JPH02259506A - 縞走査型干渉測定装置 - Google Patents
縞走査型干渉測定装置Info
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- JPH02259506A JPH02259506A JP8234289A JP8234289A JPH02259506A JP H02259506 A JPH02259506 A JP H02259506A JP 8234289 A JP8234289 A JP 8234289A JP 8234289 A JP8234289 A JP 8234289A JP H02259506 A JPH02259506 A JP H02259506A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 10
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、参照光を形成する為のミラーなどを機械的に
移動させて参照光と被測定物体からの光との位相差を時
間的に変化させることにより縞走査を行なわせ被測定物
体の形状などを測定する縞走査型干渉測定装置に関する
。
移動させて参照光と被測定物体からの光との位相差を時
間的に変化させることにより縞走査を行なわせ被測定物
体の形状などを測定する縞走査型干渉測定装置に関する
。
[従来の技術]
従来、第2図に示す如き縞走査型干渉測定装置が知られ
ている。
ている。
同図に於て、■はレーザ光源、2はビームエキスパンダ
ー光学系、3は偏光ビームスプリッタ−14a、4bは
図波長板、5は圧電素子、6は圧電素子5に変化する電
圧を印加して圧電素子5を光軸方向に伸縮させる為の電
源、7は被測定物体、8は圧電素子5に固着された参照
ミラー、9は結像レンズ、10は光検出器、11は偏光
板である。
ー光学系、3は偏光ビームスプリッタ−14a、4bは
図波長板、5は圧電素子、6は圧電素子5に変化する電
圧を印加して圧電素子5を光軸方向に伸縮させる為の電
源、7は被測定物体、8は圧電素子5に固着された参照
ミラー、9は結像レンズ、10は光検出器、11は偏光
板である。
ここにおいて、レーザ光源1からの光束はビームエキス
パンダー光学系2でその径を広げられて偏光ビームスプ
リッタ−3に入射し、偏光方向の違いに従って透過成分
は4波長叛4aに入射し反射成分はス波長板4bに入射
する。透過成分はス波長!F14aで円偏光とされて被
測定物体7で反射され、再び残液長1fi4aを通るこ
とでこれへの入射時と比べて偏光面が90度回転された
状態で偏光ビームスプリッタ−3に戻る。従って、今度
はこの被測定物体7からの光束は偏光ビームスプリッタ
−3で第2図下方に反射される。
パンダー光学系2でその径を広げられて偏光ビームスプ
リッタ−3に入射し、偏光方向の違いに従って透過成分
は4波長叛4aに入射し反射成分はス波長板4bに入射
する。透過成分はス波長!F14aで円偏光とされて被
測定物体7で反射され、再び残液長1fi4aを通るこ
とでこれへの入射時と比べて偏光面が90度回転された
状態で偏光ビームスプリッタ−3に戻る。従って、今度
はこの被測定物体7からの光束は偏光ビームスプリッタ
−3で第2図下方に反射される。
一方、反射成分は1/4波長板4bで円偏光とされて光
軸方向に振動している参照ミラー8で反射され、再び嵐
波長扱4bに入射する。
軸方向に振動している参照ミラー8で反射され、再び嵐
波長扱4bに入射する。
ここで反射成分は、y4波長板4bへの最初の入射時と
比べて偏光面が90度回転された状態で偏光ビームスプ
リッタ−3に戻り、今度はこのビームスプリッタ−3を
透過してそのまま第2図下方に向かう。
比べて偏光面が90度回転された状態で偏光ビームスプ
リッタ−3に戻り、今度はこのビームスプリッタ−3を
透過してそのまま第2図下方に向かう。
こうして、参照ミラー8からの参照光と被測定物体7か
らの光束は重ね合わされて、適宜に配向された偏光板1
1及び結像レンズ9を通って光検出器10に到達する。
らの光束は重ね合わされて、適宜に配向された偏光板1
1及び結像レンズ9を通って光検出器10に到達する。
このとき、偏光ビームスプリッタ−3の境界面上で干渉
させられた上記両光束は、偏光板11を通過することで
光検出器10では干渉縞強度として検出される。
させられた上記両光束は、偏光板11を通過することで
光検出器10では干渉縞強度として検出される。
この際、参照ミラー8は光軸方向に振動しているので参
照光と被測定物体7からの光との位相差は変化し、光検
出器10上の干渉縞は移動させられる。そして、参照ミ
ラー8を振動させ、る電圧素子5の動作に同期して、上
記移動する干渉縞データの取り込みが行なわれ、=ンと
二−夕で解析されて被測定物体7の形状等が謂定される
。これは縞走査と呼ばれる測定法であり、これによれば
大気のゆらぎやノイズ等に起因する誤差が最小化されて
測定がより正確に行なわれる(例えばS、Yokoze
ki、に、Patorski and K、0hn
ishi:OpticsCommun、、14 (19
75)401や+Digital Wavefron
t Measuring Interferome
ter for Testing 0ptica
t 5urfaces and Lenses
;Applied 0ptics/Vo1.13、
No、l 1/November 1974 参照
)。
照光と被測定物体7からの光との位相差は変化し、光検
出器10上の干渉縞は移動させられる。そして、参照ミ
ラー8を振動させ、る電圧素子5の動作に同期して、上
記移動する干渉縞データの取り込みが行なわれ、=ンと
二−夕で解析されて被測定物体7の形状等が謂定される
。これは縞走査と呼ばれる測定法であり、これによれば
大気のゆらぎやノイズ等に起因する誤差が最小化されて
測定がより正確に行なわれる(例えばS、Yokoze
ki、に、Patorski and K、0hn
ishi:OpticsCommun、、14 (19
75)401や+Digital Wavefron
t Measuring Interferome
ter for Testing 0ptica
t 5urfaces and Lenses
;Applied 0ptics/Vo1.13、
No、l 1/November 1974 参照
)。
[発明が解決しようとする課題]
しかし′■ら、上記従来例では、成る程度に広げられた
光束をそれに応じた広さの参照面を持つ振動する参照ミ
ラーで反射することにより、時間的に位相が変化する参
照光を作り出していた。従って、参照ミラーの傾き(こ
れは、参照ミラーを平板状の圧電素子に固着するので成
る程度は避けられない)が参照先の各点での位相変化の
精度を低下させ、結果的に参照光と被測定物体からの光
との位相差によって生ずる干渉縞の精度を低下させて被
測定物体の形状等の測定精度を低めるという欠点があっ
た。
光束をそれに応じた広さの参照面を持つ振動する参照ミ
ラーで反射することにより、時間的に位相が変化する参
照光を作り出していた。従って、参照ミラーの傾き(こ
れは、参照ミラーを平板状の圧電素子に固着するので成
る程度は避けられない)が参照先の各点での位相変化の
精度を低下させ、結果的に参照光と被測定物体からの光
との位相差によって生ずる干渉縞の精度を低下させて被
測定物体の形状等の測定精度を低めるという欠点があっ
た。
従って1本発明の目的は、上記欠点を解消すべ(、たと
え移動する反射ミラーに多少の傾きがあっても参照光と
被測定物体からの光との位相差の精度を低下させない構
成を有する縞走査型干渉測定装置を提供することにある
。
え移動する反射ミラーに多少の傾きがあっても参照光と
被測定物体からの光との位相差の精度を低下させない構
成を有する縞走査型干渉測定装置を提供することにある
。
[課題を解決するための手段〕
上記目的を達成する本発明の縞走査型干渉測定装置にお
いては、レーザ光源などの光源から出射される光束が偏
光ビームスプリッタ−などのビームスプリッタ−で2つ
に分割され、これら2つの光束のうちのいずれか一方が
固定の反射ミラーで反射されると共に他方が移動する反
射ミラーで反射されて再びこれら2つの光束が同一光路
をとるようにされ、そして再び偏光ビームスプリッタ−
などで分割されてこれら2つの光束のうちのいずれか一
方が被測定物体へ入射させられ他方が固定された参照面
へ入射させられ、更にこれら2つの光束が再び同一光路
をとるようにされて干渉させられている。また、前記移
動する反射ミラーの動きは圧電素子などで制御されるこ
とによりこれら2つの光束の位相差が制御されている。
いては、レーザ光源などの光源から出射される光束が偏
光ビームスプリッタ−などのビームスプリッタ−で2つ
に分割され、これら2つの光束のうちのいずれか一方が
固定の反射ミラーで反射されると共に他方が移動する反
射ミラーで反射されて再びこれら2つの光束が同一光路
をとるようにされ、そして再び偏光ビームスプリッタ−
などで分割されてこれら2つの光束のうちのいずれか一
方が被測定物体へ入射させられ他方が固定された参照面
へ入射させられ、更にこれら2つの光束が再び同一光路
をとるようにされて干渉させられている。また、前記移
動する反射ミラーの動きは圧電素子などで制御されるこ
とによりこれら2つの光束の位相差が制御されている。
[作用]
上記本発明に於ては、被測定物体からの反射光束あるい
は透過光束と参照面からの光束が干渉させられ、且つこ
れら2つの光束の位相差が上記移動する反射ミラーによ
り時間的に変化させられ、これに伴って変化する干渉縞
強度の位相差から被測定物体の形状あるいは透過波面形
状が測定される。また、被測定物体への入射光束と参照
面への参照光束とに分割される前の段階に、移動する反
射ミラーなどの位相変化手段を設けているので、位相変
化動作に伴う精度への悪影響が最小化される。
は透過光束と参照面からの光束が干渉させられ、且つこ
れら2つの光束の位相差が上記移動する反射ミラーによ
り時間的に変化させられ、これに伴って変化する干渉縞
強度の位相差から被測定物体の形状あるいは透過波面形
状が測定される。また、被測定物体への入射光束と参照
面への参照光束とに分割される前の段階に、移動する反
射ミラーなどの位相変化手段を設けているので、位相変
化動作に伴う精度への悪影響が最小化される。
[実施例]
第1図は本発明の1実施例を示す。
同図の構成に於ては、第2図の従来例と比較して、振動
する参照ミラー8が固定された参照ミラー18となり、
レーザ光源1からの光束を偏光ビームスプリッタ−3へ
、成る程度広げられた光束として入射させる迄の構成が
変更されている。
する参照ミラー8が固定された参照ミラー18となり、
レーザ光源1からの光束を偏光ビームスプリッタ−3へ
、成る程度広げられた光束として入射させる迄の構成が
変更されている。
即ち、12は電源6により光軸方向に伸縮させられる圧
電素子5に固着された反射ミラ13は固定の反射ミラー
14a、14bは属波長板、15は別設の偏光ビーム
スプリッタ−16はビームエキスパンダー光学系2内に
設けられたピンホールである。
電素子5に固着された反射ミラ13は固定の反射ミラー
14a、14bは属波長板、15は別設の偏光ビーム
スプリッタ−16はビームエキスパンダー光学系2内に
設けられたピンホールである。
レーザ光源1から出射した光束は偏光ビームスプリッタ
−15に入射し、偏光方向の違いにより透過成分は振動
するミラー12の方向へ、反射成分は固定のミラー13
の方向へ分割される。偏光ビームスプリッタ−15を透
過した光束は4波長@ 14 aを通過しミラー12で
反射されて、再び残液長板14aを通過して偏光ビーム
スプリッタ−15へ戻るが、1/4波長板14aを2度
通過するので往路と復路とではその偏光方向が直交して
おり、従って偏光ビームスプリッタ−15で反射されて
ビームエキスパンダー光学系2へ入射する。
−15に入射し、偏光方向の違いにより透過成分は振動
するミラー12の方向へ、反射成分は固定のミラー13
の方向へ分割される。偏光ビームスプリッタ−15を透
過した光束は4波長@ 14 aを通過しミラー12で
反射されて、再び残液長板14aを通過して偏光ビーム
スプリッタ−15へ戻るが、1/4波長板14aを2度
通過するので往路と復路とではその偏光方向が直交して
おり、従って偏光ビームスプリッタ−15で反射されて
ビームエキスパンダー光学系2へ入射する。
一方、偏光ビームスプリッタ−15での反射成分は残液
長板14bを通過し固定ミラー13で反射されて、再び
1/4波長板14bを通過して偏光ビームスプリッタ−
15へ戻るが、上記透過成分の説明における理由と原理
的に同じ理由により偏光ビームスプリッタ−15を透過
してビームエキスパンダー光学系2へ入射する。こうし
て両光束は再び同一光路をとってビームエキスパンダー
光学系2に人射する。
長板14bを通過し固定ミラー13で反射されて、再び
1/4波長板14bを通過して偏光ビームスプリッタ−
15へ戻るが、上記透過成分の説明における理由と原理
的に同じ理由により偏光ビームスプリッタ−15を透過
してビームエキスパンダー光学系2へ入射する。こうし
て両光束は再び同一光路をとってビームエキスパンダー
光学系2に人射する。
この際、両光束(偏光方向は相互に直交している)の位
相差は振動ミラー12の位置に依存するので、電源6の
電圧によりこの位相差を制御することが出来る。
相差は振動ミラー12の位置に依存するので、電源6の
電圧によりこの位相差を制御することが出来る。
次に、両光束はビームエキスパンダー光学系2とピンホ
ール16(この光学系2を構成する2つのレンズの合致
する焦点位置に置かれている)を通過した後、偏光ビー
ムスプリッタ−3で再び分割され、振動ミラー12から
の光束と固定ミラー13からの光束のうちの一方は被測
定物体7へ、他方は参照ミラー18へ入射する。
ール16(この光学系2を構成する2つのレンズの合致
する焦点位置に置かれている)を通過した後、偏光ビー
ムスプリッタ−3で再び分割され、振動ミラー12から
の光束と固定ミラー13からの光束のうちの一方は被測
定物体7へ、他方は参照ミラー18へ入射する。
そして、被測定物体7と参照ミラー18で夫々反射され
た光束は、前記従来例で述べたと同じ如く、偏光ビーム
スプリッタ−3の境界面上で干渉し偏光板11及び結像
レンズ9を通過することで、光検出器10で干渉縞強度
として検出される。
た光束は、前記従来例で述べたと同じ如く、偏光ビーム
スプリッタ−3の境界面上で干渉し偏光板11及び結像
レンズ9を通過することで、光検出器10で干渉縞強度
として検出される。
電源6の電圧により両光束の位相差が制御されて、縞走
査による測定が行なわれることは従来例で述べたと同様
である。
査による測定が行なわれることは従来例で述べたと同様
である。
上記実施例では、振動ミラー12などの位相差変化手段
を干渉計からの分離し、光源から出射直復の比較的細い
光路中に位相変化手段を設けているので、振動ミラー1
2などの傾きなどが位相差変化の精度を劣化させること
が少なくなる。
を干渉計からの分離し、光源から出射直復の比較的細い
光路中に位相変化手段を設けているので、振動ミラー1
2などの傾きなどが位相差変化の精度を劣化させること
が少なくなる。
また、ピンホール16により2次点光源(偏光方向が直
交する2成分を含む光束の)を形成しているので、偏光
ビームスプリッタ−3へ向かう光束の状態も良好になっ
ている。
交する2成分を含む光束の)を形成しているので、偏光
ビームスプリッタ−3へ向かう光束の状態も良好になっ
ている。
[発明の効果]
以上の様に1本発明の構成によれば、振動ミラーなどの
位相変化手段の位相変化動作に伴う不具合が参照光と被
測定物体からの光との位相差の精度に悪影響を及ぼすこ
とが最小化されて、精度の良い縞走査型干渉測定装置が
実現される。
位相変化手段の位相変化動作に伴う不具合が参照光と被
測定物体からの光との位相差の精度に悪影響を及ぼすこ
とが最小化されて、精度の良い縞走査型干渉測定装置が
実現される。
第1図は本発明の1実施例の構成図、第2図は従来例の
構成図である。 1・・・・・レーザ光源、2・・・・・ビームエキスパ
ンダー光学系、3.15・・・・・偏光ビームスプリッ
タ−14a14b、14a、14b・・・・・1/4波
長板、5・・・・・圧電素子、6・・・・・1!源、7
・・・・・被測定物体、10・・・・・光検出器。 11・・・・・偏光板、12.13・・・・・反射ミラ
ー、16・・・・・ピンホール、18・・・・・参照ミ
ラー
構成図である。 1・・・・・レーザ光源、2・・・・・ビームエキスパ
ンダー光学系、3.15・・・・・偏光ビームスプリッ
タ−14a14b、14a、14b・・・・・1/4波
長板、5・・・・・圧電素子、6・・・・・1!源、7
・・・・・被測定物体、10・・・・・光検出器。 11・・・・・偏光板、12.13・・・・・反射ミラ
ー、16・・・・・ピンホール、18・・・・・参照ミ
ラー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、被測定物体からの光と参照面からの光とを干渉させ
且つこれら2つの光の位相差を時間的に変化させること
によって、これに伴って変化する干渉縞強度の位相差か
ら被測定物体の形状等を測定する縞走査型干渉測定装置
に於て、 光源から出射される光束を2つに分割する ビームスプリッターを設け、これら分割された2つの光
束のうちのいずれか一方を固定された反射ミラーで反射
すると共に他方を移動する反射ミラーで反射して再びこ
れら2つの光束を同一光路をとるようにし、再び分割し
てこれら2つの光束のうちのいずれか一方を被測定物体
へ入射させ他方を固定された参照面へ入射させ、更にこ
れら2つの光束を再び同一光路をとるようにして干渉さ
せ、且つ前記移動する反射ミラーの動きを制御すること
によりこれら2つの光束の位相差を制御することを特徴
とする縞走査型干渉測定装置。 2、前記ビームスプリッターは第1の偏光ビームスプリ
ッターであり、前記固定された反射ミラーと前記移動す
る反射ミラーからの光束が再び同一光路をとらされた後
に再び分割する手段は第2の偏光ビームスプリッターで
あり、前記第1の偏光ビームスプリッターと前記固定さ
れた反射ミラー及び前記移動する反射ミラーとの間に、
夫々、1/4波長板が配設され、前記第2の偏光ビーム
スプリッターと前記被測定物体及び前記参照面との間に
、夫々、1/4波長板が配設されている請求項1記載の
測定装置。 3、前記移動する反射ミラーは圧電素子に固着され、該
圧電素子への印加電圧の大きさを制御することにより前
記移動する反射ミラーの動きが制御される請求項1記載
の測定装置。 4、前記固定された反射ミラーと前記移動する反射ミラ
ーからの光束が再び同一光路をとらされたところにビー
ムエキスパンダー光学系が設けられている請求項1記載
の測定装置。 5、前記ビームエキスパンダー光学系内にピンホールが
配設されている請求項4記載の測定装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1082342A JP2891715B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 縞走査型干渉測定装置 |
US07/875,592 US5170217A (en) | 1989-03-31 | 1992-04-28 | Object measuring apparatus using lightwave interference |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1082342A JP2891715B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 縞走査型干渉測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02259506A true JPH02259506A (ja) | 1990-10-22 |
JP2891715B2 JP2891715B2 (ja) | 1999-05-17 |
Family
ID=13771894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1082342A Expired - Fee Related JP2891715B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 縞走査型干渉測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2891715B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010025922A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-02-04 | Nikon Corp | 干渉装置 |
JP2011504231A (ja) * | 2007-11-13 | 2011-02-03 | ザイゴ コーポレーション | 偏光スキャンを利用した干渉計 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57153206A (en) * | 1981-03-18 | 1982-09-21 | Hitachi Ltd | Light interference measuring device |
JPS59154309A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-03 | Olympus Optical Co Ltd | 面形状測定用干渉計 |
JPS63241305A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-06 | Hitachi Ltd | 縞走査法 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP1082342A patent/JP2891715B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57153206A (en) * | 1981-03-18 | 1982-09-21 | Hitachi Ltd | Light interference measuring device |
JPS59154309A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-03 | Olympus Optical Co Ltd | 面形状測定用干渉計 |
JPS63241305A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-06 | Hitachi Ltd | 縞走査法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011504231A (ja) * | 2007-11-13 | 2011-02-03 | ザイゴ コーポレーション | 偏光スキャンを利用した干渉計 |
JP2010025922A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-02-04 | Nikon Corp | 干渉装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2891715B2 (ja) | 1999-05-17 |
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