JPH023541Y2 - - Google Patents

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JPH023541Y2
JPH023541Y2 JP12680484U JP12680484U JPH023541Y2 JP H023541 Y2 JPH023541 Y2 JP H023541Y2 JP 12680484 U JP12680484 U JP 12680484U JP 12680484 U JP12680484 U JP 12680484U JP H023541 Y2 JPH023541 Y2 JP H023541Y2
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JP
Japan
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tank
processing
photosensitive material
water droplet
developer
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JP12680484U
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JPS6142542U (ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/08Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
    • G03D3/13Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
    • G03D3/132Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly fed by roller assembly

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はフイルム,印画紙,版材等の感光材料
を、例えば現像槽、定着槽、水洗槽などの複数の
処理槽を順次通過させ、当該感光材料に所定の処
理をおこなうための感光材料処理装置に関するも
のである。
〔従来の技術〕
従来、フイルム現像装置等の感光材料処理装置
においては、処理液を一定の温度に維持して所定
の処理が行なわれている。この処理液の温度は現
像液や定着液の場合、例えば30℃〜40℃とかなり
高温であるため、これらの処理液から発生する処
理液成分を含んだ蒸気が処理槽の上蓋に結露し、
その水滴が現像槽,定着槽,水洗槽などの処理槽
や処理槽間のクロスオーバー部に落下することが
ある。現像液や定着液の成分を含んだ水滴が現像
槽や定着槽に落下する場合に、現像液の成分が定
着液に混入することはさほど問題とはならない
が、定着液の成分が現像液に混入した場合には、
現像液が著しく劣化し、現像処理に支障をきたす
ことになる。また感光材料の処理中において上述
した水滴がクロスオーバー部を搬送中の感光材料
上に落下した場合には当該感光材料上に斑点状の
処理ムラが発生し、この水滴による処理ムラは、
現像槽と定着槽の間のクロスオーバー部において
特に問題となる。
かかる処理槽の上蓋への結露を防止するための
従来の技術としては、例えば実公昭59−26356号
公報に開示されている如く、処理槽の上蓋の下面
を連続気泡を有する断熱性材料で被覆すると共
に、この表面を微細な凹凸面としたものが知られ
ている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
しかしながら、実公昭59−26356号公報に開示
された処理装置においても、結露を完全に防止す
ることは不可能であり、例えば、装置を長時間停
止させた場合や処理槽内外の温度差が大きい場合
などにおいては、結露により発生した水滴が落下
し、上述したように感光材料に処理ムラを生じた
り、現像液を劣化させたりする難点があつた。
さらに、実公昭59−26356号公報に開示されて
いるように、処理装置の運転中及び停止後一定時
間、処理槽の上蓋に近接して設けた排気管より排
気をおこなうようにすれば、結露防止の効果を高
めることはできるが、装置が複雑となり、特に卓
上型のような小型の処理装置には適さない。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は結露そのものを防止するのではなく、
結露により発生する水滴が落下する位置を制御す
ることによつて上述した問題点を解決するもので
あり、感光材料を、複数の処理槽中を順次通過さ
せ、所定の処理をおこなうようにした感光材料処
理装置において、処理槽上部に、処理槽に向けて
水滴ガイド部材を凸設し、前記水滴ガイド部材の
下端部を、たとえば処理槽中央部等のように水滴
が落下しても問題ない場所に配置したことを特徴
とする。
〔作用〕
処理槽から結露により水滴ガイド部材下面に発
生した水滴は、水滴ガイド部材の下端部に集ま
り、該下端部の直下に位置する処理槽に落下する
ので、クロスオーバー部を搬送中の感光材料に処
理ムラを生じさせたり、また定着液の成分を含む
水滴が現像槽に落下して現像液を劣化させたりす
ることを防止しうる。
〔実施例〕
以下、添付図面に基づいて本考案の実施例を説
明する。
第1図は本考案の実施例に係る感光材料処理装
置の側断面図、第2図は当該処理装置を第1図の
2−2より見た正面断面図であり、第2図におい
て搬送ローラ等は図示を省略している。これらの
図において、12は現像槽、14は定着槽、16
は水洗槽であり、フイードトレイ18より挿入さ
れた露光済みの感光材料は、搬送路20に沿つて
前記各処理槽を順次搬送され、つぎに乾燥部22
においてブロアー24及びヒータ26による熱風
によつて乾燥され、排出部28より排出される。
30は傾斜部32,34を有する第1の水滴ガ
イドで、現像槽12及び定着槽14の上部に配置
されており、水滴ガイド30の下端部36は定着
槽14の上部に配置されている。また40は傾斜
部42,44を有する第2の水滴ガイドで、水洗
槽16の上部に配設されており、水滴ガイド40
の下端部46は水洗槽16の上部に配設されてい
る。
この装置において各処理槽12,14,16の
上部の空間29には、各処理液より発生した処理
液成分を含む蒸気が充満しており、水滴ガイド3
0,40の下面に結露による水滴が発生する。し
かしながら、これらの水滴は、水滴ガイド30,
40の傾斜部32,34及び42,44に沿つて
下端部36,46に集まり、定着槽14及び水洗
槽16に各々落下する。従つて、水滴がクロスオ
ーバー部を搬送中の感光材料上に落下して処理ム
ラを生じさせたり、定着液の成分を含む水滴が現
像槽12に落下して現像液を劣化させたりするこ
とはない。
第3図は本考案の別の実施例を示す側断面図で
あり、この実施例においては、傾斜部52,54
を有する水滴ガイド50が現像槽12定着槽14
及び水洗槽16の上部に配設されている。
この装置においては、結露により水滴ガイド5
0の下面に発生した水滴は、水滴ガイド50の傾
斜部52,54に沿つて下端部56に集まり、水
洗槽16に落下する。
第4図は本考案のさらに別の実施例を示す側断
面図であり、この実施例においては、現像槽1
2、定着槽14、水洗槽16の上部に図示のよう
に水滴ガイド60,70,80が各々配設されて
いる。
この装置においては、各処理槽12,14,1
6より発生した蒸気の大部分は、その直上の水滴
ガイド60,70,80の下面に結露し、水滴と
なつて下端部66,76,86より各処理槽に落
下するので、クロスオーバー部を搬送中の感光材
料上に落下して処理ムラを生じさせるとはない。
また各処理槽12,14,16より発生した蒸
気の一部は隣接する水滴ガイドの下面にも結露す
ることがあり、水滴となつて隣接する処理槽へ落
下することもありうる。しかしながら、定着槽1
4の上部の水滴ガイド70における、現像槽12
側の傾斜部74は、現像槽12の一部を覆う位置
まで延長されているので、定着槽14より発生し
た蒸気は、水滴ガイド70の傾斜部74には結露
するが、現像槽12上の水滴ガイド60には結露
せず、そのため定着液の成分を含んだ水滴が現像
槽12に落下して現像液を劣化させることはな
い。
なお、上述した実施例においては、いずれも水
滴ガイドの傾斜部を平面で構成した場合について
述べたが、これに限定されるものではなく、凸
状,凹状等のわん曲形状としてもよい。
また、上述した実施例においては、水滴ガイド
を感光材料の搬送方向に傾斜させた場合について
述べたが、搬送方向と交差する方向に傾斜させて
も良く、さらには円錐もしくは多角錐状に付設し
てもよいことは言うまでもない。
〔考案の効果〕
本考案によれば、結露により発生した水滴がク
ロスオーバー部に落下することを回避できるの
で、感光材料の処理ムラの発生を防止することが
できる。
また定着液の成分を含んだ水滴が現像槽に落下
することがないようにできるので、現像液の劣化
を防止することができる。
さらには、結露により発生する水滴を速やかに
落下させうるので、装置の汚れや腐食をも防止す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る感光材料処理装置の実施
例を示す側断面図、第2図は装置を第1図の2−
2よりみた正面断面図、第3図及び第4図は別の
実施例を示す側断面図である。 12:現像槽、14:定着槽、16:水洗槽、
30,40,50,60,70,80:水滴ガイ
ド。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 感光材料を、所定の順序に配列された複数の
    処理槽内を通過させることにより、該感光材料
    に所定の処理を施すようにした感光材料処理装
    置において、処理槽間のクロスオーバー部の上
    方に、結露により生じる水滴を流下によりガイ
    ドする傾斜部を有し、かつその下端部がクロス
    オーバー部以外に対向する水滴ガイド部材を、
    少なくとも1つの処理槽の上方に付設したこと
    を特徴とする感光材料処理装置。 (2) 水滴ガイド部材の下端部の位置が、処理槽の
    上方である実用新案登録請求の範囲第(1)項記載
    の感光材料処理装置。
JP12680484U 1984-08-21 1984-08-21 感光材料処理装置 Granted JPS6142542U (ja)

Priority Applications (3)

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JP12680484U JPS6142542U (ja) 1984-08-21 1984-08-21 感光材料処理装置
GB08513323A GB2163370B (en) 1984-08-21 1985-05-28 Apparatus for processing a photosensitive substrate
DE19853520200 DE3520200A1 (de) 1984-08-21 1985-06-05 Vorrichtung zum bearbeiten von lichtempfindlichem material

Applications Claiming Priority (1)

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JP12680484U JPS6142542U (ja) 1984-08-21 1984-08-21 感光材料処理装置

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JPS6142542U JPS6142542U (ja) 1986-03-19
JPH023541Y2 true JPH023541Y2 (ja) 1990-01-26

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DE (1) DE3520200A1 (ja)
GB (1) GB2163370B (ja)

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DE3520200C2 (ja) 1989-04-27
GB2163370A (en) 1986-02-26
JPS6142542U (ja) 1986-03-19
GB2163370B (en) 1988-04-20
GB8513323D0 (en) 1985-07-03
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