JPH0227144B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0227144B2
JPH0227144B2 JP60094155A JP9415585A JPH0227144B2 JP H0227144 B2 JPH0227144 B2 JP H0227144B2 JP 60094155 A JP60094155 A JP 60094155A JP 9415585 A JP9415585 A JP 9415585A JP H0227144 B2 JPH0227144 B2 JP H0227144B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
wiring board
circuit wiring
release film
flexible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60094155A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61252160A (en
Inventor
Noryuki Shimizu
Masami Myamoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikkan Industries Co Ltd
Original Assignee
Nikkan Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikkan Industries Co Ltd filed Critical Nikkan Industries Co Ltd
Priority to JP60094155A priority Critical patent/JPS61252160A/en
Publication of JPS61252160A publication Critical patent/JPS61252160A/en
Publication of JPH0227144B2 publication Critical patent/JPH0227144B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔産業上の利用分野〕 本発明は電気回路を形成するフレキシブル配線
基板およびその製造方式に利用する。特に、製造
工程が簡単であり、絶縁層に両表面に貫通するピ
ンホールがなく、他の部品に容易に貼着可能な配
線基板およびその製造方法に関する。 〔概要〕 本発明は、電気回路用のプリント基板の製造方
法において、 片面に接着剤が塗布された離型用フイルムを用
いて、接着剤層を転写することにより形成する操
作を3回またはそれ以上重ねて行い、三つまたは
それ以上の接着剤層が積層構造により形成され、
かつ最上層の接着剤層はBステージ状態に保持さ
れかつ離型用フイルムが付されていることによ
り、 両表面を貫通するピンホールがなく、他の部品
に貼着できるようにしたものである。 〔従来の技術〕 表面に金属層が形成された電気回路用の配線基
板は、金属層に樹脂で作られた接着剤を塗布し、
この接着剤を硬化することにより製造する。 金属層が両面に形成されるものでは、その一方
の面は接地電位の配線に使用され、両面の金属層
が共に薄い金属箔であるときには、フレキシブル
基板であり、接地電位の金属層が厚い金属板であ
るときには、硬質の回路基板となる。この両面に
金属層が形成された電気回路用基板では、絶縁層
に貫通するピンホールがあると、両面の耐電圧が
小さくなる。 これを改良するものとして、絶縁層を多層構造
にして、一つの層の中では貫通するピンホールが
あつても、両表面を貫通するピンホールを無くす
る技術が知られているがピンホールを皆無にする
ことはできずに通常フイルム層を導入することに
より対応している。 このため、多層構造の絶縁層を形成するには、
接着剤の塗布および硬化の工程を層の数だけ繰り
返すことが必要であり、製造工程が大きくなり、
その製品はおのずと高価になる欠点がある。 本発明者らはさきにこれを改良する電気回路配
線用基板の製造方法を特願昭60−772473により出
願した。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、上記提案の製造方法による電気回路用
基板では、多層構造の絶縁層がすべて硬化されて
いるため可撓性に欠けており、さらに需要者より
他の部品に貼着できる電気回路用基板を要求され
た。 本発明はこの要求に対応する新しいフレキシブ
ル電気回路配線用基板の製造方法およびその基板
を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の第一の発明は、フレキシブル電気回路
配線用基板の製造方法であり、片面に接着剤が塗
布された離型用フイルムの接着剤層の表面に金属
箔を貼り合わせその接着剤を硬化させるとともに
その離型用フイルムを取り除くことにより、金属
箔に硬化した第一の接着剤層を形成する第一の工
程と、 この第一の工程により形成された硬化した接着
剤の表面に、さらに、片面に接着剤が塗布された
離型用フイルムの接着剤層の表面を貼り合わせる
とともにその離型用フイルムを取り除く工程をn
回行う第二の工程と、 この第二の工程により形成された接着剤層の表
面に、さらに、片面に接着剤が塗布された離型用
フイルムの接着剤層の表面を貼り合わせてその接
着剤をBステージ状態に保持させるとともに離型
用フイルムを付しておく第三の工程と を含むことを特徴とする。 この場合nは1であり、第二の工程は接着剤を
硬化させる工程を伴うもの、あるいは第二の工程
は接着剤をBステージの状態に保持させておくこ
とが好ましい。 またnは2以上であり、第二の工程は、このn
回の繰り返し工程のはじめの1回または複数回で
は接着剤を硬化させる工程を伴い、あとの1回ま
たは複数回では接着剤をBステージの状態に保持
させておくことが好ましい。 本発明の第二の発明は、フレキシブル電気回路
配線用基板であり、金属箔の表面に3層以上の接
着剤層が形成され、その接着剤層のうち少なくと
も金属箔に接する層は硬化され、その接着剤層の
うち少なくとも金属箔から最も遠い層はBステー
ジの状態に保持され、その最も遠い層の表面に離
型用フイルムが付せられたことを特徴とする。 接着剤層の全部または一部は1〜50重量%の繊
維状無機物絶縁材料を含み、各接着剤層を構成す
る接着剤は熱硬化性であるか、または少なくとも
一部に熱可塑性材料を含むことが好ましい。 各接着剤層の厚さはそれぞれが5μm以上100μm
以下であり、金属箔の厚さは9μm以上200μm以下
であることが好ましい。 繊維状無機物絶縁材料は繊維状チタン酸カリウ
ムであることが好ましい。 ここに硬化は、加熱硬化、経時硬化、硬化剤の
添加による方法および電子線などの輻射線放射に
よる硬化方法を含むものとする。 〔作 用〕 片面に接着剤が塗布された離型用フイルムは極
めて均一に多量に製造することができる。また、
片面に接着剤が塗布された離型用フイルムはその
取扱いが容易であり、この離型用フイルムの接着
剤層を転写する工程は、軟性の接着剤を一様に塗
布する工程に比べてはるかに簡単であつて工数が
小さい。さらに最外面に離型用フイルム付きのB
ステージ状態の接着剤が残つているので、この基
板の後加工が容易にできる長所がある。 したがつて、本発明によれば、多層の絶縁層を
有するフレキシブル電気回路配線用基板を小さい
工数で安価に製造することができる。 ピンホールのない薄い絶縁層はBステージを経
て作成することは非常に難しいため、通常、
100μm以上の厚さが信頼性の点から必要であるこ
とが知られている。本発明者らは鋭意検討を加え
た結果、溶剤型ワニスを用いる場合に溶剤を蒸発
乾燥しBステージ状態の樹脂薄膜を製造する際
に、樹脂薄膜形成時の蒸発収縮等によつてピンホ
ールが発生するが、離型用フイルム上では蒸発が
一方向のみ起こるため、フイルムに接する面の樹
脂薄膜にピンホールが発生しないことを発見し
た。しかも樹脂薄膜形成時の加熱による離型フイ
ルムの収縮は、ピンホールの発生を阻止すること
に効果があり、さらにこの収縮作用は、転写加熱
硬化後の基板の硬化収縮を抑制する。これによ
り、転写法を用いてピンホールのない絶縁層を作
成することができ、しかもこれを3回またはそれ
以上繰り返すことによりその効果が確実になる。 この基板を後加工する場合、この基板に対向し
て接着される表面には、この基板と同種の接着剤
が塗布されていることが望ましい。 実施例 1 離型用フイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(本州製紙(株)製アルフアンフイルム)
に、厚さ20μmになるようにフレキシブル用エポ
キシ樹脂を塗工し、乾燥させてBステージ状態と
し、このようにして得たBステージ状態のエポキ
シ樹脂を厚さ35μmの電解銅箔の処理面(日鉱グ
ールド社JTC)に貼り合わせ加熱硬化させた後離
型用フイルムを取り除く(第一の工程)。 次に、第一の工程で得た銅箔貼り合わせエポキ
シ樹脂の硬化した樹脂面に、さらに厚さ20μmに
なるように上記フレキシブル用エポキシ樹脂が塗
工された上記ポリプロピレンフイルムの塗工面を
貼り合わせ、加熱硬化させた後ポリプロピレンフ
イルムを取り除いた(第二の工程)。 次に、第二の工程で得た銅箔貼り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面に、さらに厚さ20μmになるよう
に上記フレキシブル用エポキシ樹脂が塗工された
上記ポリプロピレンフイルムの塗工面を貼り合わ
せ、離型用フイルム付の接着剤付片面銅貼フレキ
シブルプリント回路用基板を得た(第三の工程)。 実施例 2 離型用フイルムの厚さ40μmのフツ化ビニール
フイルム(米国デユポン社製テドラフイルム)
に、厚さ15μmになるようにフレキシブル用ポリ
イミド樹脂を塗工し、これを乾燥させてBステー
ジ状態にし、このようにして得たBステージ状態
のポリイミド樹脂を厚さ18μmの圧延銅箔の処理
面(日本鉱業(株)製)に貼り合わせ、加熱硬化させ
た後、上記フツ化ビニールフイルムを取り除く
(第一の工程)。 次に、第一の工程で得た同箔貼り合わせポリイ
ミド樹脂の硬化した樹脂面に、厚さ20μmになる
ように耐熱変性ナイロン樹脂が塗工された離型用
フイルムの厚さ50μmのポリエステルフイルム
(東レ(株)製ルミラーフイルム)の塗工面を貼り合
わせた後、上記ポリエステルフイルムを取り除く
(第二の工程)。 次に、第二の工程で得た銅箔貼り合わせポリイ
ミド−ナイロン樹脂の樹脂面と、厚さ20μmにな
るように上記耐熱変性ナイロン樹脂が塗工された
上記ポリエステルフイルムの塗工面と貼り合わ
せ、加熱させて離型用フイルム付の接着剤付片面
銅貼フレキシブルプリント回路用基板を得た。 実施例 3 離型用フイルムの厚さ60μmのポリプロピレン
フイルム(東レ(株)製トレフアンフイルム)に、厚
さ10μmになるようにフレキシブル用エポキシ樹
脂を塗工し、これを乾燥させてBステージ状態に
し、このようにして得たBステージ状態のエポキ
シ樹脂を厚さ35μmの圧延銅箔の処理面(日本鉱
業(株)製)に貼り合わせ、加熱硬化させた後上記ポ
リプロピレンフイルムを取り除く(第一の工程)。 次に、この第一の工程で得た銅箔貼り合わせエ
ポキシ樹脂の樹脂面に上記のポリプロピレンフイ
ルムに厚さ10μmになるように塗工されたBステ
ージ状態の上記エポキシ樹脂を貼り合わせ、加熱
硬化させる処理を2回繰り返す(第二の工程)。 次に、第二の工程で得た銅箔貼り合わせエポキ
シ樹脂の樹脂面と上記ポリプロピレンフイルムに
塗工された厚さ10μmのBステージ状態のエポキ
シ樹脂の樹脂面とを貼り合わせて、離型用フイル
ム付の接着剤付片面銅貼フレキシブルプリント回
路用基板を得た。 実施例 4 離型用フイルムの厚さ40μmのポリプロピレン
フイルム(本州製紙(株)製アルフアンフイルム)
に、厚さ10μmになるようにエポキシ樹脂を塗工
し乾燥させてBステージ状態にし、このようにし
て得たBステージ状態のエポキシ樹脂を厚さ
35μmの圧延銅箔の処理面(日本鉱業(株)製)に貼
り合わせ、加熱硬化させた後上記ポリプロピレン
フイルムを取り除く(第一の工程)。 次に、離型用フイルムの厚さ40μmのポリエチ
レンフイルムに厚さ25μmになるように30%の繊
維状チタン酸カリウムを含むフレキシブル用エポ
キシ樹脂を塗工し、乾燥させてBステージ状態に
した樹脂面と第一の工程で得た銅箔貼り合わせエ
ポキシ樹脂の樹脂面とを貼り合わせ、加熱硬化さ
せ上記ポリエチレンフイルムを取り除く(第二の
工程)。 次に、離型用フイルムの厚さ40μmのポリプロ
ピレンフイルムに厚さ15μmになるようにフレキ
シブル用エポキシ樹脂を塗工し、乾燥させてBス
テージ状態とした樹脂面に第二の工程で得た銅箔
貼り合わせエポキシ樹脂の樹脂面とを貼り合わ
せ、離型用フイルム付の接着剤付片面銅貼フレキ
シブルプリント回路用基板を得た。 〔試験結果〕 上記各実施例を1mm厚さの鉄板に貼り合わせて
加熱硬化させたものについて試験を行つた結果を
次表に示す。引き剥がし強さ、耐溶剤性は2.5mm
幅の厚さ35μm銅箔を90度方向に引き剥がし、1
cm当たりに換算した値で示す。
[Industrial Application Field] The present invention is applied to a flexible wiring board forming an electric circuit and a method for manufacturing the same. In particular, the present invention relates to a wiring board that has a simple manufacturing process, has no pinholes penetrating both surfaces of the insulating layer, and can be easily attached to other components, and a method for manufacturing the same. [Summary] The present invention provides a method for manufacturing printed circuit boards for electrical circuits, in which an operation of forming an adhesive layer by transferring it three times or more is performed using a release film coated with an adhesive on one side. and three or more adhesive layers are formed in a laminated structure,
Moreover, the top adhesive layer is maintained in the B-stage state and a release film is attached, so there are no pinholes penetrating both surfaces and it can be attached to other parts. . [Prior Art] A wiring board for electric circuits with a metal layer formed on the surface is manufactured by applying an adhesive made of resin to the metal layer.
It is manufactured by curing this adhesive. If the metal layer is formed on both sides, one side is used for wiring at ground potential, and if the metal layers on both sides are both thin metal foils, it is a flexible board, and the metal layer at ground potential is thick metal. When it is a board, it becomes a hard circuit board. In this electric circuit board in which metal layers are formed on both sides, if there is a pinhole penetrating the insulating layer, the withstand voltage on both sides becomes small. To improve this, a known technique is to make the insulating layer a multilayer structure so that even if there is a pinhole that penetrates within one layer, there will be no pinhole that penetrates both surfaces. Since this cannot be completely eliminated, it is usually dealt with by introducing a film layer. Therefore, in order to form an insulating layer with a multilayer structure,
The process of applying and curing the adhesive needs to be repeated for each layer, increasing the manufacturing process.
The product naturally has the disadvantage of being expensive. The inventors of the present invention have previously filed an application for a method of manufacturing an electric circuit wiring board that improves this method in Japanese Patent Application No. 772,473/1983. [Problems to be Solved by the Invention] However, the electric circuit board produced by the above-proposed manufacturing method lacks flexibility because all the insulating layers of the multilayer structure are hardened, and furthermore, A request was made for an electrical circuit board that could be attached to parts. An object of the present invention is to provide a new method of manufacturing a flexible electric circuit wiring board and a board thereof that meet this demand. [Means for Solving the Problems] The first invention of the present invention is a method for manufacturing a flexible electric circuit wiring board, in which the surface of the adhesive layer of a release film coated with an adhesive on one side is A first step of bonding the metal foil and curing the adhesive and removing the release film to form a hardened first adhesive layer on the metal foil; Further, the surface of the adhesive layer of a release film coated with adhesive on one side is bonded to the surface of the cured adhesive, and the release film is removed.
A second step is performed twice, and the surface of the adhesive layer formed in this second step is further bonded with the surface of the adhesive layer of a release film coated with adhesive on one side. The method is characterized by including a third step of holding the agent in a B-stage state and attaching a release film. In this case, n is 1, and it is preferable that the second step involves a step of curing the adhesive, or that the second step involves keeping the adhesive in a B-stage state. Further, n is 2 or more, and the second step is this n
It is preferable that the first one or more times of the repeating process involve a step of curing the adhesive, and the adhesive is kept in the B-stage state in the second one or more times. A second invention of the present invention is a flexible electric circuit wiring board, in which three or more adhesive layers are formed on the surface of a metal foil, and at least one of the adhesive layers in contact with the metal foil is hardened, Among the adhesive layers, at least the layer farthest from the metal foil is maintained in a B-stage state, and a release film is attached to the surface of the farthest layer. All or some of the adhesive layers contain 1 to 50% by weight of a fibrous inorganic insulating material, and the adhesive constituting each adhesive layer is thermosetting or at least partially contains a thermoplastic material. It is preferable. The thickness of each adhesive layer is 5 μm or more and 100 μm.
The thickness of the metal foil is preferably 9 μm or more and 200 μm or less. The fibrous inorganic insulating material is preferably fibrous potassium titanate. Here, curing includes heat curing, curing over time, a method by adding a curing agent, and a curing method by radiation radiation such as an electron beam. [Function] A release film coated with an adhesive on one side can be produced extremely uniformly in large quantities. Also,
A release film with an adhesive coated on one side is easy to handle, and the process of transferring the adhesive layer of the release film is much faster than the process of uniformly applying a soft adhesive. It is easy to use and requires less man-hours. In addition, B with a release film on the outermost surface.
Since the adhesive in the stage state remains, there is an advantage that post-processing of this substrate can be easily performed. Therefore, according to the present invention, a flexible electric circuit wiring board having multiple insulating layers can be manufactured at low cost with a small number of man-hours. It is very difficult to create a thin insulating layer without pinholes through B-stage, so it is usually
It is known that a thickness of 100 μm or more is required from the viewpoint of reliability. As a result of extensive studies, the inventors of the present invention found that when using a solvent-based varnish, pinholes may occur due to evaporation shrinkage during the formation of the resin thin film when the solvent is evaporated and dried to produce a B-stage resin thin film. However, on the release film, evaporation occurs only in one direction, so we discovered that pinholes do not occur in the thin resin film on the surface in contact with the film. Moreover, the shrinkage of the release film due to heating during the formation of the resin thin film is effective in preventing the generation of pinholes, and furthermore, this shrinkage action suppresses curing shrinkage of the substrate after transfer heat curing. This makes it possible to create a pinhole-free insulating layer using the transfer method, and the effect is ensured by repeating this process three or more times. When this substrate is subjected to post-processing, it is desirable that the same type of adhesive as that of the substrate be applied to the surface that faces and is to be bonded to the substrate. Example 1 Polypropylene film with a thickness of 60 μm as a release film (Alphan film manufactured by Honshu Paper Industries Co., Ltd.)
A flexible epoxy resin is coated to a thickness of 20 μm and dried to obtain a B-stage state. After bonding to Nikko Gould Co., Ltd. (JTC) and curing with heat, the release film is removed (first step). Next, on the cured resin surface of the copper foil bonded epoxy resin obtained in the first step, the coated surface of the polypropylene film coated with the flexible epoxy resin is further bonded to a thickness of 20 μm. After heating and curing, the polypropylene film was removed (second step). Next, the coated surface of the polypropylene film coated with the flexible epoxy resin is further bonded to the resin surface of the copper foil bonded epoxy resin obtained in the second step to a thickness of 20 μm, and separated. A single-sided copper-clad flexible printed circuit board with adhesive and a molding film was obtained (third step). Example 2 A vinyl fluoride film with a thickness of 40 μm as a release film (Tedra Film manufactured by DuPont, USA)
A flexible polyimide resin is coated to a thickness of 15 μm, and this is dried to obtain a B-stage state. The thus obtained B-stage polyimide resin is applied to a rolled copper foil having a thickness of 18 μm. After bonding to a surface (manufactured by Nippon Mining Co., Ltd.) and heating and curing, the vinyl fluoride film is removed (first step). Next, a polyester film with a thickness of 50 μm as a release film is coated with heat-resistant modified nylon resin to a thickness of 20 μm on the cured resin surface of the same foil-laminated polyimide resin obtained in the first step. After the coated surfaces of Lumirror Film (manufactured by Toray Industries, Inc.) are bonded together, the polyester film is removed (second step). Next, the resin surface of the copper foil bonded polyimide-nylon resin obtained in the second step is bonded to the coated surface of the polyester film coated with the heat-resistant modified nylon resin to a thickness of 20 μm, By heating, a single-sided copper-clad flexible printed circuit board with an adhesive and a release film was obtained. Example 3 A flexible epoxy resin was applied to a 60 μm thick polypropylene film (Toray Film, manufactured by Toray Industries, Inc.) as a release film to a thickness of 10 μm, and this was dried to obtain a B-stage state. The B-stage epoxy resin obtained in this way was bonded to the treated surface of a 35 μm thick rolled copper foil (manufactured by Nippon Mining Co., Ltd.), heated and cured, and then the polypropylene film was removed (first step). process). Next, the epoxy resin in the B stage state coated on the polypropylene film to a thickness of 10 μm is attached to the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the first step, and heated and cured. This process is repeated twice (second step). Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step and the resin surface of the B-stage epoxy resin coated on the polypropylene film with a thickness of 10 μm are bonded together for mold release. A flexible printed circuit board with film and adhesive on one side of copper was obtained. Example 4 Release film: polypropylene film with a thickness of 40 μm (Alphan Film manufactured by Honshu Paper Industries Co., Ltd.)
Coat epoxy resin to a thickness of 10 μm and dry it to make it into a B-stage state.
It is attached to the treated surface of a 35 μm rolled copper foil (manufactured by Nippon Mining Co., Ltd.), heated and cured, and then the polypropylene film is removed (first step). Next, a flexible epoxy resin containing 30% fibrous potassium titanate was coated on a polyethylene film with a thickness of 40 μm as a release film to a thickness of 25 μm, and the resin was dried to a B-stage state. The surface and the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the first step are bonded together, heated and cured, and the polyethylene film is removed (second step). Next, a polypropylene film with a thickness of 40 μm as a release film was coated with a flexible epoxy resin to a thickness of 15 μm, and the resin surface was dried to a B-stage state. The resin surface of the foil-bonded epoxy resin was bonded together to obtain a single-sided copper-bonded flexible printed circuit board with an adhesive and a release film. [Test Results] The following table shows the results of tests conducted on each of the above examples bonded to a 1 mm thick iron plate and cured by heating. Peel strength and solvent resistance are 2.5mm
Peel off a 35μm wide copper foil in a 90 degree direction,
Shown as a value converted per cm.

【表】【table】

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、製造工数
が小さく、ピンホールがなく、後加工した後に他
の部材に容易に接着して使用することができ、か
つ収縮が少ないなどの後加工性のよい基板を得る
ことができる。
As explained above, according to the present invention, the number of manufacturing steps is small, there are no pinholes, it can be easily used by adhering to other parts after post-processing, and it has excellent post-processability such as low shrinkage. You can get a good substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は実施例1に記載した方法による基板の構造
断面図。
The figure is a structural cross-sectional view of a substrate obtained by the method described in Example 1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 片面に接着剤が塗布された離型用フイルムの
接着剤層の表面に金属箔を貼り合わせその接着剤
を硬化させるとともにその離型用フイルムを取り
除くことにより、金属箔に硬化した第一の接着剤
層を形成する第一の工程と、 この第一の工程により形成された硬化した接着
剤の表面に、さらに、片面に接着剤が塗布された
離型用フイルムの接着剤層の表面を貼り合わせる
とともにその離型用フイルムを取り除く工程をn
回行う第二の工程と、 この第二の工程により形成された接着剤層の表
面に、さらに、片面に接着剤が塗布された離型用
フイルムの接着剤層の表面を貼り合わせてその接
着剤をBステージ状態に保持させるとともに離型
用フイルムを付しておく第三の工程と を含むフレキシブル電気回路配線用基板の製造方
法。 2 nは1であり、第二の工程は接着剤を硬化さ
せる工程を伴う特許請求の範囲第1項に記載のフ
レキシブル電気回路配線用基板の製造方法。 3 nは1であり、第二の工程は接着剤をBステ
ージの状態に保持させておく特許請求の範囲第1
項に記載のフレキシブル電気回路配線用基板の製
造方法。 4 nは2以上であり、第二の工程は、このn回
の繰り返し工程のはじめの1回または複数回では
接着剤を硬化させる工程を伴い、あとの1回また
は複数回では接着剤をBステージの状態に保持さ
せておく特許請求の範囲第1項に記載のフレキシ
ブル電気回路配線用基板の製造方法。 5 金属箔の表面に3層以上の接着剤層が形成さ
れ、 その接着剤層のうち少なくとも金属箔に接する
層は硬化され、 その接着剤層のうち少なくとも金属箔から最も
遠い層はBステージの状態に保持され、 その最も遠い層の表面に離型用フイルムが付せ
られたことを特徴とするフレキシブル電気回路配
線用基板。 6 接着剤層の全部または一部は1〜50重量%の
繊維状無機物絶縁材料を含む特許請求の範囲第5
項に記載のフレキシブル電気回路配線用基板。 7 各接着剤層を構成する接着剤は熱硬化性であ
る特許請求の範囲第5項に記載のフレキシブル電
気回路配線用基板。 8 各接着剤層を構成する接着剤の少なくとも一
部に熱可塑性材料を含み残りは熱硬化性である特
許請求の範囲第7項に記載のフレキシブル電気回
路配線用基板。 9 各接着剤層の厚さはそれぞれが5μm以上
100μm以下である特許請求の範囲第5項に記載の
フレキシブル電気回路配線用基板。 10 金属箔の厚さは9μm以上200μm以下である
特許請求の範囲第5項に記載のフレキシブル電気
回路配線用基板。 11 繊維状無機物絶縁材料は繊維状チタン酸カ
リウムである特許請求の範囲第6項に記載のフレ
キシブル電気回路配線用基板の製造方法。
[Claims] 1. Metal foil is bonded to the surface of the adhesive layer of a release film coated with an adhesive on one side, and the adhesive is cured and the release film is removed. A first step of forming a first adhesive layer hardened to The process of bonding the surface of the adhesive layer and removing the release film is
A second step is performed twice, and the surface of the adhesive layer formed in this second step is further bonded with the surface of the adhesive layer of a release film coated with adhesive on one side. A method for manufacturing a flexible electric circuit wiring board, comprising a third step of holding the agent in a B-stage state and attaching a release film. 2. The method for manufacturing a flexible electrical circuit wiring board according to claim 1, wherein n is 1, and the second step includes a step of curing the adhesive. 3 n is 1, and the second step is to maintain the adhesive in the B-stage state.
A method for manufacturing a flexible electric circuit wiring board according to 2. 4 n is 2 or more, and the second step involves a step of curing the adhesive in the first one or more times of this n-time repeating step, and in the remaining one or more times, the adhesive is cured with B. The method for manufacturing a flexible electrical circuit wiring board according to claim 1, wherein the flexible electrical circuit wiring board is held in a stage state. 5 Three or more adhesive layers are formed on the surface of the metal foil, at least the layer in contact with the metal foil is cured, and at least the layer farthest from the metal foil is in the B stage. 1. A flexible electrical circuit wiring board, which is maintained in a flexible state, and has a release film attached to the surface of its furthest layer. 6. All or part of the adhesive layer contains 1 to 50% by weight of a fibrous inorganic insulating material.
The flexible electric circuit wiring board described in . 7. The flexible electric circuit wiring board according to claim 5, wherein the adhesive constituting each adhesive layer is thermosetting. 8. The flexible electrical circuit wiring board according to claim 7, wherein at least a portion of the adhesive constituting each adhesive layer contains a thermoplastic material, and the remainder is thermosetting. 9 Each adhesive layer has a thickness of 5 μm or more
The flexible electric circuit wiring board according to claim 5, which has a thickness of 100 μm or less. 10. The flexible electric circuit wiring board according to claim 5, wherein the metal foil has a thickness of 9 μm or more and 200 μm or less. 11. The method for manufacturing a flexible electric circuit wiring board according to claim 6, wherein the fibrous inorganic insulating material is fibrous potassium titanate.
JP60094155A 1985-05-01 1985-05-01 Substrate for flexible electric circuit wiring and manufacture thereof Granted JPS61252160A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60094155A JPS61252160A (en) 1985-05-01 1985-05-01 Substrate for flexible electric circuit wiring and manufacture thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60094155A JPS61252160A (en) 1985-05-01 1985-05-01 Substrate for flexible electric circuit wiring and manufacture thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61252160A JPS61252160A (en) 1986-11-10
JPH0227144B2 true JPH0227144B2 (en) 1990-06-14

Family

ID=14102485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60094155A Granted JPS61252160A (en) 1985-05-01 1985-05-01 Substrate for flexible electric circuit wiring and manufacture thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61252160A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003094571A (en) * 2001-09-25 2003-04-03 Matsushita Electric Works Ltd Material for producing printed wiring board and its production method

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI251954B (en) * 2003-07-29 2006-03-21 Ind Tech Res Inst Flat fuel cell assembly and fabrication thereof
JP5033153B2 (en) * 2009-02-16 2012-09-26 パナソニック株式会社 Single-sided board manufacturing method and printed wiring board manufacturing method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003094571A (en) * 2001-09-25 2003-04-03 Matsushita Electric Works Ltd Material for producing printed wiring board and its production method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61252160A (en) 1986-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09504139A (en) Flexible multilayer printed circuit board and method of manufacturing the same
JPH0240230B2 (en)
JPH0494186A (en) Manufacture of multilayer circuit board
JPH0227144B2 (en)
JPH0644668B2 (en) Flexible printed circuit board with shield
JP3705370B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3738536B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JPH0464307B2 (en)
JPS61183998A (en) Manufacture of flexible printed wiring board
JPS62277794A (en) Manufacture of inner layer circuit board
JPH0199289A (en) Wiring board and manufacture thereof
JPH03209792A (en) Both-side metal-cladded flexible printed circuit board and manufacture thereof
JPH0119414Y2 (en)
JPS63246897A (en) Manufacture of metal base double-layer interconnection board
JPS593879B2 (en) Manufacturing method for printed wiring boards
JPS617696A (en) Multilayer printed circuit board
JPS627190A (en) Substrate for flexible wiring and manufacture thereof
JP2001144445A (en) Method for producing multilayer printed wiring board
JP3266825B2 (en) Metal foil with insulating layer for manufacturing multilayer wiring boards
JPH02130146A (en) Electrical laminate
JP2776202B2 (en) Manufacturing method of super multilayer laminate
JP2606387B2 (en) Manufacturing method of laminate for additive printed circuit board
JPH0154877B2 (en)
JPS6021598A (en) Method of producing multilayer wiring board
JPH10275978A (en) Printed-wiring board and its manufacture