JPH0244300A - イオン中和器 - Google Patents
イオン中和器Info
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- JPH0244300A JPH0244300A JP19513088A JP19513088A JPH0244300A JP H0244300 A JPH0244300 A JP H0244300A JP 19513088 A JP19513088 A JP 19513088A JP 19513088 A JP19513088 A JP 19513088A JP H0244300 A JPH0244300 A JP H0244300A
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- oil
- ion
- oil reservoir
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- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 24
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、高速原子線発生装置に適用して好適なイオン
中和器に関するものである。
中和器に関するものである。
「従来の技術」
第２図は、従来のガスセル形イオン中和器を備えた高速
原子線発生装置の概要図である。図中、１はイオン源、
２はイオンビーム、３はガスセル、・１はガスノズル、
５はガス、６は高速原子線、７は真空容器、８は真空ポ
ンプ、９はイオンビーム人射孔、ＩＯは高速原子線放出
孔である。
原子線発生装置の概要図である。図中、１はイオン源、
２はイオンビーム、３はガスセル、・１はガスノズル、
５はガス、６は高速原子線、７は真空容器、８は真空ポ
ンプ、９はイオンビーム人射孔、ＩＯは高速原子線放出
孔である。
この装置において、高速原子線を発生させるには、まず
イオン源１、ガスセル３、ガスノズル４を真空容器７に
収め、真空ポンプ８で充分に排気する。次いで、イオン
源１からイオンビーム２を放射させる。そして、ガスノ
ズル４を通して、例えばアルゴンガス５をガスセル３の
内部に注入する。イオンビーム人射孔９からガスセル３
に入ったイオンビーム２は、アルゴンガスと衝突して電
荷を失い、高速原子線６となって、高速原子線放出孔１
０から放出する。
イオン源１、ガスセル３、ガスノズル４を真空容器７に
収め、真空ポンプ８で充分に排気する。次いで、イオン
源１からイオンビーム２を放射させる。そして、ガスノ
ズル４を通して、例えばアルゴンガス５をガスセル３の
内部に注入する。イオンビーム人射孔９からガスセル３
に入ったイオンビーム２は、アルゴンガスと衝突して電
荷を失い、高速原子線６となって、高速原子線放出孔１
０から放出する。
「発明が解決しようとする課題」
上記のガスセル形イオン中和器は、イオンの中和効率が
優れてはいるものの、ガスセル３に注入されたアルゴン
ガスが、イオンビーム人射孔９、高速原子線放出孔ｌＯ
から噴射するために、真空容器７内部のガス圧が上昇し
、高い真空度での高速原子線の取り出しが難しかった。
優れてはいるものの、ガスセル３に注入されたアルゴン
ガスが、イオンビーム人射孔９、高速原子線放出孔ｌＯ
から噴射するために、真空容器７内部のガス圧が上昇し
、高い真空度での高速原子線の取り出しが難しかった。
特に、大量の高速原子線を得ようとすれば、ガスセルに
多量のアルゴンガスを注入しなくてはならなｌ、）ため
１こ、真空容器７内を高真空に維持することは、ますま
す困難となる。それを実現するには、真空ポンプ８の容
積を非常に大きくしたり、差動排気の機構を付加するな
どの工夫が必要で、装置の大型化を沼き、経済的にら負
担増となるなどの問題があった。
多量のアルゴンガスを注入しなくてはならなｌ、）ため
１こ、真空容器７内を高真空に維持することは、ますま
す困難となる。それを実現するには、真空ポンプ８の容
積を非常に大きくしたり、差動排気の機構を付加するな
どの工夫が必要で、装置の大型化を沼き、経済的にら負
担増となるなどの問題があった。
本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、高速原子
線発生装置に適用した場合に、高い真空度で高速原子線
を取り出すことができ、装置の大型化を招くことがなく
入信の高速原子線を得ることができ、かつ装置を安価に
得ることのできるイオン中和器を提供することを目的と
してＬ）ろつ［課題を解決するための手段」 本発明は、オイルリザーバーと、このオイルリザーバー
を加熱するヒーターと、同オイルリザバー内に発生した
オイル蒸気を噴出するノズＪしと、噴出したオイル蒸気
を内壁に衝突させてこれを冷却液化する円筒冷却器から
構成されることを特徴とするしのである。
線発生装置に適用した場合に、高い真空度で高速原子線
を取り出すことができ、装置の大型化を招くことがなく
入信の高速原子線を得ることができ、かつ装置を安価に
得ることのできるイオン中和器を提供することを目的と
してＬ）ろつ［課題を解決するための手段」 本発明は、オイルリザーバーと、このオイルリザーバー
を加熱するヒーターと、同オイルリザバー内に発生した
オイル蒸気を噴出するノズＪしと、噴出したオイル蒸気
を内壁に衝突させてこれを冷却液化する円筒冷却器から
構成されることを特徴とするしのである。
本発明は、従来のガスセルの替わりに、オイルの加熱蒸
気・冷却液化を行う容器にイオンビームを入射させるら
のであって、イオンと気化したオイル分子との衝突で、
効率良くイオンの中和が進行するとともに、オイル蒸気
が真空容器中に噴出することがないために、高真空での
高速原子線の放出が可能であることが主な特徴である。
気・冷却液化を行う容器にイオンビームを入射させるら
のであって、イオンと気化したオイル分子との衝突で、
効率良くイオンの中和が進行するとともに、オイル蒸気
が真空容器中に噴出することがないために、高真空での
高速原子線の放出が可能であることが主な特徴である。
「実施例」
以下、第１図を参照して本発明の一実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明によるイオン中和器を備えた高速原子線
発生装置の構成を示す図である。図中、Ｉ、２．６〜ｌ
Ｏは、第２図の対応する番号の要素と同一の動作、機能
を有する。２１は円筒冷却器、２２は水冷蛇管、２３は
熱絶縁板、２４はオイルリザーバー ２５はヒーター、
２６はオイル、２７はノズルである。
発生装置の構成を示す図である。図中、Ｉ、２．６〜ｌ
Ｏは、第２図の対応する番号の要素と同一の動作、機能
を有する。２１は円筒冷却器、２２は水冷蛇管、２３は
熱絶縁板、２４はオイルリザーバー ２５はヒーター、
２６はオイル、２７はノズルである。
円筒冷却″５２１は、外観円筒形に形成されたちので、
その上端にテーバ部２１ａを有する。テーパ部２１ａの
上端はイオンビーム入射孔９となっている。この円筒冷
却器２１の外壁面には水冷蛇管２２が巻回されている。
その上端にテーバ部２１ａを有する。テーパ部２１ａの
上端はイオンビーム入射孔９となっている。この円筒冷
却器２１の外壁面には水冷蛇管２２が巻回されている。
熱絶縁板２３は環状に形成されたもので、その内壁面を
円筒冷却器２１の内壁面に合致させて該円筒冷却器の下
側に配置されている。オイルリザーバー２４は外観円筒
状に形成されたしので、その内壁面２４ａを円筒冷却器
２Ｉおよび熱絶縁板２３の内壁面に合致させて熱絶縁板
２３の下側に配置されている。このオイルリザーバー２
４はその内部にオイル２６が注入されるオイル室２４ｂ
を仔し、オイル室２４ ｂにはその先端か内壁面２４ａ
に開口するノズル２７が設けられている。また、このオ
イルリザーバー２・１の外壁面にはヒーター２５が巻回
されている。
円筒冷却器２１の内壁面に合致させて該円筒冷却器の下
側に配置されている。オイルリザーバー２４は外観円筒
状に形成されたしので、その内壁面２４ａを円筒冷却器
２Ｉおよび熱絶縁板２３の内壁面に合致させて熱絶縁板
２３の下側に配置されている。このオイルリザーバー２
４はその内部にオイル２６が注入されるオイル室２４ｂ
を仔し、オイル室２４ ｂにはその先端か内壁面２４ａ
に開口するノズル２７が設けられている。また、このオ
イルリザーバー２・１の外壁面にはヒーター２５が巻回
されている。
この装置において高速原子線を発生させるには、１１２
１〜２７の要素を真空容器７に収め、真空ポンプ８で充
分に排気する。そして水冷蛇管２２に水を流して円筒冷
却器２１を冷却する。また、ヒーター２５によってオイ
ルリザーバー２４を加熱して、内部のオイル２６を蒸発
させる。オイル２６の蒸気はノズル２７からビームとな
って噴出し、円筒冷却器２１の内壁に衝突して冷却液化
する。液化したオイルは、円筒冷却器２Ｉの管壁、熱絶
縁板２３の内壁、ノズル２７の壁面を伝わってオイルリ
ザーバー２４に戻る。熱絶縁板２３は、オイルリザーバ
ー２４と円筒冷却器２Ｉの間を熱的に遮断するものであ
る。このオイルの循環過程において、円筒冷却２；２１
の内部の空間は、密度の高いオイル蒸気で満たされてい
る。ここにイオン源１から放出されたイオンビーム２が
入射し、イオンとオイル蒸気との衝突でイオンの電荷が
失われて、総［１原子線６となって放出する。結局、２
１〜２７の要素で、一つのイオン中和器が形成されてい
ることになる。このようにオイルが、オイルリザーバー
２４と円筒冷却器２１の間を循環しているから、オイル
の蒸気が、イオンビーム入射孔９、高速原子線放出孔１
０から噴出することはなく、真空容器７の内部の真空度
が低下することらない。
１〜２７の要素を真空容器７に収め、真空ポンプ８で充
分に排気する。そして水冷蛇管２２に水を流して円筒冷
却器２１を冷却する。また、ヒーター２５によってオイ
ルリザーバー２４を加熱して、内部のオイル２６を蒸発
させる。オイル２６の蒸気はノズル２７からビームとな
って噴出し、円筒冷却器２１の内壁に衝突して冷却液化
する。液化したオイルは、円筒冷却器２Ｉの管壁、熱絶
縁板２３の内壁、ノズル２７の壁面を伝わってオイルリ
ザーバー２４に戻る。熱絶縁板２３は、オイルリザーバ
ー２４と円筒冷却器２Ｉの間を熱的に遮断するものであ
る。このオイルの循環過程において、円筒冷却２；２１
の内部の空間は、密度の高いオイル蒸気で満たされてい
る。ここにイオン源１から放出されたイオンビーム２が
入射し、イオンとオイル蒸気との衝突でイオンの電荷が
失われて、総［１原子線６となって放出する。結局、２
１〜２７の要素で、一つのイオン中和器が形成されてい
ることになる。このようにオイルが、オイルリザーバー
２４と円筒冷却器２１の間を循環しているから、オイル
の蒸気が、イオンビーム入射孔９、高速原子線放出孔１
０から噴出することはなく、真空容器７の内部の真空度
が低下することらない。
「発明の効果」
本発明によれば、これを高速原子線発生装置に適用した
場合に、真空容器内の真空度の低下を抑えることができ
るので、高い真空度で高速原子線を取り出すことができ
、装置の大型化を招くことなく大量の高速原子線を得る
ことができ、かつ装置を安価に得ることができるという
効果が得られる。
場合に、真空容器内の真空度の低下を抑えることができ
るので、高い真空度で高速原子線を取り出すことができ
、装置の大型化を招くことなく大量の高速原子線を得る
ことができ、かつ装置を安価に得ることができるという
効果が得られる。
高速原子線は、高速のイオンビームと同様に、スパッタ
蒸着による薄膜形成、スパッタエツチングによる微細パ
ターン加工、二次イオン質量分析による材料評価に利用
することができる。特に、高速原子線は非荷電性である
ために、金属、半導体ばかりでなく、イオンビーム法が
不得意とするプラスチックス、セラミックスなどの絶縁
物を対象とする場合にも威力がある。その色味において
、高真空中での大量の高速原子を発生することが出来る
イオン中ｆｉｌ ｉ５か得られることは、加工、分析の
能率向上に非常に有益である。
蒸着による薄膜形成、スパッタエツチングによる微細パ
ターン加工、二次イオン質量分析による材料評価に利用
することができる。特に、高速原子線は非荷電性である
ために、金属、半導体ばかりでなく、イオンビーム法が
不得意とするプラスチックス、セラミックスなどの絶縁
物を対象とする場合にも威力がある。その色味において
、高真空中での大量の高速原子を発生することが出来る
イオン中ｆｉｌ ｉ５か得られることは、加工、分析の
能率向上に非常に有益である。
第１図は本発明の一実施例を示す図であって、本発明に
よるイオン中和器を備えた高速原子線発生装置の概略構
成図、第２図は従来のガスセル形イオン中和器を備えた
高速原子線発生装置の概略構成図である。 １・・・・・・イオン源、２１・・・・・・円筒冷却器
、２２・・・・・・水冷蛇管、２３・・・・・・熱絶縁
板、２４・・・・・オイルリザーバー ２５・・・・・
・ヒーター ２６・・・・・・オイル、２７・・・・・
・ノズル。 第１図 第２図
よるイオン中和器を備えた高速原子線発生装置の概略構
成図、第２図は従来のガスセル形イオン中和器を備えた
高速原子線発生装置の概略構成図である。 １・・・・・・イオン源、２１・・・・・・円筒冷却器
、２２・・・・・・水冷蛇管、２３・・・・・・熱絶縁
板、２４・・・・・オイルリザーバー ２５・・・・・
・ヒーター ２６・・・・・・オイル、２７・・・・・
・ノズル。 第１図 第２図
Claims (1)
- オイルリザーバーと、このオイルリザーバーを加熱する
ヒーターと、同オイルリザーバー内に発生したオイル蒸
気を噴出するノズルと、噴出したオイル蒸気を内壁に衝
突させてこれを冷却液化する円筒冷却器から構成される
ことを特徴とするイオン中和器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19513088A JP2717172B2 (ja) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | イオン中和器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19513088A JP2717172B2 (ja) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | イオン中和器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244300A true JPH0244300A (ja) | 1990-02-14 |
| JP2717172B2 JP2717172B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=16335979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19513088A Expired - Lifetime JP2717172B2 (ja) | 1988-08-04 | 1988-08-04 | イオン中和器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2717172B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5183956A (en) * | 1989-11-28 | 1993-02-02 | State Of Israel, Ministry Of Defence Rafael-Armamend Development Authority | Projectile-launching device |
| KR100834466B1 (ko) * | 2006-10-18 | 2008-06-05 | (주)선재하이테크 | 피에조 및 노즐을 이용한 바형 이오나이저 |
-
1988
- 1988-08-04 JP JP19513088A patent/JP2717172B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5183956A (en) * | 1989-11-28 | 1993-02-02 | State Of Israel, Ministry Of Defence Rafael-Armamend Development Authority | Projectile-launching device |
| KR100834466B1 (ko) * | 2006-10-18 | 2008-06-05 | (주)선재하이테크 | 피에조 및 노즐을 이용한 바형 이오나이저 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2717172B2 (ja) | 1998-02-18 |
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Legal Events
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