JPH024946B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、図形拡大および／または縮小処理シ
ステム、特に基準図形を区分した区分パターンに
ついて拡大および／または縮小率に対応して細分
パターンを抽出して、拡大および／または縮小さ
れた変換区分パターンを求める巨視的変換回路部
をもうけ、その結果について微視的な処理によつ
て補正を行なうようにした図形拡大および／また
は縮小処理システムに関するものである。

基準図形パターンをメモリなどに記憶しておい
て、該メモリの内容にもとづいて当該基準図形パ
ターンが例えば表示装置によつて定まるドツト間
隔をもつて可視的に表示することが行なわれる。
そしてこの場合に各大きさに対応した図形パター
ンを夫々用意することは得策でなく、必要に応じ
て任意の大きさに拡大および／または縮小した上
で表示することが望まれ、既に多くの工夫がなさ
れている。しかし、従来公知のものはＶ×Ｗドツ
トの基準図形パターンについて、１つの横行およ
び／または縦列に着目して例えば隣近横行および
または隣接縦列との関連のもとで増加および／ま
たは抹消を行なうようにしているものが多く、基
準図形パターンを区分した区分パターンに着目し
て当該区分パターンを拡大および／または縮小す
るという発想に立つたものはきわめて少ない。

本発明は上記発想に立つて基準図形パターンを
拡大および／または縮小する処理システムを提供
することを目的としている。そしてそのため、本
発明の図形拡大および／または縮小処理システム
は、所定のドツト間隔にて構成されるＶ（横方向）
×Ｗ（縦方向）のドツト・マトリクスで与えられ
る基準図形パターンをそなえ、 該基準図形パターンから上記所定のドツト間隔
と同一のドツト間隔にて構成されるＶ（横方向）×
W′（縦方向）のドツト・マトリクスで与えられる
拡大または縮小図形パターンを生成する図形拡大
および／または縮小処理システムにおいて、 上記基準図形パターンを（Ｖ／ｔ）×（Ｗ／t′）
に区分して複数の区分パターン領域とし、 上記拡大または縮小図形パターンを（V′／ｔ）
×（W′×t′）に区分して複数の変換区分パターン
領域とし、 拡大または縮小率を横方向にｑ／ｒ（ｑ＝V′／ｔ， ｒ＝Ｖ／ｔ）でかつ縦方向にq′／r′（q′＝W′／t′
，r′＝ Ｗ／t′）で与えられるとき、 上記各区分パターン領域を（Ｖ／ｒ・ｔ）×
（Ｗ／r′・t′）の大きさをもつ複数の第１の細分パ
ターン領域に区分し、 上記各変換区分パターン領域を（V′／ｑ・ｔ）
×（W′／q′・t′）の大きさをもつ複数の変換細分
パターン領域に区分し、 上記区分パターン領域に対応する上記変換区分
パターン領域について、 該変換区分パターン領域における所定の変換細
分パターン領域内のドツト情報を上記対応する区
分パターン領域における第１の細分パターン領域
内のドツト情報にもとづいて予め定められたアル
ゴリズムにしたがつて導出し、 該変換区分パターン領域における上記所定の変
換細分パターン領域以外の変換細分パターン領域
内のドツト情報を上記対応する区分パターン領域
における第１の細分パターン領域内のドツト情報
及び導出された上記所定の変換細分パターン領域
内のドツト情報とにもとづいて予め定められたア
ルゴリズムにしたがつて導出する巨視的変換回路
部を設けると共に、 当該巨視的変換回路部よつて抽出された各変換
区分パターン領域内のパターンについて線幅の補
正を含む微視的な補正処理を予め定めたアルゴリ
ズムにしたがつて実行する補正回路部をもうけて
なり、上記基準図形パターンを、ドツト間隔を同
一に保ちつつ（Ｖ・ｑ／ｒ）×（Ｗ・q′／r′）に拡
大または縮小したV′×W′ドツト・ストリクスよ
りなる図形パターンを生成するようにしたことを
特徴としている。以下図面を参照しつつ説明す
る。

第１図は本発明の一実施例全体構成、第２図
Ａ，Ｂは本発明によつて3/4倍の大きさに縮小し
た結果を説明する説明図、第３図Ａ，Ｂ，Ｃは本
発明にいう巨視的変換回路部による処理の概念を
説明する説明図、第４図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは夫々上
記巨視的変換回路部による処理を説明する説明
図、第５図ａないしｌは夫々上記巨視的変換回路
部によつて変換された典型的な態様を説明する説
明図、第６図は線幅補正に関して補正の対象とな
る縦列を説明する説明図、第７図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
は夫々線幅補正に関して行なわれる４方向連結処
理を説明する説明図、第８図は線幅補正を説明す
る説明図、第９図Ａ，Ｂは線幅補正などによつて
生じた非所望な穴うめ処理の態様を説明する説明
図、第１０図Ａ，Ｂ，Ｃは明朝体文字の書き出し
部のセリフ整形の態様を説明する説明図、第１１
図Ａ，Ｂは文字の書き終り部を修正する態様を説
明する説明図、第１２図は本発明にいう巨視的変
換回路の一実施例構成、第１３図は第９図に示す
穴うめ処理を行なう穴うめ処理回路の一実施例を
示す。

第１図において、１は巨視的変換回路部、２は
線幅補正回路部、３は文字整形回路部を示してお
り、本発明の処理システムは大別して上記３つの
回路部によつて構成されると考えてよい。巨視的
変換回路部１はその内部に、４隅決定回路４と４
辺決定回路５と中央決定回路６とをそなえてい
る。また線幅補正回路部２はその内部に４方向連
結処理回路７と処理列決定回路８と補正処理回路
９とをそなえている。更に文字整形回路部３はそ
の内部に穴うめ処理回路１０と書き出しセリフ整
形回路１１と書き終りのみだれ整形回路１２とを
そなえている。

以下順に説明するが、以下の説明においては、
基準図形パターンPATTが第２図Ａ図示の如く
32×32ドツトをもつて構成されており、当該基準
図形パターンPATTを第２図Ｂ図示の如く24×
24ドツトをもつ縮小図形パターン１３に縮小する
場合を参考にして説明する。

図示の場合、基準図形パターンPATTを８×
８個の区分パターン１４に区分し、各区分パター
ン１４を3/4倍した変換区分パターン１４′を決定
して、全体の縮小図形パターン１３を生成するよ
うにしている。即ち図示の場合には区分パターン
１４は４×４ドツトの大きさをもち、該区分パタ
ーン１４を3/4倍した変換区分パターン１４′は３
×３ドツトの大きさをもち、該変換区分パターン
１４′を64個まとめた縮小図形パターンは24×24
ドツトの大きさをもつ。

第３図Ａ，Ｂ，Ｃは第１図図示の巨視的変換回
路部１による処理の概念を説明する説明図を示し
ている。該巨視的変換回路部においては、基準図
形パターンPATTの第２図Ａに示す区分パター
ン１４を、例えば縮小率3/4に対応するよう、４
×４個の第１の細分パターン領域１５に細分す
る。即ち大きさ１×１ドツトの第１の細分パター
ン領域１５を考慮する。また一方、上記縮小率に
対応するよう、上記区分パターン１４を３×３個
の第２の細分パターン領域１６に細分する。即ち
大きさ4/3×4/3ドツトの第２の細分パターン領域
１６を考慮する。このようにすることによつて、
例えば第３図Ａ図示左上隅の第２の細分パターン
領域１６については、第３図Ａ図示左上隅の第１
の細分パターン領域１５が全体の9/16の面積を占
め、かつ隣接する第１の細分パターン領域が夫々
３／１６，3/16，1/16の割合で関連する形となる。こ
の面積の割合を考慮して、第３図Ｂ図示の区分パ
ターン１４内の第１の細分パターン領域１５を
ａ，ｂ，ｃ，……ｐとラベルを与えたときに、第
３図Ｃ図示の変換区分パターン１４内に変換細分
パターン領域１５′を考慮して夫々にラベルＡ，
Ｂ，Ｃ，……Ｉを与えた各ラベル対応の変換細分
パターン領域内のパターンを次のように与えるよ
うにする。即ち、 (i) 第３図Ｃ図示のラベルＡ，Ｃ，Ｇ，Ｉをもつ
４つの隅の変換細分パターン領域１５′内のパ
ターンについて、 Ａ＝ａ Ｃ＝ｄ，₇ ＝ｍ， Ｉ＝ｐ―(1) を与えるようにする。即ち、例えばラベルａを
もつ細分パターン１５の内容をもつて、そのま
まラベルＡをもつ変換細分パターン領域１５′
の内容とする。

(ii) 第３図Ｃ図示のラベルＤ，Ｆ，Ｂ，Ｈをもつ
４つの辺位置の変換細分パターン領域１５′内
のパターンについて、 Ｄ＝Ｘ（ｅ，ｉ，ｆ，ｊ） Ｆ＝Ｘ（ｈ，ｌ，ｇ，ｋ） ―(2) Ｂ＝Ｙ（ｂ，ｃ，ｆ，ｇ，Ｄ，Ｆ） Ｈ＝Ｙ（ｎ，ｏ，ｊ，ｈ，Ｄ，Ｆ）―(3) によつて表わされる関数Ｘ，Ｙをもつて与える
ようにする。なお、上記ラベルＢとＨとをもつ
変換細分パターン１５′について、ラベルＤと
Ｆとをもつ変換細分パターン１５′の内容を考
慮しているが、その理由は後述する。

(iii) 第３図Ｃ図示のラベルＥをもつ中央位置の変
換細分パターン領域１５′内のパターンについ
て、 Ｅ＝Ｚ（ｆ，ｇ，ｊ，ｋ，Ｄ，Ｆ） ―(4) によつて表わされる関数Ｚをもつて与えるよう
にする。

上記の如く第１の細分パターン領域１５の内容
にもとづいて、区分パターン１４の大きさを3/4
倍した変換区分パターン１４′に対応した変換細
分パターン領域１５′の内容を決定することによ
つて、区分パターン１４の形状を大幅に変更させ
ることなく変換区分パターン１４′が得られる。

第４図Ａは、上記第(2)式に示す関数Ｘ（ｅ，ｉ，
ｆ，ｊ）についての真理値表を説明する説明図で
あり、細分パターン領域ｅ，ｉ，ｆ，ｊの内容に
もとづいて関与する面積の割合を考慮して得た多
数決論理をとるようにしていると考えてよい。関
数Ｘ（ｈ，ｉ，ｇ，ｋ）についても同様であり、
説明を省略する。

第４図Ｂは、上記第(3)式に示す関数Ｙ（ｂ，ｃ，
ｆ，ｇ，Ｄ，Ｆ）についての真理値表を説明する
説明図であり、細分パターン領域ｂ，ｃ，ｆ，ｇ
の内容にもとづいて関与する面積の割合を考慮し
て得た多数決論理に実質上もとづくようにしてい
るが、第４図Ｃに示す如き区分パターン１４の形
状を大きく変化させることなく変換区分パターン
１４′を得るために、先に決定されたラベルＤ，
Ｆをもつ変換細分パターン領域１５′の内容を考
慮して修飾せしめている。なお、関数Ｙ（ｎ，ｏ，
ｊ，ｋ，Ｄ，Ｆ）についても同様であり説明を省
略する。

第４図Ｄは、上記第(4)式に示す関数Ｚ（ｆ，ｇ，
ｊ，ｋ，Ｄ，Ｆ）についての真理値表を説明する
説明図であり、細分パターン領域ｆ，ｇ，ｊ，ｋ
の内容にもとづいて関与する面積の割合を考慮し
て得た多数決論理に実質上もとづくようにしてい
るが、第４図Ｃに示す如き態様を考慮して、先に
決定されたラベルＤ，Ｆをもつ変換細分パターン
領域１５′の内容を考慮して修飾せしめている。

上記の如く変換されて変換区分パターン１４′
が得られるが、当該変換区分パターン１４′にも
とづいて図形パターン１３が一応得られる。しか
し当該得られた図形パターン１３のままでは細部
にわたる形状に関してなお十分ではない。このた
めに当該得られた図形パターン１３について部分
的な補正など細部にわたる修正を行うことが望ま
れる。以下、すべての上記得られた変換区分パタ
ーン１４′にもとづいて得られたままの図形パタ
ーン１３についての処理に関して説明する。

第５図は、上述の如き処理を行なう巨視的変換
回路１によつて得られた結果の典型的な態様を説
明する説明図を示している。なお図示第５図ｈは
第４図Ｃに示す如き態様を考慮した結果得られた
ものである。第５図ａないしｌ図示のものにおい
て、明朝体の活字について問題となるものは、第
５図ｆ図示の形態である。即ち、明朝体の活字の
場合には、横線にくらべて縦線の幅を大にされて
いる。例えば第２図Ａ図示の基準図形パターン
（32×32ドツト）について言えば、横線の線幅は
１ドツト幅で与えられ、縦線の線幅は２ドツト幅
で与えられている。このため、上述の巨視的変換
回路１によつて得られた結果において、横線の線
幅はそのまま保存されるが、縦線の線幅が或る場
合には２ドツト幅のまま残り、またある場合には
１ドツト幅のものに縮退されることが生じる。

第１図図示の線幅補正回路部２は上記第５図ｆ
図示の如き線幅の縮退に対応する線幅補正を行な
う回路部であると考えてよい。上記第５図ｆから
も判る如く、縦線の線幅が縮退されるのは、変換
区分パターン１４′において縦中央の列に縦線が
現われる場合のみである。このことから、第１図
図示の線幅補正回路部２においては、第６図図示
の如く、縮小図形パターン１３についての α＝3β−１；（β＝１，２，…，８）―(5) で与えられる列について、線幅縮退に対処する処
理を行なう。この処理については、第８図を参照
して説明するが、それに先立つて、第７図Ａない
しＤに示す如き４方向連結処理が、第１図図示の
４方向連結処理回路７によつて行なわれる。これ
は、上記巨視的変換回路１によつて得られた結果
においては、第５図Ｃに示すように斜め方向に連
結されたパターン線分をも正しく拾つているが、
第８図を参照して説明する処理に当つて、当該正
しく拾われている斜め方向に連結されたパターン
線分に非所望な切れ目が生じる危険性があるため
である。

４方向連結処理回路７による第７図図示の処理
においては、第７図図示の如く、変換区分パター
ン１４′を３×３の観測窓によつて走査してゆき、
第７図ＡないしＤ図示の各左側に示した如きパタ
ーンが現われた際に図示右側に示した如きパター
ンに変換するようにされる。なお図中「１」は黒
点に、「０」は白点に、「×」はドント・ケヤ点に
対応している。上記処理は、斜め方向に連結して
いるパターン線分が現われた際に、上下左右の方
向のいずれかをもつて当該線分が連結されるよう
に修正するものと考えてよい。そして、その処理
は、第１３図を参照して説明する如き回路構成を
用いて、ROMの内容を所望の形に選んでおけば
容易に得られるので、説明を省略する。

第１図図示の線幅補正回路部２においては、上
述の４方向連結処理を行なつた上で、第６図図示
の第(5)式に対応する列を選んで、補正処理回路９
によつて、次の処理を行なう。即ち、第８図図示
のハツチングを記入した変換細分パターン領域
（ラベル……Ｋ，Ｐ，Ｔ……）が線幅補正の対象
となる列であるとした場合、第（3β―１）列上
の変換細分パターン……Ｋ，Ｐ，Ｔ，……におけ
るパターンＰの場合を例に挙げて言えば、線幅補
正の対象となるものは、 対象条件＝Ｐ・・ ―(6) なる論理式で与えられる場合である。そして、こ
の条件が満足されているとき、ラベルＮとラベル
Ｑとをもつ変換細分パターン領域１５′のいずれ
か一方に黒点（論理「１」）を与えるようにする。
ただこの場合に、第８図図示のラベルＭをもつ領
域が黒点であつた場合に、ラベルＮをもつ領域側
を強制的に黒点にすると、黒点が非所望に横方向
に連結することとなる。このような場合には、ラ
ベルＱをもつ領域側を強制的に黒点にすることが
望ましい。

したがつて、第１図図示補正処理回路９におい
ては、(i)上記第(5)式を満足する変換細分パターン
領域１５′の位置を抽出すると共に、(ii)第(6)式を
満足するものが現われたときにおける第（3β―
３）列上の領域が黒点となつている個数（以下、
当該個数を仮に個数JNUMと呼びその値は一般
には２以上の整数となる）をカウントし、即ち、
第８図図示の例で言えば、ラベルＰをもつ領域が
第(6)式を満足しているとして、ラベルＭをもつ領
域が黒点となつている場合の個数JNUMをカウ
ントし、(iii)第(6)式を満足するものが現われたとき
における第（3β＋１）列上の領域が黒となつて
いる個数（以下、当該個数を仮に個数KNUMと
呼びその値は一般には２以上の整数となる）をカ
ウントし、即ち、第８図図示の例で言えば、ラベ
ルＰをもつ領域が第(6)式を満足しているとして、
ラベルＲをもつ領域が黒点となつている場合個数
KNUMをカウントする。そして、(i)もしも JNUMKNUM ならば、第3β列を第（3β―１）列に対する線幅
補正列に決定し、即ち第８図図示ラベルＱをもつ
領域側を黒点とし、(ii)もしも JNUM＜KNUM ならば、第（3β―２）列を第（3β―１）列に対
する線幅補正列に決定し、即ち第８図図示ラベル
Ｎをもつ領域側を黒点とするようにする。そして
更に、上記のようにした結果において、第８図図
示のラベルＱをもつ領域を黒点に変更した場合、
たまたまラベルＲをもつ領域が黒点であつた場合
には当該ラベルＲをもつ領域を強制的に白点に変
更せしめるようにする。

上記の処理によつてほぼ所望の縮小図形パター
ンを得ることができるが、上記線幅補正回路部２
までの処理結果において不自然な凹凸が残つてい
る場合がある。また明朝体の活字の場合には、文
字を構成するストロークの書き出し位置にセリフ
がつけられていて、この整形を行なうことが望ま
れる。更に上記ストロークの書き終り位置にみだ
れが生じている場合には、それをも正しく整形す
ることが望まれる。第１図図示の文字整形回路部
３は、これらの処理を行なうものと考えてよい。

第１図図示の穴うめ処理回路１０は、第９図図
示の如き処理を行なう。即ち、線幅補正回路部２
によつて得られた結果について、変換区分パター
ン１４′に対応する３×３の観測窓によつて走査
してゆき、第９図Ａ，Ｂ図示の左側のパターンが
現われた際に右側のパターンの如く整形を行な
う。この処理回路の構成については、第１３図を
参照して後述する。

第１図図示の書き出しセリフ整形回路１１は、
第１０図Ａ図示の如きパターンをもつ書き出し部
分が見出されたとき、第１０図Ｂ図示の如きパタ
ーンに整形する処理を行なう。この場合、書き出
し部分に対応する横行において、第１０図Ｃ図示
上方の左側に示す如きパターンが現われたとき右
側に示す如きパターンに整形し、次の横行におい
て、第１０図Ｃ図示下方の左側に示す如きパター
ンが現われたとき右側に示す如きパターンに整形
する。

第１図図示の書き終りのみだれ整形回路１２
は、第１１図Ａ，Ｂに示す如く処理を行なうもの
と考えてよい。即ち、第１１図Ａ図示左側の如き
パターンが現われたとき、右側の如きパターンに
整形し、また第１１図Ｂ図示左側の如きパターン
が現われたとき、右側の如きパターンに整形す
る。

なお第１０図図示の場合の処理や第１１図図示
の場合の処理についても、第１３図において後述
する如き構成によつて、３×３の観測窓を用いる
走査によつて、上記書き出し位置と上記書き終り
位置とを抽出して、夫々対応した整形を行う。

第１２図は第１図図示の巨視的変換回路部１の
一実施例構成を示す。図中の符号１７は関数Ｘ
（ｅ，ｉ，ｆ，ｊ）に対応した出力を格納してい
るROM，１８は関数Ｘ（ｈ，ｌ，ｇ，ｋ）に対
応した出力を格納しているROM，１９は関数Ｙ
（ｂ，ｃ，ｆ，ｇ，Ｄ，Ｆ）に対応した出力を格
納しているROM，２０は関数Ｙ（ｎ，ｏ，ｊ，
ｋ，Ｄ，Ｆ）に対応した出力を格納している
POM，２１は関数Ｚ（ｆ，ｇ，ｊ，ｋ，Ｄ，Ｆ）
に対応した出力を格納しているROMを表わして
いる。第３図Ｂに示した各ラベルａ，ｂ，……ｐ
をもつ細分パターン領域１５の内容が与えられた
とき、第(1)式ないし第(3)式に対応した形で、第３
図Ｃ図示の各ラベルＡ，Ｂ，……，Ｉをもつ変換
細分パターン領域１５′の内容が抽出される。

第１３図は第１図図示の穴うめ処理回路１０の
一実施例を示す。図中の符号２２，２３，２４は
夫々レジスタ、２５，２６は夫々行シフト・レジ
スタであつて第２図Ｂ図示の場合には（24×３−
３）段の段数をもつもの、２７はROMである。
該ROM２７は、第９図ＡおよびＢの図示左側の
パターンに対応する信号がアドレスとしてアクセ
スされたときに、第９図図示右側のパターンに対
応する＊印の領域に対して強制的に論理「１」を
与えるデータが格納されている。

第１図図示の線幅補正回路部２からの出力が変
換細分パターン領域１５′の内容を１つの単位と
して順次供給されるとき、各シフト・レジスタ２
２，２３，２４からの出力は、従来周知の如く、
第９図図示の３×３の観測窓に対応した，，
，…の内容がROM２７のアドレスとして供
給される。そして、第９図ＡおよびＢ図示右側の
パターンに対応するROM２７のアドレス位置に
は、図示＊印の領域の内容を論理「１」にする値
が格納されており、当該値がROM２７から読出
されたときに、図示＊印の領域の内容を論理
「１」にする。

なお、第１０図や第１１図に関連して説明した
整形においても、同様な構成が用いられ、第１３
図図示のROM２７の内容が異なるだけと考えて
よい。

以上説明した如く、本発明によれば、与えられ
た拡大および／または縮小率ｑ／ｒやq′／r′に対
応して、所望の図形パターンを生成することがで
きる。そして、区分パターンに着目して、当該区
分パターンの形状を変えない形で拡大および／ま
たは縮小するので、非所望な変形を生じることが
さけられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例全体構成、第２図
Ａ，Ｂは本発明によつて3/4倍の大きさに縮小し
た結果を説明する説明図、第３図Ａ，Ｂ，Ｃは本
発明にいう巨視的変換回路部による処理の概念を
説明する説明図、第４図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは夫々上
記巨視的変換回路部による処理を説明する説明
図、第５図ａないしｌは夫々上記巨視的変換回路
部によつて変換された典型的な態様を説明する説
明図、第６図は線幅補正に関して補正の対象とな
る縦列を説明する説明図、第７図Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ
は夫々線幅補正に関して行なわれる４方向連結処
理を説明する説明図。第８図は線幅補正を説明す
る説明図、第９図Ａ，Ｂは線幅補正などによつて
生じた非所望な穴うめ処理の態様を説明する説明
図、第１０図Ａ，Ｂ，Ｃは明朝体文字の書き出し
部のセリフ整形の態様を説明する説明図、第１１
図Ａ，Ｂは文字の書き終り部を修正する態様を説
明する説明図、第１２図は本発明にいう巨視的変
換回路の一実施例構成、第１３図は第９図に示す
穴うめ処理を行なう穴うめ処理回路の一実施例を
示す。 図中、１は巨視的変換回路部、２は線幅補正回
路部、３は文字整形回路部、４は４隅決定回路、
５は４辺決定回路、６は中央決定回路を表わす。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 所定のドツト間隔にて構成されるＶ（横方向）
   ×Ｗ（縦方向）のドツト・マトリクスで与えられ
   る基準図形パターンをそなえ、 該基準図形パターンから上記所定のドツト間隔
   と同一のドツト間隔にて構成されるV′（横方向）
   ×W′（縦方向）のドツト・マトリクスで与えられ
   る拡大または縮小図形パターンを生成する図形拡
   大および／または縮小処理システムにおいて、 上記基準図形パターンを（Ｖ／ｔ）×（Ｗ／t′）
   に区分して複数の区分パターン領域とし、 上記拡大または縮小図形パターンを（V′／ｔ）
   ×（W′／t′）に区分して複数の変換区分パターン
   領域とし、 拡大または縮小率を横方向にｑ／ｒ（ｑ＝V′／ｔ， ｒ＝Ｖ／ｔ）でかつ縦方向にq′／r′（q′＝W′／t′
   ，r′＝ Ｗ／t′）で与えられるとき、 上記各区分パターン領域を（Ｖ／ｒ・ｔ）×
   （Ｗ／r′・t′）の大きさをもつ複数の第１の細分パ
   ターン領域に区分し、 上記各変換区分パターン領域を（V′／ｑ・ｔ）
   ×（W′／q′・t′）の大きさをもつ複数の変換細分
   パターン領域に区分し、 上記区分パターン領域に対応する上記変換区分
   パターン領域について、 該変換区分パターン領域における所定の変換細
   分パターン領域内のドツト情報を上記対応する区
   分パターン領域における第１の細分パターン領域
   内のドツト情報にもとづいて予め定められたアル
   ゴリズムにしたがつて導出し、 該変換区分パターン領域における上記所定の変
   換細分パターン領域以外の変換細分パターン領域
   内のドツト情報を上記対応する区分パターン領域
   における第１の細分パターン領域内のドツト情報
   及び導出された上記所定の変換細分パターン領域
   内のドツト情報とにもとづいて予め定められたア
   ルゴリズムにしたがつて導出する巨視的変換回路
   部を設けると共に、 当該巨視的変換回路部によつて抽出された各変
   換区分パターン領域内のパターンについて線幅の
   補正を含む微視的な補正処理を予め定めたアルゴ
   リズムにしたがつて実行する補正回路部をもうけ
   てなり、上記基準図形パターンを、ドツト間隔を
   同一に保ちつつ（Ｖ・ｑ／ｒ）×（Ｗ・q′／r′）に
   拡大または縮小したV′×W′のドツト・マトリク
   スよりなる図形パターンを生成するようにしたこ
   とを特徴とする図形拡大および／または縮小処理
   システム。