JPH0235798A - 導電性フィルム - Google Patents

導電性フィルム

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JPH0235798A
JPH0235798A JP7868689A JP7868689A JPH0235798A JP H0235798 A JPH0235798 A JP H0235798A JP 7868689 A JP7868689 A JP 7868689A JP 7868689 A JP7868689 A JP 7868689A JP H0235798 A JPH0235798 A JP H0235798A
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coating
support
metal
sulfur
film
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JP7868689A
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Francis Ryan Sullivan
フランシス リアン サリバン
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BF Goodrich Corp
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24Electrically-conducting paints
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/122Ionic conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、広範な種類の用途に有用な、半導電性範囲の
表面抵抗を有する、極めて薄い導電性フィルムに関する
。さらに詳しくは、極めて薄いフィルムは、導電性を提
供する少なくとも1種の金属およびイオウの組み合わせ
の網状構造からなり、そして非常に薄いまたは極めて薄
い層で付着させて、高度の透明性を有する被膜を生成す
ることができる。導電性の被膜またはフィルムは、導電
性フィルムの極めて薄い層を付着させる、非常に特定の
方法によって生成される。この方法は、広いスペクトル
のポリマー含有配合物、例えば、塗料とともに使用でき
、こうして広範な種類の支持体に適用することができる
〔従来の技術〕
手の込んだソリッドステートの回路装置が出現し、導電
性被膜の性能特性についての要件はいっそう厳格となっ
た。これらのソリッドステートの装置は、いわゆるEM
I(電磁波の妨害)またはRFI(無線周波数の妨害)
に感受性の電子メモリーを包含し、そしてそれらの表面
上の静電荷の発生に耐えることができない。したがって
、ESD(静電の消散)および静電防止性被膜が必要と
される。EMIおよびRFIは、メモリーを脱プログラ
ミング(de−programing)する能力および
回路を破壊し、こうして複雑な電子回路を無用とする潜
在性を立証した。過去において、EMIまたはRFIの
悪度は電子工業にとって特に問題ではなかった。なぜな
ら、電子装置は、典型的には、それをEMrまたはRF
Iの妨害から遮断する機能をする、金属のハウジング内
に収容されたからである。
より最近、プラスチックは電子構成成分を含有するため
のキャビネントの形成に、ならびにこのような構成成分
の構成において、使用が増大しており、そして、典型的
には、このようなプラスチックは十分に非導電性でなく
、これにより、金属のハウジングと異なり、RFIまた
はEMrの電磁輻射または静電荷の蓄積に対して有意の
遮断は達成されなかった。とくに、プラスチックのため
の導電性金属硫化物の被膜はこの分野において記載され
た。先行技術の被膜は導電性でありかつ開示された特定
の目的に有効であると開示されたが、被膜は着色されて
おりかつ不透明である。しだがって、これらのJ& J
ulはCRTのスクリーン、コンピュータのスライド−
パック、医学製品などのような用途に有用ではなかった
上に論じた性質をもつ被膜は、例えば、Chemica
ノ、  八bstract、  Vol、100. 1
8  :  140526j  (I983)に 。
開示されている。導電性の多孔質フィルムは電極または
フィルターとして開示されており、そして銅硫化物をニ
トリル基含有多孔質フィルム中に分散することによって
調製される。
フィルムを導電性とするために銅硫化物を含有する、シ
アノ基含有ポリマー、例えば、ポリアクリロニトリル、
のフィルムは、Chemical Abstract。
νo1.99.16 : 12380w (I983)
に開示されている。
硫化銅I被覆ポリマーは、Chemical Abst
ractVol、、104.4 : 20496k (
I985)に開示されている。
被覆されたポリマーは、銅■化合物および還元剤の水溶
液中に、あるいは銅I化合物の溶液中に、ポリマーを浸
漬し、そしてイオウ供与体、例えば、NazSzolの
溶液で処理することによって調製される。
Chemical  Abstract、νo1.10
4.18 : 150762e(I985)は、銅硫化
物層を含有する、高い耐久性および高い導電性を有する
プラスチックまたは繊維を開示している。これらのプラ
スチック、繊維または前記プラスチックまたは繊維から
作られた物品は、CuSO4の水?容液中におよびNa
zSzCL+中に浸漬する。
Chemical Abstract、 Vol、10
4.6 : 35139v(I985)は、紙の代替物
の繊維を水性CLISO4NazSzO:+溶液で処理
した、銅硫化物を含有する繊維を製造することによって
形成された、静電防止性紙代替物を開示している。
Chemical  Abstract、  Vol、
89. 2 :  7178k  (I978)におい
て、導電性銅硫化物ラテックスを利用して、プラスチッ
クを電気化学的に金属化する方法が開示されている。こ
の方法は、プラスチックを水中の銅塩で予備的に表面処
理し、次いでNa、Sで処理することから成る。処理の
時間および温度は、導電性被膜の性質に有意の影害を及
ぼさない。
同様な方法はChemical Abstract、 
Vol、85.12:84619z (I976)に記
載されており、ここでポリプロピレンをパークロロエチ
レン中のサルファイド溶液中で処理し、次いで純粋な溶
媒で洗浄し、そして乾燥し、次に還元剤の存在下に銅塩
のアンモニア溶液中で処理する。銅硫化物の暗色層が5
0=100Ωの電気抵抗を有するポリプロピレンの表面
上に形成することが開示されている。
米国特許第3.68、786号は、支持体上に金属被膜
を電気めっきするために、プラスチックの支持体を処理
する方法を開示している。この方法は支持体を溶媒中の
イオウの溶液または分散液で処理し、次いで銅塩の水溶
液と接触させ、必要に応してパラジウム塩化物の水溶液
で処理し、そして電気めっきして、所望の厚さを有する
所望の金属を形成することを包含する。
米国特許第4,566.991号は、ポリマーおよび1
種または2種以上の金属塩を形成し、そしてこの組成物
を対応する炭酸塩を形成する試薬で処理することによっ
て、導電性ポリマー組成物を調製する方法を開示してい
る。
米国特許第4,604,427号は、導電性ポリマーの
ブレンドを形成する方法を開示しており、この方法は非
多孔質の膨潤性または可溶性の宿主ポリマーを、 a、ピロール、アニリンおよび各々の置換類似体から成
る群より選択される1種または2種以上の環状化合物、
および す、多価金属化合物、例えば、二価の銅化合物から成る
群より選択される少なくとも1種の化学的酸化剤、 で含浸させることからなる。
しかしながら、被膜が透明であるある数の用途のために
、有効な、極めて薄い静電消散性(ESD)および/ま
たは静電防止性被膜またはフィルムが必要とされている
。さらに、非常に低い濃度の活性または不安定な成分、
例えば、イオウを含有する、透明なESD被膜および/
または静電防止性被膜が必要とされている。さらに、広
い種類の支持体ともに有効に使用でき、そして代替物に
おいて、EMI/RFI遮断を提供できる。このような
被膜が必要とされている。前述の開示のいずれも、この
ような被膜またはフィルムを示唆していない。
〔発明の概要〕
本発明によれば、種々の支持体(あるいは基材)上に、
広い範囲の用途を有するポリマーバインダーの表面の上
または内部に、少なくとも1種の金属イオン、サルファ
イドおよび/またはポリサルファイドの綱状構造からな
る、透明な導電性フィルムが開発された。さらに、本発
明によれば、広い範囲の支持体上に極めて薄い(50〜
約500オングストローム)導電性フィルムを付着させ
る方法が開発された。
なおさらに、本発明によれば、ポリマーの表面の上また
は内部に少なくとも1種の金属イオン、サルファイドお
よび/またはポリサルファイドのイオンの網状構造から
なる、透明な導電性の外側層を有する被覆された支持体
が提供される。
なおさらに、本発明によれば、絶縁材料に導電性を提供
するために有用でありかつEMI/RFI遮断の用途を
有する、極めて薄い金属フィルムを付着させる方法が提
供される。
なおさらに、本発明によれば、非常に低い濃度の金属お
よびイオウを有する、極めて薄い透明なESD被膜また
はフィルムが提供される。イオウの実質的にすべては被
膜中で化学的に結合し、したがって、被膜は酸化剤また
は分解剤として作用できる、不安定なイオウを実質的に
含有しない。
しかしながら、なお低いレベルの不安定なイオウを必要
とする用途についてさえ、被膜またはフィルムは試薬、
例えば、CuClで後処理することができる。
なおさらに、本発明によれば、ポリマーのフィルムの表
面の上または内部に、少なくとも1種の金属イオン、サ
ルファイドおよび/またはポリサルファイドのイオンの
網状構造からなり、そして約lOI〜約1014Ω/s
q(平方)の範囲の抵抗、および約50〜約5.000
オングストローム(λ)の範囲の厚さを有する、独特か
つ複雑な構造を有する、透明なESDポリマーのフィル
ムが提供される。
なおさらに、ポリマーの被膜の表面の上または内部の少
なくとも1種の金属イオン、サルファイドおよび/また
はポリサルファイドのイオンの網状構造からなるフィル
ムを、フィルムの表面の上または内部に存在する不安定
なイオウと反応する試薬で処理することによって、不安
定なイオウを本質的にもたない、透明な導電性フィルム
を得る方法が提供される。
なおさらに、本発明によれば、絶縁材料の表面に薄い金
属フィルムを含む絶縁材料およびそれを製造する方法が
提供される。薄い金属フィルムは、特定の絶縁材料の上
にまたはそれを含むポリマー材料の表面の上または内部
の、少なくとも1種の金属イオン、サルファイドおよび
/またはポリサルファイドの網状構造からなる薄いフィ
ルムの還元によって製造される。
本発明のこれらおよび他の面は、この明細書を読みおよ
び理解すると当業者にとって明らかとなるであろう。
〔好ましい実施態様の詳細な説明] 被膜の特定の成分および配合を包含する本発明の好まし
い実施態様を示す添付図面を参照しながら、本発明をさ
らに説明する。この明細書の一部として含めた図面は、
本発明の好ましい実施態様の例示であり、そして本発明
の範囲をいかなる方法においても限定しないことを意メ
する。
広範な種類の支持体上に透明な導電性金属硫化物含有フ
ィルムを付着させる、非常に独特なかつ有効な技術が開
発された。この技術によって、ESD遮断性質を有する
、広範な種類の支持体を提供することができる。また、
本発明による技術は、EMI/RFI遮断の用途ならび
に他の究極の実用性のために、めっき可能な、広範な種
類のプラスチック支持体を提供することができる。透明
なフィルムまたは被膜を製造する、本発明の技術は、非
常に低い濃度の特定の金属イオンまたは金属イオンの組
み合わせおよびイオウ解放剤を利用する。
本発明のこの面は、この技術のために非常に好都合な経
済性の利点を与え、そして同時に、フィルムと接触する
ようになるかあるいはフィルムを分解するようになる、
他の材料のための酸化剤として作用できる、不安定なイ
オウを実質的に含有しない被膜を与える。
本発明により開示された方法は、特定の支持体の表面に
極めて薄い層の付着を可能とし、ここで付着した層は、
高分子量の複素網状構造を形成する、ポリマーの被膜の
表面の上または内部の少なくとも1種の金属イオン、サ
ルファイドおよび/またはポリサルファイドのイオンの
綱状構造からなる、独特かつ複雑な構造を有する。特定
の支持体の表面において形成したフィルムの層の分析は
、次の金属硫化物の式を与える: M、AyS。
式中、Xは部分的整数、整数または混合した数であり、
yは0または部分的整数、整数または混合した数であり
、そしてMおよびAは金属のカチオンを表す。この分析
は、付着したフィルムまたは導電性層の構造が非常に高
度に複雑に思われる網状構造であることを示す。換言す
ると、サルファイドおよびポリサルファイドの連結は金
属イオンまたは金属イオンの組み合わせと一緒になって
、特定の支持体上に特定のポリマーのバインダーの被膜
表面にわたって連続である網状構造を形成する。こうし
て、本発明の方法は、非常に低い濃度の特定の金属イオ
ンまたは金属イオンの組み合わせおよびイオウ解放剤を
利用すると同時に、支持体の表面に極めて薄い連続のフ
ィルムまたは層を付着して、層を導電性および透明とし
、次いで、ESDおよび/または静電防止性の透明な被
膜を必要とする用途のための実用性を生ずる、技術を提
供する。
本発明による方法は、次に記載する工程によって要約す
ることができる: 1、 特定の支持体に被覆組成物を適用し、ここで被覆
組成物は前記支持体に対して付着性のポリマーバインダ
ーおよび有効量のイオウ含有成分からなり、前記イオウ
含有成分は被覆するフィルムの表面に被覆されたポリマ
ーのマトリックスの中から外に拡散することができ、そ
して金属イオンと反応して前記被膜の表面にまたはその
付近に導電性層を形成することができ、 2、 被覆された支持体をフィルムの形成の点まで部分
的に乾燥し、ここでイオウ含有成分はなお硬化したフィ
ルムの表面に拡散して極めて薄い導電性層を生成するこ
とができ、 3、 工程2の硬化し被覆した支持体を、金属イオンま
たは金属イオンの組み合わせを含有する溶液と接触させ
、前記金属イオンまたは金属イオンの組み合わせは、前
記イオウ含有成分との反応により、前記被膜の表面の上
または内部に導電性層を形成することができ、そして 4、 工程3からの前記接触させ被覆した支持体を、所
望の導電性表面層を与えるために有効な時間の間、乾燥
する。
金属のサルファイド/ポリサルファイドの綱状構造は、
特定の支持体に付着した被膜の表面に付着することが重
要である。当業者が認識するように、この網状構造層が
被覆の表面にまたはその付近に形成しない場合、それは
所望の有効なEMr/RFI遮断性、静電防止性および
/または静電消散性、あるいは望ましいことがあるめっ
き可能性を提供しないであろう。詳しくは、イオウ成分
は、特定の支持体に最初に適用した被膜の部分的に硬化
したポリマーのバインダーのマトリックスから拡散しな
いように選択する。さらに、イオウ成分は、部分的に乾
燥した被覆に拡散、すなわち、移動することができなく
てはならず、かつまた被膜の表面において接触溶液中の
金属イオンと反応して、ポリマーのフィルムの表面の上
または内部に金属イオンまたは金属イオンの組み合わせ
をもつ網状構造を形成して、被覆された支持体のために
十分な導電性を示す連続な極めて薄い表面層を被膜上に
与えることができなくてはならない。こうして、特定の
イオウ成分の選択は、イオウ成分が被覆組成物中に乳化
、分散または溶解可能でありならびに特定の支持体に適
用した硬化した被膜の中から外に拡散することができる
ように、イオウ部分の反応性ならびにこの成分を構成す
る置換基を包含する。
また、最初に被覆した支持体の特定の被膜の各々につい
て最大の許容されうる乾燥時間が存在することを認識す
べきである。なぜなら、被膜の硬化の程度は、その被膜
の表面へ移動するイオウ成分の能力に影響を及ぼすから
である。本発明の特定の理論に拘束されたくないが、支
持体への適用後のポリマーの乾燥時間の期間はポリマー
のバインダーの多孔度に影響を及ぼすと信じられる。
般に、乾燥時間が増加するにつれて、ポリマーは、(さ
らに乾燥すると)ポリマーのバインダーの多孔質マトリ
ックスがポリマー表面への移動流路を閉じ始め、切断し
始める点を越える硬化点に到達する。次いで、イオウ含
有成分を混入したポリマーは、より少ない移動の道筋を
有する。結局、より少ないイオウ含有成分はポリマーの
表面の中から外に拡散する。ここで使用するとき、用語
「硬化」、「硬化可能」、「硬化した」および「硬化す
る」は、所望の量のイオウ含有成分が乾燥するポリマー
の表面へ拡散または移動する、ポリマーのフィルムの形
成の点を意味する。当業者は認識するように、乾燥時間
の計は、特定のポリマーのバインダーの系、所望の抵抗
の程度および被覆すべき支持体に依存するであろう。ラ
テックスポリマー被覆支持体の抵抗への乾燥時間の効果
を第1図に示す。当業者にとって明らかなように、ポリ
マーの系は異なる曲線を与えるであろう。好ましい実施
態様において、約16〜約24時間の乾燥時間は有効で
あることが分かった。本発明のこの特定の面は、広範な
種類の支持体を、このようにして、究極の最終用途にお
いて使用すべき特定の支持体に付着性の被覆組成物の選
択によって、処理できるという、明確な利点を提供する
。本発明の金属のサルファイド/ポリサルファイドで支
持体を被覆する種々の方法を利用できる。こうして、例
えば、浸漬、噴霧被覆、ローラー被覆などのような方法
を使用できる。
特定の支持体に付着しかつその中にイオウ成分が分散で
きる、被覆組成物を選択する以外に、支持体に用途すべ
き特定の被覆組成物の選択は、また、重要である。他の
考察は、金属イオン含有溶液が被膜の表面を湿潤しかつ
適切に接触して、被膜の表面へ拡散するイオウ含有成分
との十分な相互作用を可能とするように、被膜の表面の
湿潤能力、すなわち、十分な親水性を包含する。湿潤剤
をイオン含有溶液中に使用して、その湿潤特性を増大す
ることができる。金属イオンに関連するアニオンは、金
属イオン含有溶液においてとくに臨界的ではない。しか
しながら、溶液が銅イオンを含有する場合、金属イオン
と被覆された支持体の表面へ拡散するイオウ含有成分と
の間に起こる化学反応を促進するレベルにpHを調節す
ることが必要であることがある。金属イオン溶液との接
触時間(すなわち、発現時間)は、半導電性金属サルフ
ァイド/ポリサルファイドの連続なフィルムの網状構造
の形成を確保するために十分でなくてはならない。第2
図は、被覆された支持体の抵抗が金属イオンの溶液中の
発現時間の関数であることを示す。被膜の表面における
金属サルファイド/ポリサルファイドの網状構造の付着
は、被覆された支持体の接触間または発現の間の金属イ
オン接触塔を加熱することによって促進することができ
る。導電性網状構造層を付着して所望の最終生成物を得
るために、化学反応は被膜の表面においであるいはその
付近において起こることが重要であることが、再び、述
べられる。換言すると、化学反応は、特定の支持体に付
着した被膜のポリマーのマトリフクスの内部内の深部で
起こることはできない。したがって、イオウ成分の選択
、被覆組成物ならびに発現溶液中で使用する金属塩は、
すべて、本発明の方法において重要な考察である。
さらに、被覆された支持体の発現後の最終工程の乾燥時
間は、被膜の表面上に付着した層の導電性、すなわち、
抵抗にとって重要である。本発明の目的に対して、約8
0〜約120℃の範囲の温度における約5分〜約2時間
の最後の乾燥時間は好ましい。約45分〜約1.5時間
(I時間30分)の乾燥時間は最も好ましい。発現工程
と最後の乾燥工程との組み合わせは、金属硫化物の比を
固定し、こうしてより導電性のフィルムの形成を促進す
る。本発明のこの特定の面は、透明である、安定な、極
めて薄いフィルムの形成を促進する。そのうえ、被膜の
表面に、固定した安定な(ESD)層を含有する、この
ようにして形成した、被覆された支持体は、さらに、水
性塩溶液中で、金属サルファイド/ポリサルファイドを
還元できる第2の元素または化合物の存在下に処理し、
被覆された支持体の表面に薄い金属フィルムを形成して
、EMI/RFI遮断の用途などのための製品を得るこ
とができる。例えば、この技術は、特定の支持体の表面
上に極めて薄い金の層を形成する、極めて優れた方法を
提供する。適当な還元性元素および化合物の例は、水性
の炭酸塩およびホウ水素化ナトリウム中のアルミニウム
箔を包含する。
本発明の固定した金属サルファイド/ポリサルファイド
のフィルムは、さらに、金属塩、すなわち、硝酸銀、酢
酸銀、塩化金、塩化インジウムなどで処理(後処理)し
て、金属硫化物の被膜を形成し、ここで最初の(第1)
金属イオンは金属塩から供与する第2金属イオンによっ
て実質的に置換することができる。用語「実質的に置換
する」は、微量の最初の金属イオンは最後の被膜中に残
留することができることを意味する。例えば、銅のサル
ファイドおよび/またはポリサルファイドの被膜を第2
金属塩溶液、例えば、金および恨の硝酸塩溶液で後処理
するとき、いずれかに0.2〜0.32原子%は最柊被
膜中に残るであろう。この分野において明らかなように
、後処理の条件、例えば、第2金属置換イオンへの暴露
時間および温度条件は被膜中に残る最初の金属イオンの
量に影響を及ぼすであろう。他の実施態様において、金
属硫化物の被膜中の金属イオンを置換する代わりの金属
塩化物は、被膜中の金属硫化物の錯塩の一部となって二
金属硫化物を生成するようになる。
本発明による付着したフィルムは約50〜約5000オ
ングストローム(入)またはそれより大きいの範囲の概
算厚さを有するであろう。好ましい実施態様において、
フィルムの厚さは約50〜約200人の範囲であろう。
高度の透明性を特定の用途に必要とする場合、より薄い
網状構造のフィルムが望ましいであろう。網状構造のフ
ィルムの厚さは、特定の被覆組成物中のイオウ含有成分
の濃度を調節することによって、制限された程度に調節
することができる。
一般に、本発明の方法および得られる生成物は、広い範
囲の用途に、例えば、究極的にパーソナルコンピュータ
、種々の電子装置、テレビジョンセットなどにおいて使
用する陰極線管(cRT)を製造するとき使用するスク
リーンに、コンピュータのアセンブリのための電子感受
性コンピュータて使用する静電防止性バッグに、医学製
品の分野、例えば、電橋センサなどにおける使用に、半
導体における使用における用途を有する。本発明の他の
用途は、特定の表面を電気めっきするために十分な導電
性を有する表面を特定の表面に与えることを包含する。
先に述べたように、イオウ含有(イオウ解放)成分は、
本発明による方法および導電性フィルムの対応する形成
にとって重要である。上に指摘したように、イオウ含有
成分のイオウ部分は十分に反応性であって、支持体に適
用した被膜の表面における発現浴中の金属イオンまたは
金属イオンの組み合わせを反応しなくてはならない。さ
らに、イオウ含有成分へ結合した置換基は、適用した被
膜のポリマーのマトリックスからのイオウ成分の拡散に
影響を及ぼすことができる。同一の考察は、また、被覆
組成物中のイオウ成分の拡散の容易さに影響を及ぼすで
あろう。このようなイオウ含有成分の例は、チオアセト
アミド、チオホルムアミド、ジチオオキサミドおよびジ
チオウレアを包含する。本発明の目的に対して、チオア
セトアミドおよびチオホルムアミドは本発明において有
用な最も好ましいイオウ含有成分である。イオウ含有成
分は、支持体上に被膜の表面において有効な導電性層を
形成するために十分な濃度範囲で被覆組成物中に存在す
ると同時に、透明な層を形成する能力を与えるために十
分に低い濃度でなくてはならない。この量は、被覆組成
物において、一般に、約0.1phr重量〜約10ph
r重量のイオウ成分の範囲であろう。最も好ましい実施
態様において、この量は約0.5phr重量〜約5.0
phr重量の範囲であろう。また、上に論じたように、
イオウ含有成分の濃度は、ある程度、付着したフィルム
の厚さに影響を及ぼすであろう。
本発明の発現浴において使用する金属イオンは、一般に
、イオウと不溶性化合物を形成し、そして被覆された支
持体の表面のイオウと導電性の連続な網状構造を形成す
る、遷移金属のイオンである。
このような金属イオンは、Cu、八g 、 Au 、 
Pt 、 FePd 、 In 、 Fe 、 Hg 
、 (d 、 Bi 、 Pb 、 Mn 、 Co 
、 Ni 、 M。
Ga、Zn、Cr、Ti、 V 、RuおよびWを包含
する。本発明の目的に対して、銅、銀、金、パラジウム
、白金およびインジウムは最も好ましい。また、認識さ
れるように、本発明による導電性フィルムは、また、こ
れらの金属の2種またはそれ以上の組み合わせ、例えば
、銅およびインジウム、銅およびモリブデン、銅および
バナジウムなどを包含することができる。発現溶液中の
金属イオンまたは金属イオンの組み合わせの濃度は、そ
れらが特定の支持体に適用する被膜の表面に拡散する、
イオウ含有成分の実質的にすべてと反応するために十分
な濃度で存在する程度にのみ、とくに臨界的ではない。
発現溶液中の解離のための金属塩を構成するアニオンは
、とくに臨界的ではない。アニオンは金属イオンのため
に十分な水溶性提供すべきであり、特定のイオウ含有成
分との反応を最適化するために、pHの調節を必要とす
ることがある。本発明の目的に対して使用可能なアニオ
ンの塩は、酢酸塩、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩
、亜リン酸塩、過塩素酸塩などを包含することが発現さ
れた。本発明の目的に対して、酢酸塩および硝酸塩は好
ましい。前述のように、発現溶液のpHを調節すること
は、また、特定の支持体に適用した被膜の表面上への導
電性金属硫化物の網状構造の形成に影響を及ぼすことが
ある。例えば、銅塩の場合において、pHを約5〜約9
の範囲に緩衝剤、例えば、酢酸ナトリウムで調節すると
き、硫酸塩は本発明の方法において有効であることが分
かった。こうして、多少の考察を発現浴中に使用すべき
特定の金属イオンまたは金属イオンの組み合わせの選択
に与えるべきである。
本発明の被膜組成物のポリマーのバインダーに関するか
ぎり、溶媒または水分散性ポリマー(ラテックス)を利
用することができる。重要なポリマーの考察は、被膜組
成物について既に論じたように、次の通りである:1)
イオウ含有成分は少なくともポリマー内に分散または乳
化可能でなくてはならない;2)イオウ含有成分がポリ
マーの表面に拡散または移動できるように、ポリマーは
多孔質マトリックスに硬化できな(ではならない:3)
ポリマーは支持体の表面に付着しな(ではならない;お
よび4)硬化したポリマーは、発現浴と接触したとき、
湿潤可能でなくてはならない。
被覆組成物の好ましいポリマーバインダーは、水に基づ
くポリマーまたはポリマーのラテックスである。ラテッ
クスのバインダーは、取り扱いが容易であり、環境的に
安全であり、すなわち、有機廃棄物が発生せず、そして
使用が経済的である、という観点から有利である。
約75℃より低いTgを有するラテックスの被覆組成物
は、本発明の目的に対して好ましいことが分かった。最
も好ましい実施態様において、20℃より低いTgを存
するラテックス組成物は本発明の方法においてとくに有
用である。高いTgをもつラテックス組成物は、種りの
1g低下性添加剤、すなわち、凝集剤、可塑剤および補
助溶媒と組み合わせて利用することができ、これらは組
成物のTgを好ましいレベルに効果的に低下することに
注意すべきである。
本発明においてラテソクスハインダーとして有用な適当
なポリマーは、次のものを包含する二種々のアクリルお
よびスチレン、塩化ビニルおよびスチレン−ブタジエン
に基づくラテックス、それぞれ、次の商品名でBFグン
ドリッチ・カンパニーによって製造および販売されてい
る、HYCAR■(商業的表示2671.26120.
2617、26288.26334゜26337、26
342および26796)、GEON@ ’(商業的表
示660X13および460X45) 、およびGOO
D−RITI (商業的表示1800X73)。上記ラ
テックスの物理学的特性を以下に記載する。
YCAR コポリマーのラブ・ンクス GEON GOOD−RITE II Y CA Rラテックス(商業的表示267L 
26172゜26288、26342および26172
および26337の混合物)は、本発明の実施において
特に好ましい。他の有用なラテックスのバインダー組成
物は、商標BAYBOND■ (商標表示110−、1
1.4および121)でモベイ・ケミカル・コーポレー
ションによって販売されているポリウレタンを包含する
。このようなポリウレタンのラテックス組成物は、米国
特許第4,408,008号中に開示されており、その
開示をここに引用によって加える。
本発明に従い処理すべき支持体は、支持体の究極の最終
用途、例えば、上に指摘したように、パーソナルコンピ
ュータなどにおいて使用するCRTのためのスクリーン
、コンピュータのスライドパック、医学的製品などに依
存する。こうして、このような支持体は、ガラス、およ
び種々のポリマー材料を包含し、そして前記ポリマー材
料はポリカーボネート(透明なシート)、ゼネラル・エ
レクトリックによって商標LEXAN■900で販売さ
れている、汎用ABS樹脂、ポリ塩化ビニル1.コロナ
処理したポリエチレンなどを包含する。以上の記述は、
さらに、本発明による方法の前述の利点を例示し、すな
わち、この方法はなおさらに広範な種類の究極の最終用
途を有することができる、広範な種類の支持体に適用可
能である。
〔実施例〕
種々の支持体は、本発明の方法に従い処理し、そして以
下の実施例において説明する。これらの実施例は本発明
の範囲内で実施する方法を示すが、本発明の範囲を限定
しない。なぜなら、このような範囲は特許請求の範囲に
よってのみ規定されるからである。以下の実施例および
明細書のいずれか個所および特許請求の範囲において、
すべてのパーセントおよびすべての部は、特記しない限
り、重量%および重量部を表すことを意図する。
以下の実施例において実施した抵抗の測定は、導電性の
プローブ(90−700−022−1型、グラハム・マ
グネチックス、テキサス州ノース・リッチモンド・ヒル
ス〕で測定し、このプローブによって表面の抵抗(Ω/
sq)を抵抗計から直接測定することができる。
尖施■土 この実施例は、本発明の透明な導電性被膜を調製する一
般的手順を例示する。
214.7 gのBAYBONDIIO−2ポリウレタ
ンラテ・ンクス分散液(35%の固体含量)を、4gの
蒸留水中に0.8gのジチオアセタミドを撹拌しながら
添加した。次いで、被膜組成物を透明なポリカーボネー
トのシート上に噴霧被覆し、そして16時間周囲室温に
おいて乾燥する。被覆したポリカーボネートの支持体の
乾燥フィルムの厚さは、0.038〜0.089mm 
(I,5〜3.5ミル)の範囲であった。
次いで、被覆された支持体を酢酸第2銅の2%の水溶液
中で表■に特定する時間の開発現し、蒸留水で洗浄し、
そして100℃において10分間乾燥した。被覆された
支持体の試料を冷却し、そしてそれらの表面抵抗を測定
した。結果を表Iに記載する。
6.000 ポリカーボネートへの被膜の付着はASTM D 33
5978、方法Bに従って等綴付けた。被膜の付着は最
高の等級、例えば、5Bを達成した。
実新I鉗恩 この実施例において、発現浴の条件は表面抵抗への効果
を決定するために変化させた。発現浴の工程後、高温下
の被覆された支持体の乾燥の重要性を、また、例示する
。被覆された支持体は、実施例1に記載する処方および
手順に従って調製した。金属イオンの発現溶液の濃度、
浴温度および浸漬時間を下表■に記載するように変化さ
せた。
表面抵抗は、周囲の室温において乾燥後、測定した。反
復実験の試料を高温(90−100℃)で10分間乾燥
し、そして表面抵抗を測定した。結果を以下に記載する
5     325.000 10     125.000 15     1.6X106 1.000 ]、1 000 表」−0L[ル 22    60    190.00022    
60    180.00022    60    
190.000実画l吐走 この実施例は、最初の被覆工程後における乾燥工程(本
発明の方法の工程2)の期間の重要性を例示する。被覆
組成物を実施例1に記載するように調製し、そしてポリ
カーボネートの支持体のシート 10.16cmX 1
0.16cmX 0.635cm (4インチ×4イン
チXI/16インチ)上に噴霧した。次いで、被覆した
ポリカーボネートの支持体を表■に記載するように変化
する時間乾燥した(周囲の室温)。
次いで、乾燥した被覆された支持体を水性2%酢酸消の
発現浴中に1時間浸漬した。支持体を蒸留水で洗浄し、
次いで90〜100℃において10分間乾燥した。乾燥
した導電性被膜の表面抵抗を測定した。
結果を以下に記載する。
に記載する。
6.000 1900−20 x 106 実新I鉗先 この実施例において、発現溶液中の金属イオンの塩およ
び発現溶液中のpl+は下に記載するように変化させた
。被覆組成物は実施例1に従って調製し、そしてポリカ
ーボネートの支持体上に流延した。被覆した支持体を周
囲の室温において5時間乾燥し、次いで発現浴中に30
分間浸漬した。被覆された支持体を浴から取り出し、蒸
留水で洗浄し、次いで110℃において5分間乾燥した
。導電性の被覆された支持体の測定した表面抵抗を表■
CuCfl z 211z0            
 4.73Cu(OAc)z 1120       
      6.24CuSO4511zO4,96 CuSO4511zO+ 2NaOAcO1衝液)  
 7.45CuSO4511,0+  N1140II
         10.41Cu(NOz)z 5)
1zO5,013X101 20.000 10×106 >20XIO6 1,6X106 実1讃ルユV上 表■に記載する被覆組成物においてアクリル、ポリウレ
タンおよびスチレン−ブタジエンに基づくラテックスを
利用して、種々の被膜を調製した。
アクリルおよびブタジェンに基づ←組成物を、150g
のラテックス、1.8gの濃水酸化アンモニウム(30
%)、5gの水中に溶解した0、 8 gのチオアセト
アミド、および補助溶媒として7.1gの2−ブトキシ
ェタノールを一緒にすることによって調製した。l p
hrのチアアセトアミドを組成物中に使用した以外、ポ
リウレタンの被膜を実施例1に記載するようにして調製
した。次いで、被膜を適当な支持体上に噴霧または流延
し、乾燥し、そして表■に記載する時間にわたって2%
の水性酢酸銅溶液中で発現させた。発現後、被覆された
支持体を洗浄し、そして110℃において10分間炉内
で乾燥した。被膜の表面抵抗を以下に記載する。
11  BAYBOND”(I21) 0X106 1BFグンドリツチ・カンパニーの商標。
1モベイ・ケミカル・コーポレーションの商標。
尖隻開上叢 ごの実施例において、酢酸銀を酢酸銅の代わりに使用す
る以外、実施例1の手順に密接に従った。
発現浴の浸漬時間は1時間であった。最後の乾燥工程は
実施例1と同一の条件下に実施した。被覆された支持体
の測定した抵抗は、15 X 101〜20×106Ω
/sqの範囲であった。次いで、導電性硫化銀被覆した
支持体を40℃に加温した5%の炭酸ナトリウム溶液中
に浸漬することによって還元し、次いでアルミニウム箔
と数分間接触させた。被覆された支持体を取り出し、洗
浄し、そして110℃において炉内で乾燥して、300
Ω/sqの表面抵抗をもつ、薄い金属の銀被覆した支持
体を得た。
実1孕よユ 実施例1に記載するポリウレタン樹脂系においてチオア
セトアミドの代わりにチオホルムアミドを使用して、流
延し、周囲条件において3時間乾燥し、2%の酢酸第二
銅浴中で30分間発現させ、そして110℃において炉
内で乾燥したフィルムについて、平均10にΩ/sqを
得た(室温において乾燥したとき、抵抗は20MΩ/s
qであった)。
実J旧舛」」ヨ ポリウレタン分散液(BAYBOND 110−2)中
の5phrのチオアセトアミドのイオウ含有化合物をポ
リマーの支持体(ポリ塩化ビニル)上に噴霧し、そして
周囲温度において一夜(I6時間)乾燥した。
次いで、被覆された支持体を0.5%の金塩化物(Au
Cl *)中で10分間浸漬した。被覆された支持体を
取り出し、水で洗浄し、そして110℃において炉内で
乾燥した。被膜の外観は全硫化物の黄色の高度に反射性
の表面に変化した。表面の抵抗は〉20MΩ/sqであ
った。
次いで、この被膜を1%の水性ホウ水素化ナトリウム(
NaBH4)溶液中にほぼ2分間浸漬した。それを水で
洗浄し、そして乾燥した。700Ω/sqの表面抵抗を
もつ、非常に高度に反射性の金属フィルムが得られた。
同様に調製した他の試料を走査電子顕微鏡検査(SEM
)にかけ、試料を横切ってフィルムは均一であることが
決定された。還元によって生成した金属の金の被覆は均
一かつ連続に見え、そして金属の厚さは150+/−5
0人であると推定された。
ル組州15 1 phrのチオアセト”アミドを含有するポリウレタ
ンの分散液(BAYBOND 110−2)の試料を、
ポリマーの支持体上ζこ流延した。次いでそれを炉内で
85℃において6分間乾燥し、冷却し、次いで0.00
4モル/!の塩化パラジウムおよび0.02モル/1の
塩化ナトリウムを含有する溶液中に30分間浸漬した。
得られる被膜を蒸留水で洗浄し、そして強制通風炉内で
85℃において乾燥した。
> 20 、000Ω/sqの表面抵抗をもつ硫化パラ
ジウムの褐色被膜が得られた。引き続いて、この被膜を
2%のNaBHa溶液中に2分間浸漬することによって
還元し、そして4.000Ω/sqの表面抵抗をもつ、
鋼灰色の金属被膜が得られた。
尤施±土立 この実施例において、過剰のイオウを導電性銅硫化物の
被膜から除去した。
銅硫化物の試料は、前の実施例において記載した方法に
従って製造した。導電性被膜の切片を分析しficu:
Sの比を決定し、化学分析のだめの電子顕微鏡(ESC
A)により測定して、それはほぼ1;2〜1・3の範囲
であることが分かった。
過剰のイオウを除去するために、次いで銅硫化物の被膜
を次の処理に付した: 試料の残りを4 fi f7) CuCN 、 L、1
.mR(:)濃HCj2およびi f)(I mnの蒸
留水を含何する10″(′の浴中に2分間浸漬した。被
膜は浸漬の間に暗色化し、そして取ね出し、蒸留水で洗
浄し1.そ!−3て炉内で110℃に、おいて10分間
乾燥した。処理前、被膜は平均80QgΩ/sqの抵抗
を任し、そ艷−17安I理後、それは65(Bλ/9q
と測定された。被膜は暗い緑色であった。Cu:Sは再
び測定すると1:1であった。
銅硫化物の被11gの試料(抵抗・−200−300Ω
/SQ)を、酢酸銀の水溶液(I%)で4分間処理した
。得られる材料、高度に反射性の表面、を洗浄および乾
燥し1、そして表面抵抗は18.9X 108Ω/sq
と測定された。
この実験を金塩化物(5%)を使用して反復して、残留
する銅をほとんどもたずかつほぼ1:1のAu:S比を
もつ被膜を生成した。得られる表面抵抗は11.7X1
0IlΩ/’SQであった。
この実験をi、oooΩ/’sqの表面抵抗を有する銅
硫化物被覆した支持体を利用して反復し7た。被覆した
支持体を2%のInCe xを含有する浴中に2時間浸
漬した。フィルムを水で洗浄j2、そして乾燥した。表
面抵抗は1.5にΩ/sqと測定され、そして被膜は輝
いた黄色であった。Cu:In:Sの比はほぼl;0.
75:2であった。
本発明をその特定の好ましい実施態様を参照して説明お
よび例示したが、当業者が理解するように、種々の変化
、変更および置換を本発明の精神から逸脱しないでその
中で可能である。例えば、上記した好ましい量または材
料以外の、被覆組成物を構成する成分の各々について種
々の量および成分の各々について使用した特定の材料は
、このか法において使用した種、簡の成分の性質の結果
適用可能であり、そL7てこのような回持される変更お
よび差および結果は本発明の実施に従い考えられる。し
たがつど、本発明は特許請求の範囲によってのみ限定さ
れることを意図する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるE S D被膜についての、j
でリマーの乾燥時間の関数として抵抗を示すプロ、+−
?Fあτ)6 第:’l r’4jは、本発明の巨SD被膜に′ついて
の表面抵抗・・、の金胛イオシ・浴中の発現時間の効果
を示すプロ・2トである、5 第3図は、本発明の導電性被膜を製造する方法を記載士
るブし】■り線図である。 FIG、 1 、ふJ、デ、−杷ザ、1T・二稽二変Yなし)抵抗への
乾燥時間の効果 FIG、 2 時間(分) 手 続 補 正 書 (方式) 被覆方法のブロック図 平成1年8月 日

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.静電荷を消散することができる導電性フィルムであ
    って、硬化したポリマーバインダーの表面の上または内
    部の少なくとも1種の金属イオン、サルファイドおよび
    /またはポリサルファイドイオンの網状構造からなり、
    そして約10^1〜約10^1^4Ω/sqの範囲の抵
    抗を有することを特徴とする導電性フィルム。
  2. 2.前記金属イオンはAu,Pd,In,Cu,Ni,
    Ag,Ptおよびそれらの混合物から成る群より選択さ
    れ、そして前記ポリマーバインダーは約75℃より低い
    Tgを有する、請求項1記載のフィルム。
  3. 3.前記金属および前記サルファイドおよび/またはポ
    リサルファイドは約0.1phr重量〜約10phr重
    量の範囲の量で前記フィルム中に存在し、そして前記金
    属はCuまたはAuであり、そして前記金属のサルファ
    イドおよび/またはポリサルファイドの網状構造のフィ
    ルムは約50〜約500Åの範囲の厚さを有する、請求
    項1記載のフィルム。
  4. 4.付着性の導電性被膜をその表面に有する支持体から
    なる被覆された支持体であって、前記被膜は硬化したポ
    リマーフィルムの表面の上または内部の少なくとも1種
    の金属イオン、サルファイドおよび/またはポリサルフ
    ァイドの網状構造からなり、そして前記導電性被膜は約
    10^1〜10^4Ω/sqの範囲の抵抗を有すること
    を特徴とする被覆された支持体。
  5. 5.前記金属イオンおよびサルファイドおよび/または
    ポリサルファイドの形態の前記イオウは約0.1phr
    重量〜約10phr重量の範囲の量で存在し、そして前
    記導電性被膜は前記導電性被膜の表面の上または内部の
    前記金属イオンおよびサルファイドの網状構造からなる
    、請求項4記載の被覆された支持体。
  6. 6.前記金属イオンはCu,Ag,Au,Pd,Inお
    よびそれらの混合物から成る群より選択され、前記ポリ
    マーフィルムは約75℃より低いTgを有するポリマー
    バインダーからなり、そして前記網状構造のフィルムは
    約50〜約500Åの範囲の厚さを有する、請求項5記
    載の被覆された支持体。
  7. 7.前記金属イオンの少なくとも1種は銅である、請求
    項6記載の被覆された支持体。
  8. 8.少なくとも1種の金属イオン、サルファイドおよび
    /またはポリサルファイドの網状構造は、式: M_xA_yS_z (式中、xは部分的整数、整数または混合した数であり
    、yは0または部分的整数、整数または混合した数であ
    り、そしてMおよびAは金属のカチオンを表す)によっ
    て表される、請求項1記載のフィルム。
  9. 9.静電荷を消散することができる導電性被膜を支持体
    上に付着させる方法であって、下記の工程: a)前記支持体に被覆組成物を適用し、その際、前記被
    覆組成物は前記支持体に対して付着性のポリマーバイン
    ダーおよび有効量のイオウ含有成分からなり、前記イオ
    ウ含有成分は前記支持体の表面上に被覆されたポリマー
    のマトリックスの中から外に拡散することができ、そし
    て金属イオンと反応して前記被膜の表面上に導電性層を
    形成することができること、 b)被覆された支持体を被膜が硬化する点まで部分的に
    乾燥し、ここで、イオウ含有成分は部分的に乾燥した被
    膜の表面に拡散しかつ前記部分的に乾燥した被膜の表面
    の上または内部の金属のサルファイドおよび/またはポ
    リサルファイドの連続的網状構造を形成することができ
    ること、c)工程(b)の部分的に乾燥し被覆した支持
    体を、金属イオンまたは金属イオンの組み合わせを含有
    する溶液と接触させ、その際、前記金属イオンまたは金
    属イオンの組み合わせは、前記イオウ含有成分との反応
    により、前記被膜の表面の上または内部に導電性層を形
    成することができること、そして d)工程(c)からの前記接触させ被覆した支持体を乾
    燥すること、 からなることを特徴とする方法。
  10. 10.前記ポリマーバインダーは約75℃より低いTg
    を有するラテックスである、請求項9記載の方法。
  11. 11.前記イオウ含有成分は、チオアセトアミド、チオ
    ホルムアミド、ジチオオキサイド、チオウレアおよびそ
    れらの混合物から成る群より選択される、請求項9記載
    の方法。
  12. 12.前記乾燥工程(b)は周囲室温において約1〜約
    24時間の間実施する、請求項9記載の方法。
  13. 13.前記金属イオンは遷移金属のイオンである、請求
    項9記載の方法。
  14. 14.前記金属イオンはCu,Ni,Ag,Au,Pd
    ,Inまたはそれらの混合物から成る群より選択される
    、請求項13記載の方法。
  15. 15.少なくとも1種の前記金属イオンは銅であり、そ
    して前記接触溶液のpHを約5〜約9の範囲内に調節す
    る、請求項14記載の方法。
  16. 16.前記接触溶液のアニオンは、酢酸、塩素、硫酸、
    硝酸、亜リン酸、リン酸、過塩素酸およびそれらの混合
    物から成る群より選択される、請求項15記載の方法。
  17. 17.前記イオウ含有成分は前記被覆組成物中に約0.
    1phr重量〜約10phr重量の範囲の量で存在し、
    そして前記網状構造のフィルムは約50〜約5000Å
    の範囲の厚さで付着させる、請求項9記載の方法。
  18. 18.前記被覆された支持体は、金属イオンまたは金属
    イオンの組み合わせを含有する前記溶液との接触後、蒸
    留水でさらに洗浄する、請求項9記載の方法。
  19. 19.前記乾燥工程(d)は、約80〜約120℃の温
    度において、約5分〜約1.5時間の間実施する、請求
    項9記載の方法。
  20. 20.前記被覆組成物は、アクリレートに基づくラテッ
    クス、スチレンに基づくラテックス、ポリウレタンに基
    づくラテックスおよびスチレン−ブタジエンに基づくラ
    テックスから成る群より選択される、請求項9記載の方
    法。
  21. 21.単一の薄い導電性層を付着させ、その際に前記層
    は透明であり、約10^1〜約10^1^4Ω/sqの
    範囲の抵抗を示し、そしてポリマーのフィルムの表面上
    の金属イオンとイオウのイオンとの複素構造からなる、
    請求項9記載の方法。
  22. 22.工程(b)の乾燥した被膜は、工程(c)の接触
    溶液が前記乾燥した被膜の表面と十分に濡れるような、
    十分な親水特性を有する、請求項9記載の方法。
  23. 23.支持体上に連続な金属フィルムを形成し、その際
    に前記フィルムが前記支持体にEMI/RFI遮断を提
    供する方法であって、下記の工程:a)前記支持体に被
    覆組成物を適用し、その際、前記被覆組成物は前記支持
    体に対して付着性のポリマーバインダーおよび有効量の
    イオウ含有成分からなり、前記イオウ含有成分は前記支
    持体の表面上に被覆されたポリマーのマトリックスの中
    から外に拡散することができ、そして金属イオンと反応
    して前記被膜の表面上に導電性層を形成することができ
    ること、 b)被覆された支持体を被膜が硬化する点まで部分的に
    乾燥し、ここで、イオウ含有成分は部分的に乾燥したフ
    ィルムの表面に拡散しかつ前記部分的に乾燥した被膜の
    表面の上または内部に金属のサルファイドおよび/また
    はポリサルファイドの連続的網状構造を形成することが
    できること、c)工程(b)の部分的に乾燥し被覆した
    支持体を、金属イオンまたは金属イオンの組み合わせを
    含有する溶液と接触させ、その際、前記金属イオンまた
    は金属イオンの組み合わせは、前記イオウ含有成分との
    反応により、前記被膜の表面の上または内部に導電性層
    を形成することができること、 d)工程(c)からの前記接触させ被覆した支持体を乾
    燥すること、そして e)工程(d)の前記乾燥し被覆した支持体を、前記金
    属のサルファイドおよび/またはポリサルファイドのフ
    ィルムを還元することができる元素または化合物と接触
    させること、 からなることを特徴とする方法。
  24. 24.還元性の元素または化合物は、水性の炭酸ナトリ
    ウムまたはホウ水素化ナトリウム中のアルミニウム箔か
    ら成る群より選択される、請求項23記載の方法。
  25. 25.前記金属イオンは金である、請求項23記載の方
    法。
  26. 26.EMI/RFI遮断を提供する極めて薄い金属フ
    ィルムからなり、前記極めて薄い金属フィルムは前記被
    膜の表面の上または内部に存在し、そして前記金属フィ
    ルムは前記被覆された支持体の表面を横切って連続であ
    り、そして約50〜約5,000Åの範囲の厚さを有す
    る、請求項23記載の方法によって得られた被覆された
    支持体。
  27. 27.前記金属フィルムは金であり、そして前記厚さは
    約50〜約200Åの範囲内である、請求項26記載の
    被覆された支持体。
  28. 28.実質的に不安定なイオウを含有しない静電消散性
    および/または静電防止性の被覆された支持体であって
    、前記被覆された支持体は、下記の工程: a)前記支持体に被覆組成物を適用し、その際、前記被
    覆組成物は前記支持体に対して付着性のポリマーバイン
    ダーおよび有効量のイオウ含有成分からなり、前記イオ
    ウ含有成分は前記支持体の表面上に被覆されたポリマー
    のマトリックスの中から外に拡散することができ、そし
    て少なくとも1種の金属イオンと反応して前記被膜の表
    面上に導電性層を形成することができること、 b)被覆された支持体を被膜が硬化する点まで部分的に
    乾燥し、ここで、イオウ含有成分は部分的に乾燥したフ
    ィルムの表面に拡散しかつ前記部分的に乾燥した被膜の
    表面の上または内部に金属のサルファイドおよび/また
    はポリサルファイドの連続的網状構造を形成することが
    できること、c)工程(b)の部分的に乾燥し被覆した
    支持体を、金属イオンまたは金属イオンの組み合わせを
    含有する溶液と接触させ、その際、前記金属イオンまた
    は金属イオンの組み合わせは、前記イオウ含有成分との
    反応により、前記被膜の表面の上または内部に導電性層
    を形成することができること、 d)工程(c)からの前記接触させ被覆した支持体を乾
    燥すること、そして e)工程(d)の前記乾燥し被覆した支持体を、不安定
    なイオウと反応して前記実質的に不安定なイオウを含有
    しないフィルムを生成する試薬と接触させること、 からなる方法によって調製されることを特徴とする被覆
    された支持体。
  29. 29.前記試薬は塩化銅( I )である、請求項28記
    載の被覆された支持体。
  30. 30.静電荷を消散することができる導電性フィルムで
    あって、硬化したポリマーの表面の上または内部の2ま
    たはそれ以上の金属イオン、サルファイドおよび/また
    はポリサルファイドの網状構造からなり、前記フィルム
    は約10^1〜約10^1^4Ω/sqの範囲の抵抗を
    有し、そして前記フィルムは約50〜約5,000Åの
    範囲の厚さを有することを特徴とする導電性フィルム。
  31. 31.前記金属イオンの組み合わせは、銅イオンと、イ
    ンジウム、パラジウム、モリブデンおよびバナジウムか
    ら成る群より選択される金属との組み合わせを包含する
    、請求項30記載のフィルム。
  32. 32.前記フィルムは、下記の工程: a)前記支持体に被覆組成物を適用し、その際、前記被
    覆組成物は前記支持体に対して付着性のポリマーバイン
    ダーおよび有効量のイオウ含有成分からなり、前記イオ
    ウ含有成分は前記支持体の表面上に被覆されたポリマー
    のマトリックスの中から外に拡散することができ、そし
    て金属イオンと反応して前記被膜の表面上に導電性層を
    形成することができること、 b)被覆された支持体を被膜が硬化する点まで部分的に
    乾燥し、ここで、イオウ含有成分は部分的に乾燥したフ
    ィルムの表面に拡散しかつ前記部分的に乾燥した被膜の
    表面の上または内部に金属のサルファイドおよび/また
    はポリサルファイドの連続的網状構造を形成することが
    できること、c)工程(b)の部分的に乾燥し被覆した
    支持体を、金属イオンまたは金属イオンの組み合わせを
    含有する溶液と接触させ、その際、前記金属イオンまた
    は金属イオンの組み合わせは、前記イオウ含有成分との
    反応により、前記被膜の表面の上または内部に導電性層
    を形成することができること、 d)工程(c)からの前記接触させ被覆した支持体を乾
    燥すること、そして e)工程(d)の前記乾燥し被覆した支持体を第2金属
    イオンの溶液と接触させ、その際、前記金属イオンは前
    記支持体上の前記被膜の表面において反応して、前記被
    膜の表面の上または内部に少なくとも2種の金属のサル
    ファイドおよび/またはポリサルファイドの網状構造層
    を生成すること、 からなる方法によって調製される、請求項31記載のフ
    ィルム。
  33. 33.支持体上に導電性被膜を付着させる方法であって
    、下記の工程: a)前記支持体に被覆組成物を適用し、その際、前記被
    覆組成物は前記支持体に対して付着性のポリマーバイン
    ダーおよび有効量のイオウ含有成分からなり、前記イオ
    ウ含有成分は前記支持体の表面上に被覆されたポリマー
    のマトリックスの中から外に拡散することができ、そし
    て金属イオンと反応して前記被膜の表面上に導電性層を
    形成することができること、 b)被覆された支持体を被膜が硬化する点まで部分的に
    乾燥し、ここで、イオウ含有成分は部分的に乾燥したフ
    ィルムの表面に拡散しかつ前記部分的に乾燥した被膜の
    表面の上または内部に金属のサルファイドおよび/また
    はポリサルファイドの連続的網状構造を形成することが
    できること、c)工程(b)の部分的に乾燥し被覆した
    支持体を、銅イオンを含有する溶液と接触させ、その際
    、前記銅イオンは、前記イオウ含有成分との反応により
    、前記被膜の表面の上または内部に導電性層を形成する
    ことができること、 d)工程(c)からの前記接触させ被覆した支持体を乾
    燥すること、そして e)工程(d)の前記乾燥し被覆した支持体を第2金属
    イオンの溶液と接触させ、その際、前記第2金属イオン
    は前記被膜の表面またはその付近において反応しかつ前
    記銅イオンを実質的に置換して、前記被膜の表面の上ま
    たは内部に前記第2金属イオンを含有する最終の金属イ
    オンのサルファイドおよび/またはポリサルファイドの
    網状構造層を生成すること、 からなることを特徴とする方法。
  34. 34.前記最終の被膜は、前記被膜の表面の上または内
    部のAgおよびAuから成る群より選択される金属イオ
    ン、およびサルファイドおよび/またはポリサルファイ
    ドからなる、請求項33記載の方法によって製造された
    被覆された支持体。
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