JPH02264881A - Ｍｒスペクトロスコピー装置 - Google Patents
Ｍｒスペクトロスコピー装置Info
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- JPH02264881A JPH02264881A JP1085385A JP8538589A JPH02264881A JP H02264881 A JPH02264881 A JP H02264881A JP 1085385 A JP1085385 A JP 1085385A JP 8538589 A JP8538589 A JP 8538589A JP H02264881 A JPH02264881 A JP H02264881A
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- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 46
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/44—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance using nuclear magnetic resonance [NMR]
- G01R33/48—NMR imaging systems
- G01R33/58—Calibration of imaging systems, e.g. using test probes, Phantoms; Calibration objects or fiducial markers such as active or passive RF coils surrounding an MR active material
- G01R33/583—Calibration of signal excitation or detection systems, e.g. for optimal RF excitation power or frequency
-
- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、磁気共鳴現象を用いて被検体内の複数の化学
物質からスペクトルデータを得る磁気スペクトロスコピ
ー装置（以下、ＭＲスペクトロスコピー装置と称する）
に関する。
物質からスペクトルデータを得る磁気スペクトロスコピ
ー装置（以下、ＭＲスペクトロスコピー装置と称する）
に関する。
（従来の技術）
被検体内における複数の化学物質について磁気共鳴現象
を用いたスペクトルデータを収集し又化学物質を強調し
た磁気共鳴像を得るため、被検体は−様な静磁場中に載
置される。この静磁場中には、定常的又はパルス的な傾
斜磁場が重畳される。この他に、前記静磁場に直角な方
向に−様な高周波磁場パルスを照射する必要がある。こ
こで、前記高周波磁場パルスとは、化学物質に磁気共鳴
を起こさせてスピン系磁気モーメントを静磁場に平行な
方向から所定の角度（以下、フリップ角度と称する）に
倒すパルスである。そして、前記傾斜磁場と高周波磁場
パルスとの組み合わせにより特定部位の”Ｈ，３１Ｐ、
１９Ｆ、”Ｎａ、 １３Ｃ等の化学物質のスペクトル
データを収集し又化学物質を強調した磁気共鳴像を得て
いる。
を用いたスペクトルデータを収集し又化学物質を強調し
た磁気共鳴像を得るため、被検体は−様な静磁場中に載
置される。この静磁場中には、定常的又はパルス的な傾
斜磁場が重畳される。この他に、前記静磁場に直角な方
向に−様な高周波磁場パルスを照射する必要がある。こ
こで、前記高周波磁場パルスとは、化学物質に磁気共鳴
を起こさせてスピン系磁気モーメントを静磁場に平行な
方向から所定の角度（以下、フリップ角度と称する）に
倒すパルスである。そして、前記傾斜磁場と高周波磁場
パルスとの組み合わせにより特定部位の”Ｈ，３１Ｐ、
１９Ｆ、”Ｎａ、 １３Ｃ等の化学物質のスペクトル
データを収集し又化学物質を強調した磁気共鳴像を得て
いる。
そして、Ｓ／Ｎ比が高い磁気共鳴像を得るには磁場共鳴
信号の強度が高いデータを収集することが必要である。
信号の強度が高いデータを収集することが必要である。
磁気共鳴信号の強度（以下、信号強度と称する）をＳと
すると、Ｓは次の式で与えられることが知られている。
すると、Ｓは次の式で与えられることが知られている。
θ；フリップ角度
ＴＲ，パルス間隔（繰り返し時間）
Ｔ１；スピンの緩和時間の時定数
この関係を第６図に示す。
各フリップ角度θ毎に、パルス間隔ＴＲをスピンの緩和
時間の時定数Ｔ１で割った値ＴＲ／Ｔｌによって、信号
強度Ｓが最大となる値ＴＲ／Ｔｌが存在することを示し
ている。
時間の時定数Ｔ１で割った値ＴＲ／Ｔｌによって、信号
強度Ｓが最大となる値ＴＲ／Ｔｌが存在することを示し
ている。
次に、第６図を用いてデータの収集方法について説明す
る。
る。
対象の化学物質を決めるとＴ１が決まる。そして、パル
スシーケンス等の条件によってＴＲを決めるとＴＲ／Ｔ
ｌが決まる。一方、フリップ角度θは、ＲＦパワーの設
定だけでは決まらず、被検体の属性（大きさ、形状）、
測定器の特性等の他の要因の影響をＲＦパワーが受けて
、そのスピンが発生する場所での発生磁場強度により決
まるため、このフリップ角度θを設定することは困難で
ある。このため、ＲＦパワーの設定は勘に頼っていたの
で信号強度が最大となるＲＦパワーを設定することは困
難であった。
スシーケンス等の条件によってＴＲを決めるとＴＲ／Ｔ
ｌが決まる。一方、フリップ角度θは、ＲＦパワーの設
定だけでは決まらず、被検体の属性（大きさ、形状）、
測定器の特性等の他の要因の影響をＲＦパワーが受けて
、そのスピンが発生する場所での発生磁場強度により決
まるため、このフリップ角度θを設定することは困難で
ある。このため、ＲＦパワーの設定は勘に頼っていたの
で信号強度が最大となるＲＦパワーを設定することは困
難であった。
（発明が解決しようとする課題）
従来の装置は以上の様に構成されているので、各化学物
質毎に最適なＲＦパワーを設定していなかったので、磁
気共鳴像のＳ／Ｎ比が悪かった。
質毎に最適なＲＦパワーを設定していなかったので、磁
気共鳴像のＳ／Ｎ比が悪かった。
そこで、本発明の目的は、各化学物質毎に最適なＲＦパ
ワーの設定ができ、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気共鳴像を
得ることができるＭＲスペクトロスコピー装置を提供す
ることにある。
ワーの設定ができ、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気共鳴像を
得ることができるＭＲスペクトロスコピー装置を提供す
ることにある。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
本発明は、静磁場中に載置された被検体に高周波磁場パ
ルスを照射し、この被検体内の複数の化学物質から得ら
れる磁気共鳴信号に基づくスペクトルデータ又は磁気共
鳴像を得るＭＲスペクトロスコピー装置において、化学
物質を特定する化学物質特定手段と、高周波磁場パルス
の照射強度を変更する照射強度変更手段と、高周波磁場
パルスの照射強度を変更させて得られた複数のスペクト
ルデータに基づいて前記化学物質特定手段により特定さ
れた化学物質の磁気共鳴信号の強度が最大となる高周波
磁場パルスの照射強度を算出する制御手段とを備えたこ
とを特徴としている。
ルスを照射し、この被検体内の複数の化学物質から得ら
れる磁気共鳴信号に基づくスペクトルデータ又は磁気共
鳴像を得るＭＲスペクトロスコピー装置において、化学
物質を特定する化学物質特定手段と、高周波磁場パルス
の照射強度を変更する照射強度変更手段と、高周波磁場
パルスの照射強度を変更させて得られた複数のスペクト
ルデータに基づいて前記化学物質特定手段により特定さ
れた化学物質の磁気共鳴信号の強度が最大となる高周波
磁場パルスの照射強度を算出する制御手段とを備えたこ
とを特徴としている。
（作 用）
静磁場中に被検体を載置して、高周波磁場パルスを照射
して得られる磁気共鳴信号に基づいた第１回目のスペク
トルデータを得る。次に、この得られたスペクトルデー
タに基づいて化学物質特定手段により化学物質を特定す
る。その次に、制御手段は、照射強度変更手段により高
周波磁場パルスの照射強度を変更させ、この変更後の照
射強度に基づいて複数のスペクトルデータを得る。そし
て、これらの複数のスペクトルデータより化学物質特定
手段により特定された化学物質の磁気共鳴信号の強度が
最大となる高周波磁場パルスの照射強度を算出する。こ
の算出された照射強度を有する高周波磁場パルスで再び
照射して、この条件により再度撮影することにより化学
物質特定手段により特定された化学物質についてのＳ／
Ｎ比が高い磁気共鳴像を得ることができる。
して得られる磁気共鳴信号に基づいた第１回目のスペク
トルデータを得る。次に、この得られたスペクトルデー
タに基づいて化学物質特定手段により化学物質を特定す
る。その次に、制御手段は、照射強度変更手段により高
周波磁場パルスの照射強度を変更させ、この変更後の照
射強度に基づいて複数のスペクトルデータを得る。そし
て、これらの複数のスペクトルデータより化学物質特定
手段により特定された化学物質の磁気共鳴信号の強度が
最大となる高周波磁場パルスの照射強度を算出する。こ
の算出された照射強度を有する高周波磁場パルスで再び
照射して、この条件により再度撮影することにより化学
物質特定手段により特定された化学物質についてのＳ／
Ｎ比が高い磁気共鳴像を得ることができる。
（実施例）
本発明の一実施例について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例のＭＲスペクトロスコピー装
置の概略全体構成図である。
置の概略全体構成図である。
１は静磁場中に載置された被検体、２はＲＦコイル２ａ
と送信器２ｂとを有する照射手段である高周波磁場パル
ス照射手段、４は被検体１からの磁気共鳴信号Ｂを受信
する受信器、５は前記ＲＦコイル２ａから照射する高周
波磁場パルスＡの照射強度を変更する照射強度変更手段
であるＲＦパワー変更手段、６０はシステムコントロー
ラ、７は表示手段、８は化学物質を特定するキーボード
。
と送信器２ｂとを有する照射手段である高周波磁場パル
ス照射手段、４は被検体１からの磁気共鳴信号Ｂを受信
する受信器、５は前記ＲＦコイル２ａから照射する高周
波磁場パルスＡの照射強度を変更する照射強度変更手段
であるＲＦパワー変更手段、６０はシステムコントロー
ラ、７は表示手段、８は化学物質を特定するキーボード
。
マウス、トラックボール等の化学物質特定手段である。
システムコントローラ６０は、ＲＦパワーの設定値を記
憶するＲＦパワー記憶手段６ａと、信号強度を読み取る
読み取り手段６ｃと、この読み取り手段６ｃにより読み
取られた信号強度を記憶する信号強度記憶手段６ｂと、
信号強度同士の比較を行う比較手段６ｄと、磁気共鳴信
号Ｂに基づいて演算処理する演算手段６ｅと、これらの
手段６ａ乃至６ｅを制御する中央制御手段６とから構成
されている。
憶するＲＦパワー記憶手段６ａと、信号強度を読み取る
読み取り手段６ｃと、この読み取り手段６ｃにより読み
取られた信号強度を記憶する信号強度記憶手段６ｂと、
信号強度同士の比較を行う比較手段６ｄと、磁気共鳴信
号Ｂに基づいて演算処理する演算手段６ｅと、これらの
手段６ａ乃至６ｅを制御する中央制御手段６とから構成
されている。
この一実施例装置の作用について第２図のフローチャー
ト及び第３図乃至第６図を参照して説明する。
ト及び第３図乃至第６図を参照して説明する。
まず、被検体１を静磁場中に載置し、この被検体１に任
意のＲＦパワーの設定値に基づいた高周波磁場パルスＡ
を照射する。そして、被検体１内の各化学物質からの磁
気共鳴信号Ｂを受信器４が収集し、この収集した信号Ｂ
に基づいて中央制御手段６は、演算手段６ｅにフーリエ
変換させ、ＣＲＴモニタ等の表示手段７に第３図（ａ）
に示す様にスペクトルデータ８ａを表示させる（ＳＴＩ
）。
意のＲＦパワーの設定値に基づいた高周波磁場パルスＡ
を照射する。そして、被検体１内の各化学物質からの磁
気共鳴信号Ｂを受信器４が収集し、この収集した信号Ｂ
に基づいて中央制御手段６は、演算手段６ｅにフーリエ
変換させ、ＣＲＴモニタ等の表示手段７に第３図（ａ）
に示す様にスペクトルデータ８ａを表示させる（ＳＴＩ
）。
第３図は横軸が周波数で、縦軸が信号強度を示している
。
。
次に、化学物質特定手段８の図示しない選択スイッチに
より第３図（ｂ）に示すようにＲＯｒ（関心領域）８ｂ
を左右方向に動かして、スペクトルデータ８ａのピーク
８ｃの内の一つを指定する。このピーク８Ｃは各化学物
質の磁気共鳴線を示しており、このＲＯＩ８ｂでピーク
８ｃを指定することにより周波数ｆ１が特定され、化学
物質が特定されたことになる（Ｓｒ１）。
より第３図（ｂ）に示すようにＲＯｒ（関心領域）８ｂ
を左右方向に動かして、スペクトルデータ８ａのピーク
８ｃの内の一つを指定する。このピーク８Ｃは各化学物
質の磁気共鳴線を示しており、このＲＯＩ８ｂでピーク
８ｃを指定することにより周波数ｆ１が特定され、化学
物質が特定されたことになる（Ｓｒ１）。
更に、化学物質特定手段８の図示しない変更スイッチに
より照射強度変更手段５を動かしてＲＦコイル２ａから
のＲＦパワーの設定値を最低（例えば、第４図に示すよ
うにＲＦパワー＝２）とすると、中央制御手段６は、こ
のときのＲＦパワーの設定値（ＲＦパワー＝２）をＲＦ
パワー記憶手段６ａに記憶させる（Ｓｒ１）。
より照射強度変更手段５を動かしてＲＦコイル２ａから
のＲＦパワーの設定値を最低（例えば、第４図に示すよ
うにＲＦパワー＝２）とすると、中央制御手段６は、こ
のときのＲＦパワーの設定値（ＲＦパワー＝２）をＲＦ
パワー記憶手段６ａに記憶させる（Ｓｒ１）。
このステップ３で設定したＲＦパワーによりステップ１
と同様の手順により第４図に示すようにスペクトルデー
タ８１ａを得る。ここで、ステップ２で特定した化学物
質固有の周波数ｆ１に対応するスペクトルデータ８１ａ
のピークの値ｓ１を制御手段６内の信号強度記憶手段６
ｂにＲＦパワーの設定値（ＲＦパワー＝２）に対応させ
て記憶させる（Ｓｒ１）。
と同様の手順により第４図に示すようにスペクトルデー
タ８１ａを得る。ここで、ステップ２で特定した化学物
質固有の周波数ｆ１に対応するスペクトルデータ８１ａ
のピークの値ｓ１を制御手段６内の信号強度記憶手段６
ｂにＲＦパワーの設定値（ＲＦパワー＝２）に対応させ
て記憶させる（Ｓｒ１）。
中央制御手段６は、照射強度変更手段５を制御して所定
の増加分、例えば第４図に示すようにＲＦパワー＝２だ
けＲＦパワーの設定値を増加させてＲＦパワー＝４とさ
せる（Ｓｒ１）。そして、ステップ１と同様に第４図に
示すスペクトルデータ８２ａを表示手段７に表示させる
。次に、ステップ４と同様にスペクトルデータ８２ａの
周波数ｆ１に対応するピークの値Ｓ２を読取り手段６ｃ
により読取らせ、この値Ｓ２と前回得られたピークの値
Ｓ１とを比較手段６ｄにより比較させて（Ｓｒ１） 、
大きい方の値を信号強度記憶手段６ｂに記憶させる（Ｓ
ｒ１）。
の増加分、例えば第４図に示すようにＲＦパワー＝２だ
けＲＦパワーの設定値を増加させてＲＦパワー＝４とさ
せる（Ｓｒ１）。そして、ステップ１と同様に第４図に
示すスペクトルデータ８２ａを表示手段７に表示させる
。次に、ステップ４と同様にスペクトルデータ８２ａの
周波数ｆ１に対応するピークの値Ｓ２を読取り手段６ｃ
により読取らせ、この値Ｓ２と前回得られたピークの値
Ｓ１とを比較手段６ｄにより比較させて（Ｓｒ１） 、
大きい方の値を信号強度記憶手段６ｂに記憶させる（Ｓ
ｒ１）。
中央制御手段６は、設定されたＲＦパワーが上限かどう
か判断させ（Ｓｒ１） 、Ｎｏならばこの動作を設定さ
れたＲＦパワーの上限値、例えば、第４図に示すように
ＲＦパワー＝１０まで行わせる。
か判断させ（Ｓｒ１） 、Ｎｏならばこの動作を設定さ
れたＲＦパワーの上限値、例えば、第４図に示すように
ＲＦパワー＝１０まで行わせる。
そして、信号強度記憶手段６ｂ内には、例えば、第５図
に示すように、ピークの最大値であるＲＦパワー＝６で
信号強度Ｓ３が、記憶される。次に、中央制御手段６は
、照射強度変更手段５を信号強度記憶手段６ｂに記憶さ
れたピークの最大値Ｓ３に対応して記憶されたＲＦパワ
ーの設定値６と同じ設定値となるよう制御する（Ｓｒ１
）。
に示すように、ピークの最大値であるＲＦパワー＝６で
信号強度Ｓ３が、記憶される。次に、中央制御手段６は
、照射強度変更手段５を信号強度記憶手段６ｂに記憶さ
れたピークの最大値Ｓ３に対応して記憶されたＲＦパワ
ーの設定値６と同じ設定値となるよう制御する（Ｓｒ１
）。
ステップ２で特定した化学物質についての磁気共鳴像を
得る本スキャンをする（Ｓｒ１）。
得る本スキャンをする（Ｓｒ１）。
そして、ステップ２で特定した化学物質について、Ｓ／
Ｎ比が高い鮮明な磁気共鳴像を表示手段７に表示させる
ことができる（ＳＴＩＯ）。
Ｎ比が高い鮮明な磁気共鳴像を表示手段７に表示させる
ことができる（ＳＴＩＯ）。
また、ステップ２で特定した化学物質以外の化学物質に
ついても以上のような手順により化学物質に対応した最
適のＲＦパワーを設定することができるので、特定した
化学物質毎にＳ／Ｎ比が高い鮮明な磁気共鳴像を得るこ
とができる。
ついても以上のような手順により化学物質に対応した最
適のＲＦパワーを設定することができるので、特定した
化学物質毎にＳ／Ｎ比が高い鮮明な磁気共鳴像を得るこ
とができる。
更に、発生磁場強度すなわちフリップ角θは常に一定の
データが得られるので、複数のスペクトルデータ間の比
較ができる。
データが得られるので、複数のスペクトルデータ間の比
較ができる。
以上、一実施例について説明したが、本発明はこれに限
定されるものでなく、その要旨を変更しない範囲で種々
に変形実施が可能である。
定されるものでなく、その要旨を変更しない範囲で種々
に変形実施が可能である。
例えば、スペクトルデータを横軸を周波数としたが横軸
を磁場強度で表してもよく、このときこの磁場強度を指
定することによって化学物質を特定してもよい。
を磁場強度で表してもよく、このときこの磁場強度を指
定することによって化学物質を特定してもよい。
また、信号強度の最大値の求め方は、他の方法を用いて
もよく、読取り手段により読み取られた値から選択した
ものとしたが、最小自乗法等の計算手法により求めても
よい。
もよく、読取り手段により読み取られた値から選択した
ものとしたが、最小自乗法等の計算手法により求めても
よい。
［発明の効果］
本発明は、各化学物質毎に最適なＲＦパワー強度を選定
できるので、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気共鳴像を得るこ
とができるＭＲスペクトロスコピー装置を提供すること
ができる。
できるので、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気共鳴像を得るこ
とができるＭＲスペクトロスコピー装置を提供すること
ができる。
第１図は本発明の一実施例のＭＲスペクトロスコピー装
置の概略構成図、第２図乃至第５図は一実施例装置の作
用を説明するための図で、第２図はフローチャート、第
３図（ａ）、第３図（ｂ）及び第４図は表示手段に表示
されたスペクトルデータを示す図、第５図は信号強度と
ＲＦパワーの設定値との関係を示す図、第６図は信号強
度を求める式の関係を表した図である。 １・・・被検体、 ２・・・高周波磁場パルス照射手段（照射手段）、５・
・・ＲＦパワー変更手段（照射強度変更手段）、６・・
・中央制御手段（制御手段）、 ６ａ・・・ＲＦパワー記憶手段（制御手段）、６ｂ・・
・信号強度記憶手段（制御手段）、６Ｃ・・・読取り手
段（制御手段）、 ６ｄ・・・比較手段（制御手段）、 ６ｅ・・・演算手段（制御手段）、 ６０・・・システムコントローラ（制御手段）、８・・
・化学物質特定手段、 ８ａ、 ８１ａ、 ８２ａ、 １１３ａ、 ８４ａ、
８５ａ・・・スペクトルデータ。 ”＼ 、Ｊ 、□−一。
置の概略構成図、第２図乃至第５図は一実施例装置の作
用を説明するための図で、第２図はフローチャート、第
３図（ａ）、第３図（ｂ）及び第４図は表示手段に表示
されたスペクトルデータを示す図、第５図は信号強度と
ＲＦパワーの設定値との関係を示す図、第６図は信号強
度を求める式の関係を表した図である。 １・・・被検体、 ２・・・高周波磁場パルス照射手段（照射手段）、５・
・・ＲＦパワー変更手段（照射強度変更手段）、６・・
・中央制御手段（制御手段）、 ６ａ・・・ＲＦパワー記憶手段（制御手段）、６ｂ・・
・信号強度記憶手段（制御手段）、６Ｃ・・・読取り手
段（制御手段）、 ６ｄ・・・比較手段（制御手段）、 ６ｅ・・・演算手段（制御手段）、 ６０・・・システムコントローラ（制御手段）、８・・
・化学物質特定手段、 ８ａ、 ８１ａ、 ８２ａ、 １１３ａ、 ８４ａ、
８５ａ・・・スペクトルデータ。 ”＼ 、Ｊ 、□−一。
Claims (1)
- 静磁場中に載置された被検体に照射手段から高周波磁場
パルスを照射し、この被検体内の複数の化学物質から得
られる磁気共鳴信号に基づくスペクトルデータ又は磁気
共鳴像を得るＭＲスペクトロスコピー装置において、化
学物質を特定する化学物質特定手段と、高周波磁場パル
スの照射強度を変更する照射強度変更手段と、高周波磁
場パルスの照射強度を変更させて得られた複数のスペク
トルデータに基づいて前記化学物質特定手段により特定
された化学物質の磁気共鳴信号の強度が最大となる高周
波磁場パルスの照射強度を算出する制御手段とを備えた
ことを特徴とするＭＲスペクトロスコピー装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085385A JPH02264881A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | Ｍｒスペクトロスコピー装置 |
| EP19900106176 EP0391279A3 (en) | 1989-04-04 | 1990-03-30 | Method and apparatus for nuclear magnetic resonance spectroscopy with optimal rf power setting |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1085385A JPH02264881A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | Ｍｒスペクトロスコピー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02264881A true JPH02264881A (ja) | 1990-10-29 |
Family
ID=13857274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1085385A Pending JPH02264881A (ja) | 1989-04-04 | 1989-04-04 | Ｍｒスペクトロスコピー装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0391279A3 (ja) |
| JP (1) | JPH02264881A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008272479A (ja) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | General Electric Co <Ge> | 標識付き造影剤用いた磁気共鳴撮像のための方法及びシステム |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2945048B2 (ja) * | 1990-01-24 | 1999-09-06 | 株式会社東芝 | 磁気共鳴イメージング装置 |
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