JPH02251739A - ガス放出量測定装置 - Google Patents
ガス放出量測定装置Info
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- JPH02251739A JPH02251739A JP7264389A JP7264389A JPH02251739A JP H02251739 A JPH02251739 A JP H02251739A JP 7264389 A JP7264389 A JP 7264389A JP 7264389 A JP7264389 A JP 7264389A JP H02251739 A JPH02251739 A JP H02251739A
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- gas
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- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
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- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、ガス放出:l#]定装置に関する。
(従来の技術)
一般に、固体物質中にはガス分子が保持されており、高
真空雰囲気下に配置されると固体物質中からこのガス分
子が徐々に放出される。
真空雰囲気下に配置されると固体物質中からこのガス分
子が徐々に放出される。
ガス放出量aν1定装置はこのようなガス分子の放出量
を測定するものであり、例えば被測定体を高真空雰囲気
とされた真空チャンバ内に配置し、この真空チャンバか
らオリフィスを介して真空排気し、このオリフィスの上
流側と下流側の圧力差を測定して被7)11定休から放
出されるガス量をn1定する方法(スルーブツト法)等
によってガス放出量の測定を行うよう構成されている。
を測定するものであり、例えば被測定体を高真空雰囲気
とされた真空チャンバ内に配置し、この真空チャンバか
らオリフィスを介して真空排気し、このオリフィスの上
流側と下流側の圧力差を測定して被7)11定休から放
出されるガス量をn1定する方法(スルーブツト法)等
によってガス放出量の測定を行うよう構成されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上述したガス放出量測定装置においては
、例えば真空チャンバ内壁等、装置自体からガスが放出
されるので、正確にガス放出量を測定するためには、装
置から放出されるガスの量をできるだけ少なくする゛必
要がある。特に、披ら放出されるガスの量が多いと、被
tl!+定休からの正確なガス放出量を測定することが
できなくなるため、装置自体からのガス放出量の少ない
ガス放出量測定装置の開発が望まれていた。
、例えば真空チャンバ内壁等、装置自体からガスが放出
されるので、正確にガス放出量を測定するためには、装
置から放出されるガスの量をできるだけ少なくする゛必
要がある。特に、披ら放出されるガスの量が多いと、被
tl!+定休からの正確なガス放出量を測定することが
できなくなるため、装置自体からのガス放出量の少ない
ガス放出量測定装置の開発が望まれていた。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、従来に較べて装置自体から放出されるガスの量を減少
させることができ、被測定体から放出されるガス放出量
が微量な場合でも、この被測定体から放出されるガス放
出量を正確に測定することのできるガス放出量測定装置
を提供しようとするものである。
、従来に較べて装置自体から放出されるガスの量を減少
させることができ、被測定体から放出されるガス放出量
が微量な場合でも、この被測定体から放出されるガス放
出量を正確に測定することのできるガス放出量測定装置
を提供しようとするものである。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
すなわち本発明は、流路にオリフィスが設けられた第1
の気密容器と、この第1の気密容器内のオリフィスの上
流側および下流側の圧力差を測定する如く設けられた圧
力差測定手段と、被測定手段が収容される第2の気密容
器と、この第2および第1の気密容器間に設けられたゲ
ートバルブとを具備してなることを特徴とする。
の気密容器と、この第1の気密容器内のオリフィスの上
流側および下流側の圧力差を測定する如く設けられた圧
力差測定手段と、被測定手段が収容される第2の気密容
器と、この第2および第1の気密容器間に設けられたゲ
ートバルブとを具備してなることを特徴とする。
(作 用)
一般に、ゲートバルブ等の弁機構の真空シール部には、
シール性を高めるために、ガスケットとして樹脂等が用
いられている。しかしながら、本発明者等が詳査したと
ころ、このようなゲートバルブをガス放出量測定装置に
用いると、この樹脂製のガス炉−X )から長時間に亙
って多量のガスが放出され、ガス放出量の少ない被測定
体の場合は、正確なガス放出量を測定できないことが判
明した。
シール性を高めるために、ガスケットとして樹脂等が用
いられている。しかしながら、本発明者等が詳査したと
ころ、このようなゲートバルブをガス放出量測定装置に
用いると、この樹脂製のガス炉−X )から長時間に亙
って多量のガスが放出され、ガス放出量の少ない被測定
体の場合は、正確なガス放出量を測定できないことが判
明した。
本発明のガス放出量J11定装置では、例えば銀膜を被
着された部材を当接させて真空シール部を形成する弁機
構を用いることにより、装置自体からのガス放出量を低
減し、被測定体から放出されるガス放出量が微量な場合
でも、この被ハ1定体から放出されるガス放出量を正確
にfllJ定することができる。
着された部材を当接させて真空シール部を形成する弁機
構を用いることにより、装置自体からのガス放出量を低
減し、被測定体から放出されるガス放出量が微量な場合
でも、この被ハ1定体から放出されるガス放出量を正確
にfllJ定することができる。
(実施例)
以下本発明のガス放出量測定装置の実施例を図面を参照
して説−明する。
して説−明する。
ガス放出J11TIj定装置1には、被ju11定休を
収容あるいは、被測定体が配管部材等の場合はこれらの
配管部材を接続可能に構成された真空チャンバ2が設け
られている。
収容あるいは、被測定体が配管部材等の場合はこれらの
配管部材を接続可能に構成された真空チャンバ2が設け
られている。
この真空チャンバ2は、ガス放出量の少ない物質例えば
表面処理を施したアルミニウム等から円筒状に構成され
ており、この真空チャンバ2には真空排気機構として例
えばターボ分子ポンプ3およびロータリーポンプ4が接
続されている。
表面処理を施したアルミニウム等から円筒状に構成され
ており、この真空チャンバ2には真空排気機構として例
えばターボ分子ポンプ3およびロータリーポンプ4が接
続されている。
一方、上記真空チャンバ2の側方には、この真空チャン
バ2と同様にガス放出量の少ない物質例えば表面処理を
施したアルミニウム等から円筒状に構成された差圧検出
用真空チャンバ5が設けられている。この差圧検出用真
空チャンバ5には、真空排気機構として例えば1台ある
いは2台のターボ分子ポンプ6.7およびロータリーポ
ンプ8が接続されており、差圧検出用真空チャンバ5内
にはオリフィス9が設けられている。またこのオリフィ
ス9のチャンバ5内上流側および下流側には、それぞれ
圧力検出器10.11が設けられており、オリフィス9
の上流側と下流側との差圧を測定可能に構成されている
。
バ2と同様にガス放出量の少ない物質例えば表面処理を
施したアルミニウム等から円筒状に構成された差圧検出
用真空チャンバ5が設けられている。この差圧検出用真
空チャンバ5には、真空排気機構として例えば1台ある
いは2台のターボ分子ポンプ6.7およびロータリーポ
ンプ8が接続されており、差圧検出用真空チャンバ5内
にはオリフィス9が設けられている。またこのオリフィ
ス9のチャンバ5内上流側および下流側には、それぞれ
圧力検出器10.11が設けられており、オリフィス9
の上流側と下流側との差圧を測定可能に構成されている
。
そして、上記真空チャンバ2と差圧検出用真空チャンバ
5とは、銀膜を被着された部材を当接させて真空シール
部を形成するゲートバルブ12を介して接続されている
。ま・た、このゲートバルブ12は、弁13を介してタ
ーボ分子ポンプ3およびロータリーポンプ4に接続され
ており、第2図に示すようにゲートバルブ12の筐体2
1内の弁体22の周囲を真空排気可能に構成されている
。
5とは、銀膜を被着された部材を当接させて真空シール
部を形成するゲートバルブ12を介して接続されている
。ま・た、このゲートバルブ12は、弁13を介してタ
ーボ分子ポンプ3およびロータリーポンプ4に接続され
ており、第2図に示すようにゲートバルブ12の筐体2
1内の弁体22の周囲を真空排気可能に構成されている
。
第2図に示すように、上記ゲートバルブ12の筐体21
内には、図示しない駆動機構、例えばエアシリンダ等に
よって図示矢印A方向に移動自在とされ、円孔22aを
形成された板状の弁体22が設けられている。また、こ
の弁体22の両側にはそれぞれ駆動機構例えばエアシリ
ンダ23.24によって図示矢印B方向に伸縮可能に構
成された円筒状のベローズ25.26が設けられている
。
内には、図示しない駆動機構、例えばエアシリンダ等に
よって図示矢印A方向に移動自在とされ、円孔22aを
形成された板状の弁体22が設けられている。また、こ
の弁体22の両側にはそれぞれ駆動機構例えばエアシリ
ンダ23.24によって図示矢印B方向に伸縮可能に構
成された円筒状のベローズ25.26が設けられている
。
これらのベローズ25.26の先端部には、それぞれ弁
体22に当−接される環状のフランジ部27.28が形
成されており、これらのフランジ部27.28の弁体2
2との接触面27a、28aには、ガスケットを形成す
る知くそれぞれ銀製の膜(銀膜)が被着されている。
体22に当−接される環状のフランジ部27.28が形
成されており、これらのフランジ部27.28の弁体2
2との接触面27a、28aには、ガスケットを形成す
る知くそれぞれ銀製の膜(銀膜)が被着されている。
そして、ベローズ25側とベローズ26側とを隔離して
気体の流通を遮断する場合は、弁体22を図示矢印へ方
向に移動させて、弁体22の円孔22aを、ベローズ2
5.26よりも先端方向に位置させ、この状態でベロー
ズ25.26を伸長させ、フランジ部27.28の銀膜
を形成された面27 a s 28 aを弁体22の両
面に抑圧状態に接触させる。すなわち、フランジ部27
.28の銀膜を形成された面27a、28aを弁体22
に当接させて真空シール部を形成するよう構成されてい
る。
気体の流通を遮断する場合は、弁体22を図示矢印へ方
向に移動させて、弁体22の円孔22aを、ベローズ2
5.26よりも先端方向に位置させ、この状態でベロー
ズ25.26を伸長させ、フランジ部27.28の銀膜
を形成された面27 a s 28 aを弁体22の両
面に抑圧状態に接触させる。すなわち、フランジ部27
.28の銀膜を形成された面27a、28aを弁体22
に当接させて真空シール部を形成するよう構成されてい
る。
なお、ベローズ25側とベローズ26側とを解放して気
体を流通させる場合は、弁体22の円孔22aが、ベロ
ーズ25.26間に位置するよう弁体22を移動させる
。
体を流通させる場合は、弁体22の円孔22aが、ベロ
ーズ25.26間に位置するよう弁体22を移動させる
。
上記構成のこの実施例のガス放出量!1$1定装fil
lでは、ゲートバルブ12を閉として、ターボ分子ポン
プ6.7およびロータリーポンプ8により、差圧検出用
真空チャンバ5内の真空排気を行うとともに、真空チャ
ンバ2内に被測定物例えば半導体製造装置の真空系を構
成する部品を配置する。
lでは、ゲートバルブ12を閉として、ターボ分子ポン
プ6.7およびロータリーポンプ8により、差圧検出用
真空チャンバ5内の真空排気を行うとともに、真空チャ
ンバ2内に被測定物例えば半導体製造装置の真空系を構
成する部品を配置する。
また、例えば半導体製造装置を構成する配管部材等の測
定を行う場合等は例えば一端を閉塞した複数の配管部材
を接続する。
定を行う場合等は例えば一端を閉塞した複数の配管部材
を接続する。
そして、ターボ分子ポンプ3およびロータリーポンプ4
によって真空チャンバ2およびゲートバルブ12内の真
空排気を行う。この後、ゲートバルブ12は開として、
オリフィス9の上流側の圧力P1および下流側の圧力P
2を圧力検出器10.11により測定し、Cをオリフィ
ス9のコンダクタンスとした次の式により、ガス放出量
Q(Pa・J2/s)を求める。
によって真空チャンバ2およびゲートバルブ12内の真
空排気を行う。この後、ゲートバルブ12は開として、
オリフィス9の上流側の圧力P1および下流側の圧力P
2を圧力検出器10.11により測定し、Cをオリフィ
ス9のコンダクタンスとした次の式により、ガス放出量
Q(Pa・J2/s)を求める。
Q−C(Pl−P2 )
また、被測定物の交換を゛行う場合は、−旦ゲ′−トバ
ルブ12を閉とし、真空チャンバ2のみを常圧に戻し、
差圧検−山用真空チャンバ5は高真空のままとして、被
測定物を交換し、この後真空チャンバ2内の真空排気を
行い、予め定められた真空度に排気後ゲートバルブ12
を開として測定を行う。これは、被測定物の交換の際に
常圧に戻す部位をできるだけ少なくし、交換の際に装置
内に吸着されるガスの量を少なくシ、測定条件をできる
だけ一定に保つためである。
ルブ12を閉とし、真空チャンバ2のみを常圧に戻し、
差圧検−山用真空チャンバ5は高真空のままとして、被
測定物を交換し、この後真空チャンバ2内の真空排気を
行い、予め定められた真空度に排気後ゲートバルブ12
を開として測定を行う。これは、被測定物の交換の際に
常圧に戻す部位をできるだけ少なくし、交換の際に装置
内に吸着されるガスの量を少なくシ、測定条件をできる
だけ一定に保つためである。
ここで、上述したガス放出量Qは、被δ−1定物から放
出されるガス量と、ガス放出量測定装置1を構成する部
材例えば真空チャンバ2内壁あるいはゲートバルブ12
等から放出されるガス量との和である。したがって、予
め被n1定物を配置しないでガス放出量測定装置1から
放出されるガス量を測定しておき、上述したガス放出E
IQから差し引く必要がある。この時、ガス放出量測定
装置1から放出されるガス量に対して、被測定物から放
出されるガス量が少ないと、測定結果が不正確になる。
出されるガス量と、ガス放出量測定装置1を構成する部
材例えば真空チャンバ2内壁あるいはゲートバルブ12
等から放出されるガス量との和である。したがって、予
め被n1定物を配置しないでガス放出量測定装置1から
放出されるガス量を測定しておき、上述したガス放出E
IQから差し引く必要がある。この時、ガス放出量測定
装置1から放出されるガス量に対して、被測定物から放
出されるガス量が少ないと、測定結果が不正確になる。
このため、ガス放出量測定装置1から放出されるガス量
に対して、被nJ定物から放出されるガス量が充分多く
なるよう、被測定物の量すな、わち、被測定物の表面積
を多くする必要があるが、この実施例のガス放出量測定
装置1では、銀膜を被着された部材を当接させて真空シ
ール部を形成するゲートバルブ12を用いているので、
装置からのガス放出量を少なくすることができ、被δ1
定物からのガス放出量が少ない場合でも、正確にガス放
出量を1111定することができる。
に対して、被nJ定物から放出されるガス量が充分多く
なるよう、被測定物の量すな、わち、被測定物の表面積
を多くする必要があるが、この実施例のガス放出量測定
装置1では、銀膜を被着された部材を当接させて真空シ
ール部を形成するゲートバルブ12を用いているので、
装置からのガス放出量を少なくすることができ、被δ1
定物からのガス放出量が少ない場合でも、正確にガス放
出量を1111定することができる。
ところで、近年例えば半導体装置は高集積化される傾向
にあり、半導体製造装置例えばイオン注入装置、CVD
装置、エツチング装置、スパッタ装置等においては、高
真空度化および使用するガスの高純度化が要求されてい
る。したがって、このような半導体製造装置においては
、その構成部品例えばフィルタ、配管部材、ボンベ等か
ら放出されるガス量をできるだけ少なくし、真空度の低
下や放出されたガスが不純物として作用することを防止
する必要がある。この実施例のガス放出量8−1定装置
1では、微量なガスでも正確に測定することができるの
で、このようなガス放出量の少ない半導体製造装置℃構
成部品等においてもガス放出量の評価を行うことができ
、最適な部材を選択することができる。
にあり、半導体製造装置例えばイオン注入装置、CVD
装置、エツチング装置、スパッタ装置等においては、高
真空度化および使用するガスの高純度化が要求されてい
る。したがって、このような半導体製造装置においては
、その構成部品例えばフィルタ、配管部材、ボンベ等か
ら放出されるガス量をできるだけ少なくし、真空度の低
下や放出されたガスが不純物として作用することを防止
する必要がある。この実施例のガス放出量8−1定装置
1では、微量なガスでも正確に測定することができるの
で、このようなガス放出量の少ない半導体製造装置℃構
成部品等においてもガス放出量の評価を行うことができ
、最適な部材を選択することができる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明のガス放出m1llJ定装
置によれば、従来に較べて装置自体から放出されるガス
分子の量を減少させることができ、被nl定休から放出
されるガス放出量が微量な場合でも、この被測定体から
放出されるガス放出量を正確に測定することができる。
置によれば、従来に較べて装置自体から放出されるガス
分子の量を減少させることができ、被nl定休から放出
されるガス放出量が微量な場合でも、この被測定体から
放出されるガス放出量を正確に測定することができる。
第1図は本発明の一実施例のガス放出量測定装置の構成
を示す図、第2図は第1図のガス放出量測定装置のゲー
トバルブの構成を示す図である。 1・・・・・・ガス放出量測定装置、2・・・・・・真
空チャンバ、3,6.7・・・・・・ターボ分子ポンプ
、4,8・・・・・・ロータリーポンプ、5・・・・・
・差圧検出用真空チャンバ、9・・・・・・オリフィス
、10・・・・・・圧力検出器(上流側)、11・・・
・・・圧力検出器(下流側)、12・・・・・・ゲート
バルブ、13・・・・・・弁。 出願人 東京エレクトロン株式会社 代理人 弁理士 須 山 佐 − (ばか1名)
を示す図、第2図は第1図のガス放出量測定装置のゲー
トバルブの構成を示す図である。 1・・・・・・ガス放出量測定装置、2・・・・・・真
空チャンバ、3,6.7・・・・・・ターボ分子ポンプ
、4,8・・・・・・ロータリーポンプ、5・・・・・
・差圧検出用真空チャンバ、9・・・・・・オリフィス
、10・・・・・・圧力検出器(上流側)、11・・・
・・・圧力検出器(下流側)、12・・・・・・ゲート
バルブ、13・・・・・・弁。 出願人 東京エレクトロン株式会社 代理人 弁理士 須 山 佐 − (ばか1名)
Claims (1)
- (1)流路にオリフィスが設けられた第1の気密容器と
、この第1の気密容器内のオリフィスの上流側および下
流側の圧力差を測定する如く設けられた圧力差測定手段
と、被測定手段が収容される第2の気密容器と、この第
2および第1の気密容器間に設けられたゲートバルブと
を具備してなることを特徴とするガス放出量測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7264389A JPH02251739A (ja) | 1989-03-25 | 1989-03-25 | ガス放出量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7264389A JPH02251739A (ja) | 1989-03-25 | 1989-03-25 | ガス放出量測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02251739A true JPH02251739A (ja) | 1990-10-09 |
Family
ID=13495268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7264389A Pending JPH02251739A (ja) | 1989-03-25 | 1989-03-25 | ガス放出量測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02251739A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009192530A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-08-27 | Japan Atomic Energy Agency | ガス量測定装置及び介在物の測定装置 |
-
1989
- 1989-03-25 JP JP7264389A patent/JPH02251739A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009192530A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-08-27 | Japan Atomic Energy Agency | ガス量測定装置及び介在物の測定装置 |
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