JPH0246674B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0246674B2 JPH0246674B2 JP61201288A JP20128886A JPH0246674B2 JP H0246674 B2 JPH0246674 B2 JP H0246674B2 JP 61201288 A JP61201288 A JP 61201288A JP 20128886 A JP20128886 A JP 20128886A JP H0246674 B2 JPH0246674 B2 JP H0246674B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pbo
- layer
- particulate
- corrosion
- electrode according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 79
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 37
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 25
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 25
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 16
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 16
- 229910006529 α-PbO Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 claims description 9
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) oxide Chemical compound [O-2].[Pd+2] JQPTYAILLJKUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims 1
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N lead(II) oxide Inorganic materials [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N lead dioxide Inorganic materials O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000002345 surface coating layer Substances 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLLHGDWGEUEQMW-UHFFFAOYSA-N [Pt+2].[O-2].[Ta+5] Chemical compound [Pt+2].[O-2].[Ta+5] DLLHGDWGEUEQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N lead(2+) Chemical compound [Pb+2] RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000020442 loss of weight Diseases 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical group Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003608 titanium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910006531 α-PbO2 Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、酸化鉛被覆電解用電極に関し、特に
酸水溶液や有機物含有液等の電解において、酸素
発生やオゾン発生、陽極酸化等を行う陽極に適し
た酸化鉛被覆電解用電極及びその製造方法に関す
るものである。 〔従来の技術と問題点〕 従来から、酸化鉛を被覆した金属電極は、酸素
発生電解、陽極酸化、電気メツキ、有機電解、排
水電解処理用等の耐食性を要し、或いは、高い酸
素過電圧を必要とする電解用陽極に適したものと
して知られ、これまで種々の改良がなされてきて
いる。しかし、特に実用的な面で問題点が依然と
して存し、工業的に広く使用されるまでには至つ
ていない。 電極として使用される酸化鉛には、斜方晶系の
α−PbO2と、正方晶系でルチル型構造のβ−
PbO2の2種がある。α−PbO2はβ−PbO2に比
較して陽極として電解に使用する場合耐食性が悪
いが、反面、チタン等の金属基体上に電解的に形
成する場合には殆ど電着内部歪のないα−PbO2
を得ることができる。一方、β−PbO2は導電性
が良く、耐食性も良好であるが、電解的にβ−
PbO2を形成すると、一般的に電着内部歪が大き
くなり、ひび割れを生じたり、金属基体との付着
性が悪くなる問題がある。 又、一般にPbO2層は機械的にもろく、工作性
に劣る上、PbO2層の酸化作用により、チタン等
の金属基体を不働態化し、通電を困難にする等の
問題がある。 これらの問題点の内、金属基体と酸化鉛との付
着性を改良するため、金属基体の表面積を増大さ
せる手段を取ることが知られている(例えば、特
公昭58−31396号、特公昭59−34235号)。これら
は多孔質金属等を基体とするため、その製作に特
殊な技術を要し、複雑な構造となる上、機械的強
度にも問題がある。 又、金属基体の不働態化を防止するため、金属
基体上に白金族金属を部分的に放電盛金する方法
(特公昭57−45835号)、基体表面に微小な貴金属
部を点在させる方法(特公昭54−32453号)が提
案されている。これらは、高価な貴金属を多量に
使用する必要があり、実用的でない上、製造方法
がかなり繁雑となる。 一方、金属基体上に、種々の下地層又は中間層
を介して酸化鉛層を被覆する多くの提案が知られ
ている。例えば、チタン基体表面に予めチタン
()を被覆する方法(特公昭53−45191号)、白
金族金属の薄いフラツシユ層を設ける方法(特公
昭56−9236号)、白金族金属又は金属酸化物の中
間層を設ける方法(特公昭58−30957号、特公昭
58−31396号、特公昭59−34235号)、第〜第
族元素の炭化物、ホウ化物及び/又は第〜第
亜族の珪化物及び/又は炭化珪素の中間層を設け
るもの(特公昭50−72878号)、スズ化合物とアン
チモン化合物からなる半導体中間層を設けるもの
(特開昭52−82680号)等がある。 これらの内、白金族金族又はその酸化物を含む
中間層を設ける場合、中間層自体が極めて高価で
実用的でない。しかもこれらは通常電極活性物質
として使用されるものであり、酸化鉛に比して一
般に陽極として酸素過電圧が小さいため、酸化鉛
被覆層のピンホール等を通して電解液が浸入した
場合、中間層が陽極として作用し、中間層表面で
電解反応によるガス発生が起こり、酸化鉛層を剥
離、破壊に至らしめる危険がある。又、スズ化合
物とアンチモン化合物の半導性物質に代表され
る、白金族金属を含まない中間層では、中間層が
陽極として作動する恐れは少ないが、導電性が不
十分であり、通電上問題が残る。更に、鉛イオン
半径は、Pb4+(6配位)で0.78Åあり、Sn4+の
0.69ÅやTi4+の0.61Åに比較して大きいために、
中間層と酸化鉛層が融合し、或いは固溶体を形成
して強固に付着することが困難である。又、β−
PbO2層は上記のようにイオンン半径が大きいた
め、ルチル型酸化物として、それ自身も相当応力
がかかつており、中間層を介しても完全な付着は
困難である。 そのため、歪の少ないα−PbO2の使用が提案
されており、特公昭55−9472号では、α−PbO2
とβ−PbO2の交互の層を設けている。又、金属
基体表面に銀メツキを施し、その上にα−PbO2
を設けることも知られている。(特公昭51−23494
号)。これらは、歪の少ない酸化鉛層ができるが、
α−PbO2の耐食性の悪さや酸性液中での銀の溶
解等の問題があり、未だ十分なものとは言えな
い。 又、電解的に形成したβ−PbO2層自身の内部
歪は、構造上必然的に現れるものであり、これを
解放することは特に厚付PbO2の場合問題となる
が、これまで適当な解決手段は知られていない。 このように、従来の酸化鉛被覆電極は、性能や
製造上等、種々の問題があり、未だ実用的に十分
に優れた電極が得られなかつた。 〔発明の目的〕 本発明は、叙上の問題を解決するためになされ
たもので、金属基体上に緻密で付着性の優れた、
且つ電着内部歪の少ないβ−PbO2被覆を有する。
長寿命で安定性の良好な酸化鉛被覆電極を提供す
ることを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、第1に、耐食性金属基体上に、白金
及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層、α−
PbO2よりなる中間層、及び耐食性を有し且つ電
気化学的に不活性な粒子状及び/又は繊維状物質
を含有するβ−PbO2よりなる被覆層を順次被覆
してなることを特徴とする酸化鉛被覆電解用電極
である。 第2に、耐食性金属基体上に、白金及び/又は
パラジウム酸化物を含む下地層を形成し、次にα
−PbO2よりなる中間層を形成し、次いで耐食性
を有し且つ電気化学的に不活性な粒子状及び/又
は繊維状物質を含有するβ−PbO2よりなる被覆
層を形成することを特徴とする酸化鉛被覆電解用
電極の製造方法である。 以下、本発明をより詳細に説明する。 本発明において、電極の基体として耐食性を有
する金属を用いるが、弁金属と総称されるチタ
ン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル又はそれら
の基合金が好適である。該金属基体の形状は特に
限定されず、板、有孔板、棒状体、エキスパンド
メタル、網状体等いずれでもよい。該基体は、後
にその上に比較的厚い酸化鉛の層を被覆するの
で、表面を凹凸化処理し、付着面積を増大させる
ことが好ましい。そのため、通常は比較的大きい
粒径を有するグリツト又はサンドを使用してブラ
スト処理を行う。又、蓚酸、硫酸、塩酸等を用い
る酸洗により基体表面に微細な凹凸を形成し、下
地層との付着性の向上を図ると共に、表面の清浄
化や活性化を行うことが望ましい。 このように、準備した金属基体の表面に基体を
保護し、中間層との付着性を良くする等のため、
白金及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層を
形成する。該下地層として形成される白金は、通
常金属状であるが、パラジウムは金属状では耐食
性に劣るので、酸化物となつていることが必要で
ある。そのような下地層を形成するには、通常、
熱分解法が好適であり、熱分解可能な白金及び/
又はパラジウムの塩を含む溶液を塗布し、乾燥
後、空気中等にて加熱、熱分解処理して白金及
び/又はパラジウム酸化物を含む下地層被覆が容
易に得られる。 本発明において下地層に白金及び/又はパラジ
ウム酸化物を用いる理由は、これらの物質は酸素
発生過電圧が十分大きいからである。即ち、酸化
鉛電極は陽極として水溶液中で使用される場合が
多いが、この時の反応は酸素発生が主である。そ
して、酸化鉛は酸素発生過電圧が大きいので、下
地層の過電圧を大きくしておく必要があり、上記
物質がこの要求を十分満たすことが分かつた。
尚、貴金属を使用しない導電性酸化物、例えば、
酸化スズや酸化チタンでは過電圧は十分大きい
が、導電性に劣り、ルテニウム、イリジウム、ロ
ジウム等の他の貴金属では、導電性は良いもの
の、いずれも酸化鉛より酸素過電圧が小さいた
め、本発明には適しない。 又、該下地層は、白金及び/又はパラジウム酸
化物のみで十分効果を達成できるが、基体との結
合性をより改善し、高価な貴金属の使用量を減ら
す等のため、他の金属酸化物と混合して使用して
も良い。他の金属酸化物として、チタン酸化物、
タンタル酸化物をドープしたチタン酸化物、スズ
酸化物等が好適に用いられ、併せて下地層自身の
耐食性の向上、酸素過電圧の上昇等の効果が期待
できる。他の金属酸化物の組成量は下地層全量の
0〜90モル%が好ましい。 下地層の被覆厚さは、0.05〜3μm程度が好適で
あり、0.05μm未満では基体を十分被覆できず、
又、3μmを越えると電気抵抗が増大する傾向が
ある。下地層を形成する熱分解条件は、被覆組成
により適宜選定されるが、通常空気等の酸化性雰
囲気中、300〜700℃で5〜30分熱処理すれば良
い。所望の被覆厚さを得るためには、塗布溶液の
塗布、加熱処理を繰り返して行えば良い。尚、下
地層の被覆は、同一組成の被覆の繰り返しばかり
でなく、組成の異なる被覆を適宜の順序で行つ
て、全体として所望の組成の下地層を形成するこ
とも出来る。後者の場合でも、被覆自身が薄いた
め、被覆層の加熱形成時に相互に成分が拡散し、
全体として十分に導電性の高い下地層被覆が得ら
れる。 上記した下地層に次いで、α−PbO2よりなる
中間層を形成する。該α−PbO2は、基体/下地
層と後記するβ−PbO2被覆層とのつなぎの役割
を主に果たす。即ち、前記したように、Pb4+の
金属イオン半径は下地層又は基体金属のチタン、
スズ、タンタル、ニオブのそれに比して0.1〜0.2
Å大きく、両者共ルチル型酸化物となり、β−
PbO2と同型であるので、そのミスフイトがより
大きく付着性が悪くなる恐れがあるので、結晶系
の異なるα−PbO2中間層を介することにより、
これを緩和することが出来る。従つて、α−
PbO2層の厚さは、このつなぎの役割を果たす範
囲で薄くてよく、厚過ぎると耐食性や導電性に問
題が起こる恐れがあるので、20〜500μm程度が
適当である。α−PbO2中間層の形成方法は、特
に限定されるものではないが、通常、Pbイオン
を含むアルカリ水溶液中から陽極酸化反応によつ
て電解的に形成する方法が好適である。代表的な
条件として、3〜5N NaOH水溶液中に、一酸化
鉛(PbO)を溶解飽和させた電解液を用い、前記
下地層を被覆した基体を陽極として、0.1〜
10A/dm2の電流密度、温度20〜60℃、電圧1〜
2Vで0.1〜10時間電解することにより所望の厚さ
の中間層被覆が得られる。 このようにして、α−PbO2中間層を被覆した
後、その表面に、電気化学的に不活性で耐食性を
有する粒子状及び/又は繊維状の物質を含有した
β−PbO2被覆層を形成する。該粒子状及び/又
は繊維状物質をβ−PbO2層に含有させることに
よつて、被覆層のβ−PbO2が連続的に結合する
ことが避けられ、形成されたβ−PbO2層の電着
内部応力を分散させる効果が得られる。β−
PbO2被覆層中に含有、分散させる該物質は、耐
食性があり、β−PbO2層の電気化学的活性に影
響を与えないものであれば、いずれの物質も使用
できる。一般に、金属酸化物は耐食性があり、反
応性が少ないので好適であるが、特にTi、Ta、
Zr、Hf、Nb、V等の周期律表第族及び第族
の金属の酸化物が有効である。同様にこれらの金
属の炭化物、窒化物又は硼化物も使用できる。
又、弗素樹脂も耐薬品性に優れ、反応性が無いの
で好適に用いられる。第族及び第族のうちの
弁金属と称される前記の例示金属は、陽分極によ
つて表面に不働態性の耐食酸化皮膜を形成し、反
応性もないので、金属のままでも使用することが
できる。これらの物質の含有率は適宜選定できる
が、通常、被覆層全量の0.01〜10%(重量)程度
が適当である。それらの物質の粒径又は繊維径
は、500μm以下が好ましい。このような被覆層
を形成する方法は特に限定されないが、β−
PbO2層を電解的に形成し、その際、電解液中に
前記した粒子状及び/又は繊維状物質を分散させ
て行う、いわゆる分散メツキ法を併用して電解的
に形成する方法が好適である。又、β−PbO2層
の形成と、前記物質の導入を適宜の順序で別個に
行うこともできる。即ち、β−PbO2薄層を電解
的方法等により形成し、その上に繊維状及び/又
は粒子状物質を塗布し、焼付け、この操作を適宜
回数繰り返して、β−PbO2層と該物質層とを交
互に有する被覆層としてもよい。この際の電解条
件は、従来の方法が適用でき、通常、硝酸鉛浴中
で前記中間層被覆基体を陽極として電解すればよ
く、電流密度0.1〜10A/dm2、温度40〜80℃程
度が好適である。 このようにして、粒子状及び/又は繊維状物質
を含有したβ−PbO2被覆層を電極活性表面とす
る酸化鉛被覆電極が容易に得られる。 〔実施例〕 以下、本発明の実施例を記載するが、これらは
本発明を限定するものではない。 実施例 1 板厚1.5mmの純チタン製のエクスパンドメツシ
ユの表面を、#70(平均粒径0.7mm)のスチールグ
リツトを使用してブラストがけを行い、次いで25
%の沸騰塩酸水溶液中で15分間酸洗した。このチ
タンエクスパンドメツシユを基体として、その表
面に厚さ0.1μmの組成がPt:Ta=1:1(金属モ
ル比)の白金と酸化タンタルからなる下地層を設
けた。下地層は、塗布液に白金として塩化白金酸
を、タンタルとして五塩化タンタルを4%塩酸水
溶液に溶解したものを用い、これを基体のエクス
パンドメツシユに刷毛にて塗布し、40℃で乾燥
後、マツフル炉にて570℃で10分間加熱し、この
操作を4回繰り返して形成した。 次いで、これを陽極として、陰極にチタン板を
使用して3.5Nの苛性ソーダ水溶液に一酸化鉛
(PbO)を溶解飽和させた液を電解液として、40
℃において1A/dm2の電流密度で2時間電解を
行い、中間層のα−PbO2被覆層を形成した。該
中間層の厚さは約100μmであつた。 更に、表面被覆層として、フツ素樹脂を含有す
るβ−PbO2からなる二酸化鉛層を以下の条件で
形成した。電解液として、濃度30重量%の硝酸鉛
水溶液に、フツ素樹脂デイスパージヨン(商品名
テフロン30J:三井・デユポンフロロケミカル製)
を、1につき10ml加えたものを用意した。 陰極としてチタン板を使用し、液撹拌のために
液中に窒素ガスを通しながら温度65〜70℃、
2A/dm2にて、2時間通電した。この操作によ
り、厚さ約300μmのフツ素樹脂を含んだ酸化鉛
層を形成することが出来た。 対比用電極として、下地層である白金−タンタ
ル酸化物を除いたもの(対比例1)、中間層であ
るα−PbO2層を除いたもの(対比例2)及び表
面被覆層のみのもの(対比例3)を作成した。こ
れらの対比例試料は、上記の条件以外はすべて実
施例電極の作成方法と同じとした。これらの試料
について、60℃、150g/の硫酸水溶液中で陽
極として、100A/dm2の電流密度で加速電解試
験を行つた。。 その結果を第1表に示した。 これらの表から分かるように、下地層のない試
料(対比例1及び対比例3)は、短時間で通電不
能となり、基体から被覆が剥離した。 又、中間層を設けず、下地層の上に直接表面被
覆層を設けたもの(対比例2)はある程度の寿命
を認められるが、電解中に間もなく被覆層のひび
割れが生じた。これに対して本実施例の電極は、
500時間以上の電解で重量少や剥離が無く、安定
に長時間電解を行うことが出来ることが分かつ
た。
酸水溶液や有機物含有液等の電解において、酸素
発生やオゾン発生、陽極酸化等を行う陽極に適し
た酸化鉛被覆電解用電極及びその製造方法に関す
るものである。 〔従来の技術と問題点〕 従来から、酸化鉛を被覆した金属電極は、酸素
発生電解、陽極酸化、電気メツキ、有機電解、排
水電解処理用等の耐食性を要し、或いは、高い酸
素過電圧を必要とする電解用陽極に適したものと
して知られ、これまで種々の改良がなされてきて
いる。しかし、特に実用的な面で問題点が依然と
して存し、工業的に広く使用されるまでには至つ
ていない。 電極として使用される酸化鉛には、斜方晶系の
α−PbO2と、正方晶系でルチル型構造のβ−
PbO2の2種がある。α−PbO2はβ−PbO2に比
較して陽極として電解に使用する場合耐食性が悪
いが、反面、チタン等の金属基体上に電解的に形
成する場合には殆ど電着内部歪のないα−PbO2
を得ることができる。一方、β−PbO2は導電性
が良く、耐食性も良好であるが、電解的にβ−
PbO2を形成すると、一般的に電着内部歪が大き
くなり、ひび割れを生じたり、金属基体との付着
性が悪くなる問題がある。 又、一般にPbO2層は機械的にもろく、工作性
に劣る上、PbO2層の酸化作用により、チタン等
の金属基体を不働態化し、通電を困難にする等の
問題がある。 これらの問題点の内、金属基体と酸化鉛との付
着性を改良するため、金属基体の表面積を増大さ
せる手段を取ることが知られている(例えば、特
公昭58−31396号、特公昭59−34235号)。これら
は多孔質金属等を基体とするため、その製作に特
殊な技術を要し、複雑な構造となる上、機械的強
度にも問題がある。 又、金属基体の不働態化を防止するため、金属
基体上に白金族金属を部分的に放電盛金する方法
(特公昭57−45835号)、基体表面に微小な貴金属
部を点在させる方法(特公昭54−32453号)が提
案されている。これらは、高価な貴金属を多量に
使用する必要があり、実用的でない上、製造方法
がかなり繁雑となる。 一方、金属基体上に、種々の下地層又は中間層
を介して酸化鉛層を被覆する多くの提案が知られ
ている。例えば、チタン基体表面に予めチタン
()を被覆する方法(特公昭53−45191号)、白
金族金属の薄いフラツシユ層を設ける方法(特公
昭56−9236号)、白金族金属又は金属酸化物の中
間層を設ける方法(特公昭58−30957号、特公昭
58−31396号、特公昭59−34235号)、第〜第
族元素の炭化物、ホウ化物及び/又は第〜第
亜族の珪化物及び/又は炭化珪素の中間層を設け
るもの(特公昭50−72878号)、スズ化合物とアン
チモン化合物からなる半導体中間層を設けるもの
(特開昭52−82680号)等がある。 これらの内、白金族金族又はその酸化物を含む
中間層を設ける場合、中間層自体が極めて高価で
実用的でない。しかもこれらは通常電極活性物質
として使用されるものであり、酸化鉛に比して一
般に陽極として酸素過電圧が小さいため、酸化鉛
被覆層のピンホール等を通して電解液が浸入した
場合、中間層が陽極として作用し、中間層表面で
電解反応によるガス発生が起こり、酸化鉛層を剥
離、破壊に至らしめる危険がある。又、スズ化合
物とアンチモン化合物の半導性物質に代表され
る、白金族金属を含まない中間層では、中間層が
陽極として作動する恐れは少ないが、導電性が不
十分であり、通電上問題が残る。更に、鉛イオン
半径は、Pb4+(6配位)で0.78Åあり、Sn4+の
0.69ÅやTi4+の0.61Åに比較して大きいために、
中間層と酸化鉛層が融合し、或いは固溶体を形成
して強固に付着することが困難である。又、β−
PbO2層は上記のようにイオンン半径が大きいた
め、ルチル型酸化物として、それ自身も相当応力
がかかつており、中間層を介しても完全な付着は
困難である。 そのため、歪の少ないα−PbO2の使用が提案
されており、特公昭55−9472号では、α−PbO2
とβ−PbO2の交互の層を設けている。又、金属
基体表面に銀メツキを施し、その上にα−PbO2
を設けることも知られている。(特公昭51−23494
号)。これらは、歪の少ない酸化鉛層ができるが、
α−PbO2の耐食性の悪さや酸性液中での銀の溶
解等の問題があり、未だ十分なものとは言えな
い。 又、電解的に形成したβ−PbO2層自身の内部
歪は、構造上必然的に現れるものであり、これを
解放することは特に厚付PbO2の場合問題となる
が、これまで適当な解決手段は知られていない。 このように、従来の酸化鉛被覆電極は、性能や
製造上等、種々の問題があり、未だ実用的に十分
に優れた電極が得られなかつた。 〔発明の目的〕 本発明は、叙上の問題を解決するためになされ
たもので、金属基体上に緻密で付着性の優れた、
且つ電着内部歪の少ないβ−PbO2被覆を有する。
長寿命で安定性の良好な酸化鉛被覆電極を提供す
ることを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、第1に、耐食性金属基体上に、白金
及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層、α−
PbO2よりなる中間層、及び耐食性を有し且つ電
気化学的に不活性な粒子状及び/又は繊維状物質
を含有するβ−PbO2よりなる被覆層を順次被覆
してなることを特徴とする酸化鉛被覆電解用電極
である。 第2に、耐食性金属基体上に、白金及び/又は
パラジウム酸化物を含む下地層を形成し、次にα
−PbO2よりなる中間層を形成し、次いで耐食性
を有し且つ電気化学的に不活性な粒子状及び/又
は繊維状物質を含有するβ−PbO2よりなる被覆
層を形成することを特徴とする酸化鉛被覆電解用
電極の製造方法である。 以下、本発明をより詳細に説明する。 本発明において、電極の基体として耐食性を有
する金属を用いるが、弁金属と総称されるチタ
ン、ジルコニウム、ニオブ、タンタル又はそれら
の基合金が好適である。該金属基体の形状は特に
限定されず、板、有孔板、棒状体、エキスパンド
メタル、網状体等いずれでもよい。該基体は、後
にその上に比較的厚い酸化鉛の層を被覆するの
で、表面を凹凸化処理し、付着面積を増大させる
ことが好ましい。そのため、通常は比較的大きい
粒径を有するグリツト又はサンドを使用してブラ
スト処理を行う。又、蓚酸、硫酸、塩酸等を用い
る酸洗により基体表面に微細な凹凸を形成し、下
地層との付着性の向上を図ると共に、表面の清浄
化や活性化を行うことが望ましい。 このように、準備した金属基体の表面に基体を
保護し、中間層との付着性を良くする等のため、
白金及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層を
形成する。該下地層として形成される白金は、通
常金属状であるが、パラジウムは金属状では耐食
性に劣るので、酸化物となつていることが必要で
ある。そのような下地層を形成するには、通常、
熱分解法が好適であり、熱分解可能な白金及び/
又はパラジウムの塩を含む溶液を塗布し、乾燥
後、空気中等にて加熱、熱分解処理して白金及
び/又はパラジウム酸化物を含む下地層被覆が容
易に得られる。 本発明において下地層に白金及び/又はパラジ
ウム酸化物を用いる理由は、これらの物質は酸素
発生過電圧が十分大きいからである。即ち、酸化
鉛電極は陽極として水溶液中で使用される場合が
多いが、この時の反応は酸素発生が主である。そ
して、酸化鉛は酸素発生過電圧が大きいので、下
地層の過電圧を大きくしておく必要があり、上記
物質がこの要求を十分満たすことが分かつた。
尚、貴金属を使用しない導電性酸化物、例えば、
酸化スズや酸化チタンでは過電圧は十分大きい
が、導電性に劣り、ルテニウム、イリジウム、ロ
ジウム等の他の貴金属では、導電性は良いもの
の、いずれも酸化鉛より酸素過電圧が小さいた
め、本発明には適しない。 又、該下地層は、白金及び/又はパラジウム酸
化物のみで十分効果を達成できるが、基体との結
合性をより改善し、高価な貴金属の使用量を減ら
す等のため、他の金属酸化物と混合して使用して
も良い。他の金属酸化物として、チタン酸化物、
タンタル酸化物をドープしたチタン酸化物、スズ
酸化物等が好適に用いられ、併せて下地層自身の
耐食性の向上、酸素過電圧の上昇等の効果が期待
できる。他の金属酸化物の組成量は下地層全量の
0〜90モル%が好ましい。 下地層の被覆厚さは、0.05〜3μm程度が好適で
あり、0.05μm未満では基体を十分被覆できず、
又、3μmを越えると電気抵抗が増大する傾向が
ある。下地層を形成する熱分解条件は、被覆組成
により適宜選定されるが、通常空気等の酸化性雰
囲気中、300〜700℃で5〜30分熱処理すれば良
い。所望の被覆厚さを得るためには、塗布溶液の
塗布、加熱処理を繰り返して行えば良い。尚、下
地層の被覆は、同一組成の被覆の繰り返しばかり
でなく、組成の異なる被覆を適宜の順序で行つ
て、全体として所望の組成の下地層を形成するこ
とも出来る。後者の場合でも、被覆自身が薄いた
め、被覆層の加熱形成時に相互に成分が拡散し、
全体として十分に導電性の高い下地層被覆が得ら
れる。 上記した下地層に次いで、α−PbO2よりなる
中間層を形成する。該α−PbO2は、基体/下地
層と後記するβ−PbO2被覆層とのつなぎの役割
を主に果たす。即ち、前記したように、Pb4+の
金属イオン半径は下地層又は基体金属のチタン、
スズ、タンタル、ニオブのそれに比して0.1〜0.2
Å大きく、両者共ルチル型酸化物となり、β−
PbO2と同型であるので、そのミスフイトがより
大きく付着性が悪くなる恐れがあるので、結晶系
の異なるα−PbO2中間層を介することにより、
これを緩和することが出来る。従つて、α−
PbO2層の厚さは、このつなぎの役割を果たす範
囲で薄くてよく、厚過ぎると耐食性や導電性に問
題が起こる恐れがあるので、20〜500μm程度が
適当である。α−PbO2中間層の形成方法は、特
に限定されるものではないが、通常、Pbイオン
を含むアルカリ水溶液中から陽極酸化反応によつ
て電解的に形成する方法が好適である。代表的な
条件として、3〜5N NaOH水溶液中に、一酸化
鉛(PbO)を溶解飽和させた電解液を用い、前記
下地層を被覆した基体を陽極として、0.1〜
10A/dm2の電流密度、温度20〜60℃、電圧1〜
2Vで0.1〜10時間電解することにより所望の厚さ
の中間層被覆が得られる。 このようにして、α−PbO2中間層を被覆した
後、その表面に、電気化学的に不活性で耐食性を
有する粒子状及び/又は繊維状の物質を含有した
β−PbO2被覆層を形成する。該粒子状及び/又
は繊維状物質をβ−PbO2層に含有させることに
よつて、被覆層のβ−PbO2が連続的に結合する
ことが避けられ、形成されたβ−PbO2層の電着
内部応力を分散させる効果が得られる。β−
PbO2被覆層中に含有、分散させる該物質は、耐
食性があり、β−PbO2層の電気化学的活性に影
響を与えないものであれば、いずれの物質も使用
できる。一般に、金属酸化物は耐食性があり、反
応性が少ないので好適であるが、特にTi、Ta、
Zr、Hf、Nb、V等の周期律表第族及び第族
の金属の酸化物が有効である。同様にこれらの金
属の炭化物、窒化物又は硼化物も使用できる。
又、弗素樹脂も耐薬品性に優れ、反応性が無いの
で好適に用いられる。第族及び第族のうちの
弁金属と称される前記の例示金属は、陽分極によ
つて表面に不働態性の耐食酸化皮膜を形成し、反
応性もないので、金属のままでも使用することが
できる。これらの物質の含有率は適宜選定できる
が、通常、被覆層全量の0.01〜10%(重量)程度
が適当である。それらの物質の粒径又は繊維径
は、500μm以下が好ましい。このような被覆層
を形成する方法は特に限定されないが、β−
PbO2層を電解的に形成し、その際、電解液中に
前記した粒子状及び/又は繊維状物質を分散させ
て行う、いわゆる分散メツキ法を併用して電解的
に形成する方法が好適である。又、β−PbO2層
の形成と、前記物質の導入を適宜の順序で別個に
行うこともできる。即ち、β−PbO2薄層を電解
的方法等により形成し、その上に繊維状及び/又
は粒子状物質を塗布し、焼付け、この操作を適宜
回数繰り返して、β−PbO2層と該物質層とを交
互に有する被覆層としてもよい。この際の電解条
件は、従来の方法が適用でき、通常、硝酸鉛浴中
で前記中間層被覆基体を陽極として電解すればよ
く、電流密度0.1〜10A/dm2、温度40〜80℃程
度が好適である。 このようにして、粒子状及び/又は繊維状物質
を含有したβ−PbO2被覆層を電極活性表面とす
る酸化鉛被覆電極が容易に得られる。 〔実施例〕 以下、本発明の実施例を記載するが、これらは
本発明を限定するものではない。 実施例 1 板厚1.5mmの純チタン製のエクスパンドメツシ
ユの表面を、#70(平均粒径0.7mm)のスチールグ
リツトを使用してブラストがけを行い、次いで25
%の沸騰塩酸水溶液中で15分間酸洗した。このチ
タンエクスパンドメツシユを基体として、その表
面に厚さ0.1μmの組成がPt:Ta=1:1(金属モ
ル比)の白金と酸化タンタルからなる下地層を設
けた。下地層は、塗布液に白金として塩化白金酸
を、タンタルとして五塩化タンタルを4%塩酸水
溶液に溶解したものを用い、これを基体のエクス
パンドメツシユに刷毛にて塗布し、40℃で乾燥
後、マツフル炉にて570℃で10分間加熱し、この
操作を4回繰り返して形成した。 次いで、これを陽極として、陰極にチタン板を
使用して3.5Nの苛性ソーダ水溶液に一酸化鉛
(PbO)を溶解飽和させた液を電解液として、40
℃において1A/dm2の電流密度で2時間電解を
行い、中間層のα−PbO2被覆層を形成した。該
中間層の厚さは約100μmであつた。 更に、表面被覆層として、フツ素樹脂を含有す
るβ−PbO2からなる二酸化鉛層を以下の条件で
形成した。電解液として、濃度30重量%の硝酸鉛
水溶液に、フツ素樹脂デイスパージヨン(商品名
テフロン30J:三井・デユポンフロロケミカル製)
を、1につき10ml加えたものを用意した。 陰極としてチタン板を使用し、液撹拌のために
液中に窒素ガスを通しながら温度65〜70℃、
2A/dm2にて、2時間通電した。この操作によ
り、厚さ約300μmのフツ素樹脂を含んだ酸化鉛
層を形成することが出来た。 対比用電極として、下地層である白金−タンタ
ル酸化物を除いたもの(対比例1)、中間層であ
るα−PbO2層を除いたもの(対比例2)及び表
面被覆層のみのもの(対比例3)を作成した。こ
れらの対比例試料は、上記の条件以外はすべて実
施例電極の作成方法と同じとした。これらの試料
について、60℃、150g/の硫酸水溶液中で陽
極として、100A/dm2の電流密度で加速電解試
験を行つた。。 その結果を第1表に示した。 これらの表から分かるように、下地層のない試
料(対比例1及び対比例3)は、短時間で通電不
能となり、基体から被覆が剥離した。 又、中間層を設けず、下地層の上に直接表面被
覆層を設けたもの(対比例2)はある程度の寿命
を認められるが、電解中に間もなく被覆層のひび
割れが生じた。これに対して本実施例の電極は、
500時間以上の電解で重量少や剥離が無く、安定
に長時間電解を行うことが出来ることが分かつ
た。
本発明は、電極基体に耐食性金属を用い、白金
及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層、α−
PbO2よりなる中間層及び耐食性を有し、且つ電
気化学的に不活性な粒子状及び/又は繊維状物質
を含有するβ−PbO2よりなる被覆層を順次被覆
したので、基体に強個に付着し、電着歪のない堅
牢で耐久性のある酸化鉛被覆電極が得られる。
又、電極の不働態化や抵抗増大が防止され、より
高電流密度での電解においても、本発明の電極
は、長期間安定して使用でき、高い耐食性や高酸
素過電圧を必要とする種々の電解用、或いは電解
処理用の電極として極めて有用である。
及び/又はパラジウム酸化物を含む下地層、α−
PbO2よりなる中間層及び耐食性を有し、且つ電
気化学的に不活性な粒子状及び/又は繊維状物質
を含有するβ−PbO2よりなる被覆層を順次被覆
したので、基体に強個に付着し、電着歪のない堅
牢で耐久性のある酸化鉛被覆電極が得られる。
又、電極の不働態化や抵抗増大が防止され、より
高電流密度での電解においても、本発明の電極
は、長期間安定して使用でき、高い耐食性や高酸
素過電圧を必要とする種々の電解用、或いは電解
処理用の電極として極めて有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 耐食性金属基体上に、白金及び/又はパラジ
ウム酸化物を含む下地層、α−PbO2よりなる中
間層、及び耐食性を有し、且つ電気化学的に不活
性な粒子状及び/又は繊維状物質を含有するβ−
PbO2よりなる被覆層を順次被覆してなることを
特徴とする酸化鉛被覆電解用電極。 2 耐食性金属基体が、チタン、ジルコニウム、
ニオブ、タンタル又はこれらの基合金である特許
請求の範囲第1項に記載の電極。 3 下地層が、白金及び/又はパラジウム酸化物
と、チタン、タンタル、又はスズの酸化物の少な
くとも1種からなるものである特許請求の範囲第
1項に記載の電極。 4 α−PbO2中間層の厚さが20〜500μmである
特許請求の範囲第1項に記載の電極。 5 粒子状及び/又は繊維状物質が周期律表第
族又は第族から選ばれた金属又は金属の酸化
物、炭化物、窒化物又は硼化物からなるものであ
る特許請求の範囲第1項に記載の電極。 6 粒子状及び/又は繊維状物質が沸素樹脂から
なるものである特許請求の範囲第1項に記載の電
極。 7 耐食性金属基体上に、白金及び/又はパラジ
ウム酸化物を含む下地層を形成し、次にα−
PbO2よりなる中間層を形成し、次いで耐食性を
有し、且つ電気化学的に不活性な粒子状及び/又
は繊維状物質を含有するβ−PbO2よりなる被覆
層を形成することを特徴とする酸化鉛被覆電解用
電極の製造方法。 8 耐食性金属基体の表面を予め、ブラスト処理
及び/又は酸洗し、次いで下地層を形成する特許
請求の範囲第7項に記載の電極の製造方法。 9 下地層金属成分の熱分解可能な塩を含む溶液
を耐食性金属基体上に塗布し、加熱処理して下地
層を形成する特許請求の範囲第7項に記載の電極
の製造方法。 10 鉛イオンを含むアルカリ性浴から電解的に
α−PbO2よりなる中間層を形成する特許請求の
範囲第7項に記載の電極の製造方法。 11 鉛イオンを含む酸性溶液に、粒子状及び/
又は繊維状物質を懸濁させた電解浴から、電解的
に粒子状及び/又は繊維状物質を含有するβ−
PbO2被覆層を形成する特許請求の範囲第7項に
記載の電極の製造方法。 12 β−PbO2層の被覆と、粒子状及び/又は
繊維状物質層の被覆とを、適宜の順序及び回数で
行つて粒子状及び/又は繊維状物質を含有するβ
−PbO2被覆層を形成する特許請求の範囲第7項
に記載の電極の製造方法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201288A JPS6357792A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 酸化鉛被覆電解用電極及びその製造方法 |
DE8787112001T DE3774385D1 (de) | 1986-08-29 | 1987-08-18 | Mit bleioxid beschichtete elektrode fuer elektrolyse und deren herstellungsverfahren. |
EP19870112001 EP0262369B1 (en) | 1986-08-29 | 1987-08-18 | Lead oxide-coated electrode for use in electrolysis and process for producing the same |
CA 544902 CA1321979C (en) | 1986-08-29 | 1987-08-19 | Lead oxide-coated electrode for use in electrolysis and process for producing the same |
CN87106028A CN1015382B (zh) | 1986-08-29 | 1987-08-27 | 供电解用的镀氧化铅电极及其制造方法 |
MYPI87001472A MY102525A (en) | 1986-08-29 | 1987-08-28 | Lead oxide-coated electrode for use in electrolysis and process for producing the same. |
KR1019870009500A KR900001552B1 (ko) | 1986-08-29 | 1987-08-29 | 전해용 산화납 피복 전극 및 그 제조방법 |
US07/091,148 US4822459A (en) | 1986-08-29 | 1987-08-31 | Lead oxide-coated electrode for use in electrolysis and process for producing the same |
SG33392A SG33392G (en) | 1986-08-29 | 1992-03-19 | Lead oxide-coated electrode for use in electrolysis and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61201288A JPS6357792A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 酸化鉛被覆電解用電極及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6357792A JPS6357792A (ja) | 1988-03-12 |
JPH0246674B2 true JPH0246674B2 (ja) | 1990-10-16 |
Family
ID=16438490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61201288A Granted JPS6357792A (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 酸化鉛被覆電解用電極及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6357792A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006028443A1 (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Eltech Systems Corporation | Pd-containing coating for low chlorine overvoltage |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5934235A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-24 | 松下電器産業株式会社 | 電動おろし機 |
JPS61201287A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-05 | 三井東圧化学株式会社 | 保存温度管理用ラベル |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP61201288A patent/JPS6357792A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5934235A (ja) * | 1982-08-23 | 1984-02-24 | 松下電器産業株式会社 | 電動おろし機 |
JPS61201287A (ja) * | 1985-03-05 | 1986-09-05 | 三井東圧化学株式会社 | 保存温度管理用ラベル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6357792A (ja) | 1988-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4797182A (en) | Electrode with a platinum metal catalyst in surface film and its use | |
EP1616046B1 (en) | Electrocatalytic coating with platinium group metals and electrode made therefrom | |
US7247229B2 (en) | Coatings for the inhibition of undesirable oxidation in an electrochemical cell | |
US6527939B1 (en) | Method of producing copper foil with an anode having multiple coating layers | |
KR900007536B1 (ko) | 전기분해용 내구성 전극 및 이의 제조방법 | |
KR900001552B1 (ko) | 전해용 산화납 피복 전극 및 그 제조방법 | |
JPS59150091A (ja) | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 | |
CA1058552A (en) | Electrodes | |
JPH025830B2 (ja) | ||
US6231731B1 (en) | Electrolyzing electrode and process for the production thereof | |
US5518777A (en) | Method of producing an electrolytic electode having a plasma flame-coated layer of titanium oxide and tantalum oxide | |
US4435313A (en) | Electrode with outer coating for effecting an electrolytic process and protective intermediate coating on a conductive base, and method of making same | |
EP0046449A1 (en) | Dimensionally stable coated electrode for electrolytic process, comprising protective oxide interface on valve metal base, and process for its manufacture | |
US5431798A (en) | Electrolytic electrode and method of production thereof | |
JP2768904B2 (ja) | 酸素発生用電極 | |
KR100207763B1 (ko) | 전기분해 전극기재,전기분해 전극 및 이들의 제조방법 | |
US5665218A (en) | Method of producing an oxygen generating electrode | |
JP3621148B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
US5391280A (en) | Electrolytic electrode and method of production thereof | |
JPH0246674B2 (ja) | ||
JPH0443986B2 (ja) | ||
JPS6314885A (ja) | 電解用電極の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |