JPH0245540B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0245540B2 JPH0245540B2 JP57122033A JP12203382A JPH0245540B2 JP H0245540 B2 JPH0245540 B2 JP H0245540B2 JP 57122033 A JP57122033 A JP 57122033A JP 12203382 A JP12203382 A JP 12203382A JP H0245540 B2 JPH0245540 B2 JP H0245540B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- inert gas
- mold
- casting apparatus
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 38
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 29
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D27/00—Treating the metal in the mould while it is molten or ductile ; Pressure or vacuum casting
- B22D27/15—Treating the metal in the mould while it is molten or ductile ; Pressure or vacuum casting by using vacuum
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、不活性ガス低圧鋳造装置に関する。
従来、このような鋳造装置の鋳型室内を不活性
ガス雰囲気に置換する手順として、まず鋳型室内
を真空にし、しかるのちに不活性ガスを注入して
大気圧とし、置換を完了させる。鋳型室内は鋳型
と、それを覆うチヤンバーと、これらを固定する
ための定盤（以後、移動定盤と称する。）とから
なつている。
ガス雰囲気に置換する手順として、まず鋳型室内
を真空にし、しかるのちに不活性ガスを注入して
大気圧とし、置換を完了させる。鋳型室内は鋳型
と、それを覆うチヤンバーと、これらを固定する
ための定盤（以後、移動定盤と称する。）とから
なつている。
上記移動定盤は中央に孔を有し、該孔は鋳型の
湯道部の一部を構成している。従つて鋳型室内を
不活性ガスに置換するに際しては、孔の移動定盤
下面に溶湯温度で容易に溶融消減するような薄膜
をあてて、鋳型室内をシールしなければならな
い。この薄膜を落下させない様に移動定盤下面に
固定する方法としては、接着剤を用いたり、或い
は、移動定盤の孔内面に直接溶湯が触れることを
防止するために孔に挿入される中子スリーブで、
挟んで固定するなどの手段がとられる。
湯道部の一部を構成している。従つて鋳型室内を
不活性ガスに置換するに際しては、孔の移動定盤
下面に溶湯温度で容易に溶融消減するような薄膜
をあてて、鋳型室内をシールしなければならな
い。この薄膜を落下させない様に移動定盤下面に
固定する方法としては、接着剤を用いたり、或い
は、移動定盤の孔内面に直接溶湯が触れることを
防止するために孔に挿入される中子スリーブで、
挟んで固定するなどの手段がとられる。
更に、上記のごとき固定法だけでは、鋳型室内
を不活性ガスに置換する際の真空吸引の過程で、
薄膜の表裏に生ずる圧力差で薄膜が破損する恐れ
があるので、薄膜に密着させた押え金具で、これ
を補強する方法が用いられている。
を不活性ガスに置換する際の真空吸引の過程で、
薄膜の表裏に生ずる圧力差で薄膜が破損する恐れ
があるので、薄膜に密着させた押え金具で、これ
を補強する方法が用いられている。
このような従来の鋳造装置は、具体的には、第
１図にその縦断面図を示す如き構造を有してい
る。即ち、第１図において、移動定盤１上には、
その中央に芯出し用調整金具２で位置ぎめられた
鋳型３が置かれ、鋳型３内のキヤビテイー４は移
動定盤１の中央に設けられている孔に挿入された
中子スリーブ５で形成される湯道部６に通ずる。
これらの鋳型３の全体は、チヤンバー７で覆われ
鋳型室を構成している。更に同チヤンバー７の天
井には、鋳型３内のキヤビテイー４に溶湯が注入
された際に生ずる鋳型の浮力に抗するための力を
鋳型３に加えるための加圧機構（図省略）に連動
させた加圧棒８が設置されていて、その下端は、
丁度鋳型上面中央に位置する様になつている。加
圧棒８とチヤンバー７との間は、シール１０に依
つてシールされている。
１図にその縦断面図を示す如き構造を有してい
る。即ち、第１図において、移動定盤１上には、
その中央に芯出し用調整金具２で位置ぎめられた
鋳型３が置かれ、鋳型３内のキヤビテイー４は移
動定盤１の中央に設けられている孔に挿入された
中子スリーブ５で形成される湯道部６に通ずる。
これらの鋳型３の全体は、チヤンバー７で覆われ
鋳型室を構成している。更に同チヤンバー７の天
井には、鋳型３内のキヤビテイー４に溶湯が注入
された際に生ずる鋳型の浮力に抗するための力を
鋳型３に加えるための加圧機構（図省略）に連動
させた加圧棒８が設置されていて、その下端は、
丁度鋳型上面中央に位置する様になつている。加
圧棒８とチヤンバー７との間は、シール１０に依
つてシールされている。
一方中子スリーブ５を移動定盤１の中央に設け
てある孔に挿入するに際しては、薄膜１１がそれ
らの間にはさまれるようにして固定する。以上の
ごとくに大気とは完全に遮断されている鋳型室９
の内部を不活性ガスで置換する場合には、まず、
チヤンバー７と連結しているパイプ１４のバルブ
１５を開け、次にバルブ１６を開にして真空ポン
プ系１８を稼動させれば、鋳型室９内の大気を排
出し、次にバルブ１６を閉にして、バルブ１７を
開け、不活性ガス系１９からの不活性ガスを鋳型
室９内に導入し、鋳型室９内が大気圧に戻る時点
までそれを続行する。しかして、不活性ガス導入
の完了時点で、バルブ１５，１７を閉にして、押
え金具１２をシリンダー１３の下降で取り除いて
不活性ガス雰囲気との置換作業を完了させる。
てある孔に挿入するに際しては、薄膜１１がそれ
らの間にはさまれるようにして固定する。以上の
ごとくに大気とは完全に遮断されている鋳型室９
の内部を不活性ガスで置換する場合には、まず、
チヤンバー７と連結しているパイプ１４のバルブ
１５を開け、次にバルブ１６を開にして真空ポン
プ系１８を稼動させれば、鋳型室９内の大気を排
出し、次にバルブ１６を閉にして、バルブ１７を
開け、不活性ガス系１９からの不活性ガスを鋳型
室９内に導入し、鋳型室９内が大気圧に戻る時点
までそれを続行する。しかして、不活性ガス導入
の完了時点で、バルブ１５，１７を閉にして、押
え金具１２をシリンダー１３の下降で取り除いて
不活性ガス雰囲気との置換作業を完了させる。
しかしながら、この様な装置では、薄膜と押え
金具との隙間を零にした完全密着を狙うことは難
しく、両者のわずかな空隙に存在する空気が原因
となつて鋳型室内の真空吸引時に薄膜が破損して
しまうことが多かつた。
金具との隙間を零にした完全密着を狙うことは難
しく、両者のわずかな空隙に存在する空気が原因
となつて鋳型室内の真空吸引時に薄膜が破損して
しまうことが多かつた。
本発明者は、上述の如き従来装置の実情に鑑
み、このような問題点を解決すべく鋭意検討を重
ねた結果、従来装置における薄膜の破損現象は、
鋳型室内を真空吸引する際に生ずる薄膜表裏での
圧力差に、薄膜の強さが耐えかねることに起因し
ていること、すなわち、薄膜の補強のために設け
た押え金具との間に、完全密着をもたらすことが
むずかしく、わずかな空間があつても圧力差が生
じて、薄膜が破損してしまうことから、薄膜表裏
での圧力差をなくすこと、又は、その圧力差によ
り薄膜自体に加えられる力を緩和することが有効
な解決策となることを知見し、本発明に到達し
た。
み、このような問題点を解決すべく鋭意検討を重
ねた結果、従来装置における薄膜の破損現象は、
鋳型室内を真空吸引する際に生ずる薄膜表裏での
圧力差に、薄膜の強さが耐えかねることに起因し
ていること、すなわち、薄膜の補強のために設け
た押え金具との間に、完全密着をもたらすことが
むずかしく、わずかな空間があつても圧力差が生
じて、薄膜が破損してしまうことから、薄膜表裏
での圧力差をなくすこと、又は、その圧力差によ
り薄膜自体に加えられる力を緩和することが有効
な解決策となることを知見し、本発明に到達し
た。
即ち、本発明は、従来装置の欠点を解消し、鋳
型室内を真空吸引する際の薄膜の破損を防止した
不活性ガス低圧鋳造装置を提供することを目的と
する。その構成は、鋳型室内の空気を不活性ガス
に置換するためのガス置換手段、該鋳型室内に設
けられた鋳型、該鋳型に溶湯を注入するための湯
道部、該湯道部に設けられた鋳型室内を外気と封
止するための薄膜、該薄膜の押え金具を備えた不
活性ガス低圧鋳造装置において、 前記薄膜と押え金具との間に生じる空〓内の気
圧を、前記鋳型内部の気圧とほぼ同じにするため
の調節手段を設けたことを特徴とする不活性ガス
低圧鋳造装置にある。
型室内を真空吸引する際の薄膜の破損を防止した
不活性ガス低圧鋳造装置を提供することを目的と
する。その構成は、鋳型室内の空気を不活性ガス
に置換するためのガス置換手段、該鋳型室内に設
けられた鋳型、該鋳型に溶湯を注入するための湯
道部、該湯道部に設けられた鋳型室内を外気と封
止するための薄膜、該薄膜の押え金具を備えた不
活性ガス低圧鋳造装置において、 前記薄膜と押え金具との間に生じる空〓内の気
圧を、前記鋳型内部の気圧とほぼ同じにするため
の調節手段を設けたことを特徴とする不活性ガス
低圧鋳造装置にある。
以下に、本発明を、本発明の実施の一態様を示
す第２図および第３図を参照して詳細に説明す
る。（なお、第２図および第３図において、第１
図と同一符号のものは同一のものを示す。） 本発明は、薄膜の表裏の圧力差をなくすことに
よつて、従来装置における問題点を解決したもの
である。第２図は、その一実施例を示す鋳造装置
の薄膜部近傍の部分縦断面図である。第２図にお
いては、薄膜１１と押え金具１２との間に生じる
わずかな空間の圧力と鋳型内の圧力とがほぼ同じ
にする調節手段として、薄膜１１の湯道部６の孔
をふさぐ部分に針先孔の如き小孔２１を１個ない
し数個設けた。この小孔に依つて、薄膜１１と押
え金具１２との間に空〓があつても鋳型室内を真
空吸引する時に、該空〓内の空気も同時に吸引さ
れるので、薄膜表裏の圧力差はなくなる。しかも
吸引が進むことにより、薄膜は押え金具に完全密
着することになり、薄膜の破損は殆ど階無となる
のである。
す第２図および第３図を参照して詳細に説明す
る。（なお、第２図および第３図において、第１
図と同一符号のものは同一のものを示す。） 本発明は、薄膜の表裏の圧力差をなくすことに
よつて、従来装置における問題点を解決したもの
である。第２図は、その一実施例を示す鋳造装置
の薄膜部近傍の部分縦断面図である。第２図にお
いては、薄膜１１と押え金具１２との間に生じる
わずかな空間の圧力と鋳型内の圧力とがほぼ同じ
にする調節手段として、薄膜１１の湯道部６の孔
をふさぐ部分に針先孔の如き小孔２１を１個ない
し数個設けた。この小孔に依つて、薄膜１１と押
え金具１２との間に空〓があつても鋳型室内を真
空吸引する時に、該空〓内の空気も同時に吸引さ
れるので、薄膜表裏の圧力差はなくなる。しかも
吸引が進むことにより、薄膜は押え金具に完全密
着することになり、薄膜の破損は殆ど階無となる
のである。
なお、第２図に示すような場合に、ガス置換
後、その後の鋳込作業までの間に、前記薄膜にあ
る針先孔からの不活性ガスの微量な洩れが認めら
れるが、これが鋳物の品質に悪影響を与える程の
量でないことが確認されている。
後、その後の鋳込作業までの間に、前記薄膜にあ
る針先孔からの不活性ガスの微量な洩れが認めら
れるが、これが鋳物の品質に悪影響を与える程の
量でないことが確認されている。
第３図は、本発明の他の実施例を示す鋳造装置
の縦断面図である。第３図は、前記調節手段を押
え金具２２に設けた場合を示す。押え金具２２を
移動定盤１の下部に押えつけた時に、この両者の
間で小空間２４が構成されるように押え金具の押
え面に凹部を形成し、該小空間２４と鋳型室９内
とをパイプ１４及び２５で通じさせ、バルブ１
６，１７を介して真空ポンプ系１８および不活性
ガス系１９を連結させた。これに依つて、バルブ
１６を開にして真空ポンプ１８を稼動させれば、
鋳型室９および小空間２４は、それに応じて同時
に減圧される。これによつて、両者に圧力差が生
じないので薄膜１１は破損されず、目的の排気を
完了出来る。
の縦断面図である。第３図は、前記調節手段を押
え金具２２に設けた場合を示す。押え金具２２を
移動定盤１の下部に押えつけた時に、この両者の
間で小空間２４が構成されるように押え金具の押
え面に凹部を形成し、該小空間２４と鋳型室９内
とをパイプ１４及び２５で通じさせ、バルブ１
６，１７を介して真空ポンプ系１８および不活性
ガス系１９を連結させた。これに依つて、バルブ
１６を開にして真空ポンプ１８を稼動させれば、
鋳型室９および小空間２４は、それに応じて同時
に減圧される。これによつて、両者に圧力差が生
じないので薄膜１１は破損されず、目的の排気を
完了出来る。
本発明により、薄膜の破損を極めて有効に防止
することができる不活性ガス低圧鋳造装置が提供
される。従来装置においては、薄膜の破損を恐れ
て鋳型室の真空排気の真空度をあまり高くするこ
とができなかつたが、本発明装置では、薄膜の破
損の恐れが殆どないので、真空度をより高くする
ことが出来、従つて、不活性ガスとの置換作業を
より短時間にすませることが可能となり、生産性
の向上に大きく寄与することができる。
することができる不活性ガス低圧鋳造装置が提供
される。従来装置においては、薄膜の破損を恐れ
て鋳型室の真空排気の真空度をあまり高くするこ
とができなかつたが、本発明装置では、薄膜の破
損の恐れが殆どないので、真空度をより高くする
ことが出来、従つて、不活性ガスとの置換作業を
より短時間にすませることが可能となり、生産性
の向上に大きく寄与することができる。
第１図は本発明が対象とする不活性ガス低圧鋳
造装置の従来例の構造を示す縦断面図、第２図は
本発明の一実施例の不活性ガス低圧鋳造装置の部
分縦断面図、第３図は本発明の他の実施例の不活
性ガス低圧鋳造装置の縦断面図である。 １……移動定盤、２……芯出し用調整金具、３
……鋳型、４……キヤビテイ、５……中子スリー
ブ、６……湯道部、７……チヤンバー、８……加
圧棒、９……鋳型室、１０……シール、１１……
薄膜、１２……押え金具、１３……シリンダー、
１４……パイプ、１５，１６，１７……バルブ、
１８……真空ポンプ系、１９……不活性ガス系、
２１……小孔、２２……押え金具、２４……小空
間、２５……パイプ。
造装置の従来例の構造を示す縦断面図、第２図は
本発明の一実施例の不活性ガス低圧鋳造装置の部
分縦断面図、第３図は本発明の他の実施例の不活
性ガス低圧鋳造装置の縦断面図である。 １……移動定盤、２……芯出し用調整金具、３
……鋳型、４……キヤビテイ、５……中子スリー
ブ、６……湯道部、７……チヤンバー、８……加
圧棒、９……鋳型室、１０……シール、１１……
薄膜、１２……押え金具、１３……シリンダー、
１４……パイプ、１５，１６，１７……バルブ、
１８……真空ポンプ系、１９……不活性ガス系、
２１……小孔、２２……押え金具、２４……小空
間、２５……パイプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 鋳型室内の空気を不活性ガスに置換するため
のガス置換手段、該鋳型室内に設けられた鋳型、
該鋳型に溶湯を注入するための湯道部、該湯道部
に設けられた鋳型室内を外気と封止するための薄
膜、該薄膜の押え金具を備えた不活性ガス低圧鋳
造装置において、 前記薄膜と押え金具との間に生じる空〓内の気
圧を、前記鋳型内部の気圧とほぼ同じにするため
の調節手段を設けたことを特徴とする不活性ガス
低圧鋳造装置。 ２ 前記調節手段として、前記薄膜の湯道部の孔
をふさぐ部分に小孔を設けたことを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の不活性ガス低圧鋳造装
置。 ３ 前記薄膜が、溶湯により溶融し得る材質から
なることを特徴とする特許請求の範囲第１項また
は第２項記載の不活性ガス低圧鋳造装置。 ４ 前記調節手段として、押え金具の押え面に凹
部を設け、該凹部内と前記ガス置換手段とを連結
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の不活性ガス低圧鋳造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12203382A JPS5913566A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 不活性ガス低圧鋳造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12203382A JPS5913566A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 不活性ガス低圧鋳造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5913566A JPS5913566A (ja) | 1984-01-24 |
| JPH0245540B2 true JPH0245540B2 (ja) | 1990-10-09 |
Family
ID=14825925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12203382A Granted JPS5913566A (ja) | 1982-07-15 | 1982-07-15 | 不活性ガス低圧鋳造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5913566A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63183125A (ja) * | 1987-01-21 | 1988-07-28 | Showa Alum Corp | ビレツトヒ−タ−によるビレツトの均一加熱方法 |
| CN110804713B (zh) * | 2019-11-14 | 2022-04-15 | 青海晶和节能环保技术服务有限公司 | 一种液压泵阀体加工工艺 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4885428A (ja) * | 1972-02-17 | 1973-11-13 |
-
1982
- 1982-07-15 JP JP12203382A patent/JPS5913566A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4885428A (ja) * | 1972-02-17 | 1973-11-13 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5913566A (ja) | 1984-01-24 |
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