JPH0247763B2 - Seigyosochi - Google Patents
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- JPH0247763B2 JPH0247763B2 JP1245582A JP1245582A JPH0247763B2 JP H0247763 B2 JPH0247763 B2 JP H0247763B2 JP 1245582 A JP1245582 A JP 1245582A JP 1245582 A JP1245582 A JP 1245582A JP H0247763 B2 JPH0247763 B2 JP H0247763B2
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- Japan
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- temperature
- control
- hot water
- gas supply
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 claims 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 6
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 description 4
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- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
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- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/20—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature
- G05D23/24—Control of temperature characterised by the use of electric means with sensing elements having variation of electric or magnetic properties with change of temperature the sensing element having a resistance varying with temperature, e.g. a thermistor
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D23/00—Control of temperature
- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/1917—Control of temperature characterised by the use of electric means using digital means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Temperature (AREA)
- Heat-Pump Type And Storage Water Heaters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス給湯器の出湯温度を制御するため
の改良された制御装置に関する。
の改良された制御装置に関する。
従来、給湯器の出湯温度を制御するための装置
としては、比例(P)制御、比例微分(P.D.)制
御、比例積分微分(P.I.D.)制御等のフイードバ
ツク制御を行なう装置があるが、このようなフイ
ードバツク制御を行なう装置を用いた場合でも、
出湯温度を制御する動作の安定性を重視すればそ
の過渡応答性が低下し、反対に過渡応答性を重視
すれば安定性が低下するという不具合がある。
としては、比例(P)制御、比例微分(P.D.)制
御、比例積分微分(P.I.D.)制御等のフイードバ
ツク制御を行なう装置があるが、このようなフイ
ードバツク制御を行なう装置を用いた場合でも、
出湯温度を制御する動作の安定性を重視すればそ
の過渡応答性が低下し、反対に過渡応答性を重視
すれば安定性が低下するという不具合がある。
本発明は、上記のようなフイードバツク制御の
不具合を解消することを目的としてなされたもの
であり、定常時には、出湯温度を設定温度に安定
させて維持することができるとともに、出湯温度
が負荷変動などにより過渡的に変動するときに
は、その出湯温度の変動を検出しガス供給量を調
節することによつてフイードバツク制御の応答性
を補い、出湯温度の設定温度からのずれに対して
速やかに対処して出湯温度が設定温度に等しくな
るように制御することができる制御装置を提供す
ることを目的とする。
不具合を解消することを目的としてなされたもの
であり、定常時には、出湯温度を設定温度に安定
させて維持することができるとともに、出湯温度
が負荷変動などにより過渡的に変動するときに
は、その出湯温度の変動を検出しガス供給量を調
節することによつてフイードバツク制御の応答性
を補い、出湯温度の設定温度からのずれに対して
速やかに対処して出湯温度が設定温度に等しくな
るように制御することができる制御装置を提供す
ることを目的とする。
そして、本発明は、ガス給湯器の出湯温度を制
御するための制御装置において、演算処理装置を
使用し、出湯温度検出装置の出力信号と温度設定
装置の出力信号とを前記演算処理装置の入力信号
として供給し、前記演算処理装置の出力信号によ
りガス供給量制御用電磁弁を調節してガス供給量
の制御を行なう。この演算処理装置は、フイード
バツク制御手段と、リミツト制御手段と、立ち上
げ制御手段とを備え、定常時には、フイードバツ
ク制御手段により、出湯温度が設定温度に等しく
なるようにガス供給量を調節し、出湯温度が所定
値を越えて上昇するときには、リミツト制御手段
により、ガス供給量を最低量に抑制して出湯温度
の過度の上昇を防止することができ、出湯温度は
所定値を越えて下降するときには、立ち上げ制御
手段により、前記の出湯温度の下降状態に応じて
ガス供給量を急増させて出湯温度の過度の低下を
防止することができる。
御するための制御装置において、演算処理装置を
使用し、出湯温度検出装置の出力信号と温度設定
装置の出力信号とを前記演算処理装置の入力信号
として供給し、前記演算処理装置の出力信号によ
りガス供給量制御用電磁弁を調節してガス供給量
の制御を行なう。この演算処理装置は、フイード
バツク制御手段と、リミツト制御手段と、立ち上
げ制御手段とを備え、定常時には、フイードバツ
ク制御手段により、出湯温度が設定温度に等しく
なるようにガス供給量を調節し、出湯温度が所定
値を越えて上昇するときには、リミツト制御手段
により、ガス供給量を最低量に抑制して出湯温度
の過度の上昇を防止することができ、出湯温度は
所定値を越えて下降するときには、立ち上げ制御
手段により、前記の出湯温度の下降状態に応じて
ガス供給量を急増させて出湯温度の過度の低下を
防止することができる。
以下、本発明の実施例を添附図面を参照しつつ
説明する。
説明する。
第1図は本発明による制御装置の構成を概略的
に示している。第1図において、1は交流電源を
示し、2は交流電源1の出力電圧を受け、それを
整流しかつ平滑化し、直流電源電圧Vccを出力す
る整流平滑回路である。3は演算処理装置を示
し、本実施例ではマイクロコンピユータを用いて
いる。4は温度検出装置であり、その1例として
サーミスタを図示している。5は温度設定装置で
あり、第1図には温度設定用の可変抵抗器が図示
されている。R3,R4はサーミスタ4に供給す
る直流電圧を作るために直流電源電圧Vccを分圧
するための分圧抵抗器であり、R5,R6は温度
設定用可変抵抗器5と直列に接続され、同様に直
流電源電圧Vccの分圧の目的に用いられる。6は
ガス供給量制御装置であり、その1例として、そ
の開度が励磁電流の大きさに比例して変えられる
ガス供給量制御用電磁弁を示している。Tr1は
電磁弁6を駆動するための電力トランジスタであ
る。
に示している。第1図において、1は交流電源を
示し、2は交流電源1の出力電圧を受け、それを
整流しかつ平滑化し、直流電源電圧Vccを出力す
る整流平滑回路である。3は演算処理装置を示
し、本実施例ではマイクロコンピユータを用いて
いる。4は温度検出装置であり、その1例として
サーミスタを図示している。5は温度設定装置で
あり、第1図には温度設定用の可変抵抗器が図示
されている。R3,R4はサーミスタ4に供給す
る直流電圧を作るために直流電源電圧Vccを分圧
するための分圧抵抗器であり、R5,R6は温度
設定用可変抵抗器5と直列に接続され、同様に直
流電源電圧Vccの分圧の目的に用いられる。6は
ガス供給量制御装置であり、その1例として、そ
の開度が励磁電流の大きさに比例して変えられる
ガス供給量制御用電磁弁を示している。Tr1は
電磁弁6を駆動するための電力トランジスタであ
る。
マイクロコンピユータ3において、Vccは直流
電源入力端子、I1及びI2は信号入力ポートで
あり、R1及びR2は入力ポートI1及びI2の
それぞれに接続された入力抵抗器である。またO−
1はその出力ポート、GNDは接地端子を示して
いる。R7はトランジスタTr1のベースバイア
ス抵抗器であり、R8はそのベースリーク抵抗器
である。
電源入力端子、I1及びI2は信号入力ポートで
あり、R1及びR2は入力ポートI1及びI2の
それぞれに接続された入力抵抗器である。またO−
1はその出力ポート、GNDは接地端子を示して
いる。R7はトランジスタTr1のベースバイア
ス抵抗器であり、R8はそのベースリーク抵抗器
である。
上記の構成を有する本発明による制御装置の作
用を、第2図及び第3図の動作特性図、並びにマ
イクロコンピユータ3の処理手順を示した第4図
の流れ図を参照しつつ以下に説明する。
用を、第2図及び第3図の動作特性図、並びにマ
イクロコンピユータ3の処理手順を示した第4図
の流れ図を参照しつつ以下に説明する。
マイクロコンピユータ3は、サーミスタ4の検
出する出湯温度を表わす信号をその入力ポートI
1に入力し、可変抵抗器5に設定された設定温度
を表わす信号をその入力ポートI2に入力し、そ
の出力ポートO−1よりの出力信号をトランジスタ
Tr1のベースに送り、そのコレクタ回路に接続
されたガス供給量制御用電磁弁6を駆動する。本
発明による制御装置は、従来装置と異なり、従来
用いられている比例積分微分制御に加えて、以下
に説明するリミツト制御及び立ち上げ制御を行な
うように構成されている。リミツト制御とは、出
湯温度が設定温度よりも所定値を越えて上昇した
ときはガス供給量を最低量に抑制する作用であ
る。このリミツト制御により、急激な負荷変動な
どによる湯温の異常な上昇を防止することができ
る。他方、立ち上げ制御とは、出湯温度が設定温
度よりも所定値を越えて下降した時点から図示し
ないタイマに設定された設定時間(例えば1分
間)が経過した時点において、同設定時間内にお
いて温度制御下にある出湯温度の変動状態が特定
の判定条件を満たしていないとマイクロコンピユ
ータ3が判断したときのみ、上記の設定温度より
も所定値だけ低い温度と上記の設定時間が経過し
た時点における出湯温度との差に比例した量だけ
ガス供給量を急増させる作用がある。
出する出湯温度を表わす信号をその入力ポートI
1に入力し、可変抵抗器5に設定された設定温度
を表わす信号をその入力ポートI2に入力し、そ
の出力ポートO−1よりの出力信号をトランジスタ
Tr1のベースに送り、そのコレクタ回路に接続
されたガス供給量制御用電磁弁6を駆動する。本
発明による制御装置は、従来装置と異なり、従来
用いられている比例積分微分制御に加えて、以下
に説明するリミツト制御及び立ち上げ制御を行な
うように構成されている。リミツト制御とは、出
湯温度が設定温度よりも所定値を越えて上昇した
ときはガス供給量を最低量に抑制する作用であ
る。このリミツト制御により、急激な負荷変動な
どによる湯温の異常な上昇を防止することができ
る。他方、立ち上げ制御とは、出湯温度が設定温
度よりも所定値を越えて下降した時点から図示し
ないタイマに設定された設定時間(例えば1分
間)が経過した時点において、同設定時間内にお
いて温度制御下にある出湯温度の変動状態が特定
の判定条件を満たしていないとマイクロコンピユ
ータ3が判断したときのみ、上記の設定温度より
も所定値だけ低い温度と上記の設定時間が経過し
た時点における出湯温度との差に比例した量だけ
ガス供給量を急増させる作用がある。
この立ち上げ制御により、急激な負荷変動など
による湯温の異常な低下を防止することができ
る。そして、上記のようなリミツト制御と立ち上
げ制御とを追加併用することにより、PID制御の
みの応答性では対応できない過渡的な制御条件の
変動に対して、PID制御の応答遅れを補償し、か
つ、湯温を安定化させることができる。
による湯温の異常な低下を防止することができ
る。そして、上記のようなリミツト制御と立ち上
げ制御とを追加併用することにより、PID制御の
みの応答性では対応できない過渡的な制御条件の
変動に対して、PID制御の応答遅れを補償し、か
つ、湯温を安定化させることができる。
まず第2図を参照しつつ上記のリミツト制御の
作用を説明する。サーミスタ4により検出された
出湯温度をTthとし可変抵抗器5の設定温度を
Tsetとすると、第2図の中上方のグラフの縦軸は
上記温度の差△T=Tth−Tsetを示し、従つてそ
の零レベルは出湯温度が設定温度レベルにあるこ
とを示し、第2図の中の下方のグラフの縦軸はガ
ス供給量Qを示し、横軸はいずれも経過時間tを
示している。
作用を説明する。サーミスタ4により検出された
出湯温度をTthとし可変抵抗器5の設定温度を
Tsetとすると、第2図の中上方のグラフの縦軸は
上記温度の差△T=Tth−Tsetを示し、従つてそ
の零レベルは出湯温度が設定温度レベルにあるこ
とを示し、第2図の中の下方のグラフの縦軸はガ
ス供給量Qを示し、横軸はいずれも経過時間tを
示している。
第2図において時間0〜t1の間は△Tは所定値
△T1を越えないので、コンピユータ3により、
次式によつて表わされるP.I.D.制御が行なわれ
る。
△T1を越えないので、コンピユータ3により、
次式によつて表わされるP.I.D.制御が行なわれ
る。
ここで、qはQを求めるための比例積分制御項
であり、K1、K2、K3は係数である。なお、qと
Qとの値のそれぞれには最小値qnioとQnioとが設
定されており、qnioは制御の初期値として設定さ
れている。
であり、K1、K2、K3は係数である。なお、qと
Qとの値のそれぞれには最小値qnioとQnioとが設
定されており、qnioは制御の初期値として設定さ
れている。
時刻trにおいて出湯温度が設定温度を越える
と、ガス供給量Qをそれまでの値Ql1より減少さ
せるようにP.I.D.制御が行なわれている。
と、ガス供給量Qをそれまでの値Ql1より減少さ
せるようにP.I.D.制御が行なわれている。
時刻t1において出湯温度と設定温度との差△T
は所定値△T1を越えるが、その時コンピユータ
3により、次式によつて表わされるリミツト制御
が行なわれる。
は所定値△T1を越えるが、その時コンピユータ
3により、次式によつて表わされるリミツト制御
が行なわれる。
リミツト制御式Q=Qnio、
q=qnio
リミツト制御が行なわれると、ガス供給量Qは
予め設定されている最低量Qnioに抑制され、その
後リミツト制御による上記の抑制状態は、温度差
△Tが減少し時刻t2を過ぎて別の所定値△T2より
低くなるまで続けられる。そして、時刻t2を過ぎ
てこのリミツト制御による上記の抑制状態が解除
されると、上記リミツト制御式において予め設定
された値qnioとされたqの値を初期値として、上
述のP.I.D.制御式によるP.I.D.制御が再び実行さ
れる。ここで本実施例において、この2つの値
Qnioとqnioとは実質的に同値とされている。また、
2つの異なる所定値△T1及び△T2を設けたのは
リミツト制御中におけるハンチング現象の生起を
防止するためである。
予め設定されている最低量Qnioに抑制され、その
後リミツト制御による上記の抑制状態は、温度差
△Tが減少し時刻t2を過ぎて別の所定値△T2より
低くなるまで続けられる。そして、時刻t2を過ぎ
てこのリミツト制御による上記の抑制状態が解除
されると、上記リミツト制御式において予め設定
された値qnioとされたqの値を初期値として、上
述のP.I.D.制御式によるP.I.D.制御が再び実行さ
れる。ここで本実施例において、この2つの値
Qnioとqnioとは実質的に同値とされている。また、
2つの異なる所定値△T1及び△T2を設けたのは
リミツト制御中におけるハンチング現象の生起を
防止するためである。
次に第3図を参照すると、縦軸及び横軸の表わ
す物理量は第2図のそれらと変わらないが、第3
図の場合は出湯温度が設定温度より低くなつた場
合のみを示している。時間0〜t4(後で定義する)
の間はコンピユータ3によるP.I.D.制御が行なわ
れ、時刻tfにおいて出湯温度が設定温度より低く
なると、ガス供給量Qをそれまでの値Qr3より増
加させる。その後時刻t3において出湯温度と設定
温度との差△Tの絶対値が所定値|△T3|を越
えると、その時点t3から起算して設定時間(t4−
t3)(例えば1分間)が経過した時点t4において、
同設定時間内における出湯温度の変動状態が後で
述べる特定の判定条件を満たしていないとマイク
ロコンピユータ3が判断したときのみ、立ち上げ
制御を行なう。すなわち、時刻t4における出湯温
度と設定温度との差ΔTの絶対値を|ΔT4|とし
て、設定時間内に生じた温度変化(|ΔT4|−|
ΔT3|)に比例した量だけガス供給量を急増させ
る。上記の増加ガス供給量は、第3図に示したよ
うに、Qr5−Qr4=K4(|△T4|−|△T3|)で
表わされ、立ち上げ制御式は下記の通りである。
す物理量は第2図のそれらと変わらないが、第3
図の場合は出湯温度が設定温度より低くなつた場
合のみを示している。時間0〜t4(後で定義する)
の間はコンピユータ3によるP.I.D.制御が行なわ
れ、時刻tfにおいて出湯温度が設定温度より低く
なると、ガス供給量Qをそれまでの値Qr3より増
加させる。その後時刻t3において出湯温度と設定
温度との差△Tの絶対値が所定値|△T3|を越
えると、その時点t3から起算して設定時間(t4−
t3)(例えば1分間)が経過した時点t4において、
同設定時間内における出湯温度の変動状態が後で
述べる特定の判定条件を満たしていないとマイク
ロコンピユータ3が判断したときのみ、立ち上げ
制御を行なう。すなわち、時刻t4における出湯温
度と設定温度との差ΔTの絶対値を|ΔT4|とし
て、設定時間内に生じた温度変化(|ΔT4|−|
ΔT3|)に比例した量だけガス供給量を急増させ
る。上記の増加ガス供給量は、第3図に示したよ
うに、Qr5−Qr4=K4(|△T4|−|△T3|)で
表わされ、立ち上げ制御式は下記の通りである。
ここで、マイクロコンピユータ3が行なう前記
の特定の判定条件について説明する。立ち上げ制
御は、供給ガス量を急激に上昇させるために、ハ
ンチングを誘起する可能性を含んでいる。このよ
うな好ましくない事態の生起を防止するために、
立ち上げ制御を行なう直前に設定時間(前記のよ
うに例えば1分間)を設け、同設定時間内に2回
以上リミツト制御が行なわれている場合はハンチ
ングの危険性があると判断し、立ち上げ制御によ
るガス供給量の急増は行なわない。
の特定の判定条件について説明する。立ち上げ制
御は、供給ガス量を急激に上昇させるために、ハ
ンチングを誘起する可能性を含んでいる。このよ
うな好ましくない事態の生起を防止するために、
立ち上げ制御を行なう直前に設定時間(前記のよ
うに例えば1分間)を設け、同設定時間内に2回
以上リミツト制御が行なわれている場合はハンチ
ングの危険性があると判断し、立ち上げ制御によ
るガス供給量の急増は行なわない。
更に前記の立ち上げ制御式においては、ガスの
最大供給量Qnaxに対し、次に示す制限条件が設
けられている。
最大供給量Qnaxに対し、次に示す制限条件が設
けられている。
K4(|△T4|−|△T3|)≦Qnax×70%
q≦Qnax×80%
次に、第4図の流れ図を参照しつつ本発明によ
る制御装置に包含された温度制御用マイクロコン
ピユータ3が行なう演算処理の手順について説明
する。
る制御装置に包含された温度制御用マイクロコン
ピユータ3が行なう演算処理の手順について説明
する。
第4図のステツプ100において、出湯温度の値
Tth及び設定温度の値Tsetをそれぞれサーミスタ
4及び可変抵抗器5の出力信号に基づい入力す
る。ステツプ101においては、上記の両温度値の
差(Tth−Tset)を演算し、△Tとして格納する。
ステツプ102においてリミツト制御が行なわれて
いるか否かを判定する。もしNOであれば、ステ
ツプ103において前記の両温度値の差△Tが所定
値△T1より小さいか否かを判定する。もし△T
が△T1より小さければYESに分岐し、ステツプ
104において設定時間を設定したタイマが動作を
始めたか否かを判定する。もしタイマが動作して
いなければステツプ105に進み、両温度値の差△
Tの絶対値が所定値|△T3|より大きいか否か
を判定し、もし|△T|が|△T3|より小さけ
れば直ちにステツプ106に進み、また|△T|が
|△T3|より大きければステツプ114に進みタイ
マをスタートさせた後ステツプ106に進む。
Tth及び設定温度の値Tsetをそれぞれサーミスタ
4及び可変抵抗器5の出力信号に基づい入力す
る。ステツプ101においては、上記の両温度値の
差(Tth−Tset)を演算し、△Tとして格納する。
ステツプ102においてリミツト制御が行なわれて
いるか否かを判定する。もしNOであれば、ステ
ツプ103において前記の両温度値の差△Tが所定
値△T1より小さいか否かを判定する。もし△T
が△T1より小さければYESに分岐し、ステツプ
104において設定時間を設定したタイマが動作を
始めたか否かを判定する。もしタイマが動作して
いなければステツプ105に進み、両温度値の差△
Tの絶対値が所定値|△T3|より大きいか否か
を判定し、もし|△T|が|△T3|より小さけ
れば直ちにステツプ106に進み、また|△T|が
|△T3|より大きければステツプ114に進みタイ
マをスタートさせた後ステツプ106に進む。
ステツプ106においてはP.I.D.制御を行なうた
めに、q−K1・△T−K2・(△T−△T-1)(但
し△Tはステツプ101における今回の演算により
求められた両温度値の差であり、△T-1は前回ス
テツプ101において求められた両温度値の差であ
る)を演算して更新されたqの値として格納し、
引き続きq−K3・(△T−△T-1/△t)(但し△tは ステツプ101における前回及び今回の両演算の間
の経過時間、すなわちマイクロコンピユータ3の
演算周期を示す)を演算して更新されたQの値と
して格納する。ステツプ107ではステツプ106で求
めたQの値に相当する大きさの励磁電流を電磁弁
6の励磁コイルに出力し、ステツプ200で出湯温
度制御のための演算処理以外の演算処理を行なう
ための通常ルーチンを実行した後、ステツプ100
にもどる。
めに、q−K1・△T−K2・(△T−△T-1)(但
し△Tはステツプ101における今回の演算により
求められた両温度値の差であり、△T-1は前回ス
テツプ101において求められた両温度値の差であ
る)を演算して更新されたqの値として格納し、
引き続きq−K3・(△T−△T-1/△t)(但し△tは ステツプ101における前回及び今回の両演算の間
の経過時間、すなわちマイクロコンピユータ3の
演算周期を示す)を演算して更新されたQの値と
して格納する。ステツプ107ではステツプ106で求
めたQの値に相当する大きさの励磁電流を電磁弁
6の励磁コイルに出力し、ステツプ200で出湯温
度制御のための演算処理以外の演算処理を行なう
ための通常ルーチンを実行した後、ステツプ100
にもどる。
上記のステツプ102における判定の結果、リミ
ツト制御が行なわれていれば、YESに分岐して
ステツプ108に移り、△Tが他の所定値△T2より
小さいか否かを判定する。もし△Tが△T2より
大きければNOに分岐して、ステツプ109に進み、
引き続きリミツト制御を行なうように今まで通り
qnio及びQnioをそれぞれq及びQの値として用い、
ステツプ107に進みQに対応する大きさの励磁電
流を電磁弁6に出力する。
ツト制御が行なわれていれば、YESに分岐して
ステツプ108に移り、△Tが他の所定値△T2より
小さいか否かを判定する。もし△Tが△T2より
大きければNOに分岐して、ステツプ109に進み、
引き続きリミツト制御を行なうように今まで通り
qnio及びQnioをそれぞれq及びQの値として用い、
ステツプ107に進みQに対応する大きさの励磁電
流を電磁弁6に出力する。
ステツプ108における判定の結果、△Tが△T2
より小さいときはYESに分岐しステツプ104に移
る。このとき、qの値としてqnioが格納されてお
り、次回の制御におけるqの初期値として用いら
れる。またステツプ103における判定の結果、△
Tが△T1より大きければNOに分岐しステツプ
109に移り、qnio及びQnioをそれぞれ更新されたq
及びQの値として格納し、リミツト制御を開始す
る。
より小さいときはYESに分岐しステツプ104に移
る。このとき、qの値としてqnioが格納されてお
り、次回の制御におけるqの初期値として用いら
れる。またステツプ103における判定の結果、△
Tが△T1より大きければNOに分岐しステツプ
109に移り、qnio及びQnioをそれぞれ更新されたq
及びQの値として格納し、リミツト制御を開始す
る。
また、ステツプ104における判定の結果、タイ
マがスタートずみであると判定すればYESに分
岐し、ステツプ110においてタイマの出力を判定
し設定時間が経過したときはステツプ111に進み、
直前の設定時間の間に2回以上リミツト制御が行
なわれたか否かを判定する。もしNOであればス
テツプ112に進み、立ち上げ制御を行なう。すな
わち、ステツプ112において、今回のステツプ101
における演算により求められた両温度値の差ΔT
をΔT4として格納し、次のステツプ113において、
上述の立ち上げ制御式に基いて、q−K1・ΔT−
K2・(ΔT−ΔT-1)+K4・(|ΔT4|−|ΔT3|)
を演算して更新されたqの値として格納し、引続
き q−K3・(ΔT−ΔT−1/Δt) を演算して更新されたQの値として格納する。そ
して、ステツプ107に進み更新されたQに相当し
た大きさの励磁電流を電磁弁6に出力する。
マがスタートずみであると判定すればYESに分
岐し、ステツプ110においてタイマの出力を判定
し設定時間が経過したときはステツプ111に進み、
直前の設定時間の間に2回以上リミツト制御が行
なわれたか否かを判定する。もしNOであればス
テツプ112に進み、立ち上げ制御を行なう。すな
わち、ステツプ112において、今回のステツプ101
における演算により求められた両温度値の差ΔT
をΔT4として格納し、次のステツプ113において、
上述の立ち上げ制御式に基いて、q−K1・ΔT−
K2・(ΔT−ΔT-1)+K4・(|ΔT4|−|ΔT3|)
を演算して更新されたqの値として格納し、引続
き q−K3・(ΔT−ΔT−1/Δt) を演算して更新されたQの値として格納する。そ
して、ステツプ107に進み更新されたQに相当し
た大きさの励磁電流を電磁弁6に出力する。
なお、ステツプ110における判定の結果、設定
時間が未経過であるとき、及びステツプ111にお
ける判定結果、直前の設定時間の間に2回以上リ
ミツト制御が行なわれているときは、いずれも立
ち上げ制御を行なわないので、ステツプ106に移
行しP.I.D.制御を行なう。
時間が未経過であるとき、及びステツプ111にお
ける判定結果、直前の設定時間の間に2回以上リ
ミツト制御が行なわれているときは、いずれも立
ち上げ制御を行なわないので、ステツプ106に移
行しP.I.D.制御を行なう。
以上に説明したフローチヤートにおいて、ステ
ツプ100、101、102、103、104、105、106、107お
よび200に至る流れを繰り返すことによりP.I.D.
制御が実行される。
ツプ100、101、102、103、104、105、106、107お
よび200に至る流れを繰り返すことによりP.I.D.
制御が実行される。
また、第2図の時点t1において、P.I.D.制御の
流れの中のステツプ103からNOに分岐し、ステ
ツプ109、107、200、100および101を経て、102よ
りYESに分岐し、次に108よりNOに分岐して再
びステツプ109にもどる流れを繰り返し、次に、
第2図の時点t2において、ステツプ108からYES
に分岐して再びP.I.D.制御の流れにもどる過程を
経てリミツト制御が実行される。
流れの中のステツプ103からNOに分岐し、ステ
ツプ109、107、200、100および101を経て、102よ
りYESに分岐し、次に108よりNOに分岐して再
びステツプ109にもどる流れを繰り返し、次に、
第2図の時点t2において、ステツプ108からYES
に分岐して再びP.I.D.制御の流れにもどる過程を
経てリミツト制御が実行される。
また、第3図の時点t3において、ステツプ105
からYESに分岐し、ステツプ114、106、107、
200、100、101、102および103を経た後、104から
YESに分岐し、次に110からNOに分岐し、再び
106にもどる流れを繰り返してP.I.D.制御を行な
つた後、第3図の時点t4においてステツプ110か
らYESに分岐してステツプ111、112、113、107
および200を経由する流れにより、立ち上げ制御
が実行される。
からYESに分岐し、ステツプ114、106、107、
200、100、101、102および103を経た後、104から
YESに分岐し、次に110からNOに分岐し、再び
106にもどる流れを繰り返してP.I.D.制御を行な
つた後、第3図の時点t4においてステツプ110か
らYESに分岐してステツプ111、112、113、107
および200を経由する流れにより、立ち上げ制御
が実行される。
以上の説明により明らかにされた通り、本発明
による制御装置によれば、ガス給湯器の出湯温度
の制御装置として、フイードバツク制御により得
られる良好な安定性に加え、リミツト制御及び立
ち上げ制御により得られる良好な過渡応答特性を
兼ね備えることにより、総合的にすぐれた出湯温
度特性を有する制御装置を提供することができ、
実用上大きな効果が得られる。
による制御装置によれば、ガス給湯器の出湯温度
の制御装置として、フイードバツク制御により得
られる良好な安定性に加え、リミツト制御及び立
ち上げ制御により得られる良好な過渡応答特性を
兼ね備えることにより、総合的にすぐれた出湯温
度特性を有する制御装置を提供することができ、
実用上大きな効果が得られる。
第1図は、本発明による制御装置の構成の概略
を示すブロツク図である。第2図は、本発明によ
る制御装置により行なわれるP.I.D.制御動作とリ
ミツト制御動作との説明に供する動作特性図であ
る。第3図は、本発明による制御装置により行な
われるP.I.D.制御動作と立ち上げ制御動作との説
明に供する動作特性図である。第4図は、本発明
による制御装置に含まれた演算処理装置が行なう
演算処理の手順を示す流れ図である。 (符号の説明)、1……電源、2……整流平滑
回路、3……演算処理装置(マイクロコンピユー
タ)、4……温度検出装置(サーミスタ)、5……
温度設定装置(可変抵抗器)、6……ガス供給量
制御装置(ガス供給量制御用電磁弁)、Tr1……
ガス供給量制御用電磁弁駆動用トランジスタ、R
1〜R8……抵抗器。
を示すブロツク図である。第2図は、本発明によ
る制御装置により行なわれるP.I.D.制御動作とリ
ミツト制御動作との説明に供する動作特性図であ
る。第3図は、本発明による制御装置により行な
われるP.I.D.制御動作と立ち上げ制御動作との説
明に供する動作特性図である。第4図は、本発明
による制御装置に含まれた演算処理装置が行なう
演算処理の手順を示す流れ図である。 (符号の説明)、1……電源、2……整流平滑
回路、3……演算処理装置(マイクロコンピユー
タ)、4……温度検出装置(サーミスタ)、5……
温度設定装置(可変抵抗器)、6……ガス供給量
制御装置(ガス供給量制御用電磁弁)、Tr1……
ガス供給量制御用電磁弁駆動用トランジスタ、R
1〜R8……抵抗器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ガス給湯器の出湯温度を制御するための制御
装置であつて、温度制御用演算処理装置、該演算
処理装置の1つの入力端に接続され、出湯温度を
検出するための温度検出装置、前記演算処理装置
の他の入力端に接続され、設定温度を設定するた
めの温度設定装置、および前記演算処理装置の出
力端に接続され、該演算処理装置が出力する指令
値に応じてガス供給量を調節するためのガス供給
量調節装置を備えた前記制御装置において、 前記温度制御用演算処理装置は、 前記温度検出装置により検出された出湯温度が
前記温度設定装置により設定された設定温度に等
しくなるようにガス供給量のフイードバツク制御
を行なうためのフイードバツク制御手段と、 前記温度検出装置により検出された出湯温度が
前記温度設定装置により設定された設定温度より
も第1の所定値を越えて上昇したときに、前記出
湯温度と前記設定温度との差が前記第1の所定値
より小さい第2の所定値に復帰するまでガス供給
量を最低量に抑制するようにリミツト制御を行な
うためのリミツト制御手段と、 前記温度検出装置により検出された出湯温度が
前記温度設定装置により設定された設定温度より
も第3の所定値を越えて下降し、かつ、前記第3
の所定値を超えて下降したときから所定時間経過
した時点において、該所定時間内に所定回数以上
前記リミツト制御が行なわれていないと判定した
ときのみ、前記所定時間内における前記出湯温度
の下降状態に応じた量だけ、ガス供給量を急増さ
せるように立ち上げ制御を行なうための立ち上げ
制御手段と を備えることを特徴とする制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1245582A JPH0247763B2 (ja) | 1982-01-28 | 1982-01-28 | Seigyosochi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1245582A JPH0247763B2 (ja) | 1982-01-28 | 1982-01-28 | Seigyosochi |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58129515A JPS58129515A (ja) | 1983-08-02 |
| JPH0247763B2 true JPH0247763B2 (ja) | 1990-10-22 |
Family
ID=11805810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1245582A Expired - Lifetime JPH0247763B2 (ja) | 1982-01-28 | 1982-01-28 | Seigyosochi |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0247763B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4535931A (en) * | 1983-09-14 | 1985-08-20 | Kenneth W. Scott | Energy conserving water heater control system |
| JPS6371701A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-04-01 | Matsushita Seiko Co Ltd | フイ−ドバツク制御装置 |
| JPS6371702A (ja) * | 1986-09-12 | 1988-04-01 | Matsushita Seiko Co Ltd | フイ−ドバツク制御装置 |
| US5626287A (en) * | 1995-06-07 | 1997-05-06 | Tdk Limited | System and method for controlling a water heater |
-
1982
- 1982-01-28 JP JP1245582A patent/JPH0247763B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58129515A (ja) | 1983-08-02 |
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