JPH02258839A

JPH02258839A - 無機・有機複合材料の製造方法

Info

Publication number: JPH02258839A
Application number: JP7853089A
Authority: JP
Inventors: Koichi Yamamoto; 孝一山本; Shigetoshi Nakamura; 滋年中村
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1989-03-31
Filing date: 1989-03-31
Publication date: 1990-10-19

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、ゾル・ゲル法によって、無機・有機複合材料
を製造する方法に関する。

従来の技術ゾル・ゲル法は、金属アルコキシドを常温で加水分解し
てゾルを作り、この反応を進めてゲル化した後、低温で
焼成してセラミックを形成する方法であって、従来この
ゾル・ゲル法を用いて、種々の機能を持たせた機能性材
料を作成することについては、数多くの提案がなされて
いる。

例えば、２種以上の金属の金属アルコキシドを混合して
複合酸化物を作成する方法（特開昭５８−１２５６３４
号公報、同６１−１６３１２８号公報、同６３−１２３
８３８号公報、［化学工業Ｊ　１２．ｐ１００７．（１
９８６）等）、金属アルコキシドのアルコール溶液又は
水溶液中に金属イオンや金属塩を添加する方法（特開昭
６０−５１８２２号、同６２−１４３８３０〜１号公報
等）、微粉末やマイクロカプセルを添加する方法（特開
昭６２−１００４２８号公報、同８３−２６１８号公報
等）、或いは乾燥ゲルを作成した後、金属イオン等を含
む液をしみこませる方法（特開昭８０−５１８２２号公
報、同６１−１６３１２４号公報等）がある。また、ド
ープする材料についても、金属化合物以外に、有機化合
物分子を用いることも検討されている。（Ｊ、Ａｐｐｌ
、Ｐｈｙ、。

５８．９，１．ｐ３５５９（１９８５）、Ｊ、Ｎｏｎ、
Ｃｒｙｓｔ、５ｏｌｌｄ、８２゜ｐ１０３（１９８Ｂ）
、Ｊ、Ｐｈｙｓ、Ｃｈｅｏ＋、８ｇ、ｐ５９５Ｂ（１９
８４）発明が解決しようとする課題しかしながら、これ等の作成方法は、いずれもド、ブ物
質として、アルコール可溶性又は水溶性の材料しか用い
ることが出来ず、それ以外のより有用な機能性材料を用
いることは不可能であった。

本発明は、上記のような実状に鑑みてなされたものであ
る。

したがって、本発明の目的は、有機化合物を安定に分散
して含有する無機・有機複合材料をゾル・ゲル法によっ
て製造する方法を提供することにある。

課題を解決するための手段及び作用本発明者等は、検討の結果、金属アルコキシドのアルコ
キシ基の一部を分散させる有機化合物と親和性を有する
置換基に置換することにより、その置換基がミセル状に
集合したゲル体を形成して、有機化合物分子に対して親
和性を有するようになり、種々の有機化合物分子をゲル
中に相溶させるこきが可能になることを見出だし、本発
明を完成するに至った。

本発明の無機・有機複合材料の製造方法の第１のものは
、有機化合物の存在下、ゾル・ゲル法により金属アルコ
キシドを縮重合してなる無機・有機複合材料の製造方法
において、下記−紋穴（Ｉ）（ｎ）及び（ＩＩＩ）ＯＲ。

Ｒ２Ｒ１（式中、Ｍ、は３価の金属原子を表わし、Ｈ２は４価の
金属原子又は炭素原子を表わし、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は
それぞれ水素原子又は炭素数１〜Ｂのアルキル基を表わ
すが、Ｒ，ＳＲ２及びＲ３の少なくとも一つは炭素数１
〜Ｂのアルキル基を表わし、Ｘ、及びＸ２はそれぞれ置
換基を有してもよい炭素数５以上のアルキル基、アリー
ル基、アラルキル基、アシル基、複素環基、又は不飽和
。

炭化水素基を表わすか、又はＸｌとＸ２は互いに結合し
て環構造を形成する基を表わす）で示される群から選択
された金属アルコキシドの少なくとも１種のゾル溶液に
、金属アルコキシドに含まれる基Ｘ、又はＸ２と親和性
を有する有機化合物を添加、混合して縮重合を行うこと
を特徴とする。

また、第２のものは、上記−紋穴（Ｉ）、（ＩＩ）及び
（ＩＩＩ）で示される群から選択された金属アルコキシ
ドの少なくともＩＦＩと、下記−紋穴（ＴＶ）及び（Ｖ
）ＯＲ。

Ｒ４０−Ｍ　４−　Ｙ　　　　　　　　　　（Ｖ　）Ｒ
６（式中、Ｍ、は３価の金属原子を表わし、Ｈ４は４１ｉ
１１ｉの金属原子又は炭素原子を表わし、Ｒ４、Ｒ６及
びＲ６は、それぞれ水素原子、炭素数Ｉ〜４のアルキル
基を表わし、Ｙは水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基
、ハロゲン原子、アミノ基、置換基を有してもよい炭素
数１〜４のアルキル基、置換基を有してよいアリール基
、アシル基、複素環基、又は不飽和炭化水素基を表わす
）で示される群から選択された少なくとも１種の金属ア
ルコキシドとのゾル溶液に、金属アルコキシドに含まれ
る基Ｘ１又はＸ２と親和性を有する有機化合物を添加、
混合して縮重合を行うことを特徴とする。

なお、本明細書において「金属アルコキシド」とは、上
記−紋穴（旧、（ＩＩＩＩ）及び（Ｖ）中のＨ２及びＨ
４が炭素原子を表わす場合も意味するものと定義する。

本発明の方法における、原料物質として使用される上記
−紋穴（１）ないしくＶ）において、金属アルコキシド
の金属原子としては、ＡＩ、Ｂ、Ｇａ、、Ｙ、、Ｆｅ、
Ｓ　ｉ、Ｇｅ５Ｓｎ１Ｔｉ及びＺｒから選択されたもの
が好ましい。

本発明において好適に使用できる金属アルコキシドとし
ては、次のものが例示される。

−紋穴（１）で示される金属アルコキシド二Ｃ３Ｈ１１
−ＡＩ　（ＯＣＨ３）　２　、　　Ｃ６Ｈ＋ｉ　Ａｌ　
（ＯＣＨｉ）　２Ｃ７Ｈ１５−ＡＩ　（ＯＣＨ３’）　
２　、　　Ｃ１ＩＨ１７ＡＩ　（ＯＣＨ３）　２ＣｇＨ
１ｇ−ＡＩ　（ＯＣＨｉ）　２　、Ｃｌ０Ｈｔ、−ＡＩ
　（ＯＣＨｉ）　２Ｃ＋５１ｈ＋−ＡＩ　（ＯＣＨＩ）
　２　、Ｃ２０Ｈ４１−ＡＩ　（ＯＣｆ（３）　２Ｃｚ
ｓＨｓ＋−ＡＩ　（ＯＣＨｌ）　２　、Ｃ＋ｏＨｚ＋−
ＡＩ　（ＯＣ２Ｈ５）　２Ｃ２０Ｈ４１−ＡＩ　（ＯＣ
２Ｈ５）　２．　　ＣｚｓＨ５＋−ＡＩ　（ＯＣ２Ｈ５
）　２ＣＩＯＨ２１−ＡＩ　　（ＯＣ３Ｈ７）　　２．
　　　Ｃｌ０Ｈｎ　　Ａｌ　　（ＯＣ４Ｈ９）　　２Ｃ
ＸＡ、　ｌ　（ＯＣＨ］　）　２Ｏ ■ ＣＨＩＣＯ（ＣＨ２）　３−＾１　（ＯＣＨｉ）　２「ＣＨｚ＝ＣＨＣＯ（ＣＨ２）ｉＡＩ　　（ＯＣＩ（ｘ）２一般式％式％（■）で示される金属アルコキシド（ＯＣＨｘ）　ｉ　　　　Ｃ＋ｏＨｎ−８ｔ　（ＯＣＨ
ｉ）　１（ＯＣＨ３）　ｉ　　　　Ｃ２ｏＨａＩ９１　
（ＯＣＨｉ）　５（ＯＣ２Ｈ５）ｉ　　　ｒ　　　　Ｃ
２０Ｈ４１−８ｔ　　（ＯＣ２Ｈ５）ｓ（０（，３Ｈ７
）　ｓ　　　　Ｃ２０Ｈ４１−９Ｉ　（ＯＣ４Ｈ９）　
５ＯＣＲ。

ＣＪＯＨａｌ−ｓ　ｌ　　（ＱＣ５Ｈ＋＋）　Ｉ　　　
　　Ｃ２０Ｈ４１−８Ｉ　−ＯＣＨ３０Ｃ２Ｈ。

ＣＨ２−ＣＨＣＨ２ＣＨ−ＣＨＳ　ｌ　（ＯＣＨｉ　）
　ｌ　＋ＮＨ２（ＣＨ２）　５ｓｉ　（ＯＣＨｉ）！　
。

ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２）ｓ−ＡＩ　（ＯＣＨ３）２　　
。

ＣＨＩＣＩＩ−ＣＨ（ＣＨ２）２−ＡＩ　　（ＯＣＨ３
）ＣＨ２陶ＣＩＩＣＨ２ＣＨ−ＣＨ−ＡＩ　（ＯＣＨｘ
）ＮＨ２（ＣＨ２）ラーＡＩ　　（ＯＣＨＩ）２　　、
　　　Ｃ５Ｈｕ−Ｂ　（ＯＣＨｌ）２ＣＩｏｌｌｘ＋　
−Ｂ　（ＯＣＨｉ　）　２Ｃ５１１Ｈ−Ｇａ　（ＯＣＨ
ｘ）２）ｃ、　（ＯＣＨｉ）　２Ｃ＋ｏＨｎ−Ｙ　（ＯＣＲｓ）２Ｃ５ＪＩ　　Ｆｅ　（ＯＣＨ３）２ＣＸＦｅ　（ＯＣＲ３）　２ＱＸＢ　（ＯＣＨｉ　）　２Ｃ１０Ｈｚ＋−ＧＪＩ　（ＯＣＨ３）２Ｃ５ＨＩＩ−Ｙ
　（ＯＣＨ３）２）Ｙ（ＯＣＨｉ）２Ｃ＋ｏＨｔ＋−Ｆｅ　（ＯＣＨ３）２Ｃｌ１２纜ＣＨ３Ｉ　　（ＱＣ，Ｈう）３、ＣＨ２−Ｃ
Ｈ３五（ＯＣＨｉ）ｓＨ３ ■ ＣＩ−Ｃ−Ｃｏｏ−（ＣＨ２）ｉｓｌ　（ＯＣＲｓ）ｓ
　。

Ｈ５ＣＩＨ６Ｓｌ　（ＯＣＲ）ｉＮＨ２Ｃ２Ｈ４ＮＨＣ３Ｈ６ＳＩ　（ＯＣＨ３）３ＮＩ
（２ＣＯＮＨＣ３ＨｓｉＳＩ　　（ＯＣ２Ｈう）３ＮＨ
２Ｃ３Ｈ６Ｓ１　（ＯＣ２Ｈ５）ｓＣＩＣｓＨｇＳＩ　
（ＯＣＨ３）ｉ０Ｃ２Ｈ。

Ｃ３Ｈ１Ｉ　　Ｃ（ＯＣＨ３）１ ■図５）−Ｃ（ＯＣＨ３）　３　。

Ｃ２ｏＨａｘ　−Ｇ　ｅ　（ＯＣＨ］　）　３Ｃ５Ｈ１
１−９ｎ　（ＯＣＨ３）３＠Ｋ）ｓｎ（ＯＣＨ３）　３Ｃ２０Ｈ４１−ＴＩ　　（ＯＣＨ３）　ＩＣ５Ｈ１１−
Ｚｒ　（ＯＣＨｉ）＊＠（）ｚ　ｒ　（ＯＣＨ３）　３ＣＩ５Ｈｚ＋−Ｃ（ＯＣＨｉ）３Ｃ５Ｈｕ−Ｇｅ　（ＯＣＨ３）３Ｇ（羽ｃ　ｅ　（ＯＣＨ３）　］Ｃ２１１Ｈａ＋−５ｎ　（ＯＣＨ３）３Ｃ５Ｍ１１−Ｔ
　ｌ　　（ＯＣＨｘ）３０属））ＴＩ　（ＯＣＨ３）　
３Ｃ２ｏＨａ＋−Ｚ　ｒ　（ＯＣＨ３）　３一般式（ＩＩ
Ｉ）で示される金属アルコキシド：Ｃ９ｌ　（ＯＣＨｉ
）　２　　、　Ｈ３Ｃうｌ　（ＯＣＨ３）　２一般式（
ＴＶ）及び（Ｖ）で示される金属アルコキシドが使用さ
れる場合には、上記一般式（１）ないしく■）で示され
る金属アルコキシドに対して０〜９８モル％の範囲で使
用される。

また、上記一般式（Ｉ）ないしくＩＩＩ）で示される金
属アルコキシドと共に使用される一般式（ＩＶ）及び（
Ｖ）で示される金属アルコキシドとしては、次のものが
例示される。

一般式（ＩＶ）で示される金属アルコキシｒ；ＡＩ　　
（ＯＣＨｌ）３　　　　、　　　　ＡＩ　　（ＯＣ２Ｈ
５）ｓ＾１　　（ＯＣｉＨ））ｓ　　　、　　　　　Ａ
Ｉ　　（ＯＣ４１１９）３Ｂ　（ＯＣＨ３）ｓＢ　（ＯＣ４Ｈ９）３ＧＪＩ　（ＯＣＨＩ）ｉＧａ　（ＯＣ２Ｈ５）３Ｙ　（ＯＣＨ３）ｉＹ　（ＯＣ４Ｈ９）ｉＦｅ　（ＯＣＲｓ）１Ｆｅ　（ＯＣ４Ｈ９）ｉＣ（ＯＣＨ３）４Ｃ（ＯＣ（Ｈｇ）ａＧｅ　（ＯＣＨｘ）４Ｇｅ　（ＯＣ４Ｈ９）４Ｓｎ　（ＯＣＨ３）４Ｓｎ　（ＯＣ２Ｈ５）４ＴＩ　　（ＯＣＨｉ）４ＴＩ　　（ＯＣ４Ｈ９）４Ｚｒ　（ＯＣＨ３）ａＺｒ　（ＯＣ４Ｈ９）４一般式（Ｖ）で示される金属アルコキシド：Ｓｔ　（Ｏ
ＣＨ３）　４　　　、　　３１　（ＯＣ２Ｈ５）　４Ｓ
ｌ　（ＯＣ３Ｈ７）　４　　、　　　ｉ　（ＯＣ４Ｈ９
）　４ＯＣＨ。

■ ＯＣＲ。

本発明において使用される有機化合物は、金属アルコキ
シドの基Ｘ＋（及びＸ２）と親和性を有するものであれ
ば、如何なるものでも使用することができる。例えば、
ジメチルアミノアゾベンゼン類、チオインジゴ類、スピ
ロピラン類、トリフェニルメタン系色素、イミダゾリル
類、ニトロベンジル類、インドリン類等のフォトクロミ
ズム材料、アクリジン染料、アゾ系染料、アジン染料、
アゾメチン染料、アニリン染料、アリザリン染料、キノ
ン系色素、インドリン系色素、インジゴ系色素、メチン
系染料、オキサジン染料、キチンテン染料、キナクリド
ン系色素、キノフタロン系色素、ジオキサジン系色素、
ジフェニルメタン系色素、綜合多環系色素、スチルベン
系色素、チアジン系色素、ピリリウム塩色素、トリアリ
ールメタン系色素、ニトロ染料、ニトロソ染料、フルオ
ラン系色素、ペリレン系色素、ホルマザン系色素等の着
色材料、フタロシアニン系、アゾ系、ペリレン針、スク
アリリウム系、ピリリウム塩系、シアニン系、メロシア
ニン系色素、オキサジアゾール系誘導体、ピラゾリン誘
導体、芳香族３級アミノ化合物、トリアジン誘導体、ヒ
ドラゾン誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導
体、スチルベン誘導体、エナミン誘導体、カルバゾール
誘導体等の電子写真感光材料、メロシアニン系、スチリ
ル系、アゾメチン系、アゾ系、ベンゾキノン系、ナフト
キノン系、アントラキノン系、テトラジン系等の液晶用
材料等があげられる。これ等の材料は、金属アルコキシ
ドに対して、種々の用途に応じて所望の範囲、例えば０
゜Ｏ１〜９９．９９容量％の範囲の含有量で含有させる
ことができる。

本発明の方法を実施するためには、上記の金属アルコキ
シドを、含有させるべき有機化合物の所定量と共に、適
当な溶媒、例えば、水、アルコール、あるいはトルエン
、キシレン、ハロゲン化炭化水素等の有機溶媒の中に添
加し、ゲル化させることで行われるか、又は、上記の金
属アルコキシドを適当な方法でゲル化させた後、含有す
べき勇気化合物の所定量を適当な溶媒に溶解し、ゲルを
浸漬する“ことにより、有機化合物をゲル中に含浸させ
ることで行われる。また、ゲル化の反応を促進させるた
めに、必要に応じて、酸等の触媒を用いることも可能で
ある。更に所望により、８０℃〜１５００℃の加熱処理
を施してもよい。

上記のようにして形成された無機・有機複合材料におい
て、有機化合物は、金属アルコキシドの縮重合によって
形成されたマトリックス中に分散された状態になってい
るが、その分散状態は、第１図に示されるように、金属
アルコキシドの縮重合体よりなるマトリックス中に形成
される疎水性の基Ｘ、（又はＸ２）が集合したミセル構
造に、疎水性の基Ｘｌと親和性のある有機化合物Ａが取
り込まれた形になっている。したがって、有機化合物は
、安定化された状態でマトリックス中に含有されている
。

実施例以下、実施例によって本発明を説明する。

実施例１テトラメトキシシラン（Ｓ　ｉ　　（ＯＣＨｉ　）　４
　）１００　重Ｉｉ部に対して、オクチルトリエトキシ
シラン　（Ｃ３Ｈ１７Ｓ　　ｉ　　（ＯＣ２Ｈｓ　　）
　　３　）　　０．０３〜７ｆｆ量部を加え、これにｐ
−ヒドロキシアゾベンゼンのエタノール溶液（２（１ｍ
ｇ／１００ｇ）５０重量部を加えて液状混合物を得た。

次に、０．０７５　Ｎの希塩酸水溶液を上記液状混合物
に添加し、室温に放置して加水分解を行わせ、ゲル化さ
せた。形成された複合材料は、紫外線吸収ガラスとして
使用することができた。

ｐ−ヒドロキシアゾベンゼンは、Ｈ”（ＨＣＩ）の存在
下でヒドラゾ型への平衡反応により、４８０ｒｖ付近に
強い吸収ピークが現れることが知られている。第２図は
ヒドロキシアゾベンゼンの吸収スペクトルであって、Ａ
がヒドラゾ型、Ｂがアゾ型の吸収スペクトルを示す。

オクチルトリエトキシシランの量を徐々に増やしていく
と、ヒドラゾ型の吸収が徐々に減少し、アゾ型の吸収が
現れてくるようになる。したがって、ヒドラゾ型の吸収
ピークである４Ｂ０ｎ＊の吸収強度と、アゾ型の吸収ピ
ークである＄４０ｎｗの吸収強度の比をオクチルトリエ
トキシシランの量に対してプロットすると、第３図に示
されるグラフが得られる。第３図から明らかなように、
吸収強度比は、オクチルトリエトキシシランのＩ！に３
モル％付近から急激に立ち上がりを示し、８４０ｎｍの
吸収が強くなることが分る。これは、ｐ−ヒドロキシア
ゾベンゼンがオクチル基の集合体（ミセル）に取り込ま
れ、Ｈ＋から隔離されているためであり、オクチル基が
疎水性の場を形成していることを示している。

実施例２実施例１のＣｓ　Ｈ１７Ｓ　Ｉ　　（ＯＣ２Ｈ８）　ｓ
をＣｌ２Ｈ１７Ｓ　ｉ　　（ＯＣ２Ｈｌ　）ｓに置き換
えた以外は、実施例１と同様にして実験を行った。この
場合においても、ｐ−ヒドロキシアゾベンゼンの平衡反
応は、アゾ型にかたよってみられ、Ｃｌ２Ｈ１７基がミ
セル状の集合をを形成していることが確認された。

実施例３実施例１のＣ３Ｈ１７Ｓ　ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）ｓをＣ６
Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓ　ｉ　　（ＯＣ２Ｈｌ）３１：置
き換えた以外は、実施例１と同様にして実験を行った。

この場合においても、ｐ−ヒドロキシアゾベンゼンの平
衡反応は、アゾ型にかたよってみられ、Ｃｂ　Ｆ　ｌｓ
ｃ　Ｈ２ＣＨ２基がミセル状の集合を形成していること
が確認された。

実施例４テトラメトキシシラン（Ｓ　ｉ　　（ＯＣＨｉ　）　４
）１００重量部、Ｃｌ２ＨＪ号Ｓ　＊　　（ＯＣ２Ｈ５
）　＊　１０重量部、エタノール５０重量部を混合した
溶液と、０．０７５　Ｎの希塩酸水溶液６０重量部を混
合し、密閉して温室でゲル化させた。混合後、１日経過
したゲルに、色素としてＣＨｘ（Ｃ）１２）　ｔ　ｅｌ
ｌ−Ｃ１ｌ−（ＣＨ２）　ｔ−Ｃ００ＮＨＡを用い、こ
れのトルエン溶液をゲルに浸透させ、ゲル中に色素を取
り込ませた。得られたゲルを室温で開放し、２週間放置
して乾燥させ、色素含有シリカゲルを作成した。このシ
リカゲルにおいては、色素の析出はみられず、安定して
色素が取り込まれていることが分かった。

比較例１実施例４において、Ｃｌ２Ｈ２５Ｓ　ｉ　（ＯＣ２Ｈう
）３を除いた以外は、同様にしてシリカゲルを作成した
。室温で放置し乾燥を行った結果、色素の析出が起こり
、色素を安定して取り込むことができなかった。

発明の効果本発明の方法によれば、疎水性基を有する有機化合物を
、金属アルコキシドの重縮合体のマトリックス中に安定
して含有させた状態のものを製造することができるから
、含有される有機化合物として、所望の機能を持つもの
ようになるものを選択すれば、酸化物ガラスの高い硬度
及び耐摩耗性と、有機化合物の持つ機能を合わせ有する
複合材料を得ることが可能になる。

したがって、本発明によれば、例えば、フォトクロミズ
ム材料、フォトケミカルホルバニング材料、メモリーデ
イスプレィ、電子写真感光材料、紫外線吸収材料、着色
ガラス等の作成に有用である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の方法によって製造された無機・有機
複合材料の構造のモデルを示す説明図、第２図は、ヒド
ロキシアゾベンゼンの吸収スペクトルを示すグラフ、第
３図は、実施例１のオクチルトリエトキシシランの量と
アゾ型の吸収ピークとの関係を示すグラフである。特許出願人　　富士ゼロックス株式会社代理人　　　　
弁理士　　波線　剛

Claims

【特許請求の範囲】

（１）有機化合物の存在下、ゾル・ゲル法により金属ア
ルコキシドを縮重合してなる無機・有機複合材料の製造
方法において、下記一般式（ I ）、（II）及び（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｍ＿１は３価の金属原子を表わし、Ｍ＿２は４
価の金属原子又は炭素原子を表わし、Ｒ＿１、Ｒ＿２及
びＲ＿３はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜６のアルキ
ル基を表わすが、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＲ＿３の少なくと
も一つは炭素数１〜６のアルキル基を表わし、Ｘ＿１及
びＸ＿２はそれぞれ置換基を有してもよい炭素数５以上
のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、
複素環基、又は不飽和炭化水素基を表わすか、又はＸ＿
１とＸ＿２は互いに結合して環構造を形成する基を表わ
す）で示される群から選択された金属アルコキシドの少なく
とも１種のゾル溶液に、該金属アルコキシドに含まれる
基Ｘ＿１又はＸ＿２と親和性を有する有機化合物を添加
することを特徴とする無機・有機複合材料の製造方法。
（２）有機化合物の存在下、ゾル・ゲル法により金属ア
ルコキシドを縮重合してなる無機・有機複合材料の製造
方法において、下記一般式（ I ）、（II）及び（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（式中、Ｍ＿１、Ｍ＿２、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｘ
＿１及びＸ＿２はそれぞれ前記と同一の意味を有する）
で示される群から選択された金属アルコキシドの少なく
とも１種と、下記一般式（IV）及び（Ｖ）▲数式、化学
式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）（式中、Ｍ＿３は３価の金属原子を表わし、Ｍ＿４は４
価の金属原子又は炭素原子を表わし、Ｒ＿４、Ｒ＿５及
びＲ＿６は、それぞれ水素原子、炭素数１〜４のアルキ
ル基を表わし、Ｙは水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ
基、ハロゲン原子、アミノ基、置換基を有してもよい炭
素数１〜４のアルキル基、置換基を有してよいアリール
基、アシル基、複素環基、又は不飽和炭化水素基を表わ
す）で示される群から選択された金属アルコキシドの少なく
とも１種とのゾル溶液に、該金属アルコキシドに含まれ
る基Ｘ＿１又はＸ＿２と親和性を有する有機化合物を添
加することを特徴とする無機・有機複合材料の製造方法
。
（３）金属アルコキシドの金属原子が、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ
、Ｙ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ及びＺｒから選択
されたものである特許請求の範囲第１項又は第２項に記
載の無機・有機複合材料の製造方法。