JPH0234908B2 - Hisankabutsuseramitsukusutokinzokunosetsugotai - Google Patents

Hisankabutsuseramitsukusutokinzokunosetsugotai

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JPH0234908B2
JPH0234908B2 JP17393085A JP17393085A JPH0234908B2 JP H0234908 B2 JPH0234908 B2 JP H0234908B2 JP 17393085 A JP17393085 A JP 17393085A JP 17393085 A JP17393085 A JP 17393085A JP H0234908 B2 JPH0234908 B2 JP H0234908B2
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JP
Japan
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metal
thermal expansion
layer made
layer
bonding
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JP17393085A
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JPS6236079A (ja
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Katsuaki Suganuma
Taira Okamoto
Mitsue Koizumi
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉 この発明は窒化けい素などの非酸化物セラミツ
クスと金属の接合体に関するものである。 〈従来の技術〉 窒化けい素、炭化けい素などの非酸化物セラミ
ツクスは、金属に比べて高温強度、耐摩耗性、耐
食性などの面ですぐれた特性を有しているため、
この特性を生かした用途の開発が進められてい
る。 窒化けい素セラミツクスや炭化けい素セラミツ
クスを自動車用エンジンならびにそのターボチヤ
ージヤーなどに使用しようとするのはその一例で
あるが、このようにセラミツクスを構造材料とし
て使用する際には、金属部材との接合が必要とな
る場合が多い。 〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、窒化けい素や炭化けい素などの
非酸化物セラミツクスは、金属との反応性が低
く、安定な性質を有しており、金属との接合が難
しいうえに非酸化物セラミツクスと金属の熱膨脹
係数の差に起因して接合界面に大きな熱応力が残
留し、接合体が破壊するなどの問題が起つてい
る。 例えば、窒化けい素セラミツクスと鋼の熱膨脹
係数は、それぞれ3×10-6/℃、15×10-6/℃で
あり、1300℃で接合した場合を想定すると、接合
後室温まで冷却してくる間に、窒化けい素と鋼の
接合界面の両端の窒化けい素側に約100Kg/mm2
熱応力が発生することが計算によつて求められて
いる。 このため、従来非酸化物セラミツクス部材と金
属部材との接合については、焼きばめやネジ止め
などによる機械的な接合が行なわれてきた。 ところが、これらの接合方法は複雑な形状の機
械部品の接合には不向きであり、熱サイクルに対
しての信頼性に欠けるという問題が指摘されてい
る。 〈問題点を解決するための手段〉 この発明は、上記した従来の非酸化物セラミツ
クスと金属の接合法における問題点を解消すべく
検討の結果、見出されたものである。 即ち、この発明は大量の非酸化物セラミツクス
部材と金属部材を接合するのに適した接合体の構
造を提供するものであり、詳しく述べると、非酸
化物セラミツクス部材と金属部材との接合に際し
て、両部材間に低弾性率金属および/または展延
性を有する金属よりなる層、脆性材料よりなる
層、低熱膨脹率物質よりなる層を非酸化物セラミ
ツクス部材側より順に設けた非酸化物セラミツク
スと金属の接合体である。 〈作 用〉 この発明は非酸化物セラミツクス部材と金属部
材との接合面に、非酸化物セラミツクス側から順
に低弾性率金属および/または展延性を有する金
属よりなる層、脆性材料よりなる層、低熱膨脹率
物質よりなる層を介在させたことが特徴である。 この構造は図面に示す通りであり、1が非酸化
物セラミツクス部材、5が金属部材であつて、こ
の両者の間に低弾性率金属および/または展延性
を有する金属よりなる層2、脆性材料よりなる層
3、低熱膨脹率物質よりなる層4が介在してい
る。そして6は脆性材料よりなる層3に発生する
亀裂である。この亀裂は接合面に対して直角方向
に発生させるのが望ましい。 上述した構造のこの発明の接合体において、脆
性材料よりなる層3の役割は、非酸化物セラミツ
クス部材と金属部材の熱膨脹率の差に起因して接
合時の冷却途中で接合界面に発生する熱応力を緩
和せしめることである。熱応力の緩和の機構とし
ては、接合冷却時に発生する熱応力によつて脆性
材料よりなる層の中に亀裂が発生し、残留応力を
解放していることが考えられる。 この時発生した亀裂は、低弾性率金属および/
または展延性を有する金属よりなる層によつて止
められ、非酸化物セラミツクス部材には到達しな
い。また低熱膨脹率物質よりなる層も亀裂の進展
を食い止める働きがあるため、亀裂は脆材料より
なる層の中に限定して発生するのである。 低熱膨脹率物質よりなる層4の本来の役割は、
非酸化物セラミツクス部材に近い熱膨脹率を有す
ることによつて、接合時の冷却過程でセラミツク
ス側の接合界面に発生する熱応力を低減すること
である。このような役割の低熱膨脹率物質よりな
る層をセラミツクス部材と金属部材の間に介在さ
せることにより、接合時の冷却過程で発生する熱
応力を接合界面のセラミツクス側と金属側に分散
させることができるのである。 しかして、セラミツクス部材と低熱膨脹率物質
とは熱膨脹率の差が小さいため、セラミツクス部
材と低熱膨脹率物質との間で発生する熱応力は減
少する。 一方、低熱膨脹率物質と金属部材の間には熱膨
脹率の差に起因した熱応力が発生するが、金属部
材の塑性変形により、発生した熱応力が緩和され
るため、低熱膨脹率物質と金属部材の間で破壊が
生じることはない。 この発明で使用する低弾性率金属および/また
は展延性を有する金属としては、Ag、Al、Au、
Cu、Fe、Hf、Mg、Nb、Ni、Pb、Pd、Pt、
Sn、Ta、Ti、V、Zn、Zrの群より選ばれた単体
金属またはこれら金属の2種以上の合金からなる
単層または多層構造のものがある。 これらの金属は一般に軟金属と呼ばれており、
接合時の冷却過程で発生する熱応力を塑性変形に
よつて緩和する働きがある。 また隣接する脆性材料よりなる層中に発生した
亀裂が非酸化物セラミツクス部材へ伝播するのを
防ぐ役割も果すのである。 脆性材料よりなる層としては、セラミツクスお
よび/または金属間化合物を用いる。 この脆性材料よりなる層は接合を行なう際に積
極的にセラミツクスおよび/または金属間化合物
を介在させる場合と、接合過程で拡散などの反応
によつてセラミツクスおよび/または金属間化合
物が自然発生的に生成する場合とがある。 何れの場合にもその働きは同一である。 低熱膨脹率物質としては、室温での熱膨脹率が
6×10-6/℃以下の金属単体および/またはそれ
らの合金、サーメツトが使用される。具体的には
W、Moなどの金属単体、コバール、インバーな
どの合金、超硬合金、サーメツトなどのセラミツ
クス―金属複合材料がある。 上記した3種類の層を非酸化物セラミツクス部
材と金属部材の間に介在させることにより引張強
度で10MPaをこえる接合体を得ることができる
のである。 〈実施例〉 以下、実施例によりこの発明を詳細に説明す
る。 実施例 1 直径7mm、高さ10mmのSi3N4焼結体と直径7
mm、高さ10mmの炭素鋼との間にSi3N4側から順に
10μm高さのNb箔、下記第1表に示す厚さの
Al2O3焼結体、10μm厚さのNb箔、1mm厚さのW
板を介在させて、100MPaの加圧下で1400℃、30
分間保持して加圧拡散接合を行つた。 本接合体の引張強度を測定したところ第1表の
結果が得られた。 この引張強度測定の際にAl2O3焼結体の中には
接合面に直角方向に亀裂が発生した。脆性材料よ
りなる層の厚みには最適値が存在する。この場
合、脆性材料よりなる層は具体的にはAl2O3焼結
体であるが、第1表から明らかなように、100μ
m以下の厚みでは残留熱応力緩和の効果はなく、
また500μm以上でも若干強度が低下する。この
接合体では300μm厚さのAl2O3焼結体、を用いた
場合に最も高い接合強度が得られた。
【表】 実施例 2 実施例1で用いたと同寸法のSi3N4焼結体と炭
素鋼の間にSi3N4側から順に500μm厚さのNb箔、
300μm厚さのAl2O3焼結体、10μm厚さのNb箔、
5mm厚さのMo板を介在させて、100MPaの加圧
下で1400℃に30分間保持して加圧拡散接合を行つ
た。この時の接合強度は引張りで23.7MPaであつ
た。この接合強度測定の際にAl2O3焼結体の中に
は接合面に直角方向に亀裂が発生した。 実施例 3 直径7mm、高さ10mmのSiC焼結体と直径7mm、
高さ10mmの炭素鋼との間にSiC側から順に500μm
厚さのFe箔、500μm厚さのNb箔、1mm厚さのW
板を介在させ、80MPaの加圧下で1200℃に1時
間保持して加圧拡散接合を行つた。この時の接合
強度は引張りで40MPaであつた。この接合の際
にFe層とNb層の接合界面に400μm厚さで反応層
が生成していた。そしてこの反応層はFe―Nbの
金属間化合物と考えられる。また、接合強度測定
の際反応層中には接合面に直角方向に亀裂が発生
していた。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明になる非酸化物セラミツクスと
金属の接合体の構造を示す説明図である。 1…非酸化物セラミツクス部材、2…低弾性率
金属および/または展延性を有する金属よりなる
層、3…脆性材料よりなる層、4…低熱膨脹率物
質よりなる層、5…金属部材、6…亀裂。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 非酸化物セラミツクス部材と金属部材との接
    合に際して、両部材間に低弾性率金属および/ま
    たは展延性を有する金属よりなる層、脆性材料よ
    りなる層、低熱膨脹率物質よりなる層を非酸化物
    セラミツクス部材側より順に介在せしめて接合し
    たことを特徴とする非酸化物セラミツクスと金属
    の接合体。 2 低弾性率金属および/または展延性を有する
    金属がAg、Al、Au、Cu、Fe、Hf、Mg、Nb、
    Ni、Pb、Pt、Sn、Ta、Ti、V、Zn、Zrの群か
    ら選ばれる単体金属またはこれらの金属の2種以
    上の合金からなる単層または多層構造であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の非酸化
    物セラミツクスと金属の接合体。 3 脆性材料がセラミツクスまたは金属間化合物
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の非酸化物セラミツクスと金属の接合体。 4 低熱膨脹率物質が室温で6×10-6/℃以下の
    熱膨脹率を有する金属単体または合金および/ま
    たはサーメツトであることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の非酸化物セラミツクスと金属
    の接合体。
JP17393085A 1985-08-06 1985-08-06 Hisankabutsuseramitsukusutokinzokunosetsugotai Expired - Lifetime JPH0234908B2 (ja)

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JP5081418B2 (ja) * 2006-08-28 2012-11-28 パナソニック株式会社 Ledパッケージ

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