８２に出力してＰＣ６２（第１図
）に送出する。

２次ビーム６６の別の半分８４はスプリッタ７２によっ
て反射されて、選択されたバックグラウンドバンド８８
を通すようになっている第２の干渉フィルタ８６に達す
る。例えばＩＣＰがアルゴンガスによって発生されるな
らば、４１９−４２０ｎｍのアルゴンバンドが選択され
ている。第２の集光レンズ９０の後で第２のホトダイオ
ード９２がこのバンドを受信して、導線９４を介してＰ
Ｃ６２に送り（第１図）、つまりバックグラウンドの強
度を表しているバックグラウンド信号を発生する。

標準スペクトル線およびバックグラウンドバンドを分離
しかつ検出するために他の手段を使用することができる
ことは明らかである。例えばスプリッタおよびフィルタ
に代わって分散素子を使用することができる。また補助
スペクトロメータ２６は主スペクトロメータ３０の光学
系から分離することができかつその場合図示の装置の方
が一般に精確ではあるが、源から直接放射を別の角度か
ら受取る。いずれの装置が使用されるにせよ、スペクト
ル線およびバンドの強度は相互に実質的に同時におよび
主スペクトロメータ３０によって行われる測定によって
求めるべきである。

有利な実施例およびこの例によれば、すべての測定は同
時に行うことができるが、第３図に基づいて説明したよ
うなスペクトルモノクロメータ３０は、標準スペクトル
線および試料スペクトル線を順次測定するために検出器
を介してスペクトル線を走査する。順序は本発明にとっ
て重要ではない。簡便性および効率のために標準元素に
対するスペクトル線はコンピュータに指定されておりか
つ有利にはまず測定されかつそのデータはコンピュータ
に記憶され、かつそれから基準スペクトル線および試料
スペクトル線強度を測定するための走査が実行される。

しかしながらこの順序は逆であってもよく、または試料
スペクトル線および基準スペクトル線はすべて、ステッ
プモータを用いて単一の走査実行において順次測定する
ことができる。標準スペクトル線は、後続の計算におけ
る標準強度の有用性を考えると、試料スペクトル線の前
に測定することが最も有利である。実際には複数の線が
測定されかつ類似に処理されるのだが、以下試料の単一
の原子線に基づいて説明する。また、簡単にするために
、データ処理は明らかに相応の電気信号に係わるのだが
、強度測定について説明する。

シーケンスの第１時点で、試料スペクトル線の強度ＩＡ
がモノ、クロメータ３０によって測定される。

同時ｌこ、補助スペクトロメータ２６によって基準スペ
クトル線に対する第１の強度Ｉ　　が測定され、かつバ
ックグラウンドバンドに対する第１の強度’Ｂｌが測定
される。第１の比Ｒ１が次の式に従って計算され、かつ
コンピュータメモリに記憶される： 第１時点とは前であっても後であってもよい第２の時点
で、選択された標準スペクトル線の強度！Ｓがモノクロ
メータによって測定される。第２の時点と同時に、補助
スペクトロメータを用いて基準スペクトル線に対する第
２の強度■　　が測定され、かつバックグラウンドパン
Ｒ２ ドに対する第２の強度■　　が測定される。第２の比Ｒ
２が次の式 ラウンドが取るに足りないと見なされるならば、本発明
ではバックグラウンドを測定または計算する必要はない
。このように強度比はより一般的に に従って計算される。

それから強度比ＩＲがＲ１／Ｒ２として計算されるか、
または それからこの比が従来のように較正を通して原子濃度に
関連付けられる。実際にはＲ１およびＲ２は、一連の実
行の終わりまで記憶することができ、かつそれから濃度
に関するデータを発生するためにすべてのＩＲ計算を実
施することができる。

上述のようにバックグラウンドに対して補正することが
望ま【、い。しかしながら、パラフグと表すことができ
る。

結果の比較のために、比Ｒ１は同時測定を使用する従来
のマイアース−トレイシー内部標準化比と認められる。

更に比較のために、順次の測定に使用される従来の標準
化を表わすものとして比Ｒ５を計算することもできる： 以下の表は源変動に対する比較の４つのレベルの比較結
果を示している。そこにはカルシウム線およびマンガン
線に対するデータが示されており、アルゴンプラズマ内
に注入された２％ＮａＣＩ水溶液中でカルシウムは１０
　ｐｐｍでありかつマンガンはｌｏｐｐｍである。′リ
カバリーは、溶液中の実景に基づいｔ；その論理値に対
する強度比のパーセンテージである。精度（±）は５回
以上の実行の結果が有する広がりから求められたもので
ある。

表 のりカバリ−および精度 補正なし 内部標準化 順次標準化 本発明 Ｃａ　３９３．３６６ ８６．２±３．１ １０２．８±４．４ ９８．５±０．７ １００．０±０，７ Ｍ　ｎ　２５７．６１０ ７５．７±４．４ ９９．１±５．４ ９３．０±０．４ １００．９±１．Ｏ データは、′補正なし″および″順次標準化”がそれぞ
れ結果的に非常に低い測定計算になっていることを示し
ている。その理由は、電解質を含んでいる実際の試料を
シミュレートするために典型的に加算されている電解質
（ここではＮａＣＩ　）からの干渉と考えられる。デー
タはまた“補正なし″および“内部標準化”に対する比
較的低い精度を示している。

しかしながら本発明はりカバリ−および精度とも非常に
良好な結果を呈している。これら結果は特に驚くべきこ
とである。というのは物理的な過程に対して多数の計算
を用いる典型的な経験は精密さおよび精度に欠いており
、好適でないからである。

上述の比計算は非常に簡単であるけれども、本発明は特
に、コンピュータによって自動化されている分光写真装
置、すなわちＰｅｒｋｉｎ　−Ｅｌｍｅｒ　Ｐｌａｓｍ
ａ　　Ｉ［スペクトロメータに適している。計算は標準
化された強度を計算するために使用される既存のコンピ
ュータプログラムに容易に組み入れられる。

第５図は、コンピュータプログラムを用いて本発明を実
施するための方法および手段を説明するためのフローチ
ャートである。初期化（１００）の後に、操作員は内部
標準元素を選択しく１０２）かつ分析シーケンスをスタ
ートする（１０４）。プログラムは、□標準元素に基づ
いて実行されたかどうか、一般には第１の実行について
質問する（１０６）。ｙｅｓ”であれば、標準データが
記憶されかつ次の、元素についての分析が繰り返される
（１０４）。この実行が標準に基づいていなければ、続
く計算は比Ｒ１（１１０）および比Ｒ２（１１２）に対
して行われる。この実行が最後の元素に基づいているの
でなければ（１１４）、プログラムはこの過程を繰り返
すｔ；めに次の元素の分析に戻る。この実行が完了した
とき、元素に対する最終比ＩＲが形成され（１１６）か
つ報告が作成される（１１８）。

最適化を行いかつここで述べられているようなステップ
を実施するために必要である型の具体的なソフトウェア
は、Ｗｈｉｔｅｓｍｉｔｈｓ　Ｌｔｄ、、　ｏｆＣｏｎ
ｃｏｒｄ、　Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓによって開発
されかつそこから市販されているＩＤＲＩＳとして知ら
れている著作権のあるソフトウェアオペレーティングシ
ステムでＣ−ランゲージにおいて働く。

リスティングは、Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ　Ｍｏｄｅ
ｌ　　７５００コンピユータでコンパイルすることがで
き、かつ上述した仕方で動作する。その他の類似のコン
ピュータも同様使用することができかつ他のプログラム
は容易に、同じ機能を実行するために他のプログラミン
グランゲージにおいて開発することができる。

ここまで説明してきたことは、化学分析、すなわち誘導
結合されたプラズマスペクトロメータに対する計器の特
殊な形を使用した有利な実施例に基づいて行われた。し
かしながら当業者であれば、本発明の原理は化学分析に
対する種々の動作にも同様適用することができることが
わかる。特許請求の範囲において特定された本発明の思
想および範囲を逸脱しなければ、当業者は本発明の装置
の上述およびその他の変形を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明を実施するオプチカルスペクトロメー
タ装置のブロック線図であり、第２図および第３図は、
第１図の要素の概略図であり、第４図は、第３図の駆動
アッセンブリ要素の概略図であり、第５図は、本発明を
実施するだめのプログラムの７０−チャートを示す図で
ある。 １０・・・放射源、１２・・・オプチカルスペクトロメ
ータ、１４・・・データプロセッサ、１６・・・プラズ
マ、２２・・・入力ビーム、２４・・・１次ビーム、２
６・・・補助スペクトロメータ、３０・・・主スペクト
ロメータ、５１・・・駆動アッセンブリ、５６・・・マ
イクロプロセッサ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、試料元素、基準元素および標準元素を含んでいる複
   数の原子を特徴付ける入力ビームを発生する放射手段と
   、入力ビームを試料元素を特徴付ける試料スペクトル線
   と、基準元素を特徴付ける基準スペクトル線と、標準元
   素を特徴付ける標準スペクトル線とに分離する分離手段
   と、前記スペクトル線それぞれの強度を測定する測定手
   段とを具備しているオプチカルスペクトルメータにおけ
   るスペクトル線強度の標準化方法において、 それぞれ試料スペクトル線、および基準ス ペクトル線および標準スペクトル線を発生するために、
   前記放射手段に試料元素、基準元素および標準元素を導
   入し、かつ第１時点において試料スペクトル線の強度Ｉ
   ＿Ａおよび基準スペクトル線の第１の強度Ｉ＿Ｒ＿１を
   一定し、かつ第２時点において標準線の強度Ｉ＿Ｓおよ
   び基準スペクトル線の第２の強度Ｉ＿Ｒ＿２を測定し、
   かつ次の式 ＩＲ＝（Ｉ＿Ａ／Ｉ＿Ｒ＿１）÷（Ｉ＿Ｓ／Ｉ＿Ｒ＿２
   ）によって形成される強度比ＩＲ＿０を計算し、ただし
   該強度比ＩＲ＿０は放射源変動に対して補償された試料
   スペクトル線の標準化された強度を表すものであること
   を特徴とするスペクトル線強度の標準化方法。 ２、バックグラウンド放射を有しておりかつ試料元素、
   基準元素および標準元素を含んでいる複数の原子を特徴
   付けている入力ビームを発生するための放射手段と、入
   力ビームを試料元素を特徴付けている試料スペクトル線
   と、基準元素を特徴付けている基準スペクトル線と、標
   準元素を特徴付けている標準スペクトル線と、バックグ
   ラウンド放射のバックグラウンドスペクトルバンドとに
   分離する分離手段と、スペクトル線のそれぞれの強度お
   よびバックグラウンドバンドの強度を測定する測定手段
   とを具備しているオプチカルスペクトロメータにおける
   スペクトル線強度の標準化方法において、 前記スペクトロメータにおいてそれぞれ、 試料スペクトル線、基準スペクトル線および標準スペク
   トル線を発生しかつ更にバックグラウンドスペクトルバ
   ンドを発生するために、前記放射手段に試料元素、基準
   元素および標準元素を導入し、かつ第１時点において試
   料スペクトル線の強度Ｉ＿Ａ、基準スペクトル線の第１
   の強度Ｉ＿Ｒ＿１およびバックグラウンドバンドの第１
   の強度Ｉ＿Ｂ＿１を測定し、かつ第２時点において標準
   スペクトル線の強度 Ｉ＿Ｓ、基準スペクトル線第２の強度Ｉ＿Ｒ＿２および
   バックグラウンドバンドの第２の強度 Ｉ＿Ｂ＿２を測定し、かつ次の式 Ｒ＝｛（Ｉ＿Ａ−Ｉ＿Ｂ＿１）／（Ｉ＿Ｒ＿１−Ｉ＿Ｂ
   ＿１）｝÷｛（Ｉ＿Ｓ−Ｉ＿Ｂ＿２）／（Ｉ＿Ｒ＿２／
   Ｉ＿Ｂ＿２）｝によって形成される強度比ＩＲを計算し
   、ただし前記強度比ＩＲは放射源変動に対して補償され
   た試料スペクトル線の標準化された強度を表しているこ
   とを特徴とするスペクトル線強度の標準化方法。 ３、分離手段は、入力ビームを試料元素および基準元素
   を特徴付ける１次ビームと、標準スペクトルを有してい
   る標準ビームと、バッググラウンドスペクトルバンドを
   有しているバッググラウンドビームとに分離する分離手
   段と、試料スペクトル線および基準スペクトル線を有し
   ている一連のスペクトル線を発生するための１次ビーム
   が供給される光学的な分散手段を有していることを特徴
   とする請求項２記載のスペクトル線強度の標準化方法。 ４、第１時点と第２時点とは時間的に一致する請求項２
   記載のスペクトル線強度を標準化方法。 ５、第１時点および第２時点は順次連続する請求項２記
   載のスペクトル線の強度の標準化方法。 ６、試料元素、基準元素および標準元素を含んでいる複
   数の原子を特徴付けている入力ビームを発生する放射手
   段と、入力ビームを試料元素を特徴付ける試料スペクト
   ル線と、基準元素を特徴付ける基準スペクトル線と、標
   準元素を特徴付ける標準スペクトル線とに分離する分離
   手段と、第１時点において試料スペクトル線の強度Ｉ＿
   Ａおよび基準スペクトル線の第１強度Ｉ＿Ｒ＿１を測定
   する第１測定手段と、第２時点において標準スペクトル
   線の強度Ｉ＿Ｓおよび基準スペクトル線の第２強度Ｉ＿
   Ｒ＿２を測定する第２測定手段と、次の式 ＩＲ＿０＝（Ｉ＿Ａ／Ｉ＿Ｒ＿１）÷（Ｉ＿Ｓ／Ｉ＿Ｒ
   ＿２）によって形成される強度比ＩＲ＿０を計算する計
   算手段とを有しており、ただし強度比 ＩＲ＿０は放射源変動に対して補償された試料スペクト
   ル線の標準化された強度を表していることを特徴とする
   オプチカルスペクトロメータ。 ７、バックグラウンド放射を有しておりかつ試料元素、
   基準元素および標準元素を含んでいる複数の原子を特徴
   付けている入力ビームを発生する放射手段と、入力ビー
   ムを試料元素を特徴付ける試料スペクトル線と、基準元
   素を特徴付ける基準スペクトル線と、標準元素を特徴付
   ける標準スペクトル線と、バックグラウンド放射のバッ
   クグラウンドスペクトルバンドとに分離する分離手段と
   、第１時点において試料スペクトル線の強度Ｉ＿Ａ、基
   準スペクトル線の第１強度Ｉ＿Ｒ＿１およびバックグラ
   ウンドバンドの第１強度Ｉ＿Ｂ＿１を測定する第１測定
   手段と、第２時点において標準スペクトル線強度Ｉ＿Ｓ
   、基準スペクトル線の第２強度Ｉ＿Ｒ＿２およびバック
   グラウンドバンドの第２強度Ｉ＿Ｂ＿２を測定する第２
   測定手段と、次の式 ＩＲ＝｛（Ｉ＿Ａ−Ｉ＿Ｂ＿１）／（Ｉ＿Ｒ＿１−Ｉ＿
   Ｂ＿１）｝÷｛（Ｉ＿Ａ−Ｉ＿Ｂ＿１）／（Ｉ＿Ｒ＿２
   −Ｉ＿Ｂ＿２）｝によって形成される強度比ＩＲを計算
   する計算手段とを有してぉり、ただし強度比ＩＲは放射
   源変動に対して補償された試料スペクトル線の標準化さ
   れた強度を表していることを特徴とするオプチカルスペ
   クトロメータ。 ８、分離手段は、入力ビームを試料元素および基準元素
   を特徴付けている１次ビームと標準スペクトル線を有し
   ている標準ビームとバックグラウンドスペクトルバンド
   を有しているバックグラウンドビームとに分割する分割
   手段と、試料スペクトル線および基準スペクトル線を有
   している一連のスペクトル線を発生するために前記１次
   ビームを供給される光学的分散手段を有していることを
   特徴とする請求項７記載のスペクトロメータ。 ９、第１の測定手段は、試料スペクトル線が供給される
   第１の１次検出器と、基準スペクトル線が供給される基
   準検出器と、バックグラウンド線が供給されるバックグ
   ラウンド検出器とを有しており、かつ第２の測定手段は
   、標準スペクトル線が供給される第２の１次検出器およ
   び更に基準検出器およびバックグラウンド検出器を有し
   ていることを特徴とする請求項８記載のスペクトロメー
   タ。 １０、第２の１次検出器は、第１の１次検出器から成り
   、かつ光学的分散手段は、試料スペクトル線および標準
   スペクトル線を順次１次検出器に指向するための走査手
   段を有していることを特徴とする請求項９記載のスペク
   トロメータ。