JPH0248154Y2 - - Google Patents

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JPH0248154Y2
JPH0248154Y2 JP1986100976U JP10097686U JPH0248154Y2 JP H0248154 Y2 JPH0248154 Y2 JP H0248154Y2 JP 1986100976 U JP1986100976 U JP 1986100976U JP 10097686 U JP10097686 U JP 10097686U JP H0248154 Y2 JPH0248154 Y2 JP H0248154Y2
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cooling
evaporator
cooling air
cooler
air
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JP1986100976U
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【考案の詳細な説明】 考案の技術分野 本考案は、レーザ加工機用のレーザ発振器やレ
ンズ系などの冷却装置に関し、特に冷却対象に応
じて冷却水および冷却空気を1つの冷凍サイクル
で循環的に供給する装置に係る。
従来技術 レーザ加工装置には、冷却装置が付設されてい
る。通常、冷却流体として、冷却対象に応じて、
冷却水および冷却空気が用いられている。
従来の冷却装置は、冷却水および冷却空気毎に
冷凍サイクルを構成しているため、高価であり、
また大きな設備となつている。
考案の目的 したがつて、本考案の目的は、冷却水および冷
却空気の冷凍サイクルを共用化するとともに、冷
却対象に応じて適切な状態で冷却流体すなわち冷
却水、および冷却空気を供給できるようにするこ
とである。
考案の解決手段 そこで、本考案は、1つの冷凍サイクルで、2
つの蒸発器を駆動し、それぞれの蒸発器によつ
て、水および空気を冷却し、水を冷却対象に対し
循環的に使用できるようにするとともに、冷却空
気の循環路中にヒータを組み込み、冷却空気を低
湿度すなわち乾燥状態の空気として、アシストガ
スの噴射ノズルや、結露防止・清浄用空気とし
て、レーザ光学系に供給するようにしている。そ
して、上記冷却水は、第1の冷却器で蒸発器と触
れ、低い温度となつて、大きな熱容量のもとに、
レーザ発振器系やその光学系を高い温度精度の下
に冷却していく。また冷却空気は、噴射ノズル
や、レーザ光学系の内部を循環することにより、
結露の発生を防止し、内部を清浄な空間とし、レ
ーザビームの減衰を未然に防止している。
考案の構成 図は、本考案のレーザ加工機用の冷却装置1を
示している。この冷却装置1は、1つの冷凍サイ
クル2を共用しながら、冷却水循環路3および冷
却空気供給路4を備えている。
上記冷凍サイクル2は、フロンガスなどの冷媒
5を循環させる過程で、冷却水14および冷却空
気21を吸収熱により冷却するため、圧縮機6、
凝縮器7、受液器8、第1の膨脹弁9、第1の蒸
発器10、第2の膨脹弁11、第2の蒸発器1
2、およびアキユムレータ13によつて閉路を形
成している。
そして、上記第1の蒸発器10は、冷却水14
の熱を吸収するために、冷却槽15の内部に熱交
換可能な状態で、組み込まれている。この冷却槽
15は、循環ポンプ16、並列の圧力調整弁1
7,18、レーザ加工機の水冷却対象として、レ
ーザ発振器の冷却器19、レーザ光学系の冷却器
20を介して、冷却水循環路3を形成している。
また、上記冷却空気供給路4は、冷却空気21
bおよび乾燥状態の比較的温かな冷却空気21a
をレーザ加工機の冷却対象に供給するためのもの
あり、上記第2の蒸発器12のほか、コンプレツ
サ30、フイルタ22、ヒータ23、オイルポツ
ト付のフイルタ24、減圧弁25、並列接続の開
閉弁26,27、空気冷却対象の噴射ノズル、レ
ンズホルダー、および光学系等の冷却器28,2
9とともに冷却空気21aの供給路を構成してい
る。なお冷却空気21bは、第2の蒸発器12の
出口ポートから上記ヒータ23を経由しないで分
岐し、オイルポツト付のフイルタ31、減圧弁3
2、開閉弁33およびレーザヘツドやビームベン
ダーなどの発熱部分を効率よく冷却するための冷
却器34を経て、大気へ放出される。
なお以上の構成は、冷媒5、冷却水14および
冷却空気21の熱交換用の循環経路を中心とした
配管系であるが、温度制御系は、これと別に設け
られ、冷却水14または冷却空気21の温度を温
度センサーなどによつて検出し、その温度情報に
基づいて冷媒5の流量や圧縮機6のオンオフ制御
さらに冷媒5の循環路や流量を変更することによ
つて、目標の設定温度に自動的に調節する。
考案の作用 冷凍サイクル2の運転中に、冷媒5は、圧縮機
6によつて気体から高温かつ高圧の気体に圧縮さ
れ、さらに凝縮器7によつて冷却されて、熱を外
部に捨てながら液化し、受液器8に貯えられる。
そして、この低圧液体の冷媒5は、それぞれの膨
脹弁9,11で噴射され、膨脹しながら低温かつ
低圧の気体となり、それぞれの蒸発器10,12
で外部の流体すなわち冷却水14および冷却空気
21の熱を奪いながら気体となつて、アキユムレ
ータ13に貯えられ、再び圧縮機6に戻る。
この間に、冷却水14は、循環ポンプ16によ
つて冷却槽15の内部からそれぞれの冷却器1
9,20に供給され、そこで水冷却対象のレーザ
発振器やレーザビームの光学系を冷却し、その熱
を奪つて再び冷却槽15の内部に戻り、蒸発器1
0によつて、熱交換し、再び冷やされた状態で循
環的に使用される。この冷却過程で、冷却水14
は、大きな熱容量の下に、水冷却対象を冷却して
いくため、比較的大きな発熱源の冷却に利用で
き、また冷却対象の温度を正確に目標の温度に設
定するのに有効である。
また、コンプレツサ30は、第2の蒸発器12
で冷却することにより、低温の冷却空気21bと
し、一方、蒸発器12で冷却した冷却空気21を
再びヒータ23で加熱することにより、比較的温
かな乾燥冷却空気21aとし、フイルタ24、減
圧弁25、および開閉弁26を経て、または、こ
の減圧弁25を経ないで開閉弁27により、冷却
器28,29に供給する。これらの冷却器28,
29は、空気冷却対象のレーザヘツドの噴射ノズ
ルまたは、レーザビームの光学系などに供給さ
れ、レーザビームによる温度上昇を抑え、しか
も、レンズや鏡胴内部の結露を防止するととも
に、レーザビームの通過部分を常に清浄な状態に
保つている。また蒸発器12で冷却された冷却空
気21bは、上記ヒータ23を経ないで、フイル
タ31、減圧弁32および開閉弁33を経て、冷
却器34にも供給される。この冷却器34は、レ
ーザヘツドやビームベンダー等の各部分の高効率
冷却用として用いられる。このように、冷却空気
21a,21bは、冷却の機能のほか、結露防止
や清浄空間の確保という二次的な機能を営んでい
るため、レーザ発振器からのレーザビームは、最
も良好な状態で発生し、また減衰しない状態で、
加工点に供給できるようになる。
考案の変形例 上記実施例は、レーザビームの光学系を冷却水
14および冷却空気21a,21bを用いて冷却
しているが、この冷却は、冷却器の組み込み形態
を考慮して、いずれか一方のみで行うこともでき
る。
考案の効果 本考案では、下記の実用上の効果がある。
冷凍サイクルの主要部分が2つの蒸発器につい
て共通に用いられているため、冷凍サイクルの主
要部分が共用化でき、それだけ装置が小型化さ
れ、冷凍装置が安価に供給できる。
また、冷却水の循環路および冷却空気の供給路
毎に適切な蒸発器が設けられているため、それら
の流体毎の熱交換効率が高められ、またそれらの
流体毎に独自の制御が可能となる。
さらに、冷却空気の供給路中に、蒸発器および
ヒータが介在しているため、比較的常温に近い冷
却空気が低湿度の状態で空気冷却対象に供給でき
るため、レーザ加工機特有の噴射ノズルの冷却、
レーザビーム鏡胴系の結露発生の防止、さらにレ
ーザビームの清浄空気の供給などの必要な機能が
確保でき、最も良好な状態でレーザビームの照射
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
図は本考案のレーザ加工機用の冷却装置の図で
ある。 1……冷却装置、2……冷凍サイクル、3……
冷却水循環路、4……冷却空気供給路、5……冷
媒、6……圧縮機、7……凝縮器、8……受液
器、9……第1の膨脹弁、10……第1の蒸発
器、11……第2の膨脹弁、12……第2の蒸発
器、14……冷却水、15……冷却槽、16……
循環ポンプ、19,20……冷却器、21a,2
1b……冷却空気、28,29,34……冷却
器、30……コンプレツサ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 冷媒の循環路中に圧縮機、凝縮器、第1の膨脹
    弁、第1の蒸発器、第2の膨脹弁および第2の蒸
    発器を有する冷凍サイクルと、上記第1の蒸発器
    を内蔵する冷却水の冷却槽、循環ポンプ、および
    レーザ加工機の水冷却対象の冷却器を含む冷却水
    循環路と、上記第2の蒸発器、ヒータ、上記レー
    ザ加工機の空気冷却対象の冷却器およびコンプレ
    ツサを含む冷却空気供給路とからなることを特徴
    とするレーザ加工機用の冷却装置。
JP1986100976U 1986-06-30 1986-06-30 Expired JPH0248154Y2 (ja)

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JPS636191U JPS636191U (ja) 1988-01-16
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5759820U (ja) * 1980-09-29 1982-04-08

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62160273U (ja) * 1986-03-29 1987-10-12

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JPS5759820U (ja) * 1980-09-29 1982-04-08

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