JPH0248565A - ジチオアセタール基を含有する新規のエステル、その製法及びそのエステルを利用した有機物質の安定化 - Google Patents
ジチオアセタール基を含有する新規のエステル、その製法及びそのエステルを利用した有機物質の安定化Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/50—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C323/51—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/52—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエステル基及びジチオアセタール基の両者を含
有する有機硫黄化合物、その製法、及びその化合物を利
用する有機物質の安定化に関する。
有する有機硫黄化合物、その製法、及びその化合物を利
用する有機物質の安定化に関する。
エステル基を含有するチオエーテル類は有機物質の安定
剤として知られている。
剤として知られている。
例えば、式:
%式%]
U式中、RはC18ト(37−又はC121(2s−を
表ゎず〕のチオニーデルエステルはプラスチック物質を
酸化から確実に保護するために使用されている(Inf
ormation chimie No、265. 1
985年10月 173ページ)。
表ゎず〕のチオニーデルエステルはプラスチック物質を
酸化から確実に保護するために使用されている(Inf
ormation chimie No、265. 1
985年10月 173ページ)。
米国特許第2.393.327弓明細J:は、主鎖中に
少なくとも2個の炭素原子で隔てられた2個の硫黄原子
を有しており、合成樹脂の可塑剤として使用される化合
物を記載している。
少なくとも2個の炭素原子で隔てられた2個の硫黄原子
を有しており、合成樹脂の可塑剤として使用される化合
物を記載している。
米国特許第2.530.882号明細書では、ビニル樹
脂の可塑剤としてジチオジアルキルエステルが推奨され
ている。
脂の可塑剤としてジチオジアルキルエステルが推奨され
ている。
米国特許第3.494.947号明細書は、硫黄原子間
に1〜5個の炭素原子を右するジチオシアビニチルエス
テルを記載している。
に1〜5個の炭素原子を右するジチオシアビニチルエス
テルを記載している。
これらの化合物は、熱酸化に対しポリオレフィンを安定
化させるためにヒンダードフェノール類と組み合せて使
用される。
化させるためにヒンダードフェノール類と組み合せて使
用される。
米国特許第3.637.809号及び第3.743.6
23号は合成樹脂の酸化防止剤として使用するジチオト
リエステルを記載している。これらの化合物では、2〜
10個の炭素原子を有するアルキル鎖で硫黄原子が隔て
られている。また、エステル基はヒンダードフェノール
を含有している。
23号は合成樹脂の酸化防止剤として使用するジチオト
リエステルを記載している。これらの化合物では、2〜
10個の炭素原子を有するアルキル鎖で硫黄原子が隔て
られている。また、エステル基はヒンダードフェノール
を含有している。
本発明によって、−形式:
E式中、R1とR2は同じでも異っていてもよく、アリ
ール基がヒドロキシル基及び/又は炭素原子数6個まで
の直鎖又は分校脂肪族炭化水素基で置換されていてもよ
いフェニル基であり得るアリール、アリールチオ又はア
ルキルチオアリール基であり、 R3とR4は同じでも屓っでいてもよく、水素原子、炭
素原子数6gIまでの直鎖又は分校脂肪族炭化水素基、
脂環式基、又は炭素原子数6個までの直鎖もしくは分校
脂肪族炭化水素残基で置換されていてもよいフェニル基
であり、 ただし、R3及びR4はメヂレン基及び適宜へテロ原子
と共に炭素原子数5〜12個の環式又は複素環式の基を
形成することもでき、 R、R、R7及びR8は同じでも異っていでもよく、水
素原子、炭素原子@、6個までの直鎖又は分校脂肪族炭
化水素基、脂環式基、又はフェニル基を表わし、 n、m、p及びqは整数であり、n及びmは1〜12で
あり得、ρ及びqは1〜10であり得る]に対応するこ
とを特徴とする、エステル基及びジチオアセクール基の
両前を含有する有機硫黄化合物が提供される。
ール基がヒドロキシル基及び/又は炭素原子数6個まで
の直鎖又は分校脂肪族炭化水素基で置換されていてもよ
いフェニル基であり得るアリール、アリールチオ又はア
ルキルチオアリール基であり、 R3とR4は同じでも屓っでいてもよく、水素原子、炭
素原子数6gIまでの直鎖又は分校脂肪族炭化水素基、
脂環式基、又は炭素原子数6個までの直鎖もしくは分校
脂肪族炭化水素残基で置換されていてもよいフェニル基
であり、 ただし、R3及びR4はメヂレン基及び適宜へテロ原子
と共に炭素原子数5〜12個の環式又は複素環式の基を
形成することもでき、 R、R、R7及びR8は同じでも異っていでもよく、水
素原子、炭素原子@、6個までの直鎖又は分校脂肪族炭
化水素基、脂環式基、又はフェニル基を表わし、 n、m、p及びqは整数であり、n及びmは1〜12で
あり得、ρ及びqは1〜10であり得る]に対応するこ
とを特徴とする、エステル基及びジチオアセクール基の
両前を含有する有機硫黄化合物が提供される。
式■の化合物中、R、R、R及びR8が水素原子を表わ
し、R及びR4が水素原子、炭素原子数1〜6個の直鎖
脂肪族炭化水素基もしくはフェニル基を示すか、又はメ
チレン堪と共に炭素原子数5〜12個のシクロアルキレ
ン基を形成し、R1及びR2が、水酸基が1〜2個の炭
素原子数3〜6の分校脂肪族炭化水素残基によって束縛
されている置換ヒドロキシフェニル〈すなわちヒンダー
ドフェノール残基)であるものが好ましい。
し、R及びR4が水素原子、炭素原子数1〜6個の直鎖
脂肪族炭化水素基もしくはフェニル基を示すか、又はメ
チレン堪と共に炭素原子数5〜12個のシクロアルキレ
ン基を形成し、R1及びR2が、水酸基が1〜2個の炭
素原子数3〜6の分校脂肪族炭化水素残基によって束縛
されている置換ヒドロキシフェニル〈すなわちヒンダー
ドフェノール残基)であるものが好ましい。
式1の化合物の中で、特に、R1及びR2が同じでも異
っていてもよく、 しI’12 (w M (シM 3〕2の基の1つを
表わし、n、m、p及びqが1〜4であるものを挙げる
ことができる。
っていてもよく、 しI’12 (w M (シM 3〕2の基の1つを
表わし、n、m、p及びqが1〜4であるものを挙げる
ことができる。
式1に対応するエステル基とジチオアセタール基の両者
を含有する硫黄化合物の中で特に次の化合物を挙げるこ
とができる。
を含有する硫黄化合物の中で特に次の化合物を挙げるこ
とができる。
ビス(2−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]エチル
チオ)メタン、 ビス(2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エチルチ
オ)メタン、 ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチオコメ
タン、 ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオコメタ
ン、 α、α−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tart−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル
コエヂルチオ)トルエン、 α、α−ビス(2−[2−(3,5−ジづert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エ
チルチオ)トルエン、 α、α−ビス[3−(3,5−ジ−tcrt−ブチル−
4ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチ
オ]トルエン、 α、α−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオ
]トルエン、 1.1−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)ブOボキシカルボニル
1エチルチオ)シクロヘキサン、 1.1−ビス(2−[2−(3,5−ジ−tart−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]
エチルチオ)シクロヘキサン、 11−ビス[3−(3,5−ジづert−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチオ
コシクロヘキサン、 1.1−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)■トキシ力ルポニルメチルチ
オ]シクロヘキサン、 22−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]
エチルチオ)プロパン、 22−ビス(2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エ
チルチオ)プロパン、 22−ビス[3−(3,5−ジ−tart−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチ
オ]プロパン、 22−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオ
]プロパン。
−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]エチル
チオ)メタン、 ビス(2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エチルチ
オ)メタン、 ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチオコメ
タン、 ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオコメタ
ン、 α、α−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tart−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル
コエヂルチオ)トルエン、 α、α−ビス(2−[2−(3,5−ジづert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エ
チルチオ)トルエン、 α、α−ビス[3−(3,5−ジ−tcrt−ブチル−
4ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチ
オ]トルエン、 α、α−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオ
]トルエン、 1.1−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tert−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)ブOボキシカルボニル
1エチルチオ)シクロヘキサン、 1.1−ビス(2−[2−(3,5−ジ−tart−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]
エチルチオ)シクロヘキサン、 11−ビス[3−(3,5−ジづert−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチオ
コシクロヘキサン、 1.1−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)■トキシ力ルポニルメチルチ
オ]シクロヘキサン、 22−ビス(2−[3−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]
エチルチオ)プロパン、 22−ビス(2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エ
チルチオ)プロパン、 22−ビス[3−(3,5−ジ−tart−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチ
オ]プロパン、 22−ビス[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニルメチルチオ
]プロパン。
本発明化合物はフェノール−アルコール、メルカプト酸
及びアルデヒド又はケトンの反応により製造しうる。第
1の変法では、下記反応式に従って、第一段階では酸触
媒の存在下でフ[ノールアルコールとメルカプト酸を反
応させ、次に、得られたメルカプトエステ゛ル(1)を
アルデヒド又はケトンと縮合させることができる。
及びアルデヒド又はケトンの反応により製造しうる。第
1の変法では、下記反応式に従って、第一段階では酸触
媒の存在下でフ[ノールアルコールとメルカプト酸を反
応させ、次に、得られたメルカプトエステ゛ル(1)を
アルデヒド又はケトンと縮合させることができる。
もう1つの変法によると、下記反応式に従って、アルデ
ヒド又はケトンとメルカプト酸とを縮合し、次に、得ら
れたジチオアセタール二酸(2)を酸触媒の存在下でフ
ェノール−アルコールと反応させることができる。
ヒド又はケトンとメルカプト酸とを縮合し、次に、得ら
れたジチオアセタール二酸(2)を酸触媒の存在下でフ
ェノール−アルコールと反応させることができる。
↓
本発明によれば、反応(C)と(d)を同時に行うこと
もできる。
もできる。
いずれの場合も、反応は反応体に対して不活性な溶媒中
で行うのが有利であり、一般に50℃〜170℃、好ま
しくは80℃〜130℃の温度で、1〜数時間、有効に
攪拌しながら実施する。
で行うのが有利であり、一般に50℃〜170℃、好ま
しくは80℃〜130℃の温度で、1〜数時間、有効に
攪拌しながら実施する。
本発明方法では、上記の反応で同じ又は異なるフェノー
ル−アルコール又はチオ酸を使用するごとができる。使
用する反応体は化学量論性を使用して実施するのが好ま
しいが、メルカプトエステル(反応b)又はチオ酸く反
応C)に対してやや過剰のアルデヒド又はケトンを使用
することもできる。
ル−アルコール又はチオ酸を使用するごとができる。使
用する反応体は化学量論性を使用して実施するのが好ま
しいが、メルカプトエステル(反応b)又はチオ酸く反
応C)に対してやや過剰のアルデヒド又はケトンを使用
することもできる。
不活性溶媒としては、脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水
素例えばヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ツルベントナフタなど;ハロゲン化炭化
水素例えばクロロホルム及び四塩化炭素並びにエーテル
類例えばテトラヒドロフラン又はジオキサンを挙げるこ
とができるが、これらに限られるわけではない。
素例えばヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ツルベントナフタなど;ハロゲン化炭化
水素例えばクロロホルム及び四塩化炭素並びにエーテル
類例えばテトラヒドロフラン又はジオキサンを挙げるこ
とができるが、これらに限られるわけではない。
本発明方法によってメルカプトニス1ル(1)、ジチオ
アセタールM(2)及びジチオアセタールエステル(I
)を形成するのに特に適切な酸触媒としては、硫酸及び
パラ−トルエンスルホン酸を挙げることができる。
アセタールM(2)及びジチオアセタールエステル(I
)を形成するのに特に適切な酸触媒としては、硫酸及び
パラ−トルエンスルホン酸を挙げることができる。
触媒量は使用する反応体に対して0.1〜2重!i%、
好ましくは0.5〜1手喰%の範囲で変えることができ
る。
好ましくは0.5〜1手喰%の範囲で変えることができ
る。
本発明方法で使用しうるアルデヒド及びケトンの例とし
ては、例えばポリオキシメチレン又はトリオキシメチレ
ンの形のホルムアル1ヒド、アセトアルデヒド、ペンズ
アルデじド、7I!トン、シクロヘキサノン、ジフェニ
ルケトンなどがあるが、これらに限定されることはない
。
ては、例えばポリオキシメチレン又はトリオキシメチレ
ンの形のホルムアル1ヒド、アセトアルデヒド、ペンズ
アルデじド、7I!トン、シクロヘキサノン、ジフェニ
ルケトンなどがあるが、これらに限定されることはない
。
本発明に従って使用しうるメルカプト酸としては、3−
メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸などを挙げ
ることができるが、これらに限定されるわけではない。
メルカプトプロピオン酸、チオグリコール酸などを挙げ
ることができるが、これらに限定されるわけではない。
同様に、本発明に従って使用しうるフェノール−アルコ
ールとしては、2−(3,5−ジ−tert−7チル4
−ヒドロキシフェニル)−1−ヒドロキシエタン、3−
(3,5−ジづert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−ヒドロキシプロパンなどを挙げることができ
るが、これらに限定されることはない。
ールとしては、2−(3,5−ジ−tert−7チル4
−ヒドロキシフェニル)−1−ヒドロキシエタン、3−
(3,5−ジづert−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−ヒドロキシプロパンなどを挙げることができ
るが、これらに限定されることはない。
式Iで表わされる本発明の新規化合物は、その加工中及
び使用中の両方で起こり得る熱酸化分解に対して有機物
質、特に合成樹脂を安定化させるのに特に適している。
び使用中の両方で起こり得る熱酸化分解に対して有機物
質、特に合成樹脂を安定化させるのに特に適している。
これらの化合物は、ポリマーを使用するときに起る熱と
酸化の分解作用に対する合成樹脂の抵抗力を改善する。
酸化の分解作用に対する合成樹脂の抵抗力を改善する。
合成樹脂を溶融状態で加工する間の高温及び比較的長い
接触時間でさえ、これらの新規な酸化防止剤は変色させ
ることなく樹脂に良好な安定性を付与する。
接触時間でさえ、これらの新規な酸化防止剤は変色させ
ることなく樹脂に良好な安定性を付与する。
本発明化合物を有機物質、特に合成樹脂を安定化させる
ための酸化防止剤として使用するときには、安定化すべ
き物質の0.005〜5重け%、好ましくは0.01〜
1重量%、更に好ましくは0.02〜0.5重置%配合
すると有利である。
ための酸化防止剤として使用するときには、安定化すべ
き物質の0.005〜5重け%、好ましくは0.01〜
1重量%、更に好ましくは0.02〜0.5重置%配合
すると有利である。
本発明化合物は、熱酸化分解に対し、全ての有機物質、
特に全ての合成樹脂を安定化させるために使用しつる。
特に全ての合成樹脂を安定化させるために使用しつる。
安定化させうるちのとして、次のものを挙げることがで
きるが、これらに限定されるわけではない。
きるが、これらに限定されるわけではない。
ポリオレフィン、ビニル又はハロゲン化ビニルポリマー
、アクリル及びメタクリル樹脂、エポキシド、ポリアセ
タール、ポリフェノキシト、ポリカーボネート、ポリス
ルホン、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、フ
ェノール樹脂、アミノ樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂(
グリプタル樹脂)、セルロース樹脂、ゴム、蛋白質及び
他の天蒸物、特に油脂など。
、アクリル及びメタクリル樹脂、エポキシド、ポリアセ
タール、ポリフェノキシト、ポリカーボネート、ポリス
ルホン、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、フ
ェノール樹脂、アミノ樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂(
グリプタル樹脂)、セルロース樹脂、ゴム、蛋白質及び
他の天蒸物、特に油脂など。
以下の実施例により本発明を限定することなくさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−1−ヒドロキシプロパン52.8g(0,
2mol)及び3−メルカプトプロパン1j21.6g
(0,2mol)をトルエン250Id!に溶解する。
フェニル)−1−ヒドロキシプロパン52.8g(0,
2mol)及び3−メルカプトプロパン1j21.6g
(0,2mol)をトルエン250Id!に溶解する。
′a硫酸2〜3滴を加えた後、反応混合物をトルエンの
還i温度にする。装置はDean−3tark型のセパ
レータを具備しており、反応の間に形成された水を回収
できる。3R闇還流すると3.6dの水が回収される。
還i温度にする。装置はDean−3tark型のセパ
レータを具備しており、反応の間に形成された水を回収
できる。3R闇還流すると3.6dの水が回収される。
薄層クロマトグラフィーにより、全てのフェノール−ア
ルコールが反応したことが示される。
ルコールが反応したことが示される。
次に、ポリオキシメチレン3.13(0,103mol
)を導入し、混合物を再度トルエンの還流温度とする。
)を導入し、混合物を再度トルエンの還流温度とする。
2時間還流した後に、3.6#t1!の水が回収される
。
。
冷w侵、反応混合物を水洗し、デカンテーションし、1
5n+mH(J、80℃のロータリーエバポレータでト
ルエンを除去する。得られた生成物はシロップ状の液体
である。
5n+mH(J、80℃のロータリーエバポレータでト
ルエンを除去する。得られた生成物はシロップ状の液体
である。
元素分析 CH8
計算値(%) 68.67 8,99 8.94
測定値(%) 68.79 8,84 8.89
実施例 2 メタンの製造 2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−1−エタノール50!7.3−メルカプ1
へプロパン酸21.6g及びポリオキシメチレン3.1
9をトルエン250dに溶解する。
測定値(%) 68.79 8,84 8.89
実施例 2 メタンの製造 2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−1−エタノール50!7.3−メルカプ1
へプロパン酸21.6g及びポリオキシメチレン3.1
9をトルエン250dに溶解する。
p−トルエンスルホンl’ll O,5gを加え、混合
物を、3時間、トルエンの還流温度にする。
物を、3時間、トルエンの還流温度にする。
Dean−3tark型コンデンサーで7.27の水が
回収される。薄層クロマトグラフィーにより、全てのフ
ェノール−アルコールが反応したことが示される。
回収される。薄層クロマトグラフィーにより、全てのフ
ェノール−アルコールが反応したことが示される。
トルエン相を熱湯で洗い、デカンテーションし、15m
m11g、80℃のロータリーエバポレータでトルエン
を除去する。
m11g、80℃のロータリーエバポレータでトルエン
を除去する。
得られた生成物はシロップ状の液体である。
元素分析 C1」S
計算値(%) 67.98 8.78 9.31
測定値(%) 68,24 8.55 9.22
実施例 3 の製造 3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−1−プロパツール52.8g、チオグリコ
ール酸18.8g、ポリオキシメチレン3.13、ρ−
トルエンスルホン酸0.5g及びトルエン2507を還
流下で加熱する。還流を3時間行った後、反応が完了す
る。反応生成物を200−の熱湯で洗い、デカンテーシ
ョンする。トルエンを減圧下、80”Cで除去プる。粘
性の液体生成物が得られ、その硫黄含量は、理論値9.
3%に対し、9,1%である。
測定値(%) 68,24 8.55 9.22
実施例 3 の製造 3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−1−プロパツール52.8g、チオグリコ
ール酸18.8g、ポリオキシメチレン3.13、ρ−
トルエンスルホン酸0.5g及びトルエン2507を還
流下で加熱する。還流を3時間行った後、反応が完了す
る。反応生成物を200−の熱湯で洗い、デカンテーシ
ョンする。トルエンを減圧下、80”Cで除去プる。粘
性の液体生成物が得られ、その硫黄含量は、理論値9.
3%に対し、9,1%である。
支i五−A
チオグリコール酸及びポリオキシメチレンを各々同じモ
ル川の3−メルカプトプロパン酸及びベンズアルデヒド
に変えて、実施例3の実験を繰り返す。
ル川の3−メルカプトプロパン酸及びベンズアルデヒド
に変えて、実施例3の実験を繰り返す。
実施例3と同様に、得られたα、α−ビス(2−[3−
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロポキシカルボニル]■チルチオ)トルエンで
は理論値の98%の硫黄が認められる。
(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロポキシカルボニル]■チルチオ)トルエンで
は理論値の98%の硫黄が認められる。
実施例 5
ベンズアルデヒドの代りに0.103molのシクロヘ
キサノンを使用するが、手順は実施例4と同様である。
キサノンを使用するが、手順は実施例4と同様である。
得られた1、1−ビス(2−[3−<3.5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフ1ニル)プロポキシカ
ルボニル1エヂルチオ)シクロヘキサンでは理論値の9
8%の硫黄が認められる。
rt−ブチル−4−ヒドロキシフ1ニル)プロポキシカ
ルボニル1エヂルチオ)シクロヘキサンでは理論値の9
8%の硫黄が認められる。
実施例 6
ベンズアルデヒドを0.103molのアセトンに変え
て、実施例4の手順を実施する。従って、得られた生成
物では、式(I)のR3及びR4基はメチルである。(
qられた2、2−ビス(2−[3−(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)グロボキシ力
ルボニル]エチルチオ)プロパンでは理論値の98.5
%の硫黄が認められる。
て、実施例4の手順を実施する。従って、得られた生成
物では、式(I)のR3及びR4基はメチルである。(
qられた2、2−ビス(2−[3−(3,5−ジ−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)グロボキシ力
ルボニル]エチルチオ)プロパンでは理論値の98.5
%の硫黄が認められる。
d= 0.905g/CrR”及びメルトインデックス
5(230℃、負荷2.16Ky)の微細粉末状のポリ
プロピレンと、ポリプロピレンに対して各々0.10及
び0.15重那%の下表に示す安定剤との均一な混合物
を形成する。
5(230℃、負荷2.16Ky)の微細粉末状のポリ
プロピレンと、ポリプロピレンに対して各々0.10及
び0.15重那%の下表に示す安定剤との均一な混合物
を形成する。
ローラーミキサー−Lで混合物をカレンダーにかけ、得
られた生成物を使用して、加熱プレスにより0.4Mの
厚さのテスト片を製造する。
られた生成物を使用して、加熱プレスにより0.4Mの
厚さのテスト片を製造する。
本発明化合物を使用して安定化したテスト片の200℃
の酸素中での誘導時間を測定することによって安定剤を
テストする。この目的には、エンタルピーの変化、特に
ポリプロピレンの分解開始に対応するエンタルピーの変
化を記録しつる水差熱分析計を使用する。
の酸素中での誘導時間を測定することによって安定剤を
テストする。この目的には、エンタルピーの変化、特に
ポリプロピレンの分解開始に対応するエンタルピーの変
化を記録しつる水差熱分析計を使用する。
本発明の安定剤は実施例1〜6の化合物である。
各々0.1及び0.2%のテトラキス−[3−(3,5
−ジtert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオニルオキシメチルコメタン(化合物A)及びジステ
アリルチオジプロピオネート(化合物B)の混合物を対
照の安定剤として使用した。
−ジtert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
ピオニルオキシメチルコメタン(化合物A)及びジステ
アリルチオジプロピオネート(化合物B)の混合物を対
照の安定剤として使用した。
テストの結果を下記の表に示す。
従来技術の化合物に比し、本発明の実施例1〜6の化合
物は非常に優れている。
物は非常に優れている。
Claims (15)
- (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1とR_2は同じでも異っていてもよく、
アリール基、アリールチオ基又はアルキルチオアリール
基(ただし、アリール基は、ヒドロキシル基及び/又は
炭素原子数6個までの直鎖又は分枝脂肪族炭化水素基で
置換されていてもよいフェニル基であり得る)であり、 R_3とR_4は同じでも異つていてもよく、水素原子
、炭素原子数6個までの直鎖もしくは分枝脂肪族炭化水
素基、脂環式基、又は炭素原子数6個までの直鎖もしく
は分枝脂肪族炭化水素残基で置換されていてもよいフェ
ニル基であり、あるいは、R_3とR_4はメチレン基
及び適宜ヘテロ原子と共に炭素原子数5〜12個の環式
又は複素環式の基を形成することもでき、 R_5、R_6、R_7及びR_8は同じでも異つてい
てもよく、水素原子、炭素原子数6個までの直鎖もしく
は分枝脂肪族炭化水素基、脂環式基、又はフェニル基を
表わし、 n、m、p及びqは整数であり、nとmは1〜12であ
り得、pとqは1〜10であり得る)に対応することを
特徴とする、エステル基及びジチオアセタール基の両者
を含有する有機硫黄化合物。 - (2)式 I 中、R_5、R_6、R_7及びR_8が
水素原子を表わし、R_3及びR_4が水素原子、炭素
原子数1〜6個の直鎖脂肪族炭化水素基もしくはフェニ
ル基を示すか、又はメチレン基と共に炭素原子数5〜1
2個のシクロアルキレン基を形成し、R_1及びR_2
が置換ヒドロキシフェニル基であり、その水酸基が炭素
原子数3〜6個の分枝脂肪族炭化水素残基1〜2個によ
つて束縛されていることを特徴とする請求項1の化合物
。 - (3)式 I 中、R_1及びR_2が同じでも異つてい
てもよく、基: ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ の1つを表わすことを特徴とする請求項1又は2の化合
物。 - (4)ビス{2−[3−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]
エチルチオ}メタン。 - (5)ビス{2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エ
チルチオ}メタン。 - (6)ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチ
オ]メタン。 - (7)α,α−ビス{2−[3−(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカル
ボニル]エチルチオ}トルエン。 - (8)1,1−ビス{2−[3−(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカル
ボニル]エチルチオ)シクロヘキサン。 - (9)2,2−ビス{2−[3−(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカル
ボニル]エチルチオ}プロパン。 - (10)フェノール−アルコール、メルカプト酸及びア
ルデヒド又はケトンの反応による、請求項1から9のい
ずれかの化合物の製法。 - (11)酸触媒の存在下でフェノール−アルコールとメ
ルカプト酸を反応させ、次いで、得られたメルカプトエ
ステルをアルデヒド又はケトンと縮合することからなる
ことを特徴とする請求項10の方法。 - (12)アルデヒド又はケトンとメルカプト酸とを縮合
し、次いで、得られたジチオアセタール二酸を酸触媒の
存在下でフェノール−アルコールと反応させることから
なることを特徴とする請求項10の方法。 - (13)2つの反応を実質的に同時に実施することを特
徴とする請求項12の方法。 - (14)請求項1から9のいずれかの化合物を少なくと
も1つ含有することを特徴とする合成樹脂組成物。 - (15)化合物が、 −ビス{2−[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニル]エチ
ルチオ}メタン、 −ビス{2−[2−(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)エトキシカルボニル]エチル
チオ)メタン、 −ビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロポキシカルボニルメチルチオ]
メタン、 −α,α−ビス{2−[3−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニ
ル]エチルチオ}トルエン、 −1,1−ビス{2−[3−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロポキシカルボニ
ル]エチルチオ}シクロヘキサン、 −2,2−ビス{2−[3−(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロポキシカルボニ
ル]エチルチオ}プロパン から成る群から選択されることを特徴とする請求項14
の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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FR8808762 | 1988-06-29 |
Publications (2)
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US5510402A (en) * | 1992-02-24 | 1996-04-23 | Ciba-Geigy Corporation | Carboxylic acid esters of hydroxyphenylalkanols as stabilizers |
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- 1989-06-28 JP JP1166492A patent/JPH0248565A/ja active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5023191A (en) * | 1988-12-01 | 1991-06-11 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method of producing a semiconductor device using a single mask method for providing multiple masking patterns |
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EP0349380A1 (fr) | 1990-01-03 |
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DE68902605T2 (de) | 1993-03-18 |
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