JPH02312026A - 光記録媒体用ロール型の製造法 - Google Patents
光記録媒体用ロール型の製造法Info
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- JPH02312026A JPH02312026A JP13160689A JP13160689A JPH02312026A JP H02312026 A JPH02312026 A JP H02312026A JP 13160689 A JP13160689 A JP 13160689A JP 13160689 A JP13160689 A JP 13160689A JP H02312026 A JPH02312026 A JP H02312026A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 40
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 45
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 45
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 abstract description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 8
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000669 Chrome steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は光記録媒体の製造方法に関し、詳しくは光記録
媒体の透明基板に凹凸パターンを形成するロール形状の
型またはスタンパーの製造方法に関する。
媒体の透明基板に凹凸パターンを形成するロール形状の
型またはスタンパーの製造方法に関する。
(従来の技術〕
従来、各種情報の記録には、磁気テープ、磁気ディスク
等の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いら
れてきた。この様な磁気メモリー、半導体メモリーは情
報の書き込みおよび読みたしが容易に行なえるという利
点はあるが、反面、情報の内容を容易に変更したり、ま
た高密度記録ができないという問題点があった。かかる
問題点を解決するために、多種多様の情報を効率良く取
り扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録方
法が提案され、そのための光学的情報記録担体、記録再
生方法、記録再生装置が提案されている。
等の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いら
れてきた。この様な磁気メモリー、半導体メモリーは情
報の書き込みおよび読みたしが容易に行なえるという利
点はあるが、反面、情報の内容を容易に変更したり、ま
た高密度記録ができないという問題点があった。かかる
問題点を解決するために、多種多様の情報を効率良く取
り扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録方
法が提案され、そのための光学的情報記録担体、記録再
生方法、記録再生装置が提案されている。
かかる情報記録担体としての光記録媒体は、一般にレー
ザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散
させるか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形
を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情
報を記録し、°あるいは再生を行なっている。この場合
、光記録層は情報を書き込み後、現像処理などの必要が
なく、[書いた後に直読する」ことのできる、いわゆる
DRAW (ダイレクト リード アフター ライト)
タイプの媒体であり、高密度記録が可能であり、また追
加書き込みも可能であることから、情報の記録・保存媒
体として有効である。
ザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散
させるか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形
を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情
報を記録し、°あるいは再生を行なっている。この場合
、光記録層は情報を書き込み後、現像処理などの必要が
なく、[書いた後に直読する」ことのできる、いわゆる
DRAW (ダイレクト リード アフター ライト)
タイプの媒体であり、高密度記録が可能であり、また追
加書き込みも可能であることから、情報の記録・保存媒
体として有効である。
第5図は、従来の光記録媒体の模式的断面図である。同
第5図において、41は透明基板、42はトラック溝部
、43は光記録層、44はスペーサー・接着層、45は
保護基板である。第5図において、情報の記録・再生は
透明基板41およびトラック溝部42を通して光学的に
書き込みと読みだしを行なう、この際、トラック溝部の
微細な凹凸を利用してレーザー光の位相差によりトラッ
キングを行なえる様にしである。
第5図において、41は透明基板、42はトラック溝部
、43は光記録層、44はスペーサー・接着層、45は
保護基板である。第5図において、情報の記録・再生は
透明基板41およびトラック溝部42を通して光学的に
書き込みと読みだしを行なう、この際、トラック溝部の
微細な凹凸を利用してレーザー光の位相差によりトラッ
キングを行なえる様にしである。
(発明が解決しようとしている問題点)上記した様に、
従来のビデオディスク、オーディオディスクなどの光記
録媒体では、一般にあらかじめ凹凸形状を形成されたス
タンパーを用いて、プレス法、射出成型法または紫外線
硬化樹脂法を用いて透明基板にスタンパーの凹凸形状を
転写している。上記の方法は一般に枚葉工程であるが、
例えば、特開昭56−87203.特開昭56−867
21などのように、第6図に示すようにロール形状のス
タンパーまたは金型52を用いて透明樹脂シート51に
凹凸パターンを連続で形成する方法も広く用いられてい
る。上記先行技術では第2図に示すように、ロール11
にスタンパー12を接着剤や両面テープで接合するか、
あるいはネジ止めによって固定している。このスタンパ
ー12をロール11に固定する方法では、真円度を得る
ためにはロールの表面が鏡面に研磨されていても接着剤
や両面テープの厚さムラを厳しく管理しなければならず
、また空気を巻き込まないように接合技術を要するとい
う問題点がある。またスタンパーとロールを接合するこ
となく、ネジなどで固定するときも、空気を追い出しな
がら密着させるのが困難である。この両方とも、スタン
パーとロールの間に空気が入ると、スタンパーの表面に
凹凸を生じ、その凹凸が樹脂に転写して光記録媒体の基
板の品質を低下させてしまう。
従来のビデオディスク、オーディオディスクなどの光記
録媒体では、一般にあらかじめ凹凸形状を形成されたス
タンパーを用いて、プレス法、射出成型法または紫外線
硬化樹脂法を用いて透明基板にスタンパーの凹凸形状を
転写している。上記の方法は一般に枚葉工程であるが、
例えば、特開昭56−87203.特開昭56−867
21などのように、第6図に示すようにロール形状のス
タンパーまたは金型52を用いて透明樹脂シート51に
凹凸パターンを連続で形成する方法も広く用いられてい
る。上記先行技術では第2図に示すように、ロール11
にスタンパー12を接着剤や両面テープで接合するか、
あるいはネジ止めによって固定している。このスタンパ
ー12をロール11に固定する方法では、真円度を得る
ためにはロールの表面が鏡面に研磨されていても接着剤
や両面テープの厚さムラを厳しく管理しなければならず
、また空気を巻き込まないように接合技術を要するとい
う問題点がある。またスタンパーとロールを接合するこ
となく、ネジなどで固定するときも、空気を追い出しな
がら密着させるのが困難である。この両方とも、スタン
パーとロールの間に空気が入ると、スタンパーの表面に
凹凸を生じ、その凹凸が樹脂に転写して光記録媒体の基
板の品質を低下させてしまう。
空気が入らなくても、スタンパーとロールの密着が悪い
と熱伝導度にムラが生じて微細なパターンが精度良く転
写されなかったり、成型する樹脂によっては複屈折を生
じたりするという問題点がある。そのL、スタンパーが
薄いと強度が不足するため、耐久性が悪くなってしまい
、その反対にスタンパーが厚いと剛性が高くなって、ロ
ールにSき付けるのが難しくなるだけでなく、熱伝導度
も低下してしまうという問題点もある。印刷機械入門お
よび新・感光性樹脂(印刷学会出版部)には、第3図、
4図に示すような一般的な製版の技術が記載されている
。第3IAではあらかじめパターンの形成されているマ
スク22の上をロール21を転がしながら電子線または
電磁波を照射してマスクのパターンをロールに転写して
いる。また第4図の方法では感光樹脂などを塗ったロー
ル31を軸を中心に回転させながら光ビーム32を一方
向スキャンさせてパターンを直接描画している。しかし
ながら光記録媒体のパターンはサブミクロンと微細であ
るために、第3図の方法ではサブミクロンのパターンの
線幅を転写するのは、光学的な分解能から現在ではまだ
不可能である。また第4図の方法ではロールとビームを
連動させながらスパイラルパターンをサブミクロンの精
度で位置を正確に出して描画しなければならず、この両
者の機械的な制御が困難である。またロールの軸受けや
ロール表面の平面度も精度が要求されるために。
と熱伝導度にムラが生じて微細なパターンが精度良く転
写されなかったり、成型する樹脂によっては複屈折を生
じたりするという問題点がある。そのL、スタンパーが
薄いと強度が不足するため、耐久性が悪くなってしまい
、その反対にスタンパーが厚いと剛性が高くなって、ロ
ールにSき付けるのが難しくなるだけでなく、熱伝導度
も低下してしまうという問題点もある。印刷機械入門お
よび新・感光性樹脂(印刷学会出版部)には、第3図、
4図に示すような一般的な製版の技術が記載されている
。第3IAではあらかじめパターンの形成されているマ
スク22の上をロール21を転がしながら電子線または
電磁波を照射してマスクのパターンをロールに転写して
いる。また第4図の方法では感光樹脂などを塗ったロー
ル31を軸を中心に回転させながら光ビーム32を一方
向スキャンさせてパターンを直接描画している。しかし
ながら光記録媒体のパターンはサブミクロンと微細であ
るために、第3図の方法ではサブミクロンのパターンの
線幅を転写するのは、光学的な分解能から現在ではまだ
不可能である。また第4図の方法ではロールとビームを
連動させながらスパイラルパターンをサブミクロンの精
度で位置を正確に出して描画しなければならず、この両
者の機械的な制御が困難である。またロールの軸受けや
ロール表面の平面度も精度が要求されるために。
ロールの加工も困難になっている。このように一般的な
製版技術の応用では光記録媒体用のロール型を製作する
のは困難であった。
製版技術の応用では光記録媒体用のロール型を製作する
のは困難であった。
(問題点を解決するための手段)
すなわち、本発明は、ロール形状をしたスタンパーまた
は原版を用いて、連続的にプリフォーマットなどのパタ
ーンの形成された透明基板を製造する工程において、あ
らかじめプリフォーマットパターンなどの凹凸形状が形
成された原版またはスタンパーのヒを、少なくとも表面
部が樹脂で形成されたロールを転がすことによって、該
原版またはスタンパーの凹凸パターンをロール表面に転
写することを特徴とする、光記録媒体の製造用ロール型
の製造方法である。
は原版を用いて、連続的にプリフォーマットなどのパタ
ーンの形成された透明基板を製造する工程において、あ
らかじめプリフォーマットパターンなどの凹凸形状が形
成された原版またはスタンパーのヒを、少なくとも表面
部が樹脂で形成されたロールを転がすことによって、該
原版またはスタンパーの凹凸パターンをロール表面に転
写することを特徴とする、光記録媒体の製造用ロール型
の製造方法である。
以下1本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に光記録媒体のロール型の製造方法の一
実施態様を示す断面図である。同第1図において、本発
明の光記録媒体のロール型の製造方法は、ローラー1の
表面に樹脂2が均一な厚さで形成されている。このロー
ル1を凹凸パターン3があらかじめ形成されたスタンパ
ーまたは原版4の上を転がして、樹脂層2に凹凸パター
ン4を転写する。
実施態様を示す断面図である。同第1図において、本発
明の光記録媒体のロール型の製造方法は、ローラー1の
表面に樹脂2が均一な厚さで形成されている。このロー
ル1を凹凸パターン3があらかじめ形成されたスタンパ
ーまたは原版4の上を転がして、樹脂層2に凹凸パター
ン4を転写する。
本発明におけるローラー1は、硬度がある程度高く、あ
る程度の剛性のある材料であれば、どのような材料でも
用いることができるが、例えば、鉄、クロム鋼などの金
属や金属化合物および硬質塩化ビニルなどの樹脂などが
好ましい。ローラー表面は鏡面に研磨し、面精度は成型
する光記録媒体の面精度と、はぼ同じかまたはそれより
も良い面精度が必要である。また必要に応じて表面に窒
化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成す
ることもできるし、ニッケルやクロムなどのメッキを施
すことも可能である。
る程度の剛性のある材料であれば、どのような材料でも
用いることができるが、例えば、鉄、クロム鋼などの金
属や金属化合物および硬質塩化ビニルなどの樹脂などが
好ましい。ローラー表面は鏡面に研磨し、面精度は成型
する光記録媒体の面精度と、はぼ同じかまたはそれより
も良い面精度が必要である。また必要に応じて表面に窒
化チタンなどの硬化膜、シリコンなどの保護層を形成す
ることもできるし、ニッケルやクロムなどのメッキを施
すことも可能である。
ロール1の表面に形成する樹脂層2の材料は均一な厚さ
に形成できて、微細なパターンを精度良く転写できて、
かつその微細なパターンを形成した後にそのパターンを
維持できるように加工できる材料であれば、いずれの材
料でも用いることができるが1例えばアクリル系樹脂な
どの紫外線硬化性樹脂やエポキシ系樹脂などの熱硬化性
樹脂などが好ましい。樹脂層の形成は一般に樹脂のコー
ティングに用いられている方法であればいずれの方法で
も用いることができるが、例えば、ディッピング、ロー
ルコータ−などによる溶剤塗布による方法が厚み精度良
く形成でき好ましい。
に形成できて、微細なパターンを精度良く転写できて、
かつその微細なパターンを形成した後にそのパターンを
維持できるように加工できる材料であれば、いずれの材
料でも用いることができるが1例えばアクリル系樹脂な
どの紫外線硬化性樹脂やエポキシ系樹脂などの熱硬化性
樹脂などが好ましい。樹脂層の形成は一般に樹脂のコー
ティングに用いられている方法であればいずれの方法で
も用いることができるが、例えば、ディッピング、ロー
ルコータ−などによる溶剤塗布による方法が厚み精度良
く形成でき好ましい。
スタンパーまたは原版4は、一般にCD(コンパクトデ
ィスク)などに用いられている製法で作製することがで
きる。具体的には、ガラス原盤にレジストを塗布して、
パターンを露光、現像してから、ニッケルをスパッター
で成膜して、電鋳して所定の厚さまでニッケルを析出さ
せる。こうして得られた第二原盤をファーザーとして、
第三原盤(マザー)および孫スタンパ−を作成しても良
い。その他には、原版を製作する方法を用いることもで
きる。具体的にはクロムなどの金属層を形成しであるガ
ラス板にレジストを塗布して、パターンを露光、現像し
てから金属層をエツチングなどによって一部除去して凹
凸パターンを形成する。この原版から露光によって−F
記ススタンパ−形成しても良い。原版、スタンパーの厚
さは、本発明ではスタンパーまたは原版4の上をロール
1を転がすのである程度の剛性がある方が望ましい。用
いられる範囲としては100μm以上であれば良く、よ
り好ましい厚さは400〜5000μIである。
ィスク)などに用いられている製法で作製することがで
きる。具体的には、ガラス原盤にレジストを塗布して、
パターンを露光、現像してから、ニッケルをスパッター
で成膜して、電鋳して所定の厚さまでニッケルを析出さ
せる。こうして得られた第二原盤をファーザーとして、
第三原盤(マザー)および孫スタンパ−を作成しても良
い。その他には、原版を製作する方法を用いることもで
きる。具体的にはクロムなどの金属層を形成しであるガ
ラス板にレジストを塗布して、パターンを露光、現像し
てから金属層をエツチングなどによって一部除去して凹
凸パターンを形成する。この原版から露光によって−F
記ススタンパ−形成しても良い。原版、スタンパーの厚
さは、本発明ではスタンパーまたは原版4の上をロール
1を転がすのである程度の剛性がある方が望ましい。用
いられる範囲としては100μm以上であれば良く、よ
り好ましい厚さは400〜5000μIである。
原版またはスタンパー4の上に樹脂層2を形成したロー
ル1は回転させて凹凸パターン3をロールLに転写する
。ロール1上に形成する樹脂層2の厚さは用いる樹脂に
よって、適宜選択するのが好ましく、概ね0.0I〜5
00μ−の範囲である。また必要に応じてレベリング、
予備硬化の工程を加えても良い。
ル1は回転させて凹凸パターン3をロールLに転写する
。ロール1上に形成する樹脂層2の厚さは用いる樹脂に
よって、適宜選択するのが好ましく、概ね0.0I〜5
00μ−の範囲である。また必要に応じてレベリング、
予備硬化の工程を加えても良い。
ロール1とスタンパーまたは原版4の接触圧力は凹凸パ
ターンが精度良く転写できる圧力であれば、いずれの圧
力でも用いることができるが、好ましくは0.01〜1
0.0kg/cm2である。ロール1はスタンパーまた
は原版4の上を空気が入らない速度で回転させ、空気を
押し出すのにはできるだけdい速度で回転させるのが良
い。樹脂層2の粘度が高くて空気が入り易い場合には、
粘度の高い樹脂の上に粘度の低い樹脂層を重ねて形成す
ることによって空気の押し出しを容易にすることも出来
る。第1図に示すように凹凸パターンが樹脂層2に形成
された後凹凸パターンを維持できるように樹脂層2を硬
化させる。樹脂層2の樹脂が紫外線硬化樹脂であれば光
源5は紫外線ランプを用い、樹脂層2の樹脂が熱硬化性
樹脂であれば熱線発生機5を用いる。光源または熱線照
射装置5の位置は必要に応じてどの位置でも用いること
ができるが、ロール1の内側から照射しても (5)、
スクンパーまたは原版の側から照射しても(5°)、凹
凸パターンが形成されてからスタンパーまたは原版から
離れた位置で照射されても(5”)良い。また樹脂層2
に用いる樹脂が硬化時間が長い場合には後硬化の工程を
加えても良い。
ターンが精度良く転写できる圧力であれば、いずれの圧
力でも用いることができるが、好ましくは0.01〜1
0.0kg/cm2である。ロール1はスタンパーまた
は原版4の上を空気が入らない速度で回転させ、空気を
押し出すのにはできるだけdい速度で回転させるのが良
い。樹脂層2の粘度が高くて空気が入り易い場合には、
粘度の高い樹脂の上に粘度の低い樹脂層を重ねて形成す
ることによって空気の押し出しを容易にすることも出来
る。第1図に示すように凹凸パターンが樹脂層2に形成
された後凹凸パターンを維持できるように樹脂層2を硬
化させる。樹脂層2の樹脂が紫外線硬化樹脂であれば光
源5は紫外線ランプを用い、樹脂層2の樹脂が熱硬化性
樹脂であれば熱線発生機5を用いる。光源または熱線照
射装置5の位置は必要に応じてどの位置でも用いること
ができるが、ロール1の内側から照射しても (5)、
スクンパーまたは原版の側から照射しても(5°)、凹
凸パターンが形成されてからスタンパーまたは原版から
離れた位置で照射されても(5”)良い。また樹脂層2
に用いる樹脂が硬化時間が長い場合には後硬化の工程を
加えても良い。
本発明の光記録媒体の製造用ロール型の製法は、該原版
またはスタンパーの凹凸パターンをロール表面に精度良
く、簡単な機構で転写した光記録媒体の製造用ロール型
を提供するものである。
またはスタンパーの凹凸パターンをロール表面に精度良
く、簡単な機構で転写した光記録媒体の製造用ロール型
を提供するものである。
(実施例)
以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
。
。
(実施例1)
第1図に示す様に、ロール径200m■φの鉄製ロール
を表面を研磨して鏡面にした上に、紫外線硬化樹脂(三
菱レイヨン製、MRA50G)をロールコータ−で50
μIの厚さに均一に塗布した。そのロールを、 1.6
μmピッチ、0.6μ層幅、深さ700人の連続溝が形
成されたニッケル製スタンパー(セイコーエプソン製)
を2ano厚のガラス板に貼り合せて裏打ちした上を、
1.Okg/cs+’の圧力を加えて、 0.101/
分の速度で回転させることによりスタンパーの凹凸パタ
ーンを転写した。第1図5”の位置に3klFの紫外線
ランプ(ウシオ電気製)を2本設置して転写した凹凸パ
ターンが形状変化を起こさないうちに紫外線硬化樹脂を
硬化させた。その後で凹凸パターンが形成されたローラ
ーを回転しながら、5kWの紫外線ランプを用いて紫外
線を照射して紫外線硬化樹脂を完全に硬化させた。表面
硬度を上げるために、ローラーの表面に100μIの厚
さのニッケル層を無電解メッキで形成した。スタンパー
に形成されていたプリフォーマットパターンの転写率は
、深さで97%以上、転写率のバラツキはローラー全面
で±5%以下であった。ローラーの表面の凹凸はp−p
で50μ−以下で十分小さく、またローラー断面の真円
度および偏芯はト分小さかった。
を表面を研磨して鏡面にした上に、紫外線硬化樹脂(三
菱レイヨン製、MRA50G)をロールコータ−で50
μIの厚さに均一に塗布した。そのロールを、 1.6
μmピッチ、0.6μ層幅、深さ700人の連続溝が形
成されたニッケル製スタンパー(セイコーエプソン製)
を2ano厚のガラス板に貼り合せて裏打ちした上を、
1.Okg/cs+’の圧力を加えて、 0.101/
分の速度で回転させることによりスタンパーの凹凸パタ
ーンを転写した。第1図5”の位置に3klFの紫外線
ランプ(ウシオ電気製)を2本設置して転写した凹凸パ
ターンが形状変化を起こさないうちに紫外線硬化樹脂を
硬化させた。その後で凹凸パターンが形成されたローラ
ーを回転しながら、5kWの紫外線ランプを用いて紫外
線を照射して紫外線硬化樹脂を完全に硬化させた。表面
硬度を上げるために、ローラーの表面に100μIの厚
さのニッケル層を無電解メッキで形成した。スタンパー
に形成されていたプリフォーマットパターンの転写率は
、深さで97%以上、転写率のバラツキはローラー全面
で±5%以下であった。ローラーの表面の凹凸はp−p
で50μ−以下で十分小さく、またローラー断面の真円
度および偏芯はト分小さかった。
このロールを押し出し成型機(日立造船製、5)IT9
0−320VG )に取り付けて、 2.3m/分の
速度で、ダイ温度250℃、ローラ一温度60℃の条件
で、ポリカーボネート(量大化成製、に−12851を
1.2mm厚さに押し出した。このローラーで1万枚の
光ディスクを成型してもローラー表面の形状に変化がな
かった。押し出した基板を測定してみたところ1面振れ
量はp−pで50μ■で十分小さかった。この基板を8
6mmφに切断して、下記構造式(I)で示される、光
記録層材料を溶剤塗布した。
0−320VG )に取り付けて、 2.3m/分の
速度で、ダイ温度250℃、ローラ一温度60℃の条件
で、ポリカーボネート(量大化成製、に−12851を
1.2mm厚さに押し出した。このローラーで1万枚の
光ディスクを成型してもローラー表面の形状に変化がな
かった。押し出した基板を測定してみたところ1面振れ
量はp−pで50μ■で十分小さかった。この基板を8
6mmφに切断して、下記構造式(I)で示される、光
記録層材料を溶剤塗布した。
保護基板には0.3mm厚のポリカーボネート(量大化
成製、パンライト 251)を86+s會φに切断して
、0.3IIIIのエアーギャップを設けて接着した。
成製、パンライト 251)を86+s會φに切断して
、0.3IIIIのエアーギャップを設けて接着した。
得られた光記録媒体に記録・再生してみたところ、ディ
スクの回転数1800rll■、書き込み周波数3M1
lz、書き込みパワー6 mW、読み出しパワー0.5
+sWで、C/N比50dBであった。
スクの回転数1800rll■、書き込み周波数3M1
lz、書き込みパワー6 mW、読み出しパワー0.5
+sWで、C/N比50dBであった。
(実施例2)
実施例1と同じ方法で5鏡面研磨したロール径200−
謹φの鉄製ロールに、実施例1と同じ紫外線硬化樹脂を
、50μlの厚さに均一に塗布して、実hh例1と同じ
ような凹凸パターンの形成されたガラス基板(旭ガラス
製)の上を回転させ、ローラー表面の紫外線硬化樹脂に
ガラス基板の凹凸パターンを転写した。第1図5°の位
置に実施例1と同じ紫外線ランプを置いて照射した。そ
の後第1図5”の位置に実施例1と同じ紫外線ランプを
置いて後硬化させて、紫外線硬化樹脂を完全に硬化させ
た。深さで、ガラス基板の凹凸パターンの98%が転写
でき、ローラーの表面の凹凸はρ−pで50μm以下と
十分小さく、またローラーの真円度および偏芯は十分小
さかった。実施例1と同じ方法で一万枚の光デイスク基
板を成型しても表面形状の変化は認められず、成型した
基板の特性は面掘れ量がp−pで50μm以下と十分小
さかった。この光ディスク基板を実施例1と同様に光記
録層を形成して記録・再生を行な7たところC/N比5
2dBであった。
謹φの鉄製ロールに、実施例1と同じ紫外線硬化樹脂を
、50μlの厚さに均一に塗布して、実hh例1と同じ
ような凹凸パターンの形成されたガラス基板(旭ガラス
製)の上を回転させ、ローラー表面の紫外線硬化樹脂に
ガラス基板の凹凸パターンを転写した。第1図5°の位
置に実施例1と同じ紫外線ランプを置いて照射した。そ
の後第1図5”の位置に実施例1と同じ紫外線ランプを
置いて後硬化させて、紫外線硬化樹脂を完全に硬化させ
た。深さで、ガラス基板の凹凸パターンの98%が転写
でき、ローラーの表面の凹凸はρ−pで50μm以下と
十分小さく、またローラーの真円度および偏芯は十分小
さかった。実施例1と同じ方法で一万枚の光デイスク基
板を成型しても表面形状の変化は認められず、成型した
基板の特性は面掘れ量がp−pで50μm以下と十分小
さかった。この光ディスク基板を実施例1と同様に光記
録層を形成して記録・再生を行な7たところC/N比5
2dBであった。
(実施例3)
表面が鏡面に研磨されたロール径200a+mφの鉄製
も一ル(コーニング類)に、実施例1と同じ紫外線硬化
樹脂を、実施例1と同じ方法で50μ重の厚さに均一に
塗布して、実施例1と同じスタンパ−の上を回転させて
ローラー表面の紫外線硬化樹脂にスタンパ−の凹凸パタ
ーンを転写した。第1図5の位置に実施例1と同じ紫外
線ランプを置いて、ロール内部から紫外線を照射した。
も一ル(コーニング類)に、実施例1と同じ紫外線硬化
樹脂を、実施例1と同じ方法で50μ重の厚さに均一に
塗布して、実施例1と同じスタンパ−の上を回転させて
ローラー表面の紫外線硬化樹脂にスタンパ−の凹凸パタ
ーンを転写した。第1図5の位置に実施例1と同じ紫外
線ランプを置いて、ロール内部から紫外線を照射した。
その後実施例2と同様に第1図5“の位置に実施例1と
同じ紫外線ランプを置いて後硬化させて、紫外線硬化樹
脂を完全に硬化させた。得られたローラーを調べてみる
と、スタンパ−の凹凸パターンの転写率は、深さで95
%以上であった。また、ローラーの表面の凹凸はp−p
で50μ■以下と十分小さかった。またローラーの真円
度および偏芯は十分小さかった。実施例1と同じ方法で
一万枚の光デイスク基板を成型しても表面形状の変化は
認められなかった。成型した基板の特性を測定したとこ
ろ、面振れ量がp−pで50μ−以下と十分小さかった
。
同じ紫外線ランプを置いて後硬化させて、紫外線硬化樹
脂を完全に硬化させた。得られたローラーを調べてみる
と、スタンパ−の凹凸パターンの転写率は、深さで95
%以上であった。また、ローラーの表面の凹凸はp−p
で50μ■以下と十分小さかった。またローラーの真円
度および偏芯は十分小さかった。実施例1と同じ方法で
一万枚の光デイスク基板を成型しても表面形状の変化は
認められなかった。成型した基板の特性を測定したとこ
ろ、面振れ量がp−pで50μ−以下と十分小さかった
。
この光デイスク基板を実施例1と同様に光記録層を形成
して記録・再生を行なったところC/N比53dllで
あった。
して記録・再生を行なったところC/N比53dllで
あった。
(発明の効果)
本発明によれば、積度良く、簡単な機構で成型用ロール
型を製造できるために、面精度が良く、パターンの転写
性の良い光記録媒体の製造用ロール型を安価に製造でき
る。
型を製造できるために、面精度が良く、パターンの転写
性の良い光記録媒体の製造用ロール型を安価に製造でき
る。
第1図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第2図は従来に光記録媒体の製造用スタンパーの貼り付
は方法である。 第3図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第4図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第5図は従来の光記録媒体の一般的な断面図である。 第6図は従来の光記録媒体の基板の連続製造法の概略図
である。 1、ローラー 2、樹脂層 3、凹凸パターン 4、スタンパ−または原版 5、紫外線または熱線の線源 11、加圧ローラー 12、貼り付けたスタンパ− 21、製版用ロール 22、パターンの形成されたマスク 23、パターン露光用光ビーム 31、製版用ロール 32、パターン露光用光ビーム 41、透明基板 42、トラック溝部 43、光記録媒体 44、スペーサー 45、保護基板 51、樹脂シート 52、成型用ロール 53、加圧またはテンション用ロール 54.0き出し用ロール 55、巻き取り用ロール
図である。 第2図は従来に光記録媒体の製造用スタンパーの貼り付
は方法である。 第3図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第4図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第5図は従来の光記録媒体の一般的な断面図である。 第6図は従来の光記録媒体の基板の連続製造法の概略図
である。 1、ローラー 2、樹脂層 3、凹凸パターン 4、スタンパ−または原版 5、紫外線または熱線の線源 11、加圧ローラー 12、貼り付けたスタンパ− 21、製版用ロール 22、パターンの形成されたマスク 23、パターン露光用光ビーム 31、製版用ロール 32、パターン露光用光ビーム 41、透明基板 42、トラック溝部 43、光記録媒体 44、スペーサー 45、保護基板 51、樹脂シート 52、成型用ロール 53、加圧またはテンション用ロール 54.0き出し用ロール 55、巻き取り用ロール
Claims (1)
- 1、レーザービームなどの光ビームの照射によって、反
射率、屈折率などの光学特性を変化させて、情報の記録
・再生を行なう光記録媒体において、あらかじめプリフ
ォーマットパターンなどの凹凸形状が形成された原版ま
たはスタンパーの上を、少なくとも表面部が樹脂で形成
されたロールを転がすことによって、該原版またはスタ
ンパーの凹凸形状をロール表面に転写することを特徴と
する光記録媒体用ロール型の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13160689A JP2633021B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | 光記録媒体用ロール型の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13160689A JP2633021B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | 光記録媒体用ロール型の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02312026A true JPH02312026A (ja) | 1990-12-27 |
JP2633021B2 JP2633021B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=15061996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13160689A Expired - Fee Related JP2633021B2 (ja) | 1989-05-26 | 1989-05-26 | 光記録媒体用ロール型の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2633021B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-26 JP JP13160689A patent/JP2633021B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2633021B2 (ja) | 1997-07-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |