JPH0236222A - ポリ(ハイドロキシエーテル‐ジフエニルジメチルシロキサン)コポリマー及び前記コポリマーを含む加熱ローラ及び光ディスク - Google Patents
ポリ(ハイドロキシエーテル‐ジフエニルジメチルシロキサン)コポリマー及び前記コポリマーを含む加熱ローラ及び光ディスクInfo
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- JPH0236222A JPH0236222A JP63319680A JP31968088A JPH0236222A JP H0236222 A JPH0236222 A JP H0236222A JP 63319680 A JP63319680 A JP 63319680A JP 31968088 A JP31968088 A JP 31968088A JP H0236222 A JPH0236222 A JP H0236222A
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- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
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- C08G59/4007—Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A、産業上の利用分野
本発明HボlJ(ハイドロエーテルージフェニルジメチ
ルンコキサン)コポリマー及び加熱コーラ(溶融ローラ
)や光ディスクの貼り合せにおける前記コポリマーの利
用に関する。
ルンコキサン)コポリマー及び加熱コーラ(溶融ローラ
)や光ディスクの貼り合せにおける前記コポリマーの利
用に関する。
B、従来技術
〉ロキサン・コポリマーは既に知られている。
例えば、ヨークギイティス(Yorkgitis)等に
よるガバメントーアクセション(Government
Accession)No、AD−A 136782
(1983年12月1日)、ヘトリソク()(edri
ck)等のポリマーeプレプリンッ(Polymer
Preprints)、28(1)、P、99.198
7、及びケイル(Keil)の米国特許番号46249
98号にはシロキサン・コポリマーを示している。しか
しながら、いずれも本発明の70キサン・コポリマーの
構造を示してはいない。従来技術は、特に、本発明のコ
ポ’)マーtD)フェニルジメチルンロキサンの部分を
示していない。
よるガバメントーアクセション(Government
Accession)No、AD−A 136782
(1983年12月1日)、ヘトリソク()(edri
ck)等のポリマーeプレプリンッ(Polymer
Preprints)、28(1)、P、99.198
7、及びケイル(Keil)の米国特許番号46249
98号にはシロキサン・コポリマーを示している。しか
しながら、いずれも本発明の70キサン・コポリマーの
構造を示してはいない。従来技術は、特に、本発明のコ
ポ’)マーtD)フェニルジメチルンロキサンの部分を
示していない。
C解決しようとする問題点
静電式複写機や印刷装置においてはトナーを溶融させて
紙等に定着させるために加熱ロールを用いるが、従来は
、この加熱ローラを用いたトナーの溶融の失敗が大きな
問題であった。多くの解決策が提案されてきたが、本発
明のコポリマーを用いることを示唆するようなものはな
かった。
紙等に定着させるために加熱ロールを用いるが、従来は
、この加熱ローラを用いたトナーの溶融の失敗が大きな
問題であった。多くの解決策が提案されてきたが、本発
明のコポリマーを用いることを示唆するようなものはな
かった。
また、本発明のコポリマーは光記憶ディスクの接着(貼
り合せ)に用いられる接着剤についての太きなる改良を
与えることができる。
り合せ)に用いられる接着剤についての太きなる改良を
与えることができる。
本発明のコポリマーは特に光磁気ディスクの接着に適し
ている。
ている。
要求される信頼性に一致させるためには接着は次のよう
な特性を備えていなければならない。即ち、十分な信頼
性を備えた接着力、加速寿命テスト中の高温多湿な環境
下での高い安定性、ディスク・パッケージ内での他の材
料(例えば希十類金属合金等)との接触の際の化学的不
活性の高いこと、例えば応力クラックを生じにくいとい
うような高い物理的(機械的)安定性、接着工程中ある
いは接着工程後に蒸発しないこと、危険なく量産でき且
つ安価であること等である。本発明が提案されるまでは
、これらの要求に応えられるような接着剤は存在しなか
った。
な特性を備えていなければならない。即ち、十分な信頼
性を備えた接着力、加速寿命テスト中の高温多湿な環境
下での高い安定性、ディスク・パッケージ内での他の材
料(例えば希十類金属合金等)との接触の際の化学的不
活性の高いこと、例えば応力クラックを生じにくいとい
うような高い物理的(機械的)安定性、接着工程中ある
いは接着工程後に蒸発しないこと、危険なく量産でき且
つ安価であること等である。本発明が提案されるまでは
、これらの要求に応えられるような接着剤は存在しなか
った。
現在一般に入手可能なエポキシ系接着剤は接着剤として
最も広く用いられているが、高温多湿の環境下での接着
状態の安定性に欠けるところがある。また内部応力が高
く、クラッキングの問題があり、熱サイクル状況下での
安定性に欠ける。
最も広く用いられているが、高温多湿の環境下での接着
状態の安定性に欠けるところがある。また内部応力が高
く、クラッキングの問題があり、熱サイクル状況下での
安定性に欠ける。
方、最も一般的に入手され得るシロキサンは、両面上に
ガラスを有する光ディスク・パッケージで問題となるよ
うな酸やメタノール全数つ。更に、純粋なシロキサンは
一般に接着力が弱い。
ガラスを有する光ディスク・パッケージで問題となるよ
うな酸やメタノール全数つ。更に、純粋なシロキサンは
一般に接着力が弱い。
D 問題点を解決するための手段
本発明はポリ(ハイドロキシエーテルージフエールジメ
チルンロキサン)コポリマーによって前記問題点を解決
しようとするものである。
チルンロキサン)コポリマーによって前記問題点を解決
しようとするものである。
E 実施例
以下に示すのは単に好ましい例であシ、本発明そのもの
ではない。
ではない。
原材料
オクタメチルシクロテトラシロキサン(一般にD4とし
て知られている。)及びオクタメチルシクロテトラシロ
キサン(D4“とじて知られている。)及ヒ1.3−ビ
ス(アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンをペト
ラーチ(Petrarch)社より入手した。商品名り
、E、12.332といわれるところのビフェニル−A
のジグリンジルエーテル′しく略称; DGEBA)を
ダウ・ケミカル(Dow Chemical)社から入
手し342j;J’Fno 1の分子量に滴定した。テ
トラメチルアンモニウム・ハイドロキサイド・ペンタハ
イドライドをアルドリッチ(Aldrich)社より入
手してそれ以上精製することなく用いた。
て知られている。)及びオクタメチルシクロテトラシロ
キサン(D4“とじて知られている。)及ヒ1.3−ビ
ス(アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンをペト
ラーチ(Petrarch)社より入手した。商品名り
、E、12.332といわれるところのビフェニル−A
のジグリンジルエーテル′しく略称; DGEBA)を
ダウ・ケミカル(Dow Chemical)社から入
手し342j;J’Fno 1の分子量に滴定した。テ
トラメチルアンモニウム・ハイドロキサイド・ペンタハ
イドライドをアルドリッチ(Aldrich)社より入
手してそれ以上精製することなく用いた。
オリゴマーの合成
種々の分子量のα、W−ビス(アミノプロピル)ポリジ
メチルシロキサ/・オリゴマーを種々のwt%のD4と
D4“からテトラメチルアンモニウム・ハイドロキサイ
ドeペンタハイドレイトを触媒とする塊状平衡反応によ
って、1,3−ビス(アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサンの末端用ブロック部分を用いて、合成した。
メチルシロキサ/・オリゴマーを種々のwt%のD4と
D4“からテトラメチルアンモニウム・ハイドロキサイ
ドeペンタハイドレイトを触媒とする塊状平衡反応によ
って、1,3−ビス(アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサンの末端用ブロック部分を用いて、合成した。
平衡反応を80℃で48時間接続させ、次に150℃に
温度を上げて触媒を分解させた。オリゴマー中に残存す
る平衡状態を維持させていた環状化合物を真空蒸留(1
50℃)により除去した。
温度を上げて触媒を分解させた。オリゴマー中に残存す
る平衡状態を維持させていた環状化合物を真空蒸留(1
50℃)により除去した。
網目構造の形成
末端がアミノプロピルのポリジメチルジフエールンロキ
サンのオリゴマー1DGEBAに塊状のまま(即ち、溶
媒を用いないで)反応させた。2つの成分を110℃で
5分間混和し、1時間で網目構造の形成が完了した。
サンのオリゴマー1DGEBAに塊状のまま(即ち、溶
媒を用いないで)反応させた。2つの成分を110℃で
5分間混和し、1時間で網目構造の形成が完了した。
末端がアミノプロピルのシロキサンのオリコ゛マーを塊
状のままDGEBAと反応させた。この反応式は次のよ
うである。
状のままDGEBAと反応させた。この反応式は次のよ
うである。
このようなオリゴマーを用いた合成方法においては、ハ
イドロキシエーテル結合がシロキサンのブロックの間に
形成される。後に示す表1には合成した網目構造の熱分
析結果が示されている。ジフェニルシロキサンを50
wt、%まで含む場合については2つのガラス転移温度
Tgが観察されることが示されており、これによ92種
の相の形態があることが分かる。これは化学的に架橋さ
れ且つ微細な相に分離されている物質の幾つかの例のう
ちの1つである。硬いセグメントはシロキサンのオリゴ
マーの末端基の寄与によると同時にDGEBA七ツマ−
・ユニットの組成によるものと考えられる。
イドロキシエーテル結合がシロキサンのブロックの間に
形成される。後に示す表1には合成した網目構造の熱分
析結果が示されている。ジフェニルシロキサンを50
wt、%まで含む場合については2つのガラス転移温度
Tgが観察されることが示されており、これによ92種
の相の形態があることが分かる。これは化学的に架橋さ
れ且つ微細な相に分離されている物質の幾つかの例のう
ちの1つである。硬いセグメントはシロキサンのオリゴ
マーの末端基の寄与によると同時にDGEBA七ツマ−
・ユニットの組成によるものと考えられる。
前記網目構造体に広い温度範囲に亘って張り力及び剪断
応力を加えた場合の機械的性質からも差動熱量計によっ
てはっきりと2つの相形態が観察される。更に、250
℃までは高いモジュラスが得られ且つ維持されることか
ら、これらの材料は昇温させてもその2相形態を保つこ
とが分かる。高いモジュラスに加えて、これらの材料は
70%に達する伸び率を有し、これは非常に丈夫な材料
であることを示している。
応力を加えた場合の機械的性質からも差動熱量計によっ
てはっきりと2つの相形態が観察される。更に、250
℃までは高いモジュラスが得られ且つ維持されることか
ら、これらの材料は昇温させてもその2相形態を保つこ
とが分かる。高いモジュラスに加えて、これらの材料は
70%に達する伸び率を有し、これは非常に丈夫な材料
であることを示している。
加熱ローラ用材料
ハイドロエチルシロキサン・コポリマー全1.3−ビス
(アミノプロピル)ポリジメチル−ジフェニルシロキサ
ンあるいはビス(アミノプロピル)−ポリメチルフェニ
ルシロキサンのオリゴマーとビスフェノール−Aのジグ
リンジルエーテル(DGEBA)とから合成した。シロ
キサンのオリゴマーは種々のwt%の環式ジメチルシロ
キサンとジフェニルシロキサンあるいはメチルフェニル
シロキサンの粗景から両度的触媒を用いて合成した。そ
の分子量及び官能基は3−ビス(アミノプロピル)テト
ラメチルジンロキサンの末端基用化合物の混合によって
制御される。
(アミノプロピル)ポリジメチル−ジフェニルシロキサ
ンあるいはビス(アミノプロピル)−ポリメチルフェニ
ルシロキサンのオリゴマーとビスフェノール−Aのジグ
リンジルエーテル(DGEBA)とから合成した。シロ
キサンのオリゴマーは種々のwt%の環式ジメチルシロ
キサンとジフェニルシロキサンあるいはメチルフェニル
シロキサンの粗景から両度的触媒を用いて合成した。そ
の分子量及び官能基は3−ビス(アミノプロピル)テト
ラメチルジンロキサンの末端基用化合物の混合によって
制御される。
DGEBAとシロキサンのオリゴマーと化学量論的比率
で混合して適当な充填剤全添加して所望の熱伝導性及び
機械的性質を有するようにしてエンストマーのスラブを
形成した。これを硬化させた後、前記スラブの機械的性
質及び油の臭いを調べた、その結果を表2に示した。
で混合して適当な充填剤全添加して所望の熱伝導性及び
機械的性質を有するようにしてエンストマーのスラブを
形成した。これを硬化させた後、前記スラブの機械的性
質及び油の臭いを調べた、その結果を表2に示した。
シロキサンのオリゴマーの分子量が3,000から10
,500の場合の性質が表3に示され、分子量が大きく
なるにつれてしなやかになることが分かる。
,500の場合の性質が表3に示され、分子量が大きく
なるにつれてしなやかになることが分かる。
接着用材料
1.6−ビス(アミノプロピル)−ポリジメチルあるい
はポリジメチルジフェニルシロキサンのオリゴマーとD
GEBAとから合成されたノ1イドロキシエーテルで連
結されているポリマーは接着用材料として用いられる。
はポリジメチルジフェニルシロキサンのオリゴマーとD
GEBAとから合成されたノ1イドロキシエーテルで連
結されているポリマーは接着用材料として用いられる。
シロキサンのオリゴマーヲ種々のwt%の環式ジメチル
シロキサンの四量体と環式ジフェニルシロキサンの四量
体とから塩基性触媒を用いて塊状のまま反応させて合成
した。
シロキサンの四量体と環式ジフェニルシロキサンの四量
体とから塩基性触媒を用いて塊状のまま反応させて合成
した。
分子量及び官能基を1,3−ビス−(アミンプロピル)
テトラメチルジシロキサンの末端基用化合物で制御した
。
テトラメチルジシロキサンの末端基用化合物で制御した
。
接着方法
接着を行う前に、DGEBA(A)とシロキサンのオリ
ゴマー(B)とiA/Bの比率が0295となるように
し、AとBとが均一相になって数分後に反応を開始する
ような温度(例えば120℃)に昇温させて混合する。
ゴマー(B)とiA/Bの比率が0295となるように
し、AとBとが均一相になって数分後に反応を開始する
ような温度(例えば120℃)に昇温させて混合する。
前記混合物が低い粘度である間に混合物を光ディスクの
接着しようとする両面に塗り、それら両面を貼り合わせ
る。次に混合物全硬化させ(約120℃で1時間程度の
間)、最終的な強度を得る。硬化は約65℃(数時間)
から約130℃(1時間)の範囲のどのような温度で行
ってもよい。塗布及び硬化を100℃以上で行うと接着
面が乾燥して水分の吸着がないので一層強固な接着力が
得られることになる。
接着しようとする両面に塗り、それら両面を貼り合わせ
る。次に混合物全硬化させ(約120℃で1時間程度の
間)、最終的な強度を得る。硬化は約65℃(数時間)
から約130℃(1時間)の範囲のどのような温度で行
ってもよい。塗布及び硬化を100℃以上で行うと接着
面が乾燥して水分の吸着がないので一層強固な接着力が
得られることになる。
大きな加圧は不要である。
出 願人 インターナショナノイビジネス・マシニング
・コーポレーション代理人 弁理士 山 本
仁 朗(外1名)
・コーポレーション代理人 弁理士 山 本
仁 朗(外1名)
Claims (3)
- (1)ポリ(ハイドロキシエーテル−ジフェニルジメチ
ルシロキサン)コポリマー。 - (2)静電気式複写機あるいは印刷装置においてトナー
を溶融するために用いられる加熱ローラであつて、請求
項(1)に記載されたコポリマーから成る加熱ローラ。 - (3)請求項(1)に記載されたコポリマーにより貼り
合わされた光ディスク。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14595988A | 1988-01-20 | 1988-01-20 | |
US145959 | 1988-01-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0236222A true JPH0236222A (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=22515322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63319680A Pending JPH0236222A (ja) | 1988-01-20 | 1988-12-20 | ポリ(ハイドロキシエーテル‐ジフエニルジメチルシロキサン)コポリマー及び前記コポリマーを含む加熱ローラ及び光ディスク |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0325570A1 (ja) |
JP (1) | JPH0236222A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1335773C (en) * | 1989-01-26 | 1995-06-06 | James Economy | Hot roll fusers comprising polyarlene elastomers |
US4970098A (en) * | 1990-04-18 | 1990-11-13 | International Business Machines Corporation | Coatings for hot roll fusers |
US5292606A (en) * | 1992-11-30 | 1994-03-08 | Eastman Kodak Company | Fuser roll for fixing toner to a substrate |
JP7206746B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2023-01-18 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 定着部材、定着装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5927952A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂変性シリコ−ン樹脂組成物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4373239A (en) * | 1980-02-27 | 1983-02-15 | Xerox Corporation | Fusing member for electrostatographic copiers |
US4782477A (en) * | 1985-09-30 | 1988-11-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical recording medium with fluorine resin adhesive |
US4624998A (en) * | 1985-12-30 | 1986-11-25 | Dow Corning Corporation | Silicone-modified epoxy resins having improved impact resistance |
-
1988
- 1988-12-20 JP JP63319680A patent/JPH0236222A/ja active Pending
-
1989
- 1989-01-16 EP EP89850010A patent/EP0325570A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5927952A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | エポキシ樹脂変性シリコ−ン樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0325570A1 (en) | 1989-07-26 |
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