JPH02271933A - 非線形光学材料の製造方法 - Google Patents
非線形光学材料の製造方法Info
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- JPH02271933A JPH02271933A JP9099189A JP9099189A JPH02271933A JP H02271933 A JPH02271933 A JP H02271933A JP 9099189 A JP9099189 A JP 9099189A JP 9099189 A JP9099189 A JP 9099189A JP H02271933 A JPH02271933 A JP H02271933A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910005543 GaSe Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 10
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 abstract 1
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- -1 ethoxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000004704 methoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical class CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000005476 size effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/004—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/006—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/04—Particles; Flakes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/16—Microcrystallites, e.g. of optically or electrically active material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/32—Nature of the non-vitreous component comprising a sol-gel process
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は非線形光学材料の製造方法に関し、特1こ任意
の半導体微粒子を多量に含ませたガラス体の製造方法に
間する。
の半導体微粒子を多量に含ませたガラス体の製造方法に
間する。
1961年に非線形光学効果が確認されて以来、この分
野の材料の研究は精力的に進められるようになってきた
。このような特性を示す材料は、無機材料に限らず、半
導体物質や有機物質にも認められ、次々に新しい材料が
開発されている。 1983年に米国で、ジェインとリントによって、写真
用色ガラスが大きな非線形光学特性を有していることが
発見された。 (例えば J、opt、 Soc、
Am、 、 、コF3 647 (
1983))このガラスは直径数十nm程度のCd5−
CdSe系半導体結晶を2体積%前後含有したものであ
る、このような微結晶が量子箱として作用し、通常、室
温では存在しないエキシトンが安定に存在できるため、
このような高い非線形性を示すと考えられている。この
ガラスを用いた光双安定素子の実験では、25ピコ秒と
いう非常な高速応答が可能であった。これは、超高速光
通信、光コンピユータ−さらにはニューロコンピュータ
ーの実用化を更に一歩現実のものとし、今後、ますます
素材開発あるいはデバイス化への応用研究が盛んになっ
てくると考えられる。 現在、このようにCd5−CdSe系半導体結晶を含む
ガラスは、写真用として、米国のコーニング社、西独の
ショット社、日本のHOYA社で製造販売している数種
に限定されている。いずれも製造方法は同じで、Ccl
、 S、 Seを含有した珪酸塩ガラスをまず通常
の溶融法で11造し、次いでこれを加熱して目的とする
結晶を析出させている。
野の材料の研究は精力的に進められるようになってきた
。このような特性を示す材料は、無機材料に限らず、半
導体物質や有機物質にも認められ、次々に新しい材料が
開発されている。 1983年に米国で、ジェインとリントによって、写真
用色ガラスが大きな非線形光学特性を有していることが
発見された。 (例えば J、opt、 Soc、
Am、 、 、コF3 647 (
1983))このガラスは直径数十nm程度のCd5−
CdSe系半導体結晶を2体積%前後含有したものであ
る、このような微結晶が量子箱として作用し、通常、室
温では存在しないエキシトンが安定に存在できるため、
このような高い非線形性を示すと考えられている。この
ガラスを用いた光双安定素子の実験では、25ピコ秒と
いう非常な高速応答が可能であった。これは、超高速光
通信、光コンピユータ−さらにはニューロコンピュータ
ーの実用化を更に一歩現実のものとし、今後、ますます
素材開発あるいはデバイス化への応用研究が盛んになっ
てくると考えられる。 現在、このようにCd5−CdSe系半導体結晶を含む
ガラスは、写真用として、米国のコーニング社、西独の
ショット社、日本のHOYA社で製造販売している数種
に限定されている。いずれも製造方法は同じで、Ccl
、 S、 Seを含有した珪酸塩ガラスをまず通常
の溶融法で11造し、次いでこれを加熱して目的とする
結晶を析出させている。
この方法で非線形特性に優れた材料を11造する場合、
■半導体結晶の含有量を高くできない、■必ずしも目的
の半導体結晶が析出するとは限らない、■半導体結晶の
種類を変更できない、等の不具合点があった。 ■に関しては、現在市販されている写真用ガラス内の半
導体微粒子の含有量は2体積%前後である。非線形特性
を向上させるためには、この含有量をできる限り高める
のがよい。しかし、この方法では、析出させるべき半導
体結晶の成分、例えば、Cd、 S、 Se、
を多くガラスの溶解することが困難であり、おのずと半
導体結晶の含有量が限定されてしまう。 ■は、半導体結晶析出時の条件を厳密にコントロールし
ないと、目的の結晶以外の結晶が析出し、半導体結晶が
得られないことがある。この材料の非線形特性は、この
半導体結晶がガラスマトリックス中に均一に分散してい
て初めて発揮されるもので、原子としてガラス中に含有
されていても非線形光学特性は示さない。 ■は、今後、非線形特性を改良するためには、半導体結
晶自身の種類を変更することが必要と考えられる。しか
し、この方法では、析出前のガラスにロー■族あるいは
■−■族といった半導体結晶を形成する原子を多量に含
有させなければならない。このようなガラスは製造が極
めて困難である。事実、これまで報告された例は、この
Cd5−CdSe系の他、CuC1系があるのみである
。 以上のように、従来技術では、理論的に非線形光学特性
が優れていることがわかっている半導体結晶分散ガラス
を、極めて限定された種類のみしか製造できず、より広
範囲な材料の合成ができる製造方法の開発が望まれてい
る。
■半導体結晶の含有量を高くできない、■必ずしも目的
の半導体結晶が析出するとは限らない、■半導体結晶の
種類を変更できない、等の不具合点があった。 ■に関しては、現在市販されている写真用ガラス内の半
導体微粒子の含有量は2体積%前後である。非線形特性
を向上させるためには、この含有量をできる限り高める
のがよい。しかし、この方法では、析出させるべき半導
体結晶の成分、例えば、Cd、 S、 Se、
を多くガラスの溶解することが困難であり、おのずと半
導体結晶の含有量が限定されてしまう。 ■は、半導体結晶析出時の条件を厳密にコントロールし
ないと、目的の結晶以外の結晶が析出し、半導体結晶が
得られないことがある。この材料の非線形特性は、この
半導体結晶がガラスマトリックス中に均一に分散してい
て初めて発揮されるもので、原子としてガラス中に含有
されていても非線形光学特性は示さない。 ■は、今後、非線形特性を改良するためには、半導体結
晶自身の種類を変更することが必要と考えられる。しか
し、この方法では、析出前のガラスにロー■族あるいは
■−■族といった半導体結晶を形成する原子を多量に含
有させなければならない。このようなガラスは製造が極
めて困難である。事実、これまで報告された例は、この
Cd5−CdSe系の他、CuC1系があるのみである
。 以上のように、従来技術では、理論的に非線形光学特性
が優れていることがわかっている半導体結晶分散ガラス
を、極めて限定された種類のみしか製造できず、より広
範囲な材料の合成ができる製造方法の開発が望まれてい
る。
本発明は上記課題を達成するためになされたものであっ
て、ゲル化する溶液と粒子直径が11−1O0nである
半導体微粒子とを、半導体微粒子の含有量が最終生成物
の1〜60体積%となるように、混合し、これをゲル化
、熱処理する非線形光学材料の!!遣方法である。 該ゲル化する溶液としては、有機金属化合物の加水分解
反応および重合反応でゲル化するものが、好ましい。 ここでいう有機金属化合物としては、加水分解反応およ
び重合反応を起こしやすい、Mx(OR)y(M:
金属、R: アルギル基)で示される、金属アルコキシ
ドが好ましい。 本発明で使用できる半導体微粒子(結晶)は、原則的に
どんな種類でも可能であるが、非線形光学特性を鑑みる
と、GaAs、GaP、GaSe。 1nsb、 InAs、 InP、CdS、CdS
e、CdTe、HgS、ZnS、Zn5e、PbS、P
bTeよりなる群から選択された、1種または2種以上
の混合物が好ましい。また、半導体結晶の組成に間して
は、これらの結晶に少量の不純物をドープしたものでも
何ら聞届はない。 本発明で使用できる半導体微粒子(結晶)は、その粒子
直径が1〜1100nの物であるが、この半導体結晶の
直径がlnmより小さいと、実質上エキシトンを作らな
いので、非線形特性が低い。 逆に、 1100nより大きいと、結晶内でのエキシト
ンの再結合が起こり、非線形光学特性が低下する。従っ
て、半導体結晶の直径としては、 1〜1100nの間
であり、好ましくは3〜lonmの範囲である。 半導体微粒子の製造方法は、通常報告されている方法に
よって製造できる。より具体的な製造方法は、常圧CV
D、プラズマCVD、MOVPE等の気相化学反応法、
ガス中蒸発法、金属蒸気合成法等が用いられる。 本発明で用いるガラスマトリックスは、通称ゾル−ゲル
法と呼ばれている、有機金属化合物の加水分解および重
合反応等を利用して得たゲル体を、乾燥、焼成してガラ
スを得る方法で合成する。 本発明で用いられる有機金属化合物としては、例えば、
シリコン、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等のメ
トキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等の
1種または2種以上の混合が、また、溶媒はアルコール
類等が用いられる。 このゾル−ゲル法は、室温で流動性のあるゾル状態を経
由するため、その状態で半導体結晶の微粒子を混合する
ことができ、これがゲル化(固化)すると、半導体結晶
を均一に分散した材料が得られる。半導体結晶の分散性
を良くするためには、例えば、超音波照射による攪拌の
高効率化といった物理的手段、界面活性剤の添加による
半導体結晶のゾル液に対する分散性の向上といった化学
的手段を使用できる。 上記半導体結晶を均一に分散したゲルを熱処理して、透
明なガラスとする。その際必要な熱処理条件は、ガラス
の組成、得られたゲルの細孔径等に依存するが、概ね3
00〜800℃で行う。 又、半導体結晶が酸化して非線形光学特性が低下しない
ように、不活性雰囲気中で熱処理を行うのが好ましい。 本発明においては、半導体微粒子を、その含有量が最終
生成物の1〜60体積%となるように溶液(ゾル)に混
合しているが、該含有量が最終生成物の1体積%より少
なくなると、生成するニドキシンの数が少なく、優れた
非線形光学特性が得られない、また、該含有量が最終生
成物の50体積%より多くなると、生成されたニドキシ
ン間の距離が近すぎて、ニドキシンの再結合が生じやす
くなり、非線形光学特性が低下する。特に、該半導体微
粒子の含有量は、最終生成物の4〜30体積%であるこ
とが望ましい。
て、ゲル化する溶液と粒子直径が11−1O0nである
半導体微粒子とを、半導体微粒子の含有量が最終生成物
の1〜60体積%となるように、混合し、これをゲル化
、熱処理する非線形光学材料の!!遣方法である。 該ゲル化する溶液としては、有機金属化合物の加水分解
反応および重合反応でゲル化するものが、好ましい。 ここでいう有機金属化合物としては、加水分解反応およ
び重合反応を起こしやすい、Mx(OR)y(M:
金属、R: アルギル基)で示される、金属アルコキシ
ドが好ましい。 本発明で使用できる半導体微粒子(結晶)は、原則的に
どんな種類でも可能であるが、非線形光学特性を鑑みる
と、GaAs、GaP、GaSe。 1nsb、 InAs、 InP、CdS、CdS
e、CdTe、HgS、ZnS、Zn5e、PbS、P
bTeよりなる群から選択された、1種または2種以上
の混合物が好ましい。また、半導体結晶の組成に間して
は、これらの結晶に少量の不純物をドープしたものでも
何ら聞届はない。 本発明で使用できる半導体微粒子(結晶)は、その粒子
直径が1〜1100nの物であるが、この半導体結晶の
直径がlnmより小さいと、実質上エキシトンを作らな
いので、非線形特性が低い。 逆に、 1100nより大きいと、結晶内でのエキシト
ンの再結合が起こり、非線形光学特性が低下する。従っ
て、半導体結晶の直径としては、 1〜1100nの間
であり、好ましくは3〜lonmの範囲である。 半導体微粒子の製造方法は、通常報告されている方法に
よって製造できる。より具体的な製造方法は、常圧CV
D、プラズマCVD、MOVPE等の気相化学反応法、
ガス中蒸発法、金属蒸気合成法等が用いられる。 本発明で用いるガラスマトリックスは、通称ゾル−ゲル
法と呼ばれている、有機金属化合物の加水分解および重
合反応等を利用して得たゲル体を、乾燥、焼成してガラ
スを得る方法で合成する。 本発明で用いられる有機金属化合物としては、例えば、
シリコン、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等のメ
トキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等の
1種または2種以上の混合が、また、溶媒はアルコール
類等が用いられる。 このゾル−ゲル法は、室温で流動性のあるゾル状態を経
由するため、その状態で半導体結晶の微粒子を混合する
ことができ、これがゲル化(固化)すると、半導体結晶
を均一に分散した材料が得られる。半導体結晶の分散性
を良くするためには、例えば、超音波照射による攪拌の
高効率化といった物理的手段、界面活性剤の添加による
半導体結晶のゾル液に対する分散性の向上といった化学
的手段を使用できる。 上記半導体結晶を均一に分散したゲルを熱処理して、透
明なガラスとする。その際必要な熱処理条件は、ガラス
の組成、得られたゲルの細孔径等に依存するが、概ね3
00〜800℃で行う。 又、半導体結晶が酸化して非線形光学特性が低下しない
ように、不活性雰囲気中で熱処理を行うのが好ましい。 本発明においては、半導体微粒子を、その含有量が最終
生成物の1〜60体積%となるように溶液(ゾル)に混
合しているが、該含有量が最終生成物の1体積%より少
なくなると、生成するニドキシンの数が少なく、優れた
非線形光学特性が得られない、また、該含有量が最終生
成物の50体積%より多くなると、生成されたニドキシ
ン間の距離が近すぎて、ニドキシンの再結合が生じやす
くなり、非線形光学特性が低下する。特に、該半導体微
粒子の含有量は、最終生成物の4〜30体積%であるこ
とが望ましい。
本発明によれば、各種の半導体結晶を含んだ分散ガラス
が得られる。これらの粒子径、分散状態、含有率等を最
適化することにより、量子サイズ効果が、これまで理論
的に予想されていた状態に近くなり、希望する非線形光
学特性を有する材料を合成できる。 また、本発明によれば、マトリックス組成として、シリ
カガラスが容易に形成できる。これは誘電率が非常に低
く、エキシトン閉じ込め効果が極めて大きい特徴を有し
ている。
が得られる。これらの粒子径、分散状態、含有率等を最
適化することにより、量子サイズ効果が、これまで理論
的に予想されていた状態に近くなり、希望する非線形光
学特性を有する材料を合成できる。 また、本発明によれば、マトリックス組成として、シリ
カガラスが容易に形成できる。これは誘電率が非常に低
く、エキシトン閉じ込め効果が極めて大きい特徴を有し
ている。
実施例1〜7
常圧cvn法等で、CdS、GaAs、InP。
Cd T e、 Z n S e、 P b S、
およびGaPの7種の半導体結晶の微粒子を!!遺
した。 この微粒子各5gを、シリコンテトラエトキシド10n
mLxタノール0nm1,0. 1規定の塩酸80 m
lの割合で混合して作製したゾルに各々混合し、激し
く攪拌して均一に分散した。 この混合液を直径25mmのテフロン製の容器に1nm
1づつ分配し、60℃に1日保持してゲル化させた。こ
の容器の蓋を取り、代わりにアルミフォイルを張り、小
さな穴を数個開けて、80℃で乾燥を行な、った。乾燥
後のゲルは、直径lO〜13mmの、透明な状態であっ
た。このゲルを厚さ2mmにスライスし、300℃〜6
00℃で熱処理したところ、更に透明性が上がった。 これらの材料を研磨した後、波長1.06μmのYAG
レーザー光を入射し、発生する第三高調波をマーカーフ
リンジ法で測定して、それぞれの材料の非線形光学特性
(3次非線形感受率)を評価した。その結果を第1表に
示す。 評価としては、発生してくる第三高調波の強度を、市販
の写真用色ガラスを基準(±)とし、こ第 1 表 非線形光学効果が確認できる +: 非線形光学効果が優れている ++: 非線形光学効果が極めて優れている: 非線形
光学効果が劣っている 一一: 非線形光学効果が極めて劣っている(木)± れより強い場合、その程度に応じ、+および++とし、
逆に弱い場合もその程度に応じ、−および−一とした。 この−一の場合には、本測定の方法においては、第三高
調波の発生が認められない程度である。 いずれもこれまで報告されている、半導体微粒子分散ガ
ラス(写真用色ガラス)と比較して、非常に優れた非線
形光学特性を示した材料であった。 また、実施例1〜7で作製されたガラス内の半導体微粒
子含有量は4.4〜6.4体積%であった。 比較例1〜2 実施例1〜7と同様の方法でサンプルを作製した。ただ
し、これらの例で用いた、CdSおよびG aAsの半
導体微粒子の大きさは200 n mと400 n m
とした。 これらの材料の非線形光学特性を、実施例1〜7と同様
の方法で測定した結果を第1表にボす。 第1表からも明かなように、いずれのガラスも本発明の
実施例よりも劣っていた。 比較例3 市販の写真用フィルターガラスを研磨して、その非線形
光学特性を実施例同様に測定した。結果を第1表に示す
。用いた試料は、半導体微粒子(CdS−CdSe系)
が析出しているものである。 実施例8〜12 実施例1〜7と同様の条件でサンプルを作製した。ここ
では、半導体微粒子として、平均粒子径が2.5nmの
CdSを用い、最終生成物内の半導体・微粒子の含有量
が、5. 10. 20. 30゜45各体積%となる
ようにゾル液に添加するCd第 2 表 5fllを調整した。 これらの材料の非線形光学特性を、実施例1〜7と同様
の方法で測定した結果を第2表にボす。 いずれもこれまで報告されている、半導体微粒子分散ガ
ラス(写真用色ガラス)と比較して、非常に優れた非線
形光学特性を示した材料であった。
およびGaPの7種の半導体結晶の微粒子を!!遺
した。 この微粒子各5gを、シリコンテトラエトキシド10n
mLxタノール0nm1,0. 1規定の塩酸80 m
lの割合で混合して作製したゾルに各々混合し、激し
く攪拌して均一に分散した。 この混合液を直径25mmのテフロン製の容器に1nm
1づつ分配し、60℃に1日保持してゲル化させた。こ
の容器の蓋を取り、代わりにアルミフォイルを張り、小
さな穴を数個開けて、80℃で乾燥を行な、った。乾燥
後のゲルは、直径lO〜13mmの、透明な状態であっ
た。このゲルを厚さ2mmにスライスし、300℃〜6
00℃で熱処理したところ、更に透明性が上がった。 これらの材料を研磨した後、波長1.06μmのYAG
レーザー光を入射し、発生する第三高調波をマーカーフ
リンジ法で測定して、それぞれの材料の非線形光学特性
(3次非線形感受率)を評価した。その結果を第1表に
示す。 評価としては、発生してくる第三高調波の強度を、市販
の写真用色ガラスを基準(±)とし、こ第 1 表 非線形光学効果が確認できる +: 非線形光学効果が優れている ++: 非線形光学効果が極めて優れている: 非線形
光学効果が劣っている 一一: 非線形光学効果が極めて劣っている(木)± れより強い場合、その程度に応じ、+および++とし、
逆に弱い場合もその程度に応じ、−および−一とした。 この−一の場合には、本測定の方法においては、第三高
調波の発生が認められない程度である。 いずれもこれまで報告されている、半導体微粒子分散ガ
ラス(写真用色ガラス)と比較して、非常に優れた非線
形光学特性を示した材料であった。 また、実施例1〜7で作製されたガラス内の半導体微粒
子含有量は4.4〜6.4体積%であった。 比較例1〜2 実施例1〜7と同様の方法でサンプルを作製した。ただ
し、これらの例で用いた、CdSおよびG aAsの半
導体微粒子の大きさは200 n mと400 n m
とした。 これらの材料の非線形光学特性を、実施例1〜7と同様
の方法で測定した結果を第1表にボす。 第1表からも明かなように、いずれのガラスも本発明の
実施例よりも劣っていた。 比較例3 市販の写真用フィルターガラスを研磨して、その非線形
光学特性を実施例同様に測定した。結果を第1表に示す
。用いた試料は、半導体微粒子(CdS−CdSe系)
が析出しているものである。 実施例8〜12 実施例1〜7と同様の条件でサンプルを作製した。ここ
では、半導体微粒子として、平均粒子径が2.5nmの
CdSを用い、最終生成物内の半導体・微粒子の含有量
が、5. 10. 20. 30゜45各体積%となる
ようにゾル液に添加するCd第 2 表 5fllを調整した。 これらの材料の非線形光学特性を、実施例1〜7と同様
の方法で測定した結果を第2表にボす。 いずれもこれまで報告されている、半導体微粒子分散ガ
ラス(写真用色ガラス)と比較して、非常に優れた非線
形光学特性を示した材料であった。
本発明によれば、実施例からも明かな様に非線形光学特
性の優れたガラスが製造できる。また、半導体微粒子の
組成、ガラスへの添加量およびガラス組成等を調整する
ことによって、任意の非線形光学特性を持ったガラスを
製造できる。 また、本発明によれば、ゲル体の形状を変化させること
により、膜状、板状、ブロック状等任意の形状のガラス
も製造できる。 (ネ)+: 非線形光学効果が優れている+ + 非線形光学効果が極めて優れている
性の優れたガラスが製造できる。また、半導体微粒子の
組成、ガラスへの添加量およびガラス組成等を調整する
ことによって、任意の非線形光学特性を持ったガラスを
製造できる。 また、本発明によれば、ゲル体の形状を変化させること
により、膜状、板状、ブロック状等任意の形状のガラス
も製造できる。 (ネ)+: 非線形光学効果が優れている+ + 非線形光学効果が極めて優れている
Claims (4)
- (1)ゲル化する溶液と粒子直径が1〜100nmであ
る半導体微粒子とを、半導体微粒子の含有量が最終生成
物の1〜50体積%となるように、混合し、これをゲル
化、熱処理する非線形光学材料の製造方法。 - (2)該溶液が有機金属化合物の加水分解反応および重
合反応でゲル化するものである特許請求範囲第1項記載
の非線形光学材料の製造方法。 - (3)該有機金属化合物が、Mx(OR)y(M:金属
、R:アルキル基、xおよびy:整数)で示される金属
アルコキシドである特許請求範囲第2項記載の非線形光
学材料の製造方法。 - (4)該半導体微粒子が、GaAs、GaP、GaSe
、InSb、InAs、InP、CdS、CdSe、C
dTe、HgS、ZnS、ZnSe、PbS、およびP
bTeよりなる群から選択された、1種または2種以上
の半導体微粒子である特許請求範囲第1項ないし第3項
記載の非線形光学材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9099189A JPH02271933A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 非線形光学材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9099189A JPH02271933A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 非線形光学材料の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02271933A true JPH02271933A (ja) | 1990-11-06 |
Family
ID=14013983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9099189A Pending JPH02271933A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | 非線形光学材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02271933A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02275733A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-09 | Masayuki Nogami | 半導体含有ガラスの製造法 |
JPH03187951A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-15 | Hoya Corp | 半導体含有ガラス |
JPH03187952A (ja) * | 1989-12-18 | 1991-08-15 | Hoya Corp | 半導体微結晶含有多成分ガラス |
US5824240A (en) * | 1993-02-12 | 1998-10-20 | Fuji Xerox Co. Ltd. | Nonlinear optical element and process for the preparation of same |
US6140404A (en) * | 1995-12-15 | 2000-10-31 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Non-linear optical material and process for the preparation thereof |
KR20170102507A (ko) | 2015-02-02 | 2017-09-11 | 후지필름 가부시키가이샤 | 형광체 분산 조성물 및 그것을 이용하여 얻어진 형광 성형체, 파장 변환막, 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 |
-
1989
- 1989-04-11 JP JP9099189A patent/JPH02271933A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02275733A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-09 | Masayuki Nogami | 半導体含有ガラスの製造法 |
JP2768442B2 (ja) * | 1989-04-17 | 1998-06-25 | 正行 野上 | 半導体含有ガラスの製造法 |
JPH03187951A (ja) * | 1989-12-15 | 1991-08-15 | Hoya Corp | 半導体含有ガラス |
JPH03187952A (ja) * | 1989-12-18 | 1991-08-15 | Hoya Corp | 半導体微結晶含有多成分ガラス |
US5824240A (en) * | 1993-02-12 | 1998-10-20 | Fuji Xerox Co. Ltd. | Nonlinear optical element and process for the preparation of same |
US5963360A (en) * | 1993-02-12 | 1999-10-05 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Nonlinear optical element and process for the preparation of same |
US6140404A (en) * | 1995-12-15 | 2000-10-31 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Non-linear optical material and process for the preparation thereof |
KR20170102507A (ko) | 2015-02-02 | 2017-09-11 | 후지필름 가부시키가이샤 | 형광체 분산 조성물 및 그것을 이용하여 얻어진 형광 성형체, 파장 변환막, 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 액정 표시 장치 |
US10619092B2 (en) | 2015-02-02 | 2020-04-14 | Fujifilm Corporation | Wavelength conversion film |
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