JPH02369U - - Google Patents

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JPH02369U
JPH02369U JP7837388U JP7837388U JPH02369U JP H02369 U JPH02369 U JP H02369U JP 7837388 U JP7837388 U JP 7837388U JP 7837388 U JP7837388 U JP 7837388U JP H02369 U JPH02369 U JP H02369U
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outer ring
epitaxial growth
gap
reactor
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例におけるベースプレー
トに設けた溝の一例を示す断面図、第2図は縦型
エピタキシヤル成長装置の反応炉の一例を示す説
明図、第3図は従来の縦型エピタキシヤル成長装
置の一例における第2図のA部分の詳細な構造を
示す断面図である。 1……ベースプレート、2……アウターリング
、3……石英ベルジヤ、11a,11b,12…
…Oリング、13……パイプ、14……ガス導入
穴、15……溝。なお図中同一符号は同一または
相当する部分を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応炉のベルジヤに取付けられたアウターリン
    グとベースプレート間に2個のOリングが円心状
    に配列されて挾まれ、該2個のOリングの間の上
    記ベースプレートとアウターリング間の隙間が真
    空排気系に連結させて真空排気され、反応炉内と
    外気との気密が保持される構造の縦型エピタキシ
    ヤル成長装置において、上記ベースプレートに該
    ベースプレートと上記アウターリング間に挾まれ
    た内側のOリング内の該ベースプレートとアウタ
    ーリング間の隙間に通ずるガス導入穴及び該導入
    穴上端部の上記ベースプレートに円心状の溝を設
    けエピタキシヤル成長のシーケンスに応じて上記
    溝を経て上記隙間に反応ガスをパージするガスを
    噴出させる構造としたことを特徴とする縦型エピ
    タキシヤル成長装置。
JP7837388U 1988-06-15 1988-06-15 縦型エピタキシャル成長装置 Expired - Lifetime JPH06459Y2 (ja)

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JPH02369U true JPH02369U (ja) 1990-01-05
JPH06459Y2 JPH06459Y2 (ja) 1994-01-05

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Publication number Publication date
JPH06459Y2 (ja) 1994-01-05

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