JPH024270A - 自動目合せ露光装置 - Google Patents
自動目合せ露光装置Info
- Publication number
- JPH024270A JPH024270A JP63155557A JP15555788A JPH024270A JP H024270 A JPH024270 A JP H024270A JP 63155557 A JP63155557 A JP 63155557A JP 15555788 A JP15555788 A JP 15555788A JP H024270 A JPH024270 A JP H024270A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- alignment
- substrate
- mark
- preliminary
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- Pending
Links
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 235000003913 Coccoloba uvifera Nutrition 0.000 description 1
- 240000008976 Pterocarpus marsupium Species 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はセラミック回路基板やプリント回路基板あるい
は半導体装置のパターン形成用露光装置に関し、特に、
自動目合せ露光装置に関する。
は半導体装置のパターン形成用露光装置に関し、特に、
自動目合せ露光装置に関する。
従来、この種の露光装置は、手動目金せ用の基板および
マスクの位置合せを行なう場合、例えば、第４図、第５
図（ａ） 、 （ｂ）に示される十字形状の目合せマー
ク（基板側マーク２１１およびマスク側マーク２１２）
を用い、あるいは、第６図に示されるように、基板側マ
ーク３０１のみを十字形状とし、マスク側マーク３０２
を特殊形状としたマークを用いている。これらのマーク
を用いて手動目金せを行なう場合、オペレータが顕微鏡
で両マークの位置を確認しながら位置調整つまみを動か
しマークを重ね合わせる。対応する複数（通常２組）の
マークがぴったり重なれば基板とマスクの位置が合った
ことになり、目合せは完了する。
マスクの位置合せを行なう場合、例えば、第４図、第５
図（ａ） 、 （ｂ）に示される十字形状の目合せマー
ク（基板側マーク２１１およびマスク側マーク２１２）
を用い、あるいは、第６図に示されるように、基板側マ
ーク３０１のみを十字形状とし、マスク側マーク３０２
を特殊形状としたマークを用いている。これらのマーク
を用いて手動目金せを行なう場合、オペレータが顕微鏡
で両マークの位置を確認しながら位置調整つまみを動か
しマークを重ね合わせる。対応する複数（通常２組）の
マークがぴったり重なれば基板とマスクの位置が合った
ことになり、目合せは完了する。
（発明が解法しようとする課題）
一ト述した従来の位置合せ方法は、以下の問題点がある
。
。
（１）基板側およびマスク側マークの双方が十字形状と
なっている場合は、第４図に示されるように両マーク２
１１．２１２が少しずれて重なっているとき、画像をイ
メージセンサで取込み２値化して２値化化号を発生させ
た場合、基板側とマスク側のマークの識別がつかなくな
り、マスクあるいは基板をどの方向に動かすべきかの判
断ができない。
なっている場合は、第４図に示されるように両マーク２
１１．２１２が少しずれて重なっているとき、画像をイ
メージセンサで取込み２値化して２値化化号を発生させ
た場合、基板側とマスク側のマークの識別がつかなくな
り、マスクあるいは基板をどの方向に動かすべきかの判
断ができない。
この場合、適当な方向に先ず動かしてみて、その結果の
画像により方向の正誤を確認しながら試行錯誤して行く
方法も考えられるが、処理が複雑になり、処理スピード
が遅くなり、ともすると、センサーの視野から外れてし
まう等の問題が発生する。
画像により方向の正誤を確認しながら試行錯誤して行く
方法も考えられるが、処理が複雑になり、処理スピード
が遅くなり、ともすると、センサーの視野から外れてし
まう等の問題が発生する。
（２）また、各マークを見易くするため、あるいは目合
せ精度をあげるために、マスク側マーク２１２のサイズ
を若干小さくすると（あるいは基板側マークの形成時の
製造ばらつきにより、双方のマークのサイズに寸法差が
生じると）、仮に、第５図（ａ）のように正確に位置合
せされていても、双方のマークが一致していないと判断
されて位置修正され、この結果、第５図（ｂ）のように
、かえって、誤差が大きくなる場合がある。
せ精度をあげるために、マスク側マーク２１２のサイズ
を若干小さくすると（あるいは基板側マークの形成時の
製造ばらつきにより、双方のマークのサイズに寸法差が
生じると）、仮に、第５図（ａ）のように正確に位置合
せされていても、双方のマークが一致していないと判断
されて位置修正され、この結果、第５図（ｂ）のように
、かえって、誤差が大きくなる場合がある。
（３）第６図のように、マスク側マーク３０２を特殊形
状とすると、上述の問題は解消されるものの、特殊な目
合せパターンを有するマスクを新規に作成する必要があ
るため、投資金額の増大や既存のマスク資産の利用がで
きないなどの欠点があり、特に、多品種少量生産の場合
は損失が大きい。
状とすると、上述の問題は解消されるものの、特殊な目
合せパターンを有するマスクを新規に作成する必要があ
るため、投資金額の増大や既存のマスク資産の利用がで
きないなどの欠点があり、特に、多品種少量生産の場合
は損失が大きい。
本発明の自動目金せ露光装置は、基板に対し露光マスク
を一定の方向に特定の距離だけずらして粗目合せをする
だめの予備目合せ手段を有している。
を一定の方向に特定の距離だけずらして粗目合せをする
だめの予備目合せ手段を有している。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の自動目金せ露光装置の一実施例のハー
ド構成を示すブロック図、第２図は予備目合せされたマ
スクか目合せステージに供給されたときの基板側マーク
＋２１およびマスク側マーク＋２２の位置関係を表わす
平面図、第３図は処理工程を示すフローチャートである
。
ド構成を示すブロック図、第２図は予備目合せされたマ
スクか目合せステージに供給されたときの基板側マーク
＋２１およびマスク側マーク＋２２の位置関係を表わす
平面図、第３図は処理工程を示すフローチャートである
。
木実ＪｉＫ例は、マスク供給経路１０４と、このマスク
供給経路１０４から供給されるマスクを予備目合せする
マスク予備目合せステージ１０１と、予備目合せ済マス
ク供給経路１０５と、基板供給経路１０３と、基板とマ
スクとの位置合わせを行う目合せステージ＋０２と、基
板排出経路１０６と、マスク排出経路１０７とを有して
いる。
供給経路１０４から供給されるマスクを予備目合せする
マスク予備目合せステージ１０１と、予備目合せ済マス
ク供給経路１０５と、基板供給経路１０３と、基板とマ
スクとの位置合わせを行う目合せステージ＋０２と、基
板排出経路１０６と、マスク排出経路１０７とを有して
いる。
次に、処理工程を説明する。
先ず、基板（不図示）は基板供給経路１０３を介して目
合せステージ＋０２に送られ（工程１１１）、端面をガ
イドビンに押し当てる方式（端面突き当て方式）等によ
る位置決めが行なわれる （工程＋１２）。
合せステージ＋０２に送られ（工程１１１）、端面をガ
イドビンに押し当てる方式（端面突き当て方式）等によ
る位置決めが行なわれる （工程＋１２）。
一方、マスクは、マスク供給経路１０４を介してマスク
予備目合せステージ１０１に供給され（工程１１３）、
マスク予備目合せステージ１０１において予備目合せさ
れ（工程１１４）、この後、予備目合せ済マスク供給経
路＋０５を介して目合せステージ１０２に送られ（工程
１１５）、基板と重ね合わせられる。
予備目合せステージ１０１に供給され（工程１１３）、
マスク予備目合せステージ１０１において予備目合せさ
れ（工程１１４）、この後、予備目合せ済マスク供給経
路＋０５を介して目合せステージ１０２に送られ（工程
１１５）、基板と重ね合わせられる。
この時、第２図に示されるように目合せマークの横軸ど
うし、および縦軸どうしが重ならず、かつマスク側の目
合せマークが基板のマークに対し常に一定方向（第２図
の例では右上方向）にずれるよう、かつ、両方のマーク
がいずれも目合せステージの画像センサの視野に収まる
ようマスク予備目合せステージ１０２を予め２１１整し
ておく。なお、予備目合せの方法としては、マスクの端
面の精度が出ていれば端面突き当て方式の使用が可能で
あるし、そうでない場合は、−次元イメージセンサ、あ
るいは二次元イメージセンサによるパターン認識による
方法を取ることができる。この予備目合せにより、基板
あるいはマスクの移動すべき方向が明白となり、また、
２つのマークが分離しているためにそれぞれのマークの
中心を容易に割り出すことが可能となる。次に、マーク
の中心点が割出され （工程１１６）、この割出された
マークの中心の座標からマスクずれ量（すなわち移動量
）が計算され（工程１１７）、この後、いつきにステー
ジを移動させる （工程１１８）。最後に、基板とマス
クの重ね合せが確認され（工程１１９）、自動目金せ処
理が終了する。この後、露光が行なわれ、この後、基板
およびマスクは、それぞれ、基板排出経路１０６、マス
ク排出経路１０７を介して排出される。
うし、および縦軸どうしが重ならず、かつマスク側の目
合せマークが基板のマークに対し常に一定方向（第２図
の例では右上方向）にずれるよう、かつ、両方のマーク
がいずれも目合せステージの画像センサの視野に収まる
ようマスク予備目合せステージ１０２を予め２１１整し
ておく。なお、予備目合せの方法としては、マスクの端
面の精度が出ていれば端面突き当て方式の使用が可能で
あるし、そうでない場合は、−次元イメージセンサ、あ
るいは二次元イメージセンサによるパターン認識による
方法を取ることができる。この予備目合せにより、基板
あるいはマスクの移動すべき方向が明白となり、また、
２つのマークが分離しているためにそれぞれのマークの
中心を容易に割り出すことが可能となる。次に、マーク
の中心点が割出され （工程１１６）、この割出された
マークの中心の座標からマスクずれ量（すなわち移動量
）が計算され（工程１１７）、この後、いつきにステー
ジを移動させる （工程１１８）。最後に、基板とマス
クの重ね合せが確認され（工程１１９）、自動目金せ処
理が終了する。この後、露光が行なわれ、この後、基板
およびマスクは、それぞれ、基板排出経路１０６、マス
ク排出経路１０７を介して排出される。
（発明の効果）
以上説明したように本発明は、露光マスクを特定の方向
に特定の距離だけずらして粗目合せする予備目合せ機能
を付加することにより、新らたな自動目金せ用のマスク
を要することなく、既存の手動目金せ用マスクを用いて
精度の良い自動目金せ露光を実現できる効果がある。
に特定の距離だけずらして粗目合せする予備目合せ機能
を付加することにより、新らたな自動目金せ用のマスク
を要することなく、既存の手動目金せ用マスクを用いて
精度の良い自動目金せ露光を実現できる効果がある。
第１図は本発明の自動目金せ露光装置の一実施例のブロ
ック図、第２図は第１図のマスク予備目合せステージ１
０１による予備目合せ完了後のマスク位置関係を示す図
、第３図は自動目金せ処理のフローチャート、第４図、
第５図（ａ） 、 （ｂ）および第６図は従来例ならび
にその従来例の問題点を説明するための図である。 ＋０１・・・マスク予備目合せステージ、１０２・・・
目合せステージ、 １０３・・・基板供給経路、１０４
・・・マスク供給経路、 ＋０５・・・予備目合せ済マスク供給経路、１０６ ・
・・基板排出経路、 １０７・・・マスク排出経路、
１１１Ｎ１＋９・・・各工程、 ２０１−・・十字マーク、 ２１１・・・基板側マ
ーク、２１２ ・・・マスク側マーク、 ２１３・・・二値化信号、 ３０２・・・マスク側マーク。
ック図、第２図は第１図のマスク予備目合せステージ１
０１による予備目合せ完了後のマスク位置関係を示す図
、第３図は自動目金せ処理のフローチャート、第４図、
第５図（ａ） 、 （ｂ）および第６図は従来例ならび
にその従来例の問題点を説明するための図である。 ＋０１・・・マスク予備目合せステージ、１０２・・・
目合せステージ、 １０３・・・基板供給経路、１０４
・・・マスク供給経路、 ＋０５・・・予備目合せ済マスク供給経路、１０６ ・
・・基板排出経路、 １０７・・・マスク排出経路、
１１１Ｎ１＋９・・・各工程、 ２０１−・・十字マーク、 ２１１・・・基板側マ
ーク、２１２ ・・・マスク側マーク、 ２１３・・・二値化信号、 ３０２・・・マスク側マーク。
Claims (1)
- セラミック基板やプリント基板へのパターン形成に用い
る露光装置において、基板に対し露光マスクを一定の方
向に位置をずらして粗目合せするための予備目合せ手段
を有することを特徴とする自動目合せ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155557A JPH024270A (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 自動目合せ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155557A JPH024270A (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 自動目合せ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH024270A true JPH024270A (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=15608665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63155557A Pending JPH024270A (ja) | 1988-06-22 | 1988-06-22 | 自動目合せ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH024270A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0823810A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-01-30 | Tokiwa Kagaku Kikai Kk | 給餌装置 |
| KR100763347B1 (ko) * | 2006-06-19 | 2007-10-04 | 삼성전기주식회사 | 패널정렬방법 |
| CN113985703A (zh) * | 2021-09-28 | 2022-01-28 | 深圳市麓邦技术有限公司 | 光学系统 |
-
1988
- 1988-06-22 JP JP63155557A patent/JPH024270A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0823810A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-01-30 | Tokiwa Kagaku Kikai Kk | 給餌装置 |
| KR100763347B1 (ko) * | 2006-06-19 | 2007-10-04 | 삼성전기주식회사 | 패널정렬방법 |
| CN113985703A (zh) * | 2021-09-28 | 2022-01-28 | 深圳市麓邦技术有限公司 | 光学系统 |
| CN113985703B (zh) * | 2021-09-28 | 2023-11-03 | 深圳市麓邦技术有限公司 | 光学系统 |
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