JPH02278226A - 電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気光学装置の製造方法に関する。詳しくはカ
ラーフィルタを有した電気光学装置の製造方法に関する
。

〔従来の技術〕

従来、透明電極下にカラーフィルタを形成する方法とし
て特開昭６１−１９８１３１号及び特１６１昭６３−４
４６２８号等が提案されているが、カラーフィルタ層に
凹凸がある為、その平担化方法として特開昭６２−２８
０８０１号、特開昭６２−２８０８０２号、特開昭６２
−２８０８０３号、特開昭６２−２８０８０５号等の加
圧プレス方法が提案されている。しかし、カラーフィル
タという有機膜上に透明電極が形成される為、該透明電
極の成膜条件に温度が上げられない等の制約条件がある
為、該透明電極の膜質か弱いという欠点を有していた。

その改善案として例えば特開昭６２−１６３０１７号の
様に、中間膜を表示部のみに選択的に形成する方法が提
案されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、前述の従来技術では、特開昭６１−１９８１３
１号及び特開昭８３−４４６２８号等の方法では、カラ
ーフィルタ層の凹凸を吸収し、平担化の精度を上げるに
は、カラーフィルタ上の中間膜の膜厚を厚くする事が必
要となり、その為、透明電極成膜時の温度が上げられず
膜質か弱く、該透明電極の断線剥れが生じ易いという問
題点及び、該中間膜自体が厚い為、熱的、物理的応力に
より歪みを生じ易く、クラックや剥れが生じ易いという
問題点を有していた。そこで、カラーフィルタ自体を平
担化する方法として、特に印刷により形成されるカラー
フイ・ルタに対して特開昭６２−２８０８０１号、特開
昭６２−２８０８０２号、特開昭８２−２８０８０３号
、特開昭６２−２８０８０５号等の方法が提案されてい
るが、各色間の境界部分に色にじみが生じる為、パター
ン精度が上げられず、微細パターンに対応出来ないとい
う問題点を有している。そこで、中間膜を表示部のみに
選択形成して、信号入力部の透明電極の密着力を上げる
為、特開昭６２−１６３０１７号の方法が提案されてい
るが、該中間膜の段差部で透明電極が断線し易いという
問題点を有している。

そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とする所は、簡易な方法で、平担化精度を
上げると共に、透明電極の剥れ、断線のない信頼性の高
い電気光学装置の製造方法を提供する事にある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の第１の電気光学装置の製造方法は、基板上に形
成されたカラーフィルタを研磨した後、該カラーフィル
タ上に透明電極を形成する事を特徴とする。

第２の電気光学装置の製造方法は、前記カラーフィルタ
付基板上に、少なくとも一層以上の無機層あるいは、お
よび有機樹脂層を設置した後に、透明電極を形成した事
を特徴とする。

第３の電気光学装置の製造方法は、前記カラーフィルタ
を少なくとも２μ以上の膜厚で、各色の端が重なり合う
様形成した後、研磨する事を特徴とする。

第４の電気光学装置の製造方法は、少なくとも一層以上
の無機層あるいは、および有機樹脂層を、信号入力用端
子部を除いて形成する事を特徴とする。

〔作用〕

本発明の上記構成によれば、カラーフィルタ層を直接研
磨して平担化する為、平担化精度が上るという作用を生
じる。又、該カラーフィルタ上に中間膜を形成する際、
該カラーフィルタ自体が平担化されている為、中間膜が
薄くても充分に平担化精度が上げられ、全体の膜厚を薄
く出来、応力歪みを小さく出来るという作用も生じる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例に基づき、より具体的に説明する
。まず、平担化法について述べる。第１図（ａ）に示す
様に、ガラス基板ｌ上に、例えば、赤、青、緑等の各顔
料を分散させたインクをオフセット法により印刷して形
成するか、または顔料を分散させた樹脂に紫外線感光基
を付与して、フォトリソ法により形成する等の方法によ
りカラーフィルタ２．３．４を２μ以上の膜厚で形成す
る。

この時、各カラーフィルタ２．３．４の各々の境界部に
おいて、重なりが必ずある様に設置する。

この重なりの設定については、カラーフィルタの研磨上
りで２０μ幅以内に設置する事が望ましく、より望しい
条件としては研磨上りで、境界が全て重なりなしで且つ
、各色に隙間のない状態である。

次に、研磨を行うわけであるが、その方法として、ラッ
ピングにより粗削りした後、ポリシシング処理として１
．微細な粒子により、仕上げ研磨する方法が望しいが、
状況に応じて、カラーフィルタ層が例えばフォトリソ法
を用いて形成される様な場合は、カラーフィルタ層の平
担度が、印刷法による刷離れ時のインクの持上りの為の
凹凸よりは平担度が出ている為、ポリシシング処理だけ
でも良い、研磨材としてはラッピング用として、例えば
硬質処理を施したポリビニルアルコールと水を混ぜて用
いるか、ダイヤモンドペーストを用いる。

他に、硬質処理したポリスチレン等の樹脂から、条件に
合う硬度、粒径の粒子を選択出来る。又、ポリシシング
用としては、アルミナ粒子、酸化セリウム粒子、コロイ
ダルシリカ、ダイヤモンドペースト等を選択して用いる
。但し、ここに挙げたのは一例であり、研磨されるカラ
ーフィルタの硬度、平担度に応じて条件が選択出来る事
は言うまでもない、他の方法として、パッド自体を例え
ば酸化セリウムにして、水を潤滑剤として直接研磨して
も良い０本実施例においては、ラッピング用としてポリ
ビニルアルコール、ポリシシング用として酸化セリウム
を用いて研磨を行った。研磨上りで第１図（ｂ）に示す
様に平担化させ、カラーフィルタ２．３．４間の凹凸が
、レンジで０．６μ以内になる様条件設定を行った。こ
の際、カラーフィルタ層の厚みは、顔料の分散状態によ
り色純度が変化する為、０．５〜２μの間に設置する事
が望しく、薄すぎると色純度が出ない、逆に厚過ぎると
、透過率が下がり、暗くなる。よって、更に望しい条件
としてカラーフィルタ層の膜厚としては、１．０〜１．
８μの範囲となる。以下の実施例においては、ガラス基
板１上に、赤、青、緑の各顔料を分散させたカラーフィ
ルタ２．３．４を４μ厚で、ストライブ状にオフセット
印刷で形成した後、研磨して、１．０〜１．５μの厚み
にした基板を用いた。この時の凹凸はレンジで０゜５μ
以内であった。

〔実施例１〕 本実施例について第２図を用いて説明する。

第１図（ａ）、　（ｂ）に示した基板を用い、カラーフ
ィルタ２．３．４上に、スパッタリング法により、直接
酸化インジウム−酸化スズ膜（以下ＩＴＯ）を成膜温度
２２０°Ｃで膜厚１５００Ａで形成後、フォトリソ法を
用いて透明電極５を形成した所、透明電極の浮き、剥れ
のないカラーフィルタ付基板を形成出来た０次に該カラ
ーフィルタ付基板１を用いて実際に電気光学装置を作成
した。第３図を用いて説明する。対向基板６を用い、各
々の基板上にポリイミドを配向膜７として、ねじれ角が
、対向基板６を上として左に２００＠になる様ラビング
した後、シール８、キャップ材９を介してセル厚６．０
μになる様にし、液晶１０を封入した。外観は均一であ
り、透明電極５の断線のない電気光学装置を作成する事
が出来た。

〔実施例２〕 本実施例について第４図を用いて説明する。実施例１と
同様に、研磨による平担化処理を行ったカラーフィルタ
２．３．４が付いたガラス基板１上に、エポキシ系樹脂
を、スピンコードで、１μ厚に形成し、中間膜１１とし
た。この時の平担度はレンジで０．　３μ以内であった
。その後実施例１と同様に電気光学装置を作成した所、
実施例１よりセル厚の均一な電気光学装置を形成する事
が出来た。

〔実施例３〕 本実施例について第５図を用いて説明する。実施例１．
２と同様に、カラーフィルタ２．３．４を研磨したガラ
ス基板１上に東し社製のＯフォトニース（商品名）をス
ピンコードにより０．５μ厚にした後、端子部を遮光し
て露光後、ヒドラジンを用いてエツチングを行い、カラ
ーフィルタ２．３．４上に選択的に中間膜１２を形成し
た。その後実施例１．２と同様透明電極を形成して、電
気光学装置を作成した所、同様に良好な結果を得る事が
出来た。

尚、以上実施例１〜３で示した電気光学装置を用い、ク
ロスニコルにした１組の偏光体の間に、少なくとも１つ
以上の光学補償体と、本実施例で示した電気光学装置を
設置して、白−黒の表示が可能として、表示を行った所
、見映えの良いカラー表示が出来た。この際、全体の均
一性は、実施例２．３で示した中間膜をカラーフィルタ
上に形成して、より平担度を上げたものであった。

以上実施例を用いて説明して来たが、本発明の電気光学
装置及びその製造方法は、カラーフィル夕の形成方法に
限定されず同様の結果を得る事が出来ると共に、中間膜
として、他の材質、例えば熱硬化性メラミン樹脂、アク
リレート樹脂、シリコーン系無機材料等や、これらの積
層を用いても同様の結果を得る事が出来、材料等による
制約はない。又、基板としてポリエーテルサルフオン、
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネイト等のプ
ラスチック樹脂を用いても良い。

〔発明の効果〕

以上述べて来た様に、本発明によれば、カラーフィルタ
を直接研磨する為、平担性が向上し、且つ、中間膜を形
成する場合でも膜厚を薄く出来る為、応力による歪みが
発生しにくいという効果を生じると共に、透明電極成膜
時に、平担なカラーフィルタ上に直接行う時、高温設定
が可能で膜質が強くなるという効果を生じ、中間膜を介
しても応力が小さくクラックが入りにくい為、高度が上
げられ、膜質が向上するという効果も生じ、透明電極の
剥れ、断線のない信頼性の高い、均一な表示品位の電気
光学装置を提供出来るという効果も生じる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、　（ｂ）は本発明の電気光学装置の一製
造工程を示す図。 第２図は本発明の実施例１で示す、カラーフィルタ付基
板の断面を示す図。 第３図は本発明の電気光学装置の構造を示す図。 第４図は本発明の実施例２で示す、カラーフィルタ付基
板の断面を示す図。 第５図は本発明の実施例３で示す、カラーフィルタ付基
板の断面を示す図。 １・・・ガラス基板 ２．３．４・・・カラーフィルタ ５・・・透明電極 ６・・・対向基板 ７・・・配向膜 ８・・・シール ９・・・ギャップ材 １０・・・液晶 １１．１２・・・中間膜 以　　上 出願人　セイコーエプソン株式会社 代理人　弁理士　鈴木　喜三部　他１名（ａＪ （ｂＪ 第１　因 第３ 図 第４ 図 第５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一対の基板間に液晶が挟持され、少なくとも一方の
   基板上にカラーフィルタを有し、該カラーフィルタ上に
   透明電極が形成されてなる電気光学装置及びその製造方
   法において、前記カラーフィルタを研磨した後、該カラ
   ーフィルタ上に透明電極を形成する事を特徴とする電気
   光学装置の製造方法。 ２）前記カラーフィルタ付基板上に、少なくとも一層以
   上の無機層あるいは、および有機樹脂層を設置した後に
   、透明電極を形成した事を特徴とする請求項１記載の電
   気光学装置の製造方法。 ３）前記カラーフィルタを少なくとも２μ以上の膜厚で
   、各色の端が重なり合う様に形成した後、研磨する事を
   特徴とする請求項１または請求項２記載の電気光学装置
   の製造方法。 ４）少なくとも一層以上の無機層あるいは、および有機
   樹脂層を、信号入力用端子部を除いて形成する事を特徴
   とする請求項２または請求項３記載の電気光学装置の製
   造方法。