JPH02294481A - Vapor deposition device - Google Patents
Vapor deposition deviceInfo
- Publication number
- JPH02294481A JPH02294481A JP11530989A JP11530989A JPH02294481A JP H02294481 A JPH02294481 A JP H02294481A JP 11530989 A JP11530989 A JP 11530989A JP 11530989 A JP11530989 A JP 11530989A JP H02294481 A JPH02294481 A JP H02294481A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- roller
- vapor deposition
- cooling
- vacuum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 19
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、蒸着装置に関するものである。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a vapor deposition apparatus.
従来の技術
近年、蒸着装置は、磁気記録テープ、フィノレムコンデ
ンサ等の、金属膜の蒸着に広く利用されている。以下図
面を参照しながら、従来の蒸着装置の一例について説明
する。第２図は従来の蒸着装置を示すものである。第２
図において、１は蒸着により膜が堆積されるフィルム、
２は蒸着材料、３は蒸着材料２を溶融し、蒸発させる抵
抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム等の真空蒸発源、
４は真空蒸発源３に対向して設けられ、内部に冷却液が
循環し、フィルム蒸着面を冷却し回転するキャン、６は
フィルム１をキャン４へ供給する供給ローラー、６は蒸
着されたフィルム１を巻取る巻取りローラー、７はフィ
ルム１の巻ウリ及び走行ｔ−補助−ｔるフリーローラー
、８は真空チャンバー９は真空チャンバー８内を真空排
気するための真空排気ポンプである。BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, vapor deposition apparatuses have been widely used for the deposition of metal films for magnetic recording tapes, Finolem capacitors, and the like. An example of a conventional vapor deposition apparatus will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 shows a conventional vapor deposition apparatus. Second
In the figure, 1 is a film on which a film is deposited by vapor deposition;
2 is a vapor deposition material; 3 is a vacuum evaporation source such as resistance heating, high frequency induction heating, or electron beam for melting and vaporizing the vapor deposition material 2;
4 is a can that is provided facing the vacuum evaporation source 3 and rotates to cool the film deposition surface with a cooling liquid circulating therein; 6 is a supply roller that supplies the film 1 to the can 4; 6 is the deposited film. 1 is a winding roller; 7 is a free roller for winding and running the film 1; 8 is a vacuum chamber 9; a vacuum pump for evacuating the inside of the vacuum chamber 8;
以上のように構成された蒸着装置について、以下その動
作について説明する。The operation of the vapor deposition apparatus configured as above will be described below.
まず、真空チャンバー８内をロータリーポンプ、油拡散
ポンプ、クライオポンプ等の真空排気ボンブ９によシ、
１ｏ−”ｒｏｒｒ台の真空度まで真空排気する。次に、
供給ローラー６、キャン４、巻取シローラー６を回転す
る。フィルム１は、供給ローラー６、フリーローラー７
、キャン４、フリーローラー７と走行し、巻取シローラ
ー６に巻取られる。次に、抵抗加熱、高周波誘導加熱、
電子ビーム等の真空蒸発源３によシ、蒸着材料２が溶融
され蒸発する。蒸発した粒子が飛散し、対向するキャン
４上を走行しているフィルム１表面上に堆積し膜が形成
される。このときフィルム１は、冷却液が内部で循環し
ているキャン４によシ冷却される。そして蒸着されたフ
ィルム１は、フリーローラー７を走行し、最後に、巻取
シローラー６に巻取られる。First, the inside of the vacuum chamber 8 is pumped with a vacuum pump 9 such as a rotary pump, an oil diffusion pump, or a cryopump.
Evacuate to a vacuum level of 1 o-”rorr level.Next,
The supply roller 6, can 4, and take-up roller 6 are rotated. The film 1 is fed by a supply roller 6 and a free roller 7.
, a can 4, and a free roller 7, and is wound up by a winding sheet roller 6. Next, resistance heating, high frequency induction heating,
The vapor deposition material 2 is melted and evaporated by a vacuum evaporation source 3 such as an electron beam. The evaporated particles are scattered and deposited on the surface of the film 1 running on the opposing can 4 to form a film. At this time, the film 1 is cooled by the can 4 in which a cooling liquid is circulated. The deposited film 1 then runs on a free roller 7 and is finally wound up on a winding roller 6.
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記のような構成では、キャン４の形状が
、円形のため、蒸着面積が狭くなシ、成膜速度が遅くな
る。そこで、蒸着面積を大きくするためには、キャン４
を大きくしなくてはならない。そうすることによシ、真
空チャンバー８が非常に大きくなるため真空排気時間が
長〈なシ、装置も、高価格となる。また、円形のキャン
４の場合、蒸着の始まシと終わシの部分で蒸着面に蒸着
粒子が、衝突する角度が小さくなるため、膜の付着強度
が弱くなる。さらに、蒸着面に蒸着粒子が衝突する角度
が小さくなるとＬＡＭＢＥＲＴのＣｏＳ則によシ、膜厚
均一性が悪くなるという問題点を有していた。Problems to be Solved by the Invention However, in the above configuration, since the can 4 has a circular shape, the deposition area is narrow and the film deposition rate is slow. Therefore, in order to increase the deposition area, it is necessary to
must be made larger. By doing so, the vacuum chamber 8 becomes very large, requiring a long evacuation time, and the device becomes expensive. Further, in the case of a circular can 4, the angle at which the vapor deposition particles collide with the vapor deposition surface at the start and end portions of vapor deposition becomes small, so that the adhesion strength of the film becomes weak. Furthermore, when the angle at which the vapor deposition particles collide with the vapor deposition surface becomes small, the film thickness uniformity deteriorates due to LAMBERT's CoS law.
本発明は上記問題点に鑑み、小さな真空チャンバーで、
蒸着面積を大きくし、成膜速度を向上させるものである
。また、膜の付着強度を強くし、膜厚均一性を向上させ
るものである。In view of the above problems, the present invention uses a small vacuum chamber to
This increases the deposition area and improves the film formation rate. It also strengthens the adhesion strength of the film and improves the uniformity of the film thickness.
課題を解決するための手段
上記問題点を解決するためＫ，本発明の蒸着装置は、フ
ィルムを冷却し、フィルム蒸着面が平面となシ回転する
ベルト状のキャンと、ベルト状のキャンを回転させ冷却
するキャン冷却用回転ローラーと、キャン冷却用回転ロ
ーラーを冷却する冷却水循環器を備えたものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the vapor deposition apparatus of the present invention includes a belt-shaped can that cools the film and rotates so that the film deposition surface is flat, and a belt-shaped can that rotates. It is equipped with a rotating roller for cooling the can and a cooling water circulator for cooling the rotating roller for cooling the can.
作 用
本発明は上記した構成によって、ベルト状のキャンによ
シ、フィルム蒸着面が平面状になるため、小さな真空チ
ャンバーで、蒸着面積を大きくすることができ、成膜速
度を向上させることができる。Effects The present invention has the above-described configuration, and since the film deposition surface is flat due to the belt-shaped can, the deposition area can be increased in a small vacuum chamber, and the film deposition rate can be increased. can.
また、蒸着面に、蒸着粒子が衝突する角度が蒸着の始ま
シと、終わりの部分で大きくなり、膜の付着強度が強く
なり、膜厚均一性が向上されることとなる。Furthermore, the angle at which the vapor deposition particles collide with the vapor deposition surface becomes larger at the beginning and end of vapor deposition, thereby increasing the adhesion strength of the film and improving the uniformity of the film thickness.
実施例
以下本発明の一実施例の蒸着装置について、図面を参照
しながら説明する。EXAMPLE Hereinafter, a vapor deposition apparatus according to an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は本発明の一実施例における蒸着装置の概略断面
図を示す。第１図において、１０１は蒸着により膜が堆
積されるフィルム、１０２は蒸着材料、１０３は蒸着材
料１０２を溶融し、蒸発させる抵抗加熱、高周波誘導加
熱、電子ビーム等の真空蒸発源、１０４は真空蒸発源１
０３に対向して設けられ、キャン冷却用回転ローラー１
１０により冷却及び回転され、さらにフィルム１０１蒸
着面を冷却し、平面状にするベルト状のキャン、１０５
はフィルム１０１をキャン１０４へ供給する供給ローラ
ー、１ｏｅは蒸着されたフィルム１０１を巻取る、巻取
りローラー、１０７はフィルム１０１０巻取り及び走行
を補助するフリーローラー １０８は真空チャンバー、
１０９は真空チャンバー１０８内を真空排気するための
真空排気ポンプ、１１０はベルト状のキャン１０４を冷
却し、回転させるキャン冷却用回転ローラー１１１はキ
ャン冷却用回転ローラー１１０を冷却する冷却水循環器
、１１２は冷却水を循環させる配管である。FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a vapor deposition apparatus in an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 101 is a film on which a film is deposited by vapor deposition, 102 is a vapor deposition material, 103 is a vacuum evaporation source such as resistance heating, high frequency induction heating, electron beam, etc., which melts and evaporates the vapor deposition material 102, and 104 is a vacuum Evaporation source 1
A rotary roller 1 for can cooling is provided opposite to the can cooling roller 1.
A belt-shaped can 105 which is cooled and rotated by 10 and further cools the surface on which the film 101 is deposited and flattens it.
is a supply roller that supplies the film 101 to the can 104; 1oe is a take-up roller that winds up the deposited film 101; 107 is a free roller that assists in winding and running the film 1010; 108 is a vacuum chamber;
109 is an evacuation pump for evacuating the inside of the vacuum chamber 108; 110 is a cooling water circulator that cools the belt-shaped can 104; is a pipe that circulates cooling water.
以上のように構成された蒸着装置について、以下第１図
を用いてその動作を説明する。The operation of the vapor deposition apparatus configured as described above will be described below with reference to FIG. 1.
まず、真空チャンバー１０８内をロータリーポンプ、油
拡散ポンプ、クライオポンプ等の真空排気ポンプ１０９
によＦ） ５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ程度の真空度まで
真空排気する。次に供給ローラー１０５、ベルト状のキ
ャン１ｏ４、巻取りローラー１０６を回転する。このと
き、ベルト状のキャン１０４は３つのキャン冷却用回転
ローラー１１０により冷却され回転する。また、３つの
キャン冷却用回転ローラー１１０は冷却水循環器１１１
により循環する冷却水で冷却される。フィルム１０１は
、供給ローラー１０６、フリーローラー１０７、ベルト
状のキャン１０４、フリーロー５−１０７と走行し、巻
取りローラー１０６に巻取られる。次に、抵抗加熱、高
周波誘導加熱、電子ビーム等の真空蒸発源１０３によシ
、蒸着材料１０２が溶融され蒸発する。蒸発した粒子が
飛散し、対向するベルト状のキャン１０４上を走行して
いるフィルム１０１表面上に堆積し膜が形成される。First, inside the vacuum chamber 108, a vacuum pump 109 such as a rotary pump, an oil diffusion pump, a cryopump, etc.
F) Evacuate to a vacuum level of approximately 5 x 10 Torr. Next, the supply roller 105, the belt-shaped can 1o4, and the take-up roller 106 are rotated. At this time, the belt-shaped can 104 is cooled and rotated by the three can cooling rotary rollers 110. In addition, the three can cooling rotating rollers 110 are connected to a cooling water circulator 111.
It is cooled by circulating cooling water. The film 101 travels through a supply roller 106, a free roller 107, a belt-shaped can 104, and a free roller 5-107, and is wound around a take-up roller 106. Next, the evaporation material 102 is melted and evaporated by a vacuum evaporation source 103 such as resistance heating, high-frequency induction heating, or an electron beam. The evaporated particles are scattered and deposited on the surface of the film 101 running on the opposing belt-shaped can 104 to form a film.
以上のように本実施例によれば、ベルト状のキャン１０
４を設けることによシ、フィルム１０１蒸着面を平面に
することができる。よって、蒸着面積を大きくし、成膜
速度を向上させる場合、円形のキャンと比較して、小さ
いキャン１０４で大きい円形のキャンと同等の成膜速度
を得ることができる。また、蒸着面が平面であるため、
円形のキャンと比較して、蒸着の始まりと終わりの部分
で、蒸着面に蒸着粒子が衝突する角度が大きくなり、膜
の付着強度を強くすることができる。さらに、膜厚均一
性についてもＬＡＭＢＥＲＴのＣｏＳ則及び実測値よ夛
、向上することができるのがわかった。As described above, according to this embodiment, the belt-shaped can 10
4, the surface on which the film 101 is deposited can be made flat. Therefore, when increasing the deposition area and increasing the film formation rate, it is possible to obtain a film formation rate equivalent to that of a large circular can with a smaller can 104 than with a circular can. In addition, since the deposition surface is flat,
Compared to a circular can, the angle at which the deposition particles collide with the deposition surface at the beginning and end of deposition is larger, making it possible to strengthen the adhesion strength of the film. Furthermore, it has been found that the film thickness uniformity can also be improved compared to LAMBERT's CoS law and actual measured values.
なお、本実施例において、ベルト状のキャン１０４の材
質は、ステンレス、鉄の薄板等、材質にはこだわらない
。In this embodiment, the material of the belt-shaped can 104 is not limited to stainless steel, a thin iron plate, or the like.
また、本実施例において、キャン冷却用回転ローラー１
１ｏは３つとしたが、個数にはこだわらなくてよい。In addition, in this embodiment, the rotary roller 1 for cooling the can
1o is set to three, but there is no need to be particular about the number.
また、本実施例においての冷却水循環器１１１は、温水
循環器としてもよい。Further, the cooling water circulator 111 in this embodiment may be a hot water circulator.
発明の効果
以上のように本発明は、フィルムを冷却し、フィルム蒸
着面が平面となシ回転するベルト状のキャンと、ベルト
状のキャンを回転させ冷却するキャン冷却用回転ローラ
ーと、キャン冷却用回転ロ−ラーを冷却する冷却水循環
器を設けることにより、小さな真空チャンバーで、蒸着
面積を大きくし、成膜速度を向上することができる。Effects of the Invention As described above, the present invention provides a belt-shaped can that cools the film and rotates so that the film deposition surface is flat, a can-cooling rotating roller that rotates and cools the belt-shaped can, and a can-cooling roller that rotates and cools the belt-shaped can. By providing a cooling water circulator for cooling the rotary rollers, it is possible to increase the deposition area and improve the film formation rate with a small vacuum chamber.
また、小さな真空チャンバーであるため、装置が低価格
となシ、真空排気時間も、大幅に短縮することができる
。さらに、膜の付着強度を強くし、膜厚均一性を向上さ
せることができる。Furthermore, since the vacuum chamber is small, the equipment is inexpensive and the evacuation time can be significantly shortened. Furthermore, the adhesion strength of the film can be strengthened and the uniformity of the film thickness can be improved.
第１図は本発明の実施例における蒸着装置の概略断面図
、第２図は従来の蒸着装置の概略断面図である。
１０１・・・・・・フィルム、１０２・・・・・・蒸着
材料、１０３・・・・・・蒸発源、１ｏ４・旧・・キャ
ン、１０５・・一・・・供給ローラー、１０６・・・・
・・巻取リローラー１０７・・・・・・フｙＨ−ラー、
１１ｏ・・・・・・キャン冷却用回転ローラー、１１１
・川・・冷却水循環器。
代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第１
図
ノｏ３−Ｊ蚤ｊ］；：ミ源
Ｉｍ−一一千デン
／／／ −一つ外環７７Ｋ傷濁Ｉ縁FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a conventional vapor deposition apparatus. 101...film, 102...evaporation material, 103...evaporation source, 1o4 old can, 105...1...supply roller, 106...・
... Take-up reroller 107 ... Filler,
11o...Rotating roller for can cooling, 111
・River: Cooling water circulator. Name of agent: Patent attorney Shigetaka Awano and 1 other person 1st
Figure No. o3-J flea];: Mi-source Im-11,000 den///-One outer ring 77K turbidity I edge
Claims (1)
にするための真空ポンプと、前記真空チャンバー内に装
備される蒸着材料を備えた少なくとも一個の真空蒸発源
と、この蒸発源に対向して設けられ、フィルム蒸着面を
冷却し、回転するキャンと、フィルムをキャンへ供給す
る供給ローラーと、蒸着されたフィルムを巻取る巻取り
ローラーと、フィルムの巻取り及び走行を補助するフリ
ーローラーとを備えた蒸着装置において、前記フィルム
を冷却するキャンは、フィルム蒸着面が平面となり回転
するベルト状のキャンにて構成し、このベルト状のキャ
ンを回転させ冷却するキャン冷却用回転ローラーと、キ
ャン冷却用回転ローラーを冷却する冷却水循環器とを備
えたことを特徴とする蒸着装置。a vacuum chamber, a vacuum pump for creating a reduced pressure atmosphere in the vacuum chamber, at least one vacuum evaporation source equipped with a vapor deposition material installed in the vacuum chamber, and provided opposite to the evaporation source, A vapor deposition system that includes a can that cools and rotates the film deposition surface, a supply roller that supplies the film to the can, a take-up roller that winds up the deposited film, and a free roller that assists in winding and running the film. In the apparatus, the can for cooling the film is composed of a rotating belt-shaped can with a flat film deposition surface, and a rotating roller for cooling the can that rotates and cools the belt-shaped can, and a rotating roller for cooling the can. A vapor deposition apparatus characterized by comprising a cooling water circulator for cooling.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11530989A JPH02294481A (en) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | Vapor deposition device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11530989A JPH02294481A (en) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | Vapor deposition device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02294481A true JPH02294481A (en) | 1990-12-05 |
Family
ID=14659435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11530989A Pending JPH02294481A (en) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | Vapor deposition device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02294481A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19912707A1 (en) * | 1999-03-20 | 2000-09-21 | Leybold Systems Gmbh | Treatment plant for flat substrates |
-
1989
- 1989-05-09 JP JP11530989A patent/JPH02294481A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19912707A1 (en) * | 1999-03-20 | 2000-09-21 | Leybold Systems Gmbh | Treatment plant for flat substrates |
| DE19912707B4 (en) * | 1999-03-20 | 2010-01-21 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Treatment plant for flat substrates |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109207926A (en) | A kind of enhanced aluminizer and its production technology | |
| CN111962037B (en) | Magnetron sputtering evaporation dual-system winding vacuum coating machine and coating process thereof | |
| US6258218B1 (en) | Method and apparatus for vacuum coating plastic parts | |
| KR940011004B1 (en) | Vacuum evaporator | |
| KR950000311B1 (en) | Vacuum evaporator | |
| JPH02294481A (en) | Vapor deposition device | |
| JPH0160546B2 (en) | ||
| US4587179A (en) | Magnetic recording medium and manufacturing process thereof | |
| JP3396943B2 (en) | Manufacturing method of gas barrier metal vapor deposited film | |
| JPH08209329A (en) | Winding-up vapor-deposition device and cvd device | |
| JPH0586469A (en) | Vapor deposition apparatus | |
| JPH02294480A (en) | Vapor deposition device | |
| JPH11200011A (en) | Vacuum deposition device | |
| JPS6027790A (en) | Cryopump | |
| JPS62287074A (en) | Roll coater device | |
| JPH02175871A (en) | Vapor deposition device | |
| JPH02175870A (en) | Vapor deposition device | |
| JPH03153859A (en) | Surface-modified plastic | |
| JPS6353262B2 (en) | ||
| JPS58166537A (en) | Manufacturing device for magnetic recording medium | |
| US3493352A (en) | Magneto optical display device with layers nickel-chromium and gold | |
| JPS59124035A (en) | Manufacture of magnetic recording medium | |
| KR100831401B1 (en) | Method for manufacturing aluminium coated Nd-Fe-B magnet | |
| JPH0211767A (en) | Continuous dry plating apparatus for long material | |
| JPH03191051A (en) | Gas barrier film |