JPH0238987A - 加速器のプロファイルモニタ - Google Patents

加速器のプロファイルモニタ

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Publication number
JPH0238987A
JPH0238987A JP63190252A JP19025288A JPH0238987A JP H0238987 A JPH0238987 A JP H0238987A JP 63190252 A JP63190252 A JP 63190252A JP 19025288 A JP19025288 A JP 19025288A JP H0238987 A JPH0238987 A JP H0238987A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
substrate
opening
fluorescent plate
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63190252A
Other languages
English (en)
Inventor
Toyoki Kitayama
北山 豊樹
Toa Hayasaka
早坂 東亜
Kenzo Kondo
近藤 鍵三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP63190252A priority Critical patent/JPH0238987A/ja
Publication of JPH0238987A publication Critical patent/JPH0238987A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、例えば超LSI微細加工等忙使用される加速
器のプロファイルモニタに係シ、特にビームをm測しな
h場合のビームの不安定性を回避することができるもの
に関する。
(従来の技術) 円形加速器は電子、陽子、イオン等のビームを10億電
子〆ル)(IGaV)程度の高エネルギ状態に加速する
ためのものである。このような加速器としては、例えば
素粒子の研究分野で大型のものたとえば直径1km以上
のものが建設されている。
又、最近では例えば電子からの放射光(SOR光といわ
れる)を利用した超LSI微細加工(リングラフィ)な
ど所しb分野への応用として比較的小型なもの、例えば
直径がlOm程度の加速器が建設されるようKなってき
ている。
ところで、加速器を構成する機器の中に、ビームの挙動
あるいは性賀を観測するビームモニタがある。このビー
ムモニタは大別すると、ビームが発生する電磁場あるい
はSOR光等を観測することによって間接的にビーム情
報を得るものと、ビームの進路に直接観測機器を挿入し
て、ビームと観測機器との相互作用によりビーム情報を
得るものとがある。この内後者のモニタの中には、加速
器をvI4整運転するとき、あるいはビームの断面形状
を観測するときく利用される螢光板を使用したプロファ
イルモニタがアル。
以下第4図及び第5図を参照して上記プロファイルモニ
タの構成を説明する。図中符号1は真空チャンバであり
、この真空チャンバ1内を第4図中右方向からビームが
入射する。上記真空チャンバ1内には螢光板3が配置さ
れておシ、入射したビーム2はこの螢光板JK入射する
。かかるビーム20入射により螢光板3から螢光4が第
4図中紙面に直交する手前方向に出力される(第5図中
左方向に出力される)。上記螢光板3は支持板5に固着
され、この支持板5は連結棒6を介して導入@7に連結
されている。螢光板3はこの導入機7を操作することに
よシ上記連結棒6を介して真空チャンバJ内のビーム入
射路に出没される。そして非観測時には第5図に示す空
間8内に引上げられる。
上記構成において、ビーム2を入射させて螢光板3に入
射させる。螢光板jp”J螢光4を出力し、この螢光4
は観測窓9yt介して図示しない工業用TV等によって
観測される。又ビーム2を観測しない非観測時には、前
述したように導入機7を操作して螢光板3を空間8内ま
で引上げる。
上記構成によると以下のような問題がある。すなわち、
ビーム2を観測しない非観測時には導入機7を操作して
螢光板3を空間8内まで引上げる構成ではあるが、真空
チャンバlとしては、上記空間8;bるいは観測窓10
等のように凹凸がある形状釦なって、その内面形状が不
連続となっている。かかる真空チャンバ1の不連続な形
状に起因して、ビームが不安定な状態となシ、そのため
加速器内に貯麓されるビーム電流の大きさが制限されて
しまう。このようにビーム電流の大きさが制限されると
、SOR光の強度が低くなるので、SOR光を利用した
リングラフィあるいは各種の研究・開発の効率が低下し
てしまうという問題がある。
(発明が解決しようとする問題点) このように従来の構成にあっては、真空チャ/パ内が不
連続な形状となりている為に1 ビームが安定せず、か
かるビームの不安定に起因してビーム電流の大きさが制
限されてしまい、それKよってSOR光の強度が低下し
て各種の弊害が発生してしまうという問題がある。
不発明はこのような点く基づいてなされたものでその目
的とするところは、真空チャ/パ内を滑らかな形状とし
て、ビームを安定なものとすることが可WQな加速器の
プロファイルモニタを提供することKある。
[発明の傳成コ (問題点を解決するための手段) すなわち本発明による加速器のプロファイルモニタは、
非磁性導電体よりなりその内部空間がビームの進路とな
る真空チャンバと、この真空チャンバから分岐され観測
窓を備えた分岐チャンバと、上記真空チャンバに形成さ
れ真空チャンバ及び上記分岐チャンバを連通する開口と
、上記真空チャンバと同じ材料からな力かり真空チャン
バの内面形状に沿りた形状をなして上記開口を開閉する
とともに螢光板を備え上記開口を開放した場合には上記
螢光板を真空チャンバ内の所定位置く位置させてビーム
を螢光板に入射させその際発生する螢光を上記開口を介
して観測窓よシ出力させる基板と、この基板の開閉をな
す駆動機構とを具備したことを特徴とするものである。
(作用) つま少、ビームを観測する場合には駆動機構によシ上記
基板を駆動させて開口を開放とし、基板に取付けられて
いる螢光板を真空チャンバ内の所定位置く位置させる。
これによって真空チャンバ内に入射さnるビームは上記
螢光板に入射し、その際発生する螢光は開口を介して観
測窓から出力される。
一方ビームを観測しない場合には、上記駆動機構によシ
基板を駆動させて開口を閉基する。これKよって真空チ
ャンバ内に入射されるビームは何等の障害物もない状態
で真空チャンバ内を通っていく、その際従来のように真
空チャンバには凹凸となるような空間は連接されておら
ず、また上記基板は真空チャンバの内面形状になうた形
状をなしているので、全体として滑らかな状態にら)、
よってビームが不安定な状態になるようなことはないも
のである。
(実施例) 以下第1図乃至第3図を参照して本発明の一笑施例を説
明する。第1図乃至M3図は本実施例による加速器プロ
ファイルモニタの構成を示す断面図であシ、第1図はビ
ーム観測時の状態を示す図、第2図は非ビーム観測時の
状態を示す図である。又、第3図は第2図の■−■断面
図である。
図中符号101は真空チャンバであ)、この真空チャン
バ101内にはビーム102が入射される。このX全チ
ャンバ101は両端に7ランフ101mを備えた短管状
のもので非嶽性導電体から構成されている。上記真空チ
ャンバ101Vcは分岐チャンバ103が分岐接続され
ている。この分岐チャンバ103は真空チャンバ101
の接続部とは反対側の端部[7ランジ103&を備えた
短管状のものであシ、上記7ランジ103mVCは真空
7ランジ104がダルト・す、ト(図中−点鎖線で示す
)105tlCより接合されている。上記真空7ランゾ
104には観測窓106が接続されている。
上記真空チャンバ10ノの上記分岐チャンバ103で包
囲され九部分には開口107が形成されている。この開
口107は基板1011によシ開閉される。この基板1
0&は図中上面側に螢光板109を備えておシ、ビーム
観測時には第1図に示すように開口107を開放して上
記螢光板109を真空チャンバ101内の所定位置に位
置させる。
上記基板10gは基板駆動機allOによシ駆動され、
それによって開口107の開閉をなす。
以下この基板駆動機構110の構成を説明する。
まず上記空間103の外側には導入機11ノが設置され
ており、この導入機11ノからは操作棒112が上記空
間103内に延長されている。この連結棒112の下端
は第3図に示すように二叉状となっておシ、その間には
ピ/113が配設されている。一方前記基板108側に
は溝114が形成され、上記ビン113はこの溝114
に係合している。また基板10Bは前記真空7ランジ1
04から突設さnた別の棒体115によシピ/116を
介して回動可能に支持されている。そして上記導入機1
11f煉作して、操作棒112を上昇させることKよシ
基板108は上記ビン116を中心にして図中時計方向
に回動し、それによって開口107は開放されて第1図
に示すような状態となる。これに対してビームを観測し
ない場合には、上記導入機11ノを操作して操作棒11
2を下方に延長させる。これによって基板108はビン
119を中心にして図中反時計方向に回動し、それによ
って開口107は第2図に示すように閉基される。又基
板10gの真空チャンバ101の軸方向に指向する一対
の側端部にはフィンガコンタクタ120が取付けられて
いる。
以上の構成をもとにその作用を説明する。
まずビーム102の観測時から説明する。この場合には
まず導入機111を操作して基板108を回動させて開
口107を開放し、第1図に示すような状態とする。か
かる状態では螢光板109は真空チャンバ101内の所
定位置に位置せられ、よってビーム102は螢光板10
9(7c入射する。
螢光板109からは螢光12)が出力さル、この螢光1
21は開口107及び観測窓106を介して図示しない
工業用TV等によって観測される。
次にビーAlO2を観測しない場合を説明する。
この場合にはまず導入機111t−操作して基板108
を観測時とは逆方向に回動させて、それKよりて開口1
0’7を閉基する。このときフィンガコンタクタ120
によシ基板10gと真空チャンバ101は無塊なく接続
される。これが第2図及び第3図に示す状態である。か
かる状態で、ビーム102は真空チャンバ10ノ内を直
線的に通過していく。その際ビーム1020通過に伴っ
て真空チャンバ101内に誘起される壁電流123は図
中矢印で示すようK、真空チヤンバ101、及びフィン
ガコンタクタ121を介して基板1θ8、さら罠は真空
チャンバ101を介して流れる。
以上本実施例によると以下のような効果を奏することが
できる。
■ まずビーム102を観測しない場合K、真空チャン
バ101に形成された開口107は基板108によシ閉
基されるので、真空チャンバ10ノとしては従来のよう
に凹凸のある形状ではなく、滑らかな形状となる。よっ
てビーム102も安定した状態となシその寿命も延長さ
れ、それKよって貯蔵電流を大きなものとすることがで
きる。それによってSOR光の強度を強くすることがで
きるので、SOR光を利用したリングラフィ等を効率よ
く行なりことができる。
■ 又その際、基板108は真空チャンバ101の内面
形状に6った形状となっているので、開口107を閉基
した状態では、真空チヤンバ101の長さ方向全てにつ
いて同一断面形状となシ、極めて滑らかな状態となシ、
上記■で述べた効果をよシ効果的なものとすることがで
きる。
■ さらK 74ンガコンタクタ12の設置により壁電
流は図中矢印で示すように1基板10gに沿って流れる
こととな)、それKよりても上記■の効果は確実なもの
となる。又、フィンガコンタクタ120の採用によシ、
基板108と開口107との寸法精度も緩和され、加工
が容易になるとともに、真空チャンバ101との間に確
実に接続状態を得ることができる。
尚、本発明は前記一実施例に限定されるものではなく、
例えば弾性部材の有無及び弾性部材の構成には種々のも
のが考えられるとともに、基板駆動機構についても同様
である。
[発明の効果コ 以上詳述したように、本発明による加速器のグロ7アイ
モニタによると、非観測時におけるビームを極めて安定
し喪状態とすることができ、それによって加速器に貯蔵
されるビーム電流を大きくし、さらにはSOR光の強度
を強くして、SOROR利金利用リングラフィ等を効率
のよいものとすることができる等その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明の一実施例を示す図で、第1
図は加速器のプロファイルモニタの断面図、第2図は非
観測時の加速器のプロファイルモニタの断面図、第3図
は第2図の■−■断面図、第4図及び第5図は従来例を
示す図で、第4図は加速器のプロファイルモニタの断面
図、第5図は第4図のV−V断面図である。 101・・・真空チャンバ 102・・・ビーム、10
3・・・分岐チャンバ、106・・・観測窓、107・
・・開口、1011・・・基板、IO2・・・螢光板、
110・・・基板駆動機構。 出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦駕2図 箪 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 非磁性導電体よりなりその内部空間がビームの進路とな
    る真空チャンバと、この真空チャンバから分岐され観測
    窓を備えた分岐チャンバと、上記真空チャンバに形成さ
    れ真空チャンバ及び上記分岐チャンバを連通する開口と
    、上記真空チャンバと同じ材料からなりかつ真空チャン
    バの内面形状に沿った形状をなして上記開口を開閉する
    とともに蛍光板を備え、上記開口を開放した場合には上
    記螢光板を真空チャンバ内の所定位置に位置させてビー
    ムを螢光板に入射させその際発生する蛍光を上記開口を
    介して観測窓より出力させる基板と、この基板の開閉を
    なす駆動機構とを具備したことを特徴とする加速器のプ
    ロファイルモニタ。
JP63190252A 1988-07-29 1988-07-29 加速器のプロファイルモニタ Pending JPH0238987A (ja)

Priority Applications (1)

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JP63190252A JPH0238987A (ja) 1988-07-29 1988-07-29 加速器のプロファイルモニタ

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JP63190252A JPH0238987A (ja) 1988-07-29 1988-07-29 加速器のプロファイルモニタ

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JPH0238987A true JPH0238987A (ja) 1990-02-08

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ID=16255043

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JP63190252A Pending JPH0238987A (ja) 1988-07-29 1988-07-29 加速器のプロファイルモニタ

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JP (1) JPH0238987A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014164874A (ja) * 2013-02-22 2014-09-08 Sumitomo Heavy Ind Ltd 加速器及び中性子捕捉療法装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014164874A (ja) * 2013-02-22 2014-09-08 Sumitomo Heavy Ind Ltd 加速器及び中性子捕捉療法装置

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