JPH02259435A - 光パルス測定装置 - Google Patents
光パルス測定装置Info
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- JPH02259435A JPH02259435A JP8006789A JP8006789A JPH02259435A JP H02259435 A JPH02259435 A JP H02259435A JP 8006789 A JP8006789 A JP 8006789A JP 8006789 A JP8006789 A JP 8006789A JP H02259435 A JPH02259435 A JP H02259435A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、時間幅の短い光パルスのパルス幅等を測定
する装置に関するものである。
する装置に関するものである。
〈従来技術〉
第１０図に、自己相関法を用いて光パルスを測定するＳ
ＨＧ相関計の原理構成を示す、第１０図において、被測
定光である繰り返し光パルスはハーフミラ−１に入射さ
れ２つの分岐される。すなわち、その透過光はミラー２
で反射され、さらにハーフミラ−１で反射される。一方
、反射光はコーナーキューブ３でその向きが変えられて
経路を逆進し、ハーフミラ−１を透過して、ミラー２で
反射された光と重ね合わされる。この合波光は対物レン
ズ４で集束されてＳＨＧ結晶５に入射される。ＳＨＧ結
晶５は入射光の２次高調波を発生して出力するものであ
る。この２次高調波はフィルタ６で選択されて受光素子
７でその光強度が測定される。コーナーキューブ３の位
置を移動させてハーフミラ−１との距離を変えるとこの
２つの経路の光路長の差を変えることが出来るので、光
路長を変えて光強度を測定することにより、被測定光の
パルス幅を測定する事が出来る。
ＨＧ相関計の原理構成を示す、第１０図において、被測
定光である繰り返し光パルスはハーフミラ−１に入射さ
れ２つの分岐される。すなわち、その透過光はミラー２
で反射され、さらにハーフミラ−１で反射される。一方
、反射光はコーナーキューブ３でその向きが変えられて
経路を逆進し、ハーフミラ−１を透過して、ミラー２で
反射された光と重ね合わされる。この合波光は対物レン
ズ４で集束されてＳＨＧ結晶５に入射される。ＳＨＧ結
晶５は入射光の２次高調波を発生して出力するものであ
る。この２次高調波はフィルタ６で選択されて受光素子
７でその光強度が測定される。コーナーキューブ３の位
置を移動させてハーフミラ−１との距離を変えるとこの
２つの経路の光路長の差を変えることが出来るので、光
路長を変えて光強度を測定することにより、被測定光の
パルス幅を測定する事が出来る。
〈発明が解決すべき課題〉
しかしながら、この様なＳＨＧ相関計には次のような課
題があった。
題があった。
（１）繰り返しパルスしか測定することが出来ず、単一
パルスの測定が本質的に不可能である（２）自己相関法
であるために、パルスの形状を測定することが出来ない
、従って、同じパルス幅であっても、パルスの形状が異
なるとパルス幅か異なって測定される。
パルスの測定が本質的に不可能である（２）自己相関法
であるために、パルスの形状を測定することが出来ない
、従って、同じパルス幅であっても、パルスの形状が異
なるとパルス幅か異なって測定される。
（３）ＳＨＧ結晶で２次高調波を発生さる構成であるた
め効率が低く、被測定光の強度が低いと測定することが
出来ない。
め効率が低く、被測定光の強度が低いと測定することが
出来ない。
この様な課題の為に、その使用が制限されていた。
〈発明の目的〉
この発明の目的は、単一パルスの測定が可能である光パ
ルス測定装置を提供する事にある。
ルス測定装置を提供する事にある。
く課題を解決する為の手段〉
前記課題を解決するために本発明では、被測定光とこの
被測定光よりも時間幅の短いパルスを合波し、この合波
光の高調波光を発生させて、この高調波光の空間的な光
強度分布を測定する構成であって、前記被測定光、時間
幅の短い光パルスまたは合波光のいずれかを、その光の
進行方向に垂直な面でその位置に応じて異なる遅延時間
を与えるようにしたものである。
被測定光よりも時間幅の短いパルスを合波し、この合波
光の高調波光を発生させて、この高調波光の空間的な光
強度分布を測定する構成であって、前記被測定光、時間
幅の短い光パルスまたは合波光のいずれかを、その光の
進行方向に垂直な面でその位置に応じて異なる遅延時間
を与えるようにしたものである。
く作用〉
時間変化を空間変化に置き換えることにより、単一パル
スの測定を可能にする。
スの測定を可能にする。
〈実施例〉
第１図に本発明に係る光パルス測定装置の一実維例を示
す。第１図において、１０はパルスレーザ−であり、紙
面に対して垂直に偏光した光パルスを発生する（○で表
わす）。１１はパルス圧縮器であり、パルスレーザ−１
０の出力光が入射され、この光パルスを時間的に圧縮す
る。この圧縮された光パルスはミラー１２で反射され、
ビームエクステンダ１３に入射される。ビームエクステ
ンダ１３は入射された光を空間的に広げて出力する＝１
４は偏光子であり、ビームエクステンダ１３の出力光が
入射される。１５はパルス幅を測定する被測定光を出力
する光源であり、その出力の被測定光は紙面内で偏光し
ている（１で表わす）ものとする、この被測定光は対物
レンズ１６で集束され、ミラー１７で反射されてビーム
エクステンダ１８に入射される。ビームエクステンダ１
８は入射光を空間的に広げて偏光子１４に入射する。
す。第１図において、１０はパルスレーザ−であり、紙
面に対して垂直に偏光した光パルスを発生する（○で表
わす）。１１はパルス圧縮器であり、パルスレーザ−１
０の出力光が入射され、この光パルスを時間的に圧縮す
る。この圧縮された光パルスはミラー１２で反射され、
ビームエクステンダ１３に入射される。ビームエクステ
ンダ１３は入射された光を空間的に広げて出力する＝１
４は偏光子であり、ビームエクステンダ１３の出力光が
入射される。１５はパルス幅を測定する被測定光を出力
する光源であり、その出力の被測定光は紙面内で偏光し
ている（１で表わす）ものとする、この被測定光は対物
レンズ１６で集束され、ミラー１７で反射されてビーム
エクステンダ１８に入射される。ビームエクステンダ１
８は入射光を空間的に広げて偏光子１４に入射する。
偏光子１４はビームエクステンダ１３．１８の出力光を
合波して出力する。１９はバビネ（Ｂａｂｉｎｅｔ）の
補償板であり、偏光子１４で合波された光が入射される
。バとネの補償板１９は特定の偏波面の光のみ、その進
行方向に垂直な面における位置によって異なる遅延時間
を与えるものである。
合波して出力する。１９はバビネ（Ｂａｂｉｎｅｔ）の
補償板であり、偏光子１４で合波された光が入射される
。バとネの補償板１９は特定の偏波面の光のみ、その進
行方向に垂直な面における位置によって異なる遅延時間
を与えるものである。
２０は高調波光発生手段であり、バビネの補償板１９の
出力光が入射され、その２次高調波を発生させる。２１
はフィルタであり、高調波光発生手段２１の出力光が入
射され、２次高調波のみを選択して透過させる。２２は
ラインセンサであり、フィルタ２１の出力光が入射され
、その空間的な強度分布を電気信号に変換する。２３は
表示・演算部であり、ラインセンサ２２の出力が入力さ
れ、被測定光のパルス幅を演算して表示する。２４は駆
動部であり、パルスレーザ−１０及び光源１５を同期し
て動作させる。
出力光が入射され、その２次高調波を発生させる。２１
はフィルタであり、高調波光発生手段２１の出力光が入
射され、２次高調波のみを選択して透過させる。２２は
ラインセンサであり、フィルタ２１の出力光が入射され
、その空間的な強度分布を電気信号に変換する。２３は
表示・演算部であり、ラインセンサ２２の出力が入力さ
れ、被測定光のパルス幅を演算して表示する。２４は駆
動部であり、パルスレーザ−１０及び光源１５を同期し
て動作させる。
次に、この実施例の動作を説明する。パルスレーザ−１
０及び被測定光はそれぞれビームエクステンダ１３．１
８で空間的に広げられ、偏光子１４で合波される。パル
スレーザ−１０の出力光はパルス圧縮器１１で時間的に
圧縮されるので、そのパルス幅は光源１５の出力光であ
る被測定光のパルス幅より狭くなっている。第２図は偏
光子１４の出力側におけるパルス圧縮器１１の出力光と
被測定光の時間関係を示したものであり、３０はパルス
圧縮器１１の出力光、３１は被測定光である。駆動部２
４はパルスレーザ−１０と光源１５の駆動時間を翻整し
て、パルス圧縮器１１の出力光３０が被測定光３１の中
央に来るようにする。
０及び被測定光はそれぞれビームエクステンダ１３．１
８で空間的に広げられ、偏光子１４で合波される。パル
スレーザ−１０の出力光はパルス圧縮器１１で時間的に
圧縮されるので、そのパルス幅は光源１５の出力光であ
る被測定光のパルス幅より狭くなっている。第２図は偏
光子１４の出力側におけるパルス圧縮器１１の出力光と
被測定光の時間関係を示したものであり、３０はパルス
圧縮器１１の出力光、３１は被測定光である。駆動部２
４はパルスレーザ−１０と光源１５の駆動時間を翻整し
て、パルス圧縮器１１の出力光３０が被測定光３１の中
央に来るようにする。
第３図にバビネの補償板１９の構成を示す、バビネの補
償板は同形の楔形の細長い水晶３２．３３を、水晶３２
の光学軸を紙面に平行に、水晶３３の光学軸を紙面に垂
直にして組み合わせたものである。水晶は複屈折性があ
るので、光学軸の方向によって屈折率が異なる。これら
の屈折率をｎｏ”ｅとすると、左端面からの距離がＸの
位置における水晶３２．３３の厚さをそれぞれｄｌ、ｄ
２とすると、紙面内で偏光している光に対して、バビネ
の補償板の厚さ方向の光路長りは、Ｌ＝ （ｄ −ｄ
、、）（ｎｏ −ｎｅ ）になる、すなわち、位’Ｉｌ
ｘによってバビネの補償板１９を通過する時間が異なる
という効果が生じる０紙面に垂直に偏光している光に対
しては一定の遅延を与える。
償板は同形の楔形の細長い水晶３２．３３を、水晶３２
の光学軸を紙面に平行に、水晶３３の光学軸を紙面に垂
直にして組み合わせたものである。水晶は複屈折性があ
るので、光学軸の方向によって屈折率が異なる。これら
の屈折率をｎｏ”ｅとすると、左端面からの距離がＸの
位置における水晶３２．３３の厚さをそれぞれｄｌ、ｄ
２とすると、紙面内で偏光している光に対して、バビネ
の補償板の厚さ方向の光路長りは、Ｌ＝ （ｄ −ｄ
、、）（ｎｏ −ｎｅ ）になる、すなわち、位’Ｉｌ
ｘによってバビネの補償板１９を通過する時間が異なる
という効果が生じる０紙面に垂直に偏光している光に対
しては一定の遅延を与える。
次に、第４図に基づいてバビネの補償板１９以降の動作
を説明する。なお、第１図と同じ要素には同一符号を付
し、説明を省略する。ａ光子１４で合波された光はバビ
ネの補償板１９に入射される。この入射光は第２図で説
明したようになっている。バビネの補償板１９は第３図
で説明しなように紙面内で偏光した光のみ、その入射位
置によって異なった遅延量を与える。従って、Ａ、Ｂ点
における出力光３０と３１の相対関係は第５図（Ａ）、
（Ｂ）のようになる、すなわち、Ａ点では出力光３１が
先行し、Ｂ点では出力光３０が先行する。Ａ点とＢ点の
間では位相差が連続的に分布した光が得られる。バビネ
の補償板１９の出力光は高調波光発生手段２０に入射さ
れる。高調波光発生手段２０はＫＤＰ結晶で構成され、
その光学軸は光の入射方向に対して約５９°にされる。
を説明する。なお、第１図と同じ要素には同一符号を付
し、説明を省略する。ａ光子１４で合波された光はバビ
ネの補償板１９に入射される。この入射光は第２図で説
明したようになっている。バビネの補償板１９は第３図
で説明しなように紙面内で偏光した光のみ、その入射位
置によって異なった遅延量を与える。従って、Ａ、Ｂ点
における出力光３０と３１の相対関係は第５図（Ａ）、
（Ｂ）のようになる、すなわち、Ａ点では出力光３１が
先行し、Ｂ点では出力光３０が先行する。Ａ点とＢ点の
間では位相差が連続的に分布した光が得られる。バビネ
の補償板１９の出力光は高調波光発生手段２０に入射さ
れる。高調波光発生手段２０はＫＤＰ結晶で構成され、
その光学軸は光の入射方向に対して約５９°にされる。
高調波光発生手段２０は入射光の２次高調波を発生し、
その強度Ｐは次式（１）に従う。
その強度Ｐは次式（１）に従う。
％式％（１）
但し、Ｅ 、Ｅ２はそれぞれ出力光３０．３１の強度、
ｒ１２３は非線形効果の生し易さを表わす定数である。
ｒ１２３は非線形効果の生し易さを表わす定数である。
従って、第５図（Ｃ）、（Ｄ）に示すように、２次高調
波は出力光３０と３１が時間的にオーバーラツプした部
分についてのみ発生する。
波は出力光３０と３１が時間的にオーバーラツプした部
分についてのみ発生する。
高調波光発生手段２０の出力はフィルタ２１で２次高調
波の部分のみが取り出され、ラインセンサ２２に入射さ
れる。ラインセンサ２２は入射光の進行方向に対して垂
直な線上に複数の光センサを配列したものであり、各々
の点におけるフィルタ２１の出力光強度を電気信号に変
換する。被測定光とパルス圧縮器１１の出力光の位相差
はバビネの補償板１９で連続的に変化させられるので、
ラインセンサ２２で測定した２次高調波の空間的な光強
度分布は、ビームエクステンダ１３の出力光強度の分布
を一定とすると、被測定光の強度の時間的な分布になる
。その為、被測定光のパルス幅をラインセンサ２２で測
定する空間的な幅に置き換えることができ、単一のパル
スで被測定光のパルス幅を測定することができる。また
、前記（１）式かられかるように、パルス圧縮器１１の
光強度を増加することにより、被測定光強度が弱くても
２次高調波の強度を高くすることが出来るので、信号の
Ｓ／Ｎ比を改善することが可能になる。
波の部分のみが取り出され、ラインセンサ２２に入射さ
れる。ラインセンサ２２は入射光の進行方向に対して垂
直な線上に複数の光センサを配列したものであり、各々
の点におけるフィルタ２１の出力光強度を電気信号に変
換する。被測定光とパルス圧縮器１１の出力光の位相差
はバビネの補償板１９で連続的に変化させられるので、
ラインセンサ２２で測定した２次高調波の空間的な光強
度分布は、ビームエクステンダ１３の出力光強度の分布
を一定とすると、被測定光の強度の時間的な分布になる
。その為、被測定光のパルス幅をラインセンサ２２で測
定する空間的な幅に置き換えることができ、単一のパル
スで被測定光のパルス幅を測定することができる。また
、前記（１）式かられかるように、パルス圧縮器１１の
光強度を増加することにより、被測定光強度が弱くても
２次高調波の強度を高くすることが出来るので、信号の
Ｓ／Ｎ比を改善することが可能になる。
第６図に本発明の他の実施例を示す、この実施例は、被
測定光の遅延時間を異ならせるようにしたものである。
測定光の遅延時間を異ならせるようにしたものである。
なお、第１図と同じ要素には同一符号を付し、説明を省
略する。第６図において、３４は遅延手段であり、ビー
ムエクステンダ１８の出力光が入力される。この遅延手
段３４はバビネの補償板１９と同じ働きをする。すなわ
ち、入射光の進行方向に垂直な方向の位置に応じて異な
った遅延時間を与える。遅延手段３４の出力光は偏光子
１４に入射される。また、第１図実施例と異なりバビネ
の補償板１９がなく、偏光子１４の出力光は直接高調波
光発生手段２０に入射される。
略する。第６図において、３４は遅延手段であり、ビー
ムエクステンダ１８の出力光が入力される。この遅延手
段３４はバビネの補償板１９と同じ働きをする。すなわ
ち、入射光の進行方向に垂直な方向の位置に応じて異な
った遅延時間を与える。遅延手段３４の出力光は偏光子
１４に入射される。また、第１図実施例と異なりバビネ
の補償板１９がなく、偏光子１４の出力光は直接高調波
光発生手段２０に入射される。
本発明では、光パルス発生手段であるパルス圧縮器１１
の出力光と被測定光の相対的な遅延時間を異ならせれば
よいので、このようにしても同様の効果を達成出来る。
の出力光と被測定光の相対的な遅延時間を異ならせれば
よいので、このようにしても同様の効果を達成出来る。
第７図に遅延手段３４の構成の一例を示す。第７図にお
いて、３５はミラーであり、ビームエクステンダ１８で
空間的に広げられた光を反射する。
いて、３５はミラーであり、ビームエクステンダ１８で
空間的に広げられた光を反射する。
３６は多段コーナーキューブであり、ミラー３５で反射
された光が入射される。多段コーナーキューブ３６は複
数のコーナーキューブを階段状に積み重ねた構成をして
おり、各段によって光の光路長が異なる。従って、光の
進行方向に垂直の方向に遅延時間が異なり、バビネの補
償板１９と同じ効果を達成できる。多段コーナーキュー
ブ３６の出力光はミラー３７で反射されて偏光子１４に
入射される。この構成においては、ラインセンサ２２の
受光素子の数は多段コーナーキューブ３６の段数だけあ
ればよい。なお、遅延手段３４としてバビネの補償板を
用いることも出来る。
された光が入射される。多段コーナーキューブ３６は複
数のコーナーキューブを階段状に積み重ねた構成をして
おり、各段によって光の光路長が異なる。従って、光の
進行方向に垂直の方向に遅延時間が異なり、バビネの補
償板１９と同じ効果を達成できる。多段コーナーキュー
ブ３６の出力光はミラー３７で反射されて偏光子１４に
入射される。この構成においては、ラインセンサ２２の
受光素子の数は多段コーナーキューブ３６の段数だけあ
ればよい。なお、遅延手段３４としてバビネの補償板を
用いることも出来る。
第８図にさらに他の実施例を示す。なお、第１図と同じ
要素には同一符号を付し、説明を省略する。この実施例
は光パルス発生手段であるパルス圧縮器１１の出力光を
遅延させるようにしたものである。第８図において、３
４は遅延手段であり、バビネの補償板または第７図に示
した構成のものを用いる。この遅延手段３４にはビーム
エクステンダ１３の出力光が入力され、その出力光は偏
光子１４に入射される。また、偏光子１４の出力光は直
接高調波光発生手段２０に入射される。このようにして
も、同様の効果を達成することが出来る。
要素には同一符号を付し、説明を省略する。この実施例
は光パルス発生手段であるパルス圧縮器１１の出力光を
遅延させるようにしたものである。第８図において、３
４は遅延手段であり、バビネの補償板または第７図に示
した構成のものを用いる。この遅延手段３４にはビーム
エクステンダ１３の出力光が入力され、その出力光は偏
光子１４に入射される。また、偏光子１４の出力光は直
接高調波光発生手段２０に入射される。このようにして
も、同様の効果を達成することが出来る。
なお、これらの実施例では光源１５とパルスレーザ−１
０の動作時間を調整して、これらの出力光が第２図に示
す関係にあるようにしたが、被測定光またはパルス圧縮
器１１の出力光の光路に可変遅延手段を挿入するように
してもよい、可変遅延手段としては、例えば第９図に示
すものを用いることが出来る。第９図において、３８は
ミラー３９はコーナーキューブである。光は上からミラ
ー３８に入射して反射され、コーナーキューブ３９で向
きを反転されてミラー３８で反射されて出力される。ミ
ラー３８とコーナーキューブ３９の距離を変えることに
より、遅延時間を可変することが出来る。
０の動作時間を調整して、これらの出力光が第２図に示
す関係にあるようにしたが、被測定光またはパルス圧縮
器１１の出力光の光路に可変遅延手段を挿入するように
してもよい、可変遅延手段としては、例えば第９図に示
すものを用いることが出来る。第９図において、３８は
ミラー３９はコーナーキューブである。光は上からミラ
ー３８に入射して反射され、コーナーキューブ３９で向
きを反転されてミラー３８で反射されて出力される。ミ
ラー３８とコーナーキューブ３９の距離を変えることに
より、遅延時間を可変することが出来る。
また、パルス発生手段の出力光と被測定光の波長が異な
る場合は、和または差の周波数の光を発生させ、この光
の強度を測定するようにしてもよい、この場合は、フィ
ルタ２１の特性を変えて、これらの波長の光のみを透過
させるようにすればよい。
る場合は、和または差の周波数の光を発生させ、この光
の強度を測定するようにしてもよい、この場合は、フィ
ルタ２１の特性を変えて、これらの波長の光のみを透過
させるようにすればよい。
さらに、２次高調波でなく、３次以上の高調波を用いる
ようにしてもよい。
ようにしてもよい。
〈発明の効果〉
以上、実施例に基づいて具体的に説明したように、この
発明では被測定光または光パルス発生手段の出力光を光
の進行方向に垂直な面で距離に応じた遅延を与えるよう
にして２つの光を合波し、その高調波を発生させてその
光強度の空間的な分布を求めて、この分布から被測定光
のパルス幅を求めるようにしな、その為、単一の光パル
スのパルス幅を求めることが出来るという効果がある。
発明では被測定光または光パルス発生手段の出力光を光
の進行方向に垂直な面で距離に応じた遅延を与えるよう
にして２つの光を合波し、その高調波を発生させてその
光強度の空間的な分布を求めて、この分布から被測定光
のパルス幅を求めるようにしな、その為、単一の光パル
スのパルス幅を求めることが出来るという効果がある。
また、光パルス発生手段の出力光の空間的な強度分布が
既知であると、被測定光のパルスの形状を求めることも
出来る。
既知であると、被測定光のパルスの形状を求めることも
出来る。
さらに、被測定光の強度が弱くても、光パルス発生手段
の出力光強度を高くすることによりラインセンサの出力
を高くすることが出来るので、ＳＺＮ比のよい測定が可
能になるという効果もある。
の出力光強度を高くすることによりラインセンサの出力
を高くすることが出来るので、ＳＺＮ比のよい測定が可
能になるという効果もある。
第１図は本発明に係る光パルス測定装置の一実施例を示
す構成図、第２図〜第５図はその動作を説明するための
図、第６図及び第８図は他の実施例を示す構成図、第７
図は遅延手段の構成を示す図、第９図は可変遅延手段の
構成を示す図、第１０は従来の光パルス測定装置の構成
図である。 １０・・・パルスレーザ−１１・・・パルス圧縮器、１
３．１８・・・ビームエクステンダ、１４・・・偏光子
、１５・・・光源、１９・・・バビネの補償板、２０・
・・高調波光発生手段、２１・・・フィルタ、２２・・
・ラインセンサ、２３・・・演算・表示部、２４・・・
駆動部、３４・・・遅延手段。 第 図 第 図 第 図 （Ａ） （８〕 （Ｃ） （Ｄ） 第 図 第 図 第 図
す構成図、第２図〜第５図はその動作を説明するための
図、第６図及び第８図は他の実施例を示す構成図、第７
図は遅延手段の構成を示す図、第９図は可変遅延手段の
構成を示す図、第１０は従来の光パルス測定装置の構成
図である。 １０・・・パルスレーザ−１１・・・パルス圧縮器、１
３．１８・・・ビームエクステンダ、１４・・・偏光子
、１５・・・光源、１９・・・バビネの補償板、２０・
・・高調波光発生手段、２１・・・フィルタ、２２・・
・ラインセンサ、２３・・・演算・表示部、２４・・・
駆動部、３４・・・遅延手段。 第 図 第 図 第 図 （Ａ） （８〕 （Ｃ） （Ｄ） 第 図 第 図 第 図
Claims (3)
- （１）被測定光と、この被測定光よりも時間幅の短いパ
ルス光を発生する光パルス発生手段と、この光パルス発
生手段の出力光及び前記被測定光を合波する合波手段と
、この合波手段の出力光が入射され特定の偏波面の光を
その光の進行方向に垂直な面でその距離に応じて異なっ
た遅延量を与える遅延手段と、この遅延手段の出力光が
入射され非線形光学効果により高調波光を発生する高調
波光発生手段と、この高調波光発生手段の出力光が入射
され特定の波長の光のみ透過させるフィルタと、このフ
ィルタの出力光が入射されその光強度の空間分布を測定
するラインセンサとからなる光パルス測定装置。 - （２）被測定光と、この被測定光が入射されその光の進
行方向に垂直な面でその距離に応じて異なった遅延量を
与える遅延手段と、前記被測定光よりも時間幅の短いパ
ルス光を発生する光パルス発生手段と、この光パルス発
生手段の出力光及び前記遅延手段の出力光を合波する合
波手段と、この合波手段の出力光が入射され非線形光学
効果により高調波光を発生する高調波光発生手段と、こ
の高調波光発生手段の出力光が入射され特定の波長の光
のみ透過させるフィルタと、このフィルタの出力光が入
射されその光強度の空間分布を測定するラインセンサと
からなる光パルス測定装置。 - （３）被測定光と、この被測定光よりも時間幅の短いパ
ルス光を発生する光パルス発生手段と、この光パルス発
生手段の出力光が入射されその光の進行方向に垂直な面
でその距離に応じて異なった遅延量を与える遅延手段と
、この遅延手段の出力光及び前記被測定光を合波する合
波手段と、この合波手段の出力光が入射され非線形光学
効果により高調波光を発生する高調波光発生手段と、こ
の高調波光発生手段の出力光が入射され特定の波長の光
のみ透過させるフィルタと、このフィルタの出力光が入
射されその光強度の空間分布を測定するラインセンサと
からなる光パルス測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8006789A JP2730161B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 光パルス測定装置 |
| US07/498,167 US5050988A (en) | 1989-03-30 | 1990-03-23 | Measuring device using optical beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8006789A JP2730161B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 光パルス測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02259435A true JPH02259435A (ja) | 1990-10-22 |
| JP2730161B2 JP2730161B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=13707885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8006789A Expired - Fee Related JP2730161B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | 光パルス測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2730161B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0588637B1 (en) * | 1992-09-17 | 1996-12-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical converter |
| US20140076869A1 (en) * | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP8006789A patent/JP2730161B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0588637B1 (en) * | 1992-09-17 | 1996-12-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical converter |
| US20140076869A1 (en) * | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
| US9592570B2 (en) * | 2012-09-17 | 2017-03-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2730161B2 (ja) | 1998-03-25 |
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