JPH02389B2 - - Google Patents

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JPH02389B2
JPH02389B2 JP55017701A JP1770180A JPH02389B2 JP H02389 B2 JPH02389 B2 JP H02389B2 JP 55017701 A JP55017701 A JP 55017701A JP 1770180 A JP1770180 A JP 1770180A JP H02389 B2 JPH02389 B2 JP H02389B2
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carbon atoms
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acid
hydrogen
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Berunaa Goodoin
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Publication of JPH02389B2 publication Critical patent/JPH02389B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明はアクリル樹脂、アルキド樹脂及びポリ
エステル樹脂を基質とする二層ユニラツカー被膜
を光、水分及び酸素の作用に対して安定化するた
めのポリアルキルピペリジン誘導体を含む安定剤
混合物に関する。 二層ユニラツカー被膜を常用のUV吸収剤で安
定化しうることは、特願昭52−132050号及び特願
昭53−60942号明細書から既に知られている。し
かしながら、良好な安定化を確保すべき場合に
は、これらの安定剤を比較的高濃度で使用しなけ
ればならず、更に、安定剤は無色であるのが望ま
しいが、多くの場合これらの安定剤は無色ではな
い。安定剤の色は、クリヤラツカーの層厚を屡々
変動させるので、実際には極めて重要である。 二層ラツカー被膜における代表的劣化現象、特
にひび割れ、ふくれ及び剥離は、経験によれば、
UV吸収剤によつて最もよく防止される。しかし
ながら、ポリアルキルピペリジン誘導体を基質と
する光安定剤を使用すると、これらの安定剤は近
紫外範囲で吸収性を有しないにもかかわらず、著
しく低濃度でも優れた安定化を達成することを意
外にも見い出した。更に、ポリアルキルピペリジ
ン誘導体によれば、必要な無色性が確保される。 従つて本発明はa)2,2,6,6−テトラア
ルキルピペリジン化合物又はその酸付加塩又は金
属化合物との錯体と、b)ベンゾフエノン類、オ
キサルアニリド類又はベンゾトリアゾール類から
なるUV吸収剤とを含むことを特徴とする、アク
リル樹脂、アルキド樹脂又はポリエステル樹脂
(これらはメラミン/ホルムアルデヒド樹脂、エ
ポキシ樹脂又はポリイソシアネートと架橋結合し
ている)を基質とする二層ユニラツカー被膜を
光、水分及び酸素の作用に対して安定化する二層
ユニラツカー被膜用安定剤混合物に関する。 本発明により使用する2,2,6,6−テトラ
アルキルピペリジン化合物は一般に公知であり、
光劣化に対して既に使用されている。該化合物は
一般式(): 〔式中、Rは水素又はメチル基を表わす〕の基を
含む化合物であるのが有利である。 本発明に使用する光安定剤は、特に下記の化合
物のカテゴリイを含む: a) 下記の一般式()の光安定剤: 〔式中nは1乃至4、特に1又は2の数値を表
わし、Tは水素又は−CONH2を表わし、Rは
一般式()に与えた定義を有し、R1は水素、
オキシル基、炭素原子数1乃至18個のアルキル
基、炭素原子数3乃至8個のアルケニル基、炭
素原子数3乃至8個のアルキニル基、炭素原子
数7乃至12個のアラルキル基、炭素原子数1乃
至8個のアルカノイル基、炭素原子数3乃至5
個のアルケノイル基、グリシジル基又は−
CH2CH(OH)−Z(式中Zは水素、メチル基、
エチル基又はフエニル基を表わす)を表わし、
R1は好ましくは水素、炭素原子数1乃至12個
のアルキル基、アリル基、ベンジル基、アセチ
ル基又はアクリロイル基を表わし、nが1であ
る場合には、R2は水素、炭原子数1乃至18個
のアルキル基、1個以上の酸素原子で遮断され
た炭素原子数1乃至18個のアルキル基、シアノ
エチル基、ベンジル基、グリシジル基、脂肪族
カルボン酸、カルバミン酸或いは燐含有酸の1
価の基、脂環式カルボン酸、カルバミン酸或い
は燐含有酸の1価の基、芳香脂肪族カルボン
酸、カルバミン酸或いは燐含有酸の1価の基、
芳香族カルボン酸、カルバミン酸或いは燐含有
酸の1価の基、ヘテロ環式カルボン酸、カルバ
ミン酸或いは燐含有酸の1価基又は1価のシリ
ル基、特に炭素原子数2乃至18個の脂肪族カル
ボン酸の基、炭素原子数5乃至12個の脂環式カ
ルボン酸の基又は炭素原子数7乃至15個の芳香
族カルボン酸の基を表わし、nが2である場合
には、R2は炭素原子数1乃至12個のアルキレ
ン基、炭素原子数4乃至12個のアルケニレン
基、キシリレン基、脂肪族ジカルボン酸、ジカ
ルバミン酸或いは燐含有酸の2価の基、脂環式
ジカルボン酸、ジカルバミン酸或いは燐含有酸
の2価の基、芳香脂肪族ジカルボン酸、ジカル
バミン酸或いは燐含有酸の2価の基、芳香族ジ
カルボン酸、ジカルバミン酸或いは燐含有酸の
2価の基又はヘテロ環式ジカルボン酸、ジカル
バミン酸或いは燐含有酸の2価の基又は2価の
シリル基、特に炭素原子数2乃至36個の脂肪族
ジカルボン酸の基、炭素原子数8乃至14個の脂
環式若しくは芳香族ジカルボン酸の基、又は炭
素原子数8乃至14個の脂肪族、脂環式若しくは
芳香族ジカルバミン酸の基を表わし、nが3で
ある場合には、R2は脂肪族、脂環式、芳香族
若しくはヘテロ環式トリカルボン酸の3価の
基、芳香族トリカルバミン酸の3価の基、燐含
有酸の3価の基、又は3価のシリル基を表わ
し、nが4である場合には、R2は脂肪族、脂
環式若しくは芳香族テトラカルボン酸の4価の
基を表わす〕。 炭素原子数1乃至12個のアルキル基は、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−
ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n
−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘ
キシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−
ウンデシル基又はn−ドデシル基である。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基R1又は
R2は、例えば前記の基及び更に例えばn−ト
リデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサ
デシル基又はn−オクタデシル基であつてよ
い。 炭素原子数3乃至8個のアルケニル基として
のR1は、例えば1−プロペニル基、アリル基、
メタリル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、2−ヘキセニル基、2−オクテニル基及び
4−t−ブチル−2−ブテニル基であつてよ
い。 炭素原子数3乃至8個のアルキニル基として
のR1は、プロパルギル基であるのが有利であ
る。 炭素原子数7乃至12個のアラルキル基として
のR1は、特にフエネチル基又は特にベンジル
基である。 炭素原子数1乃至8個のアルカノイル基とし
てのR1は、例えばホルミル基、プロピオニル
基、ブチリル基又はオクタノイル基、特にアセ
チル基であり、炭素原子数3乃至5個のアルケ
ノイル基としてのR1は、特にアクリロイル基
である。 カルボン酸の1価の基としてのR2は、例え
ば酢酸、ステアリン酸、サリチル酸、メタクリ
ル酸、安息香酸又はβ−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフエニル)−プロピオン
酸の基である。 ジカルボン酸の2価の基としてのR2は、例
えばマレイン酸、アジピン酸、スベリン酸、セ
バシン酸、フタル酸、ジブチルマロン酸、ジベ
ンジルマロン酸、ブチル−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−マロン酸
又はビシクロヘプテンジカルボン酸の基であ
る。 トリカルボン酸の3価の基としてのR2は、
例えばトリメリツト酸又はニトリロ三酢酸の基
である。 R2は高分子量不飽和脂肪酸のオリゴマー化
又はリノール酸へのアクリル酸のデイールス・
アルダー付加によつて工業的に製造されるよう
なジカルボン酸及びトリカルボン酸の基であつ
てもよい。またR2はモノー、ジ−及びポリ−
エポキシド、例えばビスフエノールAジグリシ
ジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエ
ーテル、トリス−グリシジルイソシアヌレート
又は1,3−ジグリシジル−4,4−ジメチル
−ヒダントインを4−ヒドロキシ−1,2,
2,6,6−ペンタメチルピペリジンと反応さ
せることによつて形成される基であつてもよ
い。 テトラカルボン酸の4価の基としてのR2は、
例えばピロメリツト酸基である。 ジカルバミン酸の2価の基としてのR2は、
例えばヘキサメチレンジカルバミン酸基又は
2,4−トルイレンジカルバミン酸基である。 下記の化合物は、この群のポリアルキルピペ
リジン光安定剤の例である; 1 4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン、 2 1−アリル−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、 3 1−ベンジル−4−ヒドロキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、 4 1−(4−t−ブチル−2−ブテニル)−4
−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン、 5 4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン、 6 1−エチル−4−サリチロイルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、 7 4−メタクリロイルオキシ−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジン、 8 1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン−4−イルβ−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフエニル)−プロピオネ
ート、 9 1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジニル−マレエート、 10 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)−アジペート、 11 ジ−(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)−セバケート、 12 ジ−(1,2,3,6−テトラメチル−2,
6−ジエチル−ピペリジン−4−イル)−セ
バケート、 13 ジ−(1−アリル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−フタレー
ト、 14 1−プロパルギル−4−β−シアノエチル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチル−ピ
ペリジン、 15 1−アセチル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン−4−イル−アセテート 16 トリ−(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)トリメリテート、 17 1−アクリロイル−4−ベンジルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 18 ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン−4−イル)ジブチルマロネー
ト、 19 ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン−4−イル)ブチル−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−マロネート、 20 ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン−4−イル)ジベンジルマロネー
ト 21 ジ−(1,2,3,6−テトラメチル−2,
6−ジエチル−ピペリジン−4−イル)ジベ
ンジル−マロネート、 22 ヘキサン−1′,6′−ビス−(4−カルバモ
イルオキシ−1−n−ブチル−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン) 23 トルエン−2′,4′−ビス−(4−カルバモ
イルオキシ−1−n−プロピル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン) 24 ジメチル−ビス−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−オキシ)シラン、 25 フエニル−トリス−(2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−オキシ)シラ
ン、 26 トリス−(1−プロピル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)−ホ
スフイツト、 27 トリス−(1−プロピル−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)ホス
フエート、 28 ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチ
ルピペリジン−4−イル)フエニルホスホネ
ート、 29 ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン−4−イル)−セバケート、 30 ジ−(1−ペンジル−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)−セバケ
ート、 31 ジ−(1−アリル−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−セバケー
ト、 31a 2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒ
ドロキシ−4−カルバモイル−ピペリジ
ン。 b 下記の一般式()の光安定剤: 〔式中nは1又は2であり、Rは式()に与
えた定義を有し、R1は前記a)に与えた定義
を有し、R3は水素、炭素原子数1乃至12個の
アルキル基、炭素原子数5乃至7個のシクロア
ルキル基、炭素原子数7乃至8個のアラルキル
基、炭素原子数2乃至18個のアルカノイル基、
炭素原子数3乃至5個のアルケノイル基又はベ
ンゾイル基を表わし、nが1である場合には
R4は水素、炭素原子数1乃至18個のアルキル
基、炭素原子数5乃至7個のシクロアルキル基
又は炭素原子数2乃至8個のアルケニル基を表
わし、このアルケニル基は未置換であるか、或
いはシアノ基、カルボニル基若しくはカルバミ
ド基で置換されていてよく、またR4はグリシ
ジル基、又は−CH2CH(OH)−Z或いは−
CONH−Z(式中Zは水素、メチル基又はフエ
ニル基を表わす)又は
【式】 の基を表わし、nが2である場合にはR4は炭
素原子数2乃至12個のアルキレン基、炭素原子
数6乃至12個のアリーレン基、キシリレン基、
−CH2−CH(OH)−CH2−又は−CH2−CH
(OH)−CH2−O−X−O−CH2−CH(OH)−
CH2−(式中Xは炭素原子数2乃至10個のアル
キレン基、炭素原子数6乃至15個のアリーレン
基、炭素原子数6乃至12個のシクロアルキレン
基を表わす)を表わすか、又はR3がアルカノ
イル基、アルケノイル基又はベンゾイル基を表
わさない場合には、R4は脂肪族、脂環式若し
くは芳香族ジカルボン酸の2価の基又は脂肪
族、脂環式若しくは芳香族ジカルバミン酸の2
価の基又は−CO−を表わしてもよく、nが1
である場合にはR3及びR4は一緒に脂肪族、脂
環式或いは芳香族の1,2−又は1,3−ジカ
ルボン酸のイミド基を形成していてもよい〕。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基で表わさ
れる置換基は、上記a)に記載した基である。 炭素原子数5乃至7個のシクロアルキル基は
特にシクロヘキシル基である。 炭素原子数7乃至8個のアラルキル基として
のR3は、特にフエネチル基又は特にベンジル
基である。炭素原子数2乃至18個のアルカノイ
ル基としてのR3は、例えばプロピオニル基、
ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル
基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル
基、特にアセチル基であり、炭素原子数3乃至
5個のアルケノイル基としてのR3は、特にア
クリロイル基である。 未置換又はシアノ基、カルボニル基若しくは
カルバミド基で置換された炭素原子数2乃至8
個のアルケニル基としてのR4は、例えば1−
プロペニル基、アリル基、メタリル基、2−ブ
テニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル
基、2−オクテニル基、2,2−ジシアノビニ
ル基、1−メチル−2−シアノ−2−メトキシ
−カルボニルビニル基、2,2−ジアセチルア
ミノビニル基である。 炭素原子数2乃至12個のアルキレン基は、例
えばエチレン基、プロピレン基、2,2−ジメ
チルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン
基又はドデカメチレン基である。 炭素原子数6乃至15個のアリーレン基は、例
えばo−,m−若しくはp−フエニレン基、
1,4−ナプチレン基又は4,4′−ジフエニレ
ン基である。 炭素原子数6乃至12個のシクロアルキレン基
としてのXは、特にシクロヘキシレン基であ
る。 下記の化合物は、この群のポリアルキルピペ
リジン光安定剤の例である: 32 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−ヘキサメチ
レン−1,6−ジアミン、 33 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−ヘキサメチ
レン−1,6−ジアセトアミド、 34 1−アセチル−4−(N−シクロヘキシル
アセトアミド)−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、 35 4−ベンジルアミノ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン、 36 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−N,N′−ジ
ブチル−アジパミド、 37 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−N,N′−ジ
シクロヘキシル−(2−ヒドロキシプロピレ
ン)、 38 N,N′−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)−p−キシリ
レン−ジアミン、 39 下記式の化合物: 41 4−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−
t−ブチル安息香酸アミド)−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン 42 4−メタクリルアミド−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジン 43 メチル α−シアノ−β−メチル−β−
〔N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル)〕−アミノ−アクリレート、 c) 下記の一般式()の光安定剤; 〔式中nは1又は2であり、Rは式()に与
えた定義を有し、R1はa)に与えた定義を有
し、R5はnが1である場合には炭素原子数2
乃至8個のアルキレン基若しくはヒドロキシア
ルキレン基又は炭素原子数4乃至22個のアシル
オキシアルキレン基を表わし、nが2である場
合には(−CH22C(CH2−)2を表わす〕。 炭素原子数2乃至8個のアルキレン基又はヒ
ドロキシアルキレン基としてのR5は、例えば
エチレン基、1−メチルエチレン基、プロピレ
ン基、2−エチルプロピレン基、2−エチル−
2−ヒドロキシメチルプロピレン基である。 炭素原子数4乃至22個のアシルオキシアルキ
レン基としてのR5は、例えば2−エチル−2
−アセトキシメチルプロピレン基である。 下記の化合物は、この群のポリアルキルピペ
リジン光安定剤の例である: 44 9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル
−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカ
ン、 45 9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル
−3−エチル−1,5−ジオキサスピロ
〔5.5〕ウンデカン、 46 8−アザ−2,7,7,8,9,9−ヘキ
サメチル−1,4−ジオキサスピロ〔4.5〕
デカン、 47 9−アザ−3−ヒドロキシメチル−3−エ
チル−8,8,9,10,10−ペンタメチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン、 48 9−アザ−3−エチル−3−アセトキシメ
チル−9−アセチル−8,8,10,10−テト
ラメチル−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕
ウンデカン、 49 2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−スピロ−2′−(1′,3′−ジオキサン)−
5′−スピロ−5″−(1″,3″−ジオキサン)−
2″−スピロ−4(2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン)。 d) 下記の一般式(VA)、(VB)及び(VC)
の光安定剤: 〔式中nは1又は2であり、Rは式()に与
えた定義を有し、R1はa)に与えた定義を有
し、R6は水素、炭素原子数1乃至12個のアル
キル基、アリル基、ベンジル基、グリシジル基
又は炭素原子数2乃至6個のアルコキシアルキ
ル基を表わし、nが1である場合にはR7は水
素、炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭素
原子数3乃至5個のアルケニル基、炭素原子数
7乃至9個のアラルキル基、炭素原子数5乃至
7個のシクロアルキル基、炭素原子数2乃至4
個のヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至
6個のアルコキシアルキル基、炭素原子数6乃
至10個のアリール基、グリシジル基、−(CH2n
′−COO−Q又は−(CH2n′−O−CO−Q(式
中m′は1又は2であり、Qは炭素原子数1乃
至18個のアルキル基又はフエニル基である)の
基を表わし、nが2である場合、R7は炭素原
子数2乃至12個のアルキレン基、炭素原子数6
乃至12個のアリーレン基、炭素原子数4乃至12
個のアルケニレン基、−CH2−CH(OH)−CH2
−O−X−O−CH2−CH(OH)−CH2−(式中
Xは炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、炭
素原子数6乃至15個のアリーレン基、炭素原子
数6乃至12個のシクロアルキレン基を表わす)
又は−CH2CH(OZ′)CH2−(OCH2−CH
(OZ′)CH22−(式中Z′は水素、炭素原子数1
乃至18個のアルキル基、アリル基、ベンジル
基、炭素原子数2乃至12個のアルカノイル基又
はベンゾイル基を表わす)を表わし、T1及び
T2はそれぞれ独立に水素、炭素原子数1乃至
18個のアルキル基、炭素原子数6乃至10個の未
置換アリール基又はハロゲン若しくは炭素原子
数1乃至4個のアルキル基で置換された炭素原
子数6乃至10個のアリール基又は炭素原子数7
乃至9個のアラルキル基を表わすか、又はT1
とT2はこれらを結合する炭素原子と一緒に、
未置換或いは炭素原子数1乃至4個のアルキル
基で置換された炭素原子数5乃至7個のシクロ
アルキル基、ピロリジニル基又はピペリジニル
基を形成する〕。 炭素原子数1乃至12個のアルキル基は、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−
ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n
−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチル−
ヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n
−ウンデシル基又はn−ドデシル基である。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基は、例え
ば前記の基及び更に例えばn−トリデシル基、
n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基又は
n−オクタデシル基であつてよい。 炭素原子数2乃至6個のアルコキシアルキル
基は、例えばメトキシメチル基、エトキシメチ
ル基、プロポキシメチル基、t−ブトキシメチ
ル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル
基、n−ブトキシエチル基、t−ブトキシエチ
ル基、イソプロポキシエチル基又プロポキシプ
ロピル基である。 炭素原子数3乃至5個のアルケニル基として
のR7は、例えば1−プロペニル基、アリル基、
メタリル基、2−ブテニル基又は2−ペンテニ
ル基である。 炭素原子数7乃至9個のアラルキル基R7
T1及びT2は、特にフエネチル基又は特にベン
ジル基であり、炭素原子数5乃至7個のシクロ
アルキル基R7、T1及びT2(T1及びT2はこれら
を結合する炭素原子と共に)は特にシクロヘキ
シル基である。 炭素原子数2乃至4個のヒドロキシアルキル
基としてのR7は例えば2−ヒドロキシエチル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキ
シブチル基又は4−ヒドロキシブチル基であ
る。 炭素原子数6乃至10個のアリール基R7、T1
及びT2は、特にフエニル基、α−又はβ−ナ
フチル基であり、未置換であるか、又はハロゲ
ン若しくは炭素原子数1乃至4個のアルキル基
で置換されていてもよい。 炭素原子数2乃至12個のアルキレン基として
のR7は、例えばエチレン基、プロピレン基、
2,2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレ
ン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、
デカメチレン基又はドデカメチレン基である。 炭素原子数4乃至12個のアルケニレン基R7
は、特に2−ブテニレン基、2−ペンテニレン
基又は3−ヘキセニレン基を表わす。 炭素原子数6乃至12個のアリーレン基として
のR7は、例えばo−、m−若しくはp−フエ
ニレン基、1,4−ナフチレン基又は4,4′−
ジフエニレン基である。 炭素原子数2乃至12個のアルカノイル基とし
てZ′は、例えばプロピオニル基、ブチリル基、
オクタノイル基、ドデカノイル基、又は特にア
セチル基である。 炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、炭素
原子数6乃至15個のアリーレン基又は炭素原子
数6乃至12個のシクロアルキレンX基は、b)
に記載したものを表わす。 この類のポリアルキルピペリジン−光安定剤
は、例えば下記の化合物である: 50 3−ベンジル−1,3,8−トリアザ−
7,7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕
デカン−2,4−ジオン 51 3−n−オクチル−1,3,8−トリアザ
−7,7,9,9−テトラメチルスピロ
〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 52 3−アリル−1,3,8−トリアザ−1,
7,7,9,9−ペンタメチルスピロ〔4.5〕
デカン−2,4−ジオン 53 3−グリシジル−1,3,8−トリアザ−
7,7,8,9,9−ペンタメチルスピロ
〔4.5〕デカン−2,4−ジオン 53a 2−イソ−プロピル−7,7,9,9−
テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジア
ザ−4−オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 53b 2−ブチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−
オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 53c 2−イソプロピル−7,7,9,9−テ
トラメチル−1−オキサ−4,8−ジアザ
−3−オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 53d 2−ブチル−7,7,9,9−テトラメ
チル−1−オキサ−4,8−ジアザ−3−
オキソ−スピロ〔4.5〕デカン 又は下記式の化合物: e 下記の一般式()の光安定剤: 〔式中nは1又は2であり、R8は式; (式中Rは式()に与えた定義を有し、R1
はa)に記載したものを表わし、Yは−O−又
は−NR11−を表わし、Aは炭素原子数2乃至
6個のアルキレン基又は−(CH23−O−を表
わし、mは0又は1の数値を表わす)の基を表
わし、R9は基R8、−NR11R12、−OR13、−
NHCH2OR13又は−N(CH2OR132を表わし、
nが1である場合、R10は基R8又はR9を表わ
し、nが2である場合、R10は−Y−Q−Y−
(式中Qは場合により−N(R14)−で遮断され
てもよい炭素原子数2乃至6個のアルキレン基
を表わす)を表わし、R11は水素原子、炭素原
子数1乃至12個のアルキル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、又は炭素原子数1乃至4個の
ヒドロキシアルキレン基又は式; の基を表わし、R12は炭素原子数1乃至12個の
アルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又
は炭素原子数1乃至4個のヒドロキシアルキル
基を表わし、R13は水素、炭素原子数1乃至12
個のアルキル基又はフエニル基を表わし、R14
は水素、炭素原子数1乃至12個のアルキル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基又はフエニル基
を表わすか、又はR11とR12は一緒に炭素原子
数4乃至5個のアルキレン基又はオキサアルキ
レン基を表わすか、又はR11及びR12はそれぞ
れ式; の基を表わす〕。 炭素原子数1乃至12個のアルキル基は例えば
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブ
チル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキ
シル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウ
ンデシル基又はn−ドデシル基を表わす。 炭素原子数1乃至4個のヒドロキシアルキル
基は例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒド
ロキシプロピル基、3−ヒドロキシプロピル
基、2−ヒドロキシブチル基又は4−ヒドロキ
シブチル基を表わす。 炭素原子数2乃至6個のアルキレン基Aは例
えばエチレン基、プロピレン基、2,2−ジメ
チルプロピレン基、テトラメチレン基又はヘキ
サメチレン基を表わす。 R11及びR12が一緒になつて形成する炭素原
子数4乃至5個のアルキレン基又はオキサアル
キレン基を表わす場合には、これは例えばテト
ラメチレン基、ペンタメチレン基又は3−オキ
サ−ペンタメチレン基を表わす。 この類のポリアルキルピペリジン−光安定剤
は、例えば下記の式の化合物である; f) 下記の一般式()の光安定剤; 〔式中nは1又は2の数値を表わし、Rは一般
式()に与えた定義を有し、nが1である場
合、R14は炭素原子数4乃至18個のアルキル
基、炭素原子数7乃至12個のアラルキル基、−
CO−R15又は−CN、−COOR16、−OH、−
OCOR17又は
【式】で 置換された炭素原子数1乃至4個のアルキル基
を表わし、R15は炭素原子数1乃至12個のアル
キル基、炭素原子数2乃至4個のアルケニル基
又はフエニル基を表わし、R16は炭素原子数1
乃至18個のアルキル基を表わし、R17は炭素原
子数1乃至18個のアルキル基、炭素原子数2乃
至10個のアルケニル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基又は炭素原子数6乃至10個のアリール
基を表わすか、又はnが2である場合にはR14
は炭素原子数4乃至12個のアルキレン基、2−
プテニレン−1,4、キシリレン基、−(CH22
−OOC−R18−COO−(CH22−、又は−CH2
−OOC−R19−COO−CH2−を表わし、R18
炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、フエニ
レン基又はシクロヘキシレン基を表わし、R19
は炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、キシ
リレン基又はシクロキシレン基を表わす〕。 炭素原子数1乃至12個のアルキル基は例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n
−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、
n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチル
ヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、n
−ウンデシル基、又はn−ドデシル基である。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基は、例え
ば前記の基及び更に例えばn−トリデシル基、
n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基又は
オクタデシル基である。 炭素原子数2乃至10個のアルキレン基は、例
えばエチレン基、プロピレン基、2,2−ジメ
チルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基又はデカメチレ
ン基である。 炭素原子数4乃至18個のアルキル基R14は、
例えばn−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブ
チル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2
−エチルヘキシル基、1,1−ジメチル−2−
t−ブチルエチル基、n−ノニル基、n−デシ
ル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n
−ヘキサデシル基又はn−オクタデシル基であ
る。 −CNで置換された炭素原子数1乃至4個の
アルキル基としてのR14は、例えばシアノメチ
ル基、シアノエチル基、3−シアノ−n−プロ
ピル基、4−シアノ−n−ブチル基である。 炭素原子数4乃至12個のアルキレン基として
のR14は、例えば2,2−ジメチル−プロピレ
ン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、
オクタメチレン基、デカメチレン基又はドデカ
メチレン基である。 炭素原子数7乃至12個のアラルキル基として
のR14は、特にフエネチル基、p−メチルベン
ジル基、又は特にベンジル基である。 炭素原子数2乃至4個のアルケニル基として
のR15は、例えばビニル基、1−プロペニル
基、アリル基、メタリル基、2−プテニル基で
ある。 炭素原子数2乃至10個のアルケニル基として
のR17は、例えばアルケニル基としてのR15
定義に挙げた基及び更に例えばクロチル基、2
−ヘキセニル基、2−オクテニル基又は2−デ
セニル基である。 炭素原子数6乃至10個のアリール基としての
R17は、例えば未置換フエニル基又はオルト位
或いはパラ位がメチル基、エチル基、イソプロ
ピル基、n−ブチル基若しくはt−ブチル基で
置換されたフエニル基である。 下記の化合物はこの群のポリアルキルピペリ
ジン光安定剤の例である; 64 ビス−〔2−(2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジノ)−エチル〕−セバケート 65 n−オクチルα−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジノ)−アセテート 66 1,4−ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジノ)−2−ブテン g) 下記の一般式()光安定剤; 〔式中Qは−N(R3)−又は−O−を表わし、
Eは炭素原子数1乃至3個のアルキレン基、−
CH2−CH(R4)−O−(式中4は水素、メチル基
又はフエニル基を表わす)、−(CH23−NH−
又は単結合を表わし、Rは水素又はメチル基を
表わし、R1はa)に与えた定義を有し、R2
水素又は炭素原子数1乃至18個のアルキル基を
表わし、R3は水素、炭素原子数1乃至18個の
アルキル基、炭素原子数5乃至7個のシクロア
ルキル基、炭素原子数7乃至12個のアラルキル
基、シアノエチル基、炭素原子数6乃至10個の
アリール基、−CH2−CH(R4)−OH(式中R4
前記のものを表わす)、式; の基又は式; (式中Gは炭素原子数2乃至6個のアルキレン
基又は炭素原子数6乃至12個のアリーレン基を
表わす)の基を表わすか、又はR3は−E−CO
−NH−CH2−OR2を表わす〕。 炭素原子数1乃至18個のアルキル基は例えば
メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブ
チル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキ
シル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウ
ンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル
基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基
又はn−オクタデシル基を表わす。 炭素原子数7乃至12個のアラルキル基は例え
ばフエネチル基又は特にベンジル基を表わす。 炭素原子数3乃至8個のアルケニル基として
のR1は、例えば1−プロペニル基、アリル基、
メタリル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル
基、2−ヘキセニル基、2−オクテニル基又は
4−t−ブチル−2−ブテニル基であつてよ
い。 炭素原子数3乃至8個のアルキニル基として
のR1は、プロパルギル基であるのが有利であ
り、炭素原子数1乃至8個のアルカノイル基と
してのR1は例えばホルミル基、プロピオニル
基、ブチリル基、オクタノイル基、特にアセチ
ル基であり、炭素原子数3乃至5個のアルケノ
イル基としてのR1はアクリロイル基である。 炭素原子数5乃至7個のシクロアルキル基と
してのR3は、特にシクロヘキシル基であり、
炭素原子数6乃至10個のアリール基としての
R3は特にフエニル基又はα−若しくはβ−ナ
フチル基であり、これらの基は未置換であるか
又はハロゲン又は炭素原子数1乃至4個のアル
キル基で置換されていてよい。炭素原子数1乃
至3個のアルキレン基としてのEは、例えばメ
チレン基、エチレン基又はプロピレン基であ
る。 炭素原子数2乃至6個のアルキレン基として
のGは、例えばエチレン基、プロピレン基、
2,2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレ
ン基又はヘキサメチレン基であり、炭素原子数
6乃至12個のアリーレン基としてのGは、o
−、m−若しくはp−フエニレン基、1,4−
ナフチレン基又は4,4′−ジフエニレン基であ
る。 この類のポリアルキルピペリジン−光安定剤
は、例えば下記の化合物である; 67 N−ヒドロキシメチル−N′−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−イル−尿
素、 68 N−メトキシメチル−N′−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−イル−尿
素 69 N−メトキシメチル−N′−n−ドデシル
−N′−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル−尿素、 70 O−(2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)−N−メトキシ−メチル
−ウレタン。 h) 反復構造単位が一般式()のポリアルキ
ルピペリジン基を含むポリマー化合物、特に上
記基を含むポリエステル、ポリエーテル、ポリ
アミド、ポリアミン、ポリウレタン、ポリ尿
素、ポリアミノトリアジン、ポリ(メタ)アク
リレート、ポリ(メタ)アクリルアミド及びこ
れらのコポリマー。 この群のポリアルキルピペリジン光安定剤
は、例えばm″が2乃至約200である下記の式の
化合物である; i) 分子中に少なくとも1個の2−(2′−ヒド
ロキシフエニル)−ベンゾトリアゾール基又は
2−ヒドロキシベンゾフエノン基及び少なくと
も1個のポリアルキルピペリジン基を含む化合
物。 この類のポリアルキルピペリジン光安定剤
は、例えば下記の式の化合物である; ラツカーの結合剤と化学結合しうるa)〜i)
類のポリアルキルピペリジン誘導体を使用するこ
ともできる。ポリアルキルピペリジン誘導体が目
的に適合する反応性基、例えばグリシジル基又は
メチロール基を含む場合に、化学結合が起る。 このような化合物の例は、メチロール基又はメ
チロールエーテル基を含むg)群のポリアルキル
ピペリジン誘導体である。 ポリアルキルピペリジン化合物が塩基性化合物
である場合には、該化合物は酸と塩を形成しう
る。塩形成に適当な酸は、例えば無機酸又は有機
カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸若しくはホ
スフイン酸、例えば塩酸、硼酸、燐酸、酢酸、サ
リチル酸、トルエンスルホン酸又はベンゼンホス
ホン酸である。 ポリアルキルピペリジン化合物は錯体形成性金
属化合物、例えば酢酸亜鉛()、コバルト()
アセチルアセトネート、ニツケル()アセチル
アセトネート、アルミニウム()アセチルアセ
トネート、ニツケル()ベンゾエート又はアル
ミニウム()ベンゾイルアセトネートと錯体を
形成しうる。 メラミン/ホルムアルデヒド樹脂、エポキシ樹
脂又はポリイソシアネートで架橋結合されている
アクリル樹脂、アルキド樹脂又はポリエステル樹
脂、例えばエイチ・ワグナー(H.Wagner)及び
エイチ・エフ・ザルクス(H.F.Sarx)著、ラツ
ククンストハルツエ(Lack−kunstharze)に記
載されている樹脂を基質とする常用の焼付けラツ
カーを、本発明により光、水分及び酸素に対して
安定化される二層ユニラツカー被膜の製造に使用
することができる。 ラツカーは、常用の二層法で、例えば市販の目
止剤を予め20〜30μの層厚で焼付けたコイル被覆
した金属シート上に顔料含有に下塗ラツカーを20
〜30μの層厚で被覆し、約5分間乾燥した後上塗
ラツカーをウエツト・イン・ウエツト法で35〜
40μの層厚で施すことにより塗布することができ
る。約15分間更に風乾した後、ラツカーを架橋結
合剤の性質に応じて80〜150℃で約30分間焼付け
る。 ポリアルキルピペリジン誘導体の添加量は溶剤
を含まない結合剤に対して0.01〜5重量%、特に
0.5〜1重量%である。ラツカーは常用の有機溶
剤を含んでいてよく、また水中に溶解又は分散し
てもよく、或いは溶剤を含まなくてもよい。 本発明により安定化に使用するポリアルキルピ
ペリジン誘導体は、顔料を含まない上塗ラツカー
中にだけ配合するか、又は顔料を含まない上塗ラ
ツカーと顔料を含む下塗ラツカーとの両方に配合
することができる。光安定剤を顔料を含まない上
塗ラツカー中に配合するのが有利である。アクリ
ル/メラミン樹脂(アクリル樹脂とメラミン/ホ
ルムアルデヒド樹脂との混合物)を基質とする上
塗ラツカーが有利である。アクリル樹脂又はアク
リル変性アルキド樹脂を製造する場合に、重合性
ポリアルキルピペリジン誘導体(例えば比合物7
及び42)を樹脂に共重合させることができる。 しかし製造中、又は若干の場合にはアクリル樹
脂、アルキド樹脂又はポリエステル樹脂の焼付け
(この工程で架橋結合される)中に重縮合反応に
よつてラツカー結合剤中に配合してもよい。共縮
合性ポリアルキルピペリジン誘導体は、例えば化
合物1及び63及び1−ヒドロキシエチル−4−ヒ
ドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン又は下記の式の化合物である: 重付加反応による配合は、例えばアクリル樹脂
中の遊離カルボキシル基をポリアルキルピペリジ
ン誘導体のグリシジル基と反応させることにより
行なわれる。これらのカルボキシル基は例えばア
クリル酸の共重合によつて結合させてもよい。 これらの場合には、光安定剤が抽出又はマイグ
レーシヨンにより除去されないので、作用が極め
て長く持続するという付加的利点がある。 最大の光安定剤を達成するため、他の常用の光
安定剤を併有する。併有する光安定剤はベンゾフ
エノン類、オキサルアニリド類又はベンゾトリア
ゾール類から成るUV吸収剤である。 すべての光安定剤の合計量はラツカー樹脂に対
して0.02〜5重量%、特に0.5〜2重量%である。 ラツカー中に含まれていてよい他の添加剤は酸
化剤、例えば立体障害フエノール誘導体、又は有
機燐化合物、例えばホスフアイト類、ホスホナイ
ト類著しくはホスフイン類よりなる類の酸化剤、
可塑剤、流れ調製剤、硬化促進剤、例えば有機
Co塩、Mn塩或いはZr塩、増粘剤、分散剤又は密
着性改良剤である。 本発明による安定化は乗り物のラツカー被膜に
特に適当である。 次に実施例に基づいて本発明を詳述するが、本
発明はこれに限定されるものではない。例中
「部」及び「%」はそれぞれ「重量部」及び「重
量%」を表わす。 例 1 ラツカー用基本配合 a) 下塗ラツカー アルフタラート・エイシイ451(Alftalat
AC451)(ヘキスト社製アルキド樹脂)51.56部 マプレナール・エムエフ590(Maprenal
MF590)(ヘキスト社製メラミン/ホルムアル
デヒド樹脂) 20.7部 TiO2 27.6部 C.I.ピグメントエロー24 0.14部 上記成分をキシレン44%、石油エーテル26%
及び酢酸ブチル30%から成る溶剤混合物に溶か
す。 b) 上塗ラツカー シエルソールA/酢酸ブチル中のピアクリル・
ヴイシイ1341(Viacryl VC1341)/60%〔ヴ
イアノヴア・クンスハルツ社(Vianova
Kunstharz AG社製アクリル樹脂〕 62.5部 イソブタノール中のマプレナール・エフエフ
825(Maprenal MF 825)/71%(ヘキスト社
製メラミン/ホルムアルデヒド樹脂) 17.6部 ソルヴエツソ 100(Solvesso 100)(エツソ社
製溶剤) 19.4部 ペイント・アデイテイプ11(Pant Additive
11)〔ダウ・コーニング社(Dow Corning
Corp.)製流れ調整剤〕 0.5部 二層ユニラツカー被膜の製造 コイル被覆したアルミニウムシート上に市販の
目止剤〔スタンドツクス(Standox)目止下塗
剤〕を30μの層厚でスプレーし、175℃で15分間
焼付ける。次に顔料を含む下塗ラツカーを約30μ
の層厚でスプレーし、5分間風乾した後、顔料を
含まない上塗ラツカーをウエツト・イン・ウエツ
ト法で35〜40μの層厚で施す。次にクツカーを
130℃で30分間焼付ける。 屋外暴露 こうして得た金属シートを標準気候条件(23
℃/相対空気湿度50%)下に4週間貯蔵し、次に
ASTM G53−77によるQUV装置中で屋外暴露す
る。 下記の試験を行なう場合、下記の第1表、第2
表及び第3表欄に示した光安定剤(安定剤は本
発明により使用するポリアルキルピペリジン化合
物の説明において例示した番号で示す)を、それ
ぞれの場合に各表の欄に%(ラツカー樹脂に対
する)で示した量で上塗ラツカーに、上塗ラツカ
ーを施す前に、添加する。 1200時間屋外暴露後の黄変試験 青色−黄色値の変動(ΔBYV)はラツカーの
黄変の尺度である。これは光度計により測定され
た色彩座標からの計算によつて決定される。相当
する数値を下記の第1表、第2表及び第3表の
欄に挙げる。 1200時間屋外暴露後の光沢の低下 1200時間屋外暴露後、ASTM D523により測
定した光択値を下記の第1表、第2表及び第3表
の欄に挙げる。 1200時間屋外暴露後にラツカー被覆した金属シー
トの肉眼による外観 屋外暴露後に、金属シートを曇り、ひび割れ、
ふくれ及び剥離について試験した。観察結果を下
記の第1表、第2表及び第3表の欄に挙げる。
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 アクリル樹脂、アルキド樹脂又はポリエステ
    ル樹脂(これらはメラミン/ホルムアルデヒド樹
    脂、エポキシ樹脂又はポリイソシアネートと架橋
    結合している)を基質とする二層ユニラツカー被
    膜を、光、水分及び酸素の作用に対して安定化す
    る二層ユニラツカー被膜用安定剤混合物におい
    て、a)2,2,6,6−テトラアルキルピペリ
    ジン化合物又はその酸付加塩又は金属化合物との
    錯体と、b)ベンゾフエノン類、オキサルアニリ
    ド類又はベンゾトリアゾール類から成るUV吸収
    剤とを含むことを特徴とする二層ユニラツカー被
    膜用安定剤混合物。 2 成分a)が一般式(): 〔式中nは1乃至4の数値を表わし、Tは水素又
    は−CONH2を表わし、Rは水素又はメチル基を
    表わし、R1は水素、オキシル基、炭素原子数1
    乃至18個のアルキル基、炭素原子数3乃至8個の
    アルケニル基、炭素原子数3乃至8個のアルキニ
    ル基、炭素原子数7乃至12個のアラルキル基、炭
    素原子数1乃至8個のアルカノイル基、炭素原子
    数3乃至5個のアルケノイル基、グリシジル基又
    は−CH2CH(OH)−Z(式中Zは水素、メチル
    基、エチル基又はフエニル基を表わす)を表わ
    し、nが1である場合には、R2は水素、炭素原
    子数1乃至18個のアルキル基、1個以上の酸素原
    子で遮断された炭素原子数1乃至18個のアルキル
    基、シアノエチル基、ベンジル基、グリシジル
    基、脂肪族カルボン酸、カルバミン酸或いは燐含
    有酸の1価の基、脂環式カルボン酸、カルバミン
    酸或いは燐含有酸の1価の基、芳香脂肪族カルボ
    ン酸、カルバミン酸或いは燐含有酸の1価の基、
    芳香族カルボン酸、カルバミン酸或いは燐含有酸
    の1価の基、ヘテロ環式カルボン酸、カルバミン
    酸或いは燐含有酸の1価の基又は1価のシリル基
    を表わし、nが2である場合には、R2は炭素原
    子数1乃至12個のアルキレン基、炭素原子数4乃
    至12個のアルケニレン基、キシリレン基、脂肪族
    ジカルボン酸、ジカルバミン酸或いは燐含有酸の
    2価の基、脂環式ジカルボン酸、ジカルバミン酸
    或いは燐含有酸の2価の基、芳香脂肪族ジカルボ
    ン酸、ジカルバミン酸或いは燐含有酸の2価の
    基、芳香族ジカルボン酸、ジカルバミン酸或いは
    燐含有酸の2価の基又はヘテロ環式ジカルボン
    酸、ジカルバミン酸或いは燐含有酸の2価の基又
    は2価のシリル基を表わし、nが3である場合に
    は、R2は脂肪族、脂環式、芳香族若しくはヘテ
    ロ環式トリカルボン酸の3価の基、芳香族トリカ
    ルバミン酸の3価の基、燐含有酸の3価の基、又
    は3価のシリル基を表わし、nが4である場合に
    は、R2は脂肪族、脂環式若しくは芳香族テトラ
    カルボン酸の4価の基を表わす〕の化合物である
    特許請求の範囲第1項記載の安定剤混合物。 3 成分a)が、式()中nが1又は2であ
    り、Rが水素又はメチル基を表わし、R1が水素、
    炭素原子数1乃至12個のアルキル基、アリル基、
    ベンジル基、アセチル基又はアクリロイル基を表
    わし、nが1である場合には、R2は2乃至18個
    の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸残基、5乃
    至12個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸残
    基、又は7乃至15個の炭素原子を有する芳香族カ
    ルボン酸残基を表わし、nが2である場合には、
    R2は2乃至36個の炭素原子を有する脂肪族ジカ
    ルボン酸残基、8乃至14個の炭素原子を有する脂
    環式若しくは芳香族ジカルボン酸残基又は8乃至
    14個の炭素原子を有する脂肪族、脂環式若しくは
    芳香族ジカルバミン酸残基を表わす一般式()
    の化合物である特許請求の範囲第2項記載の安定
    剤混合物。 4 成分a)が一般式(): 〔式中nは1又は2の数値を表わし、Rは水素又
    はメチル基を表わし、R1は水素、オキシル基、
    炭素原子数1乃至18個のアルキル基、炭素原子数
    3乃至8個のアルケニル基、炭素原子数3乃至8
    個のアルキニル基、炭素原子数7乃至12個のアラ
    ルキル基、炭素原子数1乃至8個のアルカノイル
    基又は炭素原子数3乃至5個のアルケノイル基、
    グリシジル基又は−CH2CH(OH)−Z(式中、Z
    は水素原子、メチル基、エチル基又はフエニル基
    を表わす)を表わし、R3は水素、炭素原子数1
    乃至12個のアルキル基、炭素原子数5乃至7個の
    シクロアルキル基、炭素原子数7乃至8個のアラ
    ルキル基、炭素原子数2乃至18個のアルカノイル
    基、炭素原子数3乃至5個のアルケノイル基又は
    ベンゾイル基を表わし、nが1である場合には
    R4は水素、炭素原子数1乃至18個のアルキル基、
    炭素原子数5乃至7個のシクロアルキル基又は炭
    素原子数2乃至8個のアルケニル基を表わし、こ
    のアルケニル基は未置換であるか、或いはシアノ
    基、カルボニル基若しくはカルバミド基で置換さ
    れていてよく、またR4はグリシジル基、−
    CH2CH(OH)−Z或いは−CONH−Z(式中Zは
    水素、メチル基又はフエニル基を表わす)又は−
    C(CH3)=C(CN)−COOCH3の基を表わし、n
    が2である場合にはR4は炭素原子数2乃至12個
    のアルキレン基、炭素原子数6乃至12個のアリー
    レン基、キシリレン基、−CH2−CH(OH)−CH2
    −又は−CH2−CH(OH)−CH2−O−X−O−
    CH2−CH(OH)−CH2−(式中Xは炭素原子数2
    乃至10個のアルキレン基、炭素原子数6乃至15個
    のアリーレン基、炭素原子数6乃至12個のシクロ
    アルキレン基を表わす)を表わすか、又はR3
    アルカノイル基、アルケノイル基又はベンゾイル
    基を表わさない場合には、R4は脂肪族、脂環式
    若しくは芳香族ジカルボン酸の2価の基又は脂肪
    族、脂環式若しくは芳香族ジカルバミン酸の2価
    の基又は−CO−を表わしてもよく、nが1であ
    る場合にはR3及びR4は一緒に脂肪族、脂環式或
    いは芳香族の1,2−又は1,3−ジカルボン酸
    のイミド基を形成していてもよい〕の化合物であ
    る特許請求の範囲第1項記載の安定剤混合物。 5 成分a)が一般式(): 〔式中nは1又は2の数値を表わし、Rは水素又
    はメチル基を表わし、R1は水素、オキシル基、
    炭素原子数1乃至18個のアルキル基、炭素原子数
    3乃至8個のアルケニル基、炭素原子数3乃至8
    個のアルキニル基、炭素原子数7乃至12個のアラ
    ルキル基、炭素原子数1乃至8個のアルカノイル
    基又は炭素原子数3乃至5個のアルケノイル基、
    グリシジル基又は−CH2CH(OH)−Z(式中、Z
    は水素原子、メチル基、エチル基又はフエニル基
    を表わす)を表わし、nが1である場合にはR5
    は炭素原子数2乃至8個のアルキレン基若しくは
    ヒドロキシアルキレン基又は炭素原子数4乃至22
    個のアシルオキシアルキレン基を表わし、nが2
    である場合にはR5は(−CH22C(CH2−)2を表わ
    す〕の化合物である特許請求の範囲第1項記載の
    安定剤混合物。 6 成分a)が一般式(VA)、(VB)又は
    (VC): 〔式中nは1又は2の数値を表わし、Rは水素又
    はメチル基を表わし、R1は水素、オキシル基、
    炭素原子数1乃至18個のアルキル基、炭素原子数
    3乃至8個のアルケニル基、炭素原子数3乃至8
    個のアルキニル基、炭素原子数7乃至12個のアラ
    ルキル基、炭素原子数1乃至8個のアルカノイル
    基又は炭素原子数3乃至5個のアルケノイル基、
    グリシジル基又は−CH2CH(OH)−Z(式中、Z
    は水素原子、メチル基、エチル基又はフエニル基
    を表わす)を表わし、R6は水素、炭素原子数1
    乃至12個のアルキル基、アリル基、ベンジル基、
    グリシジル基、炭素原子数2乃至6個のアルコキ
    シアルキル基を表わし、nが1である場合、R7
    は水素、炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭
    素原子数3乃至5個のアルケニル基、炭素原子数
    7乃至9個のアラルキル基、炭素原子数5乃至7
    個のシクロアルキル基、炭素原子数2乃至4個の
    ヒドロキシアルキル基、炭素原子数2乃至6個の
    アルコキシアルキル基、炭素原子数6乃至10個の
    アリール基、グリシジル基、−(CH2n′−COO−
    Q又は−(CH2n′−O−CO−Q(式中m′は1又は
    2であり、Qは炭素原子数1乃至18個のアルキル
    基又はフエニル基である)の基を表わし、nが2
    である場合、R7は炭素原子数2乃至12個のアル
    キレン基、炭素原子数6乃至12個のアリーレン
    基、炭素原子数4乃至12個のアルケニレン基、−
    CH2−CH(OH)−CH2−O−X−O−CH2−CH
    (OH)−CH2−(式中Xは炭素原子数2乃至10個
    のアルキレン基、炭素原子数6乃至15個のアリー
    レン基、炭素原子数6乃至12個のシクロアルキレ
    ン基を表わす)又は−CH2CH(OZ′)CH2
    (OCH2−CH(OZ′)CH22−(式中Z′は水素、炭
    素原子数1乃至18個のアルキル基、アリル基、ベ
    ンジル基、炭素原子数2乃至12個のアルカノイル
    基又はベンゾイル基を表わす)を表わし、T1
    びT2はそれぞれ独立に水素、炭素原子数1乃至
    18個のアルキル基、炭素原子数6乃至10個の未置
    換アリール基又はハロゲン若しくは炭素原子数1
    乃至4個のアルキル基で置換された炭素原子数6
    乃至10個のアリール基又は炭素原子数7乃至9個
    のアラルキル基を表わすか、又はT1とT2はこれ
    らを結合する炭素原子と一緒に、未置換或いは炭
    素原子数1乃至4個のアルキル基で置換された炭
    素原子数5乃至7個のシクロアルキル基、ピロリ
    ジニル基又はピペリジニル基を形成する〕の化合
    物である特許請求の範囲第1項記載の安定剤混合
    物。 7 成分a)が一般式(): 〔式中nは1又は2の数値を表わし、R8は式: 〔式中Rは水素又はメチル基を表わし、R1は水
    素、オキシル基、炭素原子数1乃至18個のアルキ
    ル基、炭素原子数3乃至8個のアルケニル基、炭
    素原子数3乃至8個のアルキニル基、炭素原子数
    7乃至12個のアラルキル基、炭素原子数1乃至8
    個のアルカノイル基又は炭素原子数3乃至5個の
    アルケノイル基、グリシジル基又は−CH2CH
    (OH)−Z(式中、Zは水素原子、メチル基、エ
    チル基又はフエニル基を表わす)を表わし、Yは
    −O−又は−NR11−を表わし、Aは炭素原子数
    2乃至6個のアルキレン基又は−(CH23−O−
    を表わし、mは0又は1の数値を表わす)の基を
    表わし、R9は基R8、−NR11R12、−OR13、−
    NHCH2OR13又は−N(CH2OR132を表わし、n
    が1である場合、R10は基R8又はR9を表わし、n
    が2である場合、R10は−Y−Q−Y−(式中Q
    は場合により−N(R14)−で遮断されてもよい炭
    素原子数2乃至6個のアルキレン基を表わす)を
    表わし、R11は水素原子、炭素原子数1乃至12個
    のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
    又は炭素原子数1乃至4個のヒドロキシアルキル
    基又は式; の基を表わし、R12は炭素原子数1乃至12個のア
    ルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又は炭
    素原子数1乃至4個のヒドロキシアルキル基を表
    わし、R13は水素、炭素原子数1乃至12個のアル
    キル基又はフエニル基を表わし、R14は水素、炭
    素原子数1乃至12個のアルキル基、シクロヘキシ
    ル基、ベンジル基又はフエニル基を表わすか、又
    はR11とR12は一緒に炭素原子数4乃至5個のア
    ルキレン基又はオキサアンキレン基を表わすか、
    又はR11及びR12はそれぞれ式; の基を表わす〕の化合物である特許請求の範囲第
    1項記載の安定剤混合物。 8 成分a)が一般式(): 〔式中nは1又は2であり、Rは水素又はメチル
    基を表わし、nが1である場合にはR14は炭素原
    子数4乃至18個のアルキル基、炭素原子数7乃至
    12個のアラルキル基、−CO−R15、又は−CN、−
    COOR16、−OH若しくは−OCOR17又は
    【式】で置換された炭素 原子数1乃至4個のアルキル基を表わし、R15
    炭素原子数1乃至12個のアルキル基、炭素原子数
    2乃至4個のアルケニル基又はフエニル基を表わ
    し、R16は炭素原子数1乃至18個のアルキル基を
    表わし、R17は炭素原子数1乃至18個のアルキル
    基、炭素原子数2乃至10個のアルケニル基、シク
    ロヘキシル基、ベンジル基又は炭素原子数6乃至
    10個のアリール基を表わすか、又はnが2である
    場合にはR14は炭素原子数4乃至12個のアルキレ
    ン基、2−ブテニレン−1,4、キシリレン基、
    −(CH22−OOC−R18−COO−(CH22−、又は
    −CH2−OOC−R19−COO−CH2−を表わし、
    R18は炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、フ
    エニレン基又はシクロヘキシレン基を表わし、
    R19は炭素原子数2乃至10個のアルキレン基、キ
    シリレン基又はシクロヘキシレン基を表わす〕の
    化合物である特許請求の範囲第1項記載の安定剤
    混合物。 9 成分a)が一般式(): 〔式中Qは−N(R3)−又は−O−を表わし、E
    は炭素原子数1乃至3個のアルキレン基、−CH2
    −CH(R4)−O−(式中R4は水素、メチル基又は
    フエニル基を表わす)、−(CH23−NH−又は単
    結合を表わし、Rは水素又はメチル基を表わし、
    R1は水素、オキシル基、炭素原子数1乃至18個
    のアルキル基、炭素原子数3乃至8個のアルケニ
    ル基、炭素原子数3乃至8個のアルキニル基、炭
    素原子数7乃至12個のアラルキル基、炭素原子数
    1乃至8個のアルカノイル基、炭素原子数3乃至
    5個のアルケノイル基、グリシジル基又は−CH2
    −CH(OH)−Z(式中Zは水素、メチル基、エチ
    ル基又はフエニル基を表わす)を表わし、R2
    水素又は炭素原子数1乃至18個のアルキル基を表
    わし、R3は水素、炭素原子数1乃至18個のアル
    キル基、炭素原子数5乃至7個のシクロアルキル
    基、炭素原子数7乃至12個のアラルキル基、シア
    ノエチル基、炭素原子数6乃至10個のアリール
    基、−CH2−CH(R4)−OH(式中R4は前記のもの
    を表わす)、式; の基又は式; (式中Gは炭素原子数2乃至6個のアルキレン基
    又は炭素原子数6乃至12個のアリーレン基を表わ
    す)の基を表わすか、又はR3は−E−CO−NH
    −CH2−OR2を表わす〕の化合物である特許請求
    の範囲第1項記載の安定剤混合物。 10 成分a)が、反復構造単位が2,2,6,
    6−テトラアルキルピペリジン基を含むポリマー
    化合物、特にこのような基を含むポリエステル、
    ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウ
    レタン、ポリ尿素、ポリアミノトリアジン、ポリ
    (メタ)アクリレート又はポリ(メタ)アクリル
    アミド又はこれらのコポリマーである特許請求の
    範囲第1項記載の安定剤混合物。 11 成分a)が2,2,6,6−テトラアルキ
    ルピペリジン化合物の酸付加塩である特許請求の
    範囲第1項乃至第10項の1に記載の安定剤。 12 成分a)が2,2,6,6−テトラアルキ
    ルピペリジン化合物と金属化合物との錯体である
    特許請求の範囲第1項乃至第10項の1に記載の
    安定剤。 13 溶剤を含まない結合剤(ラツカー樹脂)に
    対して0.02乃至5重量%の量使用する特許請求の
    範囲第1項記載の安定剤混合物。 14 別の添加剤として酸化防止剤、可塑剤、流
    れ調整剤、硬化促進剤、増粘剤、分散剤又は密着
    性改良剤が添加されている特許請求の範囲第13
    項記載の安定剤混合物。 15 光安定剤を仕上塗ラツカー中に配合する特
    許請求の範囲第1項記載の安定剤混合物。 16 使用する仕上塗ラツカーがアクリル/メラ
    ミン樹脂を基質とするラツカーである特許請求の
    範囲第1項記載の安定剤混合物。 17 乗り物のラツカー塗装に使用する特許請求
    の範囲第1項乃至第16項の1に記載の安定剤混
    合物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010248408A (ja) * 2009-04-17 2010-11-04 Kaneka Corp 硬化性組成物

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3176368D1 (en) * 1980-11-10 1987-09-24 Ciba Geigy Ag Light stabilization of acid catalysed storing enamels
US4429077A (en) * 1980-12-19 1984-01-31 Ciba-Geigy Corporation Process for curing stoving lacquers
EP0119961B1 (de) * 1983-03-21 1988-01-20 Ciba-Geigy Ag Oligoester mit Polyalkylpiperidingruppen
FR2543151B1 (fr) * 1983-03-21 1986-11-07 Sandoz Sa Compositions liquides a base de stabilisants contre le rayonnement ultraviolet
DE3408949A1 (de) * 1983-03-21 1984-09-27 Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach Fluessige zubereitung von lichtstabilisatoren
US4710524A (en) * 1983-10-26 1987-12-01 Becton, Dickinson And Company High energy radiation stabilization of semi-crystalline polymers
NZ208423A (en) 1983-10-26 1987-05-29 Becton Dickinson Co Sterilised, radiation-stabilised semi-crystalline polymer articles
JPS60197775A (ja) 1984-03-21 1985-10-07 Adeka Argus Chem Co Ltd 熱硬化性合成樹脂塗料組成物
DE3511924A1 (de) * 1984-04-13 1985-10-24 Sandoz-Patent-GmbH, 7850 Lörrach 2,2,6,6-tetraalkylpiperidin-stabilisatoren
US4540734A (en) * 1984-07-30 1985-09-10 General Motors Corporation Sag control of high solid polyurethane clearcoats by urea thixotrope/acrylic microgel systems
US4619956A (en) * 1985-05-03 1986-10-28 American Cyanamid Co. Stabilization of high solids coatings with synergistic combinations
DE3524542A1 (de) * 1985-07-10 1987-01-22 Hoechst Ag 1-oxa-3-oxo-4,8-diaza-spiro-(4,5)decan- verbindungen
IT1207505B (it) * 1985-10-09 1989-05-25 Eniricherche Sp A Composti stabilizzanti polimerici solidi e procedimento per la loro preparazione.
US5274016A (en) * 1985-12-06 1993-12-28 Ciba-Geigy Corporation Light-stabilized polymer microparticles
EP0226538B1 (de) * 1985-12-06 1991-09-11 Ciba SC Holding AG Lichtstabilisierte Polymermikropartikel
IT1213077B (it) * 1986-06-05 1989-12-07 Eniricerche Spa Composti stabilizzanti polimerici e procedimento per la loro preparazione.
US4804717A (en) * 1987-05-28 1989-02-14 Ferro Corporation Polymeric hindered amine light stabilizers
US4895901A (en) * 1987-05-28 1990-01-23 Ferro Corporation Polymetic hindered amine light stabilizers
US5112890A (en) * 1987-09-21 1992-05-12 Ciba-Geigy Corporation Stabilization of acid catalyzed thermoset resins
US5124378A (en) * 1987-09-21 1992-06-23 Ciba-Geigy Corporation Stabilization of ambient cured coatings
US4859759A (en) * 1988-04-14 1989-08-22 Kimberly-Clark Corporation Siloxane containing benzotriazolyl/tetraalkylpiperidyl substituent
US4975494A (en) * 1988-11-23 1990-12-04 Atochem Of North America, Inc. Polymer bound light stabilizer coating resins
US5021478A (en) * 1989-03-21 1991-06-04 Ciba-Geigy Corporation Compounds containing both UV-absorber and 1-hydrocarbyloxy hindered amine moieties and stabilized compositions
US5037680A (en) * 1989-07-10 1991-08-06 Decoma International Inc. Exterior automotive component with pigmented substrate and clear coating
US5223560A (en) * 1989-08-28 1993-06-29 Ministero Dell'universita' E Della Ricerca Scientifica E Tecnologica Self-extinguishing polymeric compositions
US5198498A (en) * 1990-02-06 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Light-stabilized binders for coating compositions
EP0453396B1 (de) 1990-03-30 1995-12-13 Ciba SC Holding AG Lackzusammensetzungen
CA2098453A1 (en) * 1992-06-30 1993-12-31 Kevin M. Schock Electrocoat primer layer containing regenerative radical scavenger
DE19631244A1 (de) * 1996-08-02 1998-02-12 Clariant Gmbh Neue Lichtstabilisatoren auf Basis von sterisch gehinderten Aminen
US5882388A (en) * 1996-10-16 1999-03-16 Brady Usa, Inc. Water resistant ink jet recording media topcoats
US5763510A (en) * 1997-03-14 1998-06-09 David Foster Wood saver exterior oil stain
DE19738615A1 (de) 1997-09-04 1999-03-11 Clariant Gmbh Neue Lichtschutzmittel auf Basis von sterisch gehinderten Aminen
US6239276B1 (en) 1998-06-22 2001-05-29 Cytec Technology Corporation Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
BR9911416A (pt) 1998-06-22 2001-03-20 Ciba Sc Holding Ag Absorvedores de luz ultravioleta de carbamato de poli-trisaril-1,3,5-triazina
US6297377B1 (en) 1998-06-22 2001-10-02 Cytec Technology Corporation Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers
EP1089985B1 (en) 1998-06-22 2005-09-21 Cytec Technology Corp. Red-shifted trisaryl-1,3,5-triazine ultraviolet light absorbers
TWI246519B (en) * 1998-06-25 2006-01-01 Ciba Sc Holding Ag Use of 2,2,6,6 tetraalkylpiperidine-N-oxyl radicals having long alkyl chains as polymerization regulators
US6864313B2 (en) * 1998-06-25 2005-03-08 Ciba Specialty Chemicals Corp. Use of 2,2,6,6 tetraalkylpiperidine-N-oxyl radicals having long alkyl chains as polymerization regulators
US6191199B1 (en) 1999-05-03 2001-02-20 Ciba Speciatly Chemicals Corporation Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, high extinction photostable hydroxyphenyl-s-triazine UV absorbers and laminated articles derived therefrom
US6406775B1 (en) 1999-07-12 2002-06-18 Brady Worldwide, Inc. Modifiers for outdoor durable ink jet media
US6867250B1 (en) 2000-10-30 2005-03-15 Cytec Technology Corp. Non-yellowing ortho-dialkyl aryl substituted triazine ultraviolet light absorbers
US6545156B1 (en) 2000-11-03 2003-04-08 Cytec Technology Corp. Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
US6727300B2 (en) 2000-11-03 2004-04-27 Cytec Technology Corp. Polymeric articles containing hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds
US6414155B1 (en) 2000-11-03 2002-07-02 Cytec Technology Corp. Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
US6492521B2 (en) 2000-11-03 2002-12-10 Cytec Technology Corp. Hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same
US6846929B2 (en) * 2001-04-02 2005-01-25 Ciba Specialty Chemicals Corporation Benzotriazole/hals molecular combinations and compositions stabilized therewith
US6855269B2 (en) * 2001-11-09 2005-02-15 Cytec Technology Corp. Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers
US7595011B2 (en) * 2004-07-12 2009-09-29 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized electrochromic media
CN101160348B (zh) * 2005-04-18 2010-12-08 柯尼卡美能达精密光学株式会社 纤维素酯薄膜及其制造方法、光学薄膜、偏振片及液晶显示装置
GB0508350D0 (en) * 2005-04-26 2005-06-01 Great Lakes Chemical Europ Stabilized crosslinked polyolefin compositions
BRPI0815029B1 (pt) 2007-08-06 2019-01-29 General Cable Tech Corp composição de isolamento para um cabo elétrico e processo para fazer um cabo elétrico tendo a referida composição de isolamento
US7847103B2 (en) 2008-10-04 2010-12-07 Chia-Hu Chang Ultraviolet light absorbing ketones of 2-(2-hydroxyphenyl) benzotriazole
DE102009032921A1 (de) * 2009-07-14 2011-01-27 Basf Coatings Gmbh Kratzfestbeschichtete Polycarbonate mit hoher Transparenz, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US20110039077A1 (en) * 2009-08-12 2011-02-17 Klemann Bruce M Stain-Resistant Overcoat
US8133556B2 (en) 2009-08-12 2012-03-13 Brady Worldwide, Inc. Durable multilayer inkjet recording media topcoat
WO2011137056A1 (en) 2010-04-30 2011-11-03 Brady Worldwide, Inc. Full color, inkjet-printable, self-laminating lablel
US10196537B2 (en) 2013-03-15 2019-02-05 The Sherwin-Williams Company Dirt pick-up resistant composition
WO2014149756A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 Valspar Sourcing, Inc. Water-based compositions that resist dirt pick-up
US11417857B2 (en) * 2018-01-24 2022-08-16 Samsung Display Co., Ltd. Heterocyclic compound and electronic apparatus
WO2019232051A1 (en) 2018-05-29 2019-12-05 Swimc Llc Water-based compositions with long term gloss retention

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5188484A (ja) * 1975-02-01 1976-08-03

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3640928A (en) * 1968-06-12 1972-02-08 Sankyo Co Stabilization of synthetic polymers
US3992390A (en) * 1971-11-30 1976-11-16 Brian Holt Esters of piperidinols
US3998784A (en) * 1972-07-28 1976-12-21 Ciba-Geigy Corporation Compositions stabilized with piperidine derivatives
EP0002753B1 (de) * 1977-12-30 1983-10-05 Ciba-Geigy Ag Stabilisierung von Metalleffekteinbrennlacken gegen die Einwirkung von Licht, Feuchtigkeit und Sauerstoff durch den Zusatz von Polyalkylpiperidinderivaten
EP0006213B1 (de) * 1978-06-21 1982-09-01 Ciba-Geigy Ag Lichtstabilisierung von sauerkatalysierten Einbrennlacken

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5188484A (ja) * 1975-02-01 1976-08-03

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010248408A (ja) * 2009-04-17 2010-11-04 Kaneka Corp 硬化性組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0016723A1 (de) 1980-10-01
DE3063563D1 (en) 1983-07-07
HK59086A (en) 1986-08-15
US4314933A (en) 1982-02-09
BR8000935A (pt) 1980-10-29
EP0016723B1 (de) 1983-06-01
EP0016723B2 (de) 1987-09-16
JPS55112278A (en) 1980-08-29
CA1148421A (en) 1983-06-21
SG38086G (en) 1989-04-21

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