JPH0230208A - 静磁波帯域通過濾波器 - Google Patents

静磁波帯域通過濾波器

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JPH0230208A
JPH0230208A JP63179046A JP17904688A JPH0230208A JP H0230208 A JPH0230208 A JP H0230208A JP 63179046 A JP63179046 A JP 63179046A JP 17904688 A JP17904688 A JP 17904688A JP H0230208 A JPH0230208 A JP H0230208A
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JP
Japan
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thin film
electrode
pad
magnetostatic
substrate
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Pending
Application number
JP63179046A
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English (en)
Inventor
Yasuaki Kinoshita
木下 康昭
Sadami Kubota
窪田 定見
Shigeru Takeda
茂 武田
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Hitachi Ltd
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H2/00Networks using elements or techniques not provided for in groups H03H3/00 - H03H21/00
    • H03H2/001Networks using elements or techniques not provided for in groups H03H3/00 - H03H21/00 comprising magnetostatic wave network elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/08Sensitivity-increasing substances
    • G03C1/28Sensitivity-increasing substances together with supersensitising substances

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  • Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、静磁波帯域通過濾波器、更に詳しく言えば、
YIG (イットリウム・鉄・ガーネット)の強磁性共
鳴を利用した静磁波可変周波数の帯域通過濾波器に係り
、特にYIG膜とGGG (ガドリミウム・ガリウム・
ガーネット)の基板上に、写真蝕刻法で製造するに好適
なプレーナ構造の濾波器に関する。
〔従来の技術〕
従来、YIG膜の強磁性共鳴を利用した静磁波BPFと
してはrIEEE  1984年Vltrasonic
s Symposium、 p p、 164−167
Jに記載された構造が知られている。既ち、第5図のよ
うにGGG単結晶1の上に液相成長させたYIG膜から
チップ共振子を切断し、下部導体12と誘電体板11か
らなるマイクロストリップ基板上に入力電極指3と出力
電極指8を形成し、上記チップ共振子のYIG膜反射端
面4を上記入力電極指と出力電極指から等しい距離に保
って、接着固定させている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、濾波器の組立工程において、チップ共
振子のYIG膜端面と入出力電極指を並行にかつ等しい
距離に位置合せを行って接着するために、量産性と再現
性に問題があった。
また前記従記従来技術は、単純な共振応答特性の帯域通
過濾波器であり、より高度な応答特性の合成法について
考慮されていない。
従って、本発明の目的は、YIG膜の強磁性共鳴を利用
した静磁波の帯域通過濾波器をプレーナ構造化し、写真
蝕刻法で実現することである。
また、本発明の他の目的は、複数個のYIG膜共振器を
用いて、写真蝕刻法で実現可能な多段共振形の帯域通過
濾波器を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、GGG単結晶基板上に液相成長させたYI
G膜からなる共振子において、入出力電極指をYIG薄
膜反射端面と並行にかつ等距離で、(1)YIG膜面上
に形成する、 (2)YIG膜を部分的に除去したGGG基板上に形成
する、 (3)YIG膜共振子が存在しないGGG基板の裏面に
形成する、 ことによって達成される。
また他の目的は、GGG単結晶基板に複数個のYIG膜
共振子を形成するに当って、■これらを一定間隔離して
形成する、■これらを実効的に隔離して配置し、相互を
電極指で結ぶ、の2方法で結合させる。
〔作用〕
本発明によれば、YIG膜共振子の反射端面と入出力電
極の位置合せを。
(1)YIG/GGG基板の切断工程において正確に位
置合せして等距離に保ち、多数のチップを短時間に切断
して、工程時間を短縮したり、(2)YIG膜を除去し
た部分に入出力電極を形成するに当り、マスク位置合せ
工程で正確にかつ多数同時に行い、工程時間を短縮でき
る。
また、複数個のYIG膜共振子を、 ■静電的に結合させたり、 ■電極指の導電電流で結合させ、 複数個の共振子が、電気回路網理論による多段共振形の
帯域通過濾波器の周波数応答を合成することができる。
(実施例〕 以下5本発明の一実施例を第1図(a)により説明する
。ガドリミウム・ガリウム・ガーネット単結晶を500
μm厚みに研磨した基板1の表面にイットリウム・鉄・
ガーネット単結晶の薄膜2を40μm厚に液相成長させ
、上記薄膜2の上に1μm厚のアルミ膜を蒸着し、写真
蝕刻法で30μm幅3■長の電極指3,8と1m幅のパ
ッド電極5.6.9を形成し、2 m X 5 mチッ
プに切断して上記薄膜2に端面4を形成し、パッド電極
9を下部導体7に接地し、上記薄膜2にバイアス磁界を
印加し、上記パッド電極5と接地導体7に高周波電気信
号を印加して、上記薄膜2に静磁波を励振させ、端面4
で反射共振させ、上記パッド電極6と上記接地導体7か
ら再励振された電気信号を取出し、帯域通過濾波器を実
現している。
第2図は、上記帯域通過濾波器の周波数応答を散乱マト
リックス要素Sxxによって実測した例であり、帯域幅
110MHzと周波数可変範囲約1オクターブを実現し
ている。バイアス磁界HOは端面4に並行に3500 
eを印加し、静磁表面波を共振させた例を示しているが
、Hoを上記薄膜の表面に垂直に印加した前進体積波や
、HOを上記端面4に垂直に印加した後進体積波でも類
似の応答を得ることができる。
上記電極指3と6の東間にある電極指は、3と6の静電
的結合を低減し、帯域通過濾波器の帯域外減衰量を増加
させるために設けられていて、これに接続されたパッド
電極を介して上記接地導体7に接地されている。このパ
ッド電極は上記パッド電極9と上記薄膜2の面上に接続
して共通化する実験も行ったが、接地する導線が細い場
合は共通化しない方が帯域外応答が改善される。
第2図の応答は、入出力端子間にLC直列共振回路と変
成器が存在する等価モデルで近似できることを示してい
る。
第1図(b)は、帯域通過濾波器第1図(a)の帯域器
110 M Hzよりも更に狭帯域するに適した構成で
あり、電極指3と8と薄膜2の結合を弱めるために、電
極指3と8を薄膜2から離している。具体的には、イッ
トリウム・鉄・ガーネットの薄膜を化学エッチ法で部分
的に除去して端面4を形成し、基板1の上で除去された
部分に電極指3,8ならびにパッド電極5,6.9を形
成する。上記薄膜面上をアルミ膜で覆ったり、短絡され
た等間隔の電極指を複数本を上記電極指3,8に並行に
形成し、高次の寄生共振モードを抑圧することができる
第1図(o)は、電極指3,8とパッド電極5゜6.9
を第1図(a)の基板1の裏面に形成し、入出力電極指
3,8と薄膜2の結合を第1図(b)より更に弱め、よ
り狭帯域化を目的とした帯域通過濾波器の例である。
第3図は、薄膜共振子を2組用いて複共振形帯域通過濾
波幸を実現する構成を示している。この構成によって、
前記LC直列共振回路の等価モデル2個を変成器を介し
て縦接した帯域通過濾波器を実現できる。第3図(a)
は、上記基板1の両面にイットリウム・鉄・ガーネット
の薄膜を液相成長させ、2組の電極指3,8ならびにパ
ッド電極5,6.9を形成し、チップに切断する工程で
端面4を形成し、2組の共振子を静電的に結合させて2
段共振形の帯域通過フィルタを実現した実施例である。
第4図は、第3図(a)を実験するために2×5ffI
IIの上記チップ2個を1電的に結合させて帯域通過濾
器の周波数応答を実測した例である。帯域幅160 M
 Hzで周波数可変範囲約1オクターブを実現している
6バイアス磁界は表面静磁波を伝搬、共振させる方向に
印加している。第2図に比べて高域における帯域外応答
が改善されている。
第3図(b)は、上記基板1の表面に共振子2個を形成
し、両者を静電的に結合させた実施例である。上記薄膜
2と薄膜10を分離するために、化学エッチ法で溝を形
成している。
第3図(Q)は、イットリウム・鉄・ガーネットの薄膜
2と端面4によって、実効的に2個の共振子゛を形成さ
せ、両者を電極指11で結合させた実施例である。パッ
ド電極9によって電極指3と8が結合している共振子が
実効的に分離されている。
最後に、接地導体7の効果に言方しておく、接地導体7
は、上記薄膜2,10の厚さより十分に遠ければ、帯域
通過濾波器の周波数応答に及ぼす効果は少い。しかし、
共振子を保持するため、必ず導体面が薄膜2の面に並行
に存在しているので、この効果を考慮した電極パタンの
設計が必要である。
第1図や第3図(b)(c)のように基板1や上記薄膜
2や10に接着させる場合が多い。第3図(a)の場合
は、2つの膜面までの距離が異なるので、反対側の薄膜
2の上部等距離に第2の接地導体12を置くと設計が容
易になる。
パッド電極9と接地導体7の電気的接続は、十分に太い
導体を最短距離で接続し、残留インダクタンスを低減す
る。帯状の導体板で接地してもよい。複数本のボンド線
で接続してもよい。残留インダクタンスを低減すること
によって、帯域外応答を改善することができる。パッド
電極5,6と入出力端子の接続も、同様な配慮により残
留インダクタンスを低減した接続を行う。
〔発明の効果〕
本発明の構成により、集積化に適したプレーナ構造の可
変周波数帯域通過濾波器を実現することができる。すな
わち、写真蝕刻法とチップ切断法によって、静磁波共振
子と結合電極のイ立置合せ工程時間を大幅に低減するこ
とができる。また他の能動集積回路との接続が容易化で
きる。更に複数の静磁波共振子で多段共振形の高度な応
答の可変周波数帯域通過濾波器を実現できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第3図は本発明による静磁波帯域通過濾波器
の実施例を示す平面図および側面図、第2図は第1図(
a)に示した実施例で実測した周波数応答図、第4図は
、第3図(a)に示した実施例で実測した周波数応答図
、第5図は従来技術の外観図である。 l・・・GGG基板、2・・・YIG薄膜、3・・・入
力電極指、4・・・端面、5・・・入力パッド電極、6
・・・出力パッド電極、7・・・接地導体、8・・・出
力電極指、9・・・接地パッド電極、10・・・第2の
YIG薄膜、11・・・結合電極指、12・・・第2の
接地導体、13・・・誘坪 2−図 /・りで /、Pり 2、.5(72,7゜ 側ジL叡 CCrdt) 8、/θ ゴ、りで 畝ン ギ 今 図 、Sρ 、2ρ   1.jo     /−70用環敬 <C
rHアノ 2.70 手続補正書(1劃 平成  娠 2月15 日

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.カドミウム・ガリウム・ガーネット単結晶の基板の
    上にイットリウム・鉄・ガーネット単結晶の薄膜を形成
    し、上記薄膜に端面を形成し、上記薄膜上に上記端面と
    並行する複数本の電極指と複数個のパッド電極を形成し
    、パッド電極の夫々には少くとも1本の電極指が接続さ
    れ、上記薄膜にはバイアス磁界が印加され、上記複数個
    のパッド電極の少くとも1個は上記基板より大きい導体
    面に実効的に接地され、他のパッド電極の1に高周波信
    号電流が供給されて上記薄膜内に静磁波が励振され、上
    記端面で反射共振させ、他のパッド電極の2つから再励
    振された信号電流を取出す手段を有し、上記信号電流の
    周波数応答が帯域通過フィルタの機能を有し、バイアス
    磁界を変えることによつて応答の中心周波数がシフトす
    ることを特徴とする静磁波帯域通過濾波器。
  2. 2.請求項第1記載の静磁波帯域通過濾波器において、
    上記少くとも1個のパッド電極と前記他のパッド電極の
    1つと上記パッド電極の2つと、これら3者に接続され
    た複数本の電極指が、上記基板上において上記薄膜を除
    去した部分上に形成されたことを特徴とする静磁波帯域
    通過濾波器。
  3. 3.請求項第1記載の静磁波帯域通過濾波器において、
    上記2組の電極指と上記2個のパッド電極と上記少くと
    も1個のパッド電極が、上記基板において前記薄膜が形
    成されていない裏面に形成されていることを特徴とする
    静磁波帯域通過濾波器。
  4. 4.請求項第1記載の静磁波帯域通過濾波器において、
    カドミウム・ガリウム・ガーネット単結晶の面上に少く
    とも2個のイットリウム・鉄・ガーネットの薄膜を形成
    し、上記薄膜上に少くとも2組の電極指と、少くも4組
    のパッド電極を形成し、上記薄膜にバイアス磁界を印加
    し、1個のパッド電極に高周波信号電流を供給して静磁
    波を励損し、他のパッド電極から再励振された信号電流
    を取出し、残る少くとも2個のパッド電極が上記基板よ
    り大きい導体面に接地されたことを特徴とする静磁波帯
    域通過濾波器。
JP63179046A 1988-07-20 1988-07-20 静磁波帯域通過濾波器 Pending JPH0230208A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114914647A (zh) * 2022-05-17 2022-08-16 电子科技大学 一种基于铁氧体材料的可调谐宽带带阻滤波器

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03162102A (ja) * 1989-11-21 1991-07-12 Hitachi Metals Ltd 静磁波素子
JPH04115701A (ja) * 1990-09-05 1992-04-16 Hitachi Metals Ltd 静磁波素子
JP2565050B2 (ja) * 1992-02-12 1996-12-18 株式会社村田製作所 静磁波共振器
KR100329369B1 (ko) 1999-12-21 2002-03-22 오길록 고주파 신호처리용 정자파 소자
KR100361938B1 (ko) * 2000-08-18 2002-11-22 학교법인 포항공과대학교 유전체 기판의 공진장치
US6816038B2 (en) * 2000-11-22 2004-11-09 Sanyo Electric Co., Ltd. Magnetostatic wave device and disturbance wave eliminator
KR100396922B1 (ko) 2000-12-19 2003-09-02 한국전자통신연구원 정자파 필터
TWI540787B (zh) * 2014-12-09 2016-07-01 啟碁科技股份有限公司 巴倫濾波器及射頻系統

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4199737A (en) * 1978-10-18 1980-04-22 Westinghouse Electric Corp. Magnetostatic wave device
SU966798A1 (ru) * 1981-03-06 1982-10-15 Предприятие П/Я М-5174 Сверхвысокочастотный резонатор
EP0100503B1 (en) * 1982-07-26 1990-12-12 Toyo Communication Equipment Co.,Ltd. High frequency narrow-band pass multi-mode filter
DE3231979A1 (de) * 1982-08-27 1984-03-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Mit akustischen wellen arbeitendes elektronisches bauelement
DE3408817A1 (de) * 1984-03-10 1985-11-28 H. Huck GmbH & Co KG, 8500 Nürnberg Manoeverpatrone mit sollbruchbereich
JPS61224702A (ja) * 1985-03-29 1986-10-06 Sony Corp 強磁性共鳴装置
DE3608452A1 (de) * 1986-03-14 1987-02-19 Licentia Gmbh Elektrische filterschaltung
JPS62245704A (ja) * 1986-04-18 1987-10-27 Hitachi Ltd 静磁波可変共振子
US4751480A (en) * 1986-11-14 1988-06-14 Hewlett-Packard Company One port magnetostatic wave resonator
US4777462A (en) * 1987-09-09 1988-10-11 Hewlett-Packard Company Edge coupler magnetostatic wave structures
US4782312A (en) * 1987-10-22 1988-11-01 Hewlett-Packard Company Mode selective magnetostatic wave resonators

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114914647A (zh) * 2022-05-17 2022-08-16 电子科技大学 一种基于铁氧体材料的可调谐宽带带阻滤波器

Also Published As

Publication number Publication date
DE3923209C2 (ja) 1993-04-15
DE3923209A1 (de) 1990-01-25
US4983937A (en) 1991-01-08

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