JPH02267985A - Co↓2ガスレーザ制御装置 - Google Patents

Co↓2ガスレーザ制御装置

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JPH02267985A
JPH02267985A JP8886889A JP8886889A JPH02267985A JP H02267985 A JPH02267985 A JP H02267985A JP 8886889 A JP8886889 A JP 8886889A JP 8886889 A JP8886889 A JP 8886889A JP H02267985 A JPH02267985 A JP H02267985A
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JP
Japan
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circuit
output
pulse
sample
hold
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Pending
Application number
JP8886889A
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English (en)
Inventor
Tomiaki Hosokawa
富秋 細川
Shigeru Kokubo
滋 小久保
Tokihide Nibu
丹生 時秀
Shuzo Yoshizumi
吉住 修三
Yoshikazu Yokose
義和 横瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP8886889A priority Critical patent/JPH02267985A/ja
Publication of JPH02267985A publication Critical patent/JPH02267985A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/09705Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser with particular means for stabilising the discharge

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はCO2レーザ制御装置に関し、特にRF励起C
o2レーザのパルスピーク値コントロールニ関するもの
である。
従来の技術 従来、RF励起CO2ガスレーザのパルスピーク値コン
トロールについては、パルス出力を得るための出力設定
回路の出力と高周波出力を得るRF電源内に設けられた
電力検出回路の出力とを比較回路に入力し、比較回路の
出力をRF電源内に設けられたプリアンプ回路の入力と
していた。
発明が解決しようとする課題 パルスモードの高周波出力は立ち上シが6μBなどと要
求され、立ち上りが極めて速いため、パルスの立ち上り
部分でオーバシュートを発生し、このオーバシュートす
るパルスピーク値とパルス出力を得るだめの出力設定回
路の出力が比較回路で比較されるので、フィードバック
する比較回路の出力がダンピングを発生し、パルスモー
ドの高周波出力もパルスごとにダンピングし、大きな問
題を残していた。
本発明は従来の欠点を除去し、パルスの立ち上り部分で
ダンピングが発生しないパルスピークコントロールが得
られるようにしたものである。
課題を解決するための手段 上記の課題を解決するために本発明のCO2レーザ制御
装置はレーザ出力の大きさを設定する出力設定回路とサ
ンプルホールド遅延回路と、サンプルホールドパルス回
路とサンプルホールド回路と比較回路と、発振回路の出
力を増幅するプリアンプ回路と高周波電力を検出する電
力検出回路とを具備し、前記出力設定回路の出力を前記
サンプルホールド遅延回路と前記比較回路とに入力し、
該サンプルホールド遅延回路の出力をサンフルホールド
パルス回路に入力し、該サンプルホールドパルス回路の
出力を前記サンプルホールド回路と前記比較回路に入力
し、該サンプルホールド回路に前記電力検出回路の出力
を入力し、該サンプフレホールド回路の出力を前記比較
回路に入力し、該比較回路の出力を前記プリアンプ回路
に入力してなるものである。
また、前記サンプルホールドパルス回路の出力タイミン
グを前記出力設定回路のパルスピーク値。
バルヌ周波数、バルヌ幅の関数として遅らせて立ち上げ
るようにしたものである。
また、前記比較回路に入力する前記サンプルホールド回
路の出力を、該サンプルホールド回路にラッチ、ホール
ドするラッチホールド回路を設け、1パルス遅れて次の
前記出力設定回路の出力と比較するようにしたものであ
る。
作  用 上記の手段において、サンプルホールド回路と、サンプ
ルホールド遅延回路、サンプルホールドパルス回路を設
け、パルスの立ち上りピーク部分でサンプルし、サンプ
ル後はホールドするので比較回路の入力は変動せず、従
って比較回路の出力も変動せず、波形立ち上シ部分での
ダンピングは発生しない。
実施例 第1図は高周波出力を放電管に注入し、高周波放電によ
って励起されたガスからレーザ光を発生させるようにし
たCO。ガスレーザ装置の制御装置をブロック図として
示している。
第2図は本発明のサンプルホールドパルス回路を示し、
主に第1図のRF電源2の内部に含まれるものを示す。
第3図は本発明のパルスピーク値コントロールの説明図
を示し、第4図は本発明の第2図のタイミング図を示す
。第6図は本発明の第2図の比較回路の一例を示す。
第1図について説明すると、高周波出力を発生するRF
電源2の出力は同軸ケーブル3で負荷トのマツチングを
とるためのマツチングボックス4に伝送される。マツチ
ングボックス4の出力は並列負荷とのバランスをとるた
めに設けられたカップリングコンデンサ6〜7に供給さ
れ、カップリングコンデンサ6〜7には放電管8〜1o
が接続されている。
第2図について説明すると、第2図は一般的なRF電源
のブロック図に本発明の2点鎖線内回路11を追加した
ものである。
第2図と第4図のタイミング図を用いて説明すると、第
2図の出力設定回路2Qの出力は第4図(ロ)に示すよ
うなパルスモード波形が出力されており、第2図の比較
回路24とサンプルホールド遅延回路21に入力され、
サンプルホールド遅延回路21は遅延時間TD25を設
けて出力し、サンプルホールドパルス回路22に入力す
る。
サンプルホールドパルス回路22は第4図(ハ)に示す
ようなサンプリングパルスIgw26を出力し、サンプ
ルホールド回路23と比較回路24に入力されるサンプ
ルホールド回路23には電力検出回路18からの出力も
入力され、出力には第4図に)に示すような、サンプル
ホールドパルス回路26の出力27に同期して変わる出
力が得られる。
第4図(ロ)とに)が入力される比較回路24の内部で
は第4図(ホ)に示すようなアナログスイッチを開閉す
るだめのアナログスイッチタイミングパルス28が得ら
れる。
以上の入力により比較回路24の出力は第4図(へ)に
示すような出力が得られ、プリアンプ回路13に入力さ
れる。第4図(へ)の太線部29は、出力設定回路2o
の出力と、サンプルホールド回路23の出力が第4図(
ホ)の期間だけ比較されていることを示し、他の前の部
分は出力設定回路2oの出力を示す。
先に第6図について説明すると、第5図は第2図の比較
回路24の一部の一例を示したもので、アナログスイッ
チ30には前述の2回路の出力とアナログスイッチタイ
ミングパルス28が入力されており、アナログスイッチ
タイミングパルス28に同期して、出力設定回路2oの
出力とサンプルホールド回路23の出力が誤差増幅器3
1の入力端子に入力される。
誤差増幅器31の出力は加算器の出力設定器32の入力
端子に入力され、加算器の出力設定回路32の出力は、
比較回路24の出力となる。
ここで第4図(へ)に示すような出力で制御する方法も
あるが、第2図サンプルホールド回路23内に第4図(
へ)の太線部29の期間内でラッチ、ホールドするラッ
チホールド回路を設け、このラッチホールド回路の出力
で1パルス後の、次のパルスのピーク値を制御する方法
もあり、この場合、第4図(へ)に示すピークは全て太
線部29になる。
なお第2図の発振回路12の出力は数mW(3mw)程
度、プリアンプ回路13の出力は数10W(20W)程
度、ドライバ回路14の出力は数100W(aoOW)
〜数KW(1,5KW)程度である。
また3極あるいは4極真空管などを用いた増幅回路16
の前段には同調回路16、後段にはタンク回路(同調回
路)17が接続されている。
第3図について説明すると、第3図(イ)は第2図の出
力設定回路20の出力を示し、パルス幅tw33、パル
ス周波数f34、パルスピーク値P 3 sを設定し、
(ロ)は第2図の電力検出回路18を経たRF電源の出
力19を示し、(ハ)は第2図のサンプルホールドパル
ス回路22の出力を示す、。
第3図(イ)、(ロ)、(ハ)の点線については第2図
の出力設定回路2oのパルスピーク値P36が小さい場
合を示し、(ロ)に示すように立ち上9部分のオーバー
シュー) PP 36は小さくなる。また、定格のピー
ク値まで立ち上る時間に対して、ピーク値が小さい場合
は、立ち上り時間は定格のピーク値まで達する時間に対
して比例して小さい。従って、ピーク値に応じてサンプ
ルホールド遅延回路21のTD25を決めればよい、。
即ち、パルスピーク値が低ければ、パルスピーク値が高
い場合よりも速くサンプリングすることができ、パルス
幅を狭く、パルス周波数も高くすることができる。Tp
 25設定方法は、パルスピーク値P、パルス周波数f
、パルス幅twにおいて、本発明の第2図のサンプルホ
ールド遅延回路21に上述のP、f、twを第2図の出
力設定回路20から入力し、内部で演算し、最も速くて
確実なサンプリングができるタイミングTp 25を設
定する。
また上述の演算で算出するTD 2 sは回路が複雑、
高価となる場合は、論理回路などを用いて別の手段でパ
ルスの立ち下り時点より決められた時間で立ち上げるよ
うにしてもよい。
なお、第3図(イ)、第4図(イ)の波形は高周波出力
の正の部分のみ示し、負の部分は示してない。
また、第2図において、プリアンプ回路13内には、高
周波出力を人、切するスイッチ回路と、高周波出力の大
きさをコントロールする減衰回路が内蔵されている。
また、サンプルホールド回路23内のサンプルホールド
素子はHレベルでサンプルするものが用いられている。
また、第2図のサンプルホールド回路21のTD25、
即ち、第4図のTD25中もサンプルモードとしてサン
プルする方法もあるが、この場合、サンプルホールド回
路23の応答性が遅い場合、即ち、出力設定回路20の
出力がLになってから再び立ち上る時に、サンプルホー
ルド回路23の出力もそれに応じて変化するので、応答
性が遅い場合、出力設定回路20のピーク値指令とは、
ずれて大きくなる。
従って、波形立ち上りのピーク値になった部分で瞬時に
サンプルし、サンプルホールド回路23の出力を出力設
定回路2oの出力ごとに変化させない方がよい場合もあ
る。
従って、本発明のサンプルホールドパルス回路22を用
いる方法は、サンプルホールド回路23が高応答でない
安価なサンプルホールド素子を用いる、あるいはoPア
ンプなどで構成した安価なデスクリート回路を用いるこ
とができる。
また、ラッチホールド回路を用いる方法については、パ
ルス波形の最初の1パルスは前述の本発明の方法で制御
し、次の2番目のパルスについてid、1番目のパル7
ビ−り たラッチホールド回路の出力と、出力回路20の基準値
と比較し、ピーク値を制御する。
この時、2番目のパルスがラッチホールド回路で制御さ
れたピーク値を再び1ラッチホールドし、今度は、2番
目のパルスでランチホールドされた値と出力設定回路2
oの基準値とを比較し、3番目のパルスのピーク値を制
御する。
即チ、前のパルスピーク値をラッチホールドし、その値
と基準値とを比較し、次のパルスピーク値を制御するも
のである。
第6図のアナログスイッチ30へのアナログスイッチタ
イミングパルス28は従って、1番目のパルスで立ち上
った後はそのままHレベルでよく、起動回路がり,即ち
出力停止信号がくるまでHレベルである。
このようにラッチホールド回路は、安定したセミクロー
ズド方式のフィードバック制御とすることができる。
発明の効果 以上のように本発明においてはパルスピーク値のフィー
ドバック制御が、パルス立ち上り部分でのオーバシュー
トがあっても適切,最適なサンプルホールドが行なわれ
るので、パフレス立ち上り部分でのハンチングが生じな
い。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は本発明の実施例を示し、第1図はCo
2ガスレーザ装置の制御装置のブロック図、第2図は同
制御装置のサンプルホールドパルス回路のブロック図、
第3図および第4図はタイミングチャート、第6図は同
制御装置の比較回路の具体例を示す回路図である。 12・・・・・・発振回路、21・・・・・・出力設定
回路、21・・・・・サンプルホールド遅延回路、22
・・・・・・サンプルホールドパルス回路、23・・・
・・・サンプルホールド回路、24・・・・・・比較回
路。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第 図 埒間 第 図 吟聞

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高周波出力を放電管に注入し、高周波放電によっ
    て励起されたガスからレーザ光を発生させるようにした
    CO_2ガスレーザ制御装置において、レーザ出力の大
    きさを設定する出力設定回路とサンプルホールド遅延回
    路と、サンプルホールドパルス回路とサンプルホールド
    回路と比較回路と、発振回路の出力を増幅するプリアン
    プ回路と、高周波電力を検出する電力検出回路とを具備
    し、前記出力設定回路の出力を前記サンプルホールド遅
    延回路と前記比較回路とに入力し、該サンプルホールド
    遅延回路の出力をサンプルホールドパルス回路に入力し
    、該サンプルホールドパルス回路の出力を前記サンプル
    ホールド回路と前記比較回路に入力し、該サンプルホー
    ルド回路に前記電力検出回路の出力を入力し、該サンプ
    ルホールド回路の出力を前記比較回路に入力し、該比較
    回路の出力を前記プリアンプ回路に入力し、前記サンプ
    ルホールドパルス回路の出力タイミングを前記出力設定
    回路の出力のタイミングより遅らせて立ち上るようにし
    たことを特徴とするCO_2ガスレーザ制御装置。
  2. (2)前記サンプルホールドパルス回路の出力タイミン
    グを前記出力設定回路のパルスピーク値,パルス周波数
    ,パルス幅の関数として遅らせて立ち上げるようにした
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のCO_2
    ガスレーザ制御装置。
  3. (3)前記サンプルホールドパルス回路の出力タイミン
    グを前記出力設定回路の出力の立ち下り時点より以前に
    決められた時間で立ち上げるようにしたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項または第2項記載のCO_2ガ
    スレーザ制御装置。
  4. (4)前記比較回路に入力する前記サンプルホールド回
    路の出力を、該サンプルホールド回路にラッチホールド
    するラッチホールド回路を設け、1パルス遅れて次の前
    記出力設定回路の出力と比較するようにしたことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項または第2項または第3項
    記載のCO_2ガスレーザ制御装置。
JP8886889A 1989-04-07 1989-04-07 Co↓2ガスレーザ制御装置 Pending JPH02267985A (ja)

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JPH02267985A true JPH02267985A (ja) 1990-11-01

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ID=13954989

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JP (1) JPH02267985A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537508A (en) * 1993-03-22 1996-07-16 Applied Materials, Inc. Method and dry vapor generator channel assembly for conveying a liquid from a liquid source to a liquid vaporizer with minimal liquid stagnation

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5537508A (en) * 1993-03-22 1996-07-16 Applied Materials, Inc. Method and dry vapor generator channel assembly for conveying a liquid from a liquid source to a liquid vaporizer with minimal liquid stagnation

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